JP4614712B2 - 半導体装置の作製方法 - Google Patents
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Description
本実施の形態では、非結晶性半導体膜に設けられたマスクの構成について説明する。
本実施の形態では、マスクを用いたレーザ光結晶化工程を含む薄膜トランジスタの作製工程、及び有機発光素子に代表される発光素子を各画素に備えた表示装置の作製工程について説明する。
本実施の形態では、実施の形態2で示した駆動回路部に用いる薄膜トランジスタにおいて、金属元素を添加した結晶化により結晶性半導体膜を形成する場合を説明する。
本実施の形態では、図2(A)に示すようにマスクを形成する場合について説明する。
本実施の形態では、マスクを用い基板の他方の面からレーザ光を照射するレーザ光結晶化工程を含む薄膜トランジスタの作製工程、及び有機発光素子に代表される発光素子を各画素に備えた表示装置の作製工程について説明する。なお本実施の形態では、画素部に形成される薄膜トランジスタをボトムゲート型構造とする場合で説明する。
本実施の形態では、実施の形態2で示した駆動回路部に用いる薄膜トランジスタにおいて、金属元素を添加した結晶化により結晶性半導体膜を形成する場合を説明する。
本実施の形態では、基板の他方の面からレーザ光を照射し、且つマスクを基板の他方の面に形成する場合を説明する。
本実施の形態では、画素部に発光素子を有する表示装置の構造について説明する。
本実施の形態では、多面取りを行う方法について説明する。
本発明を適用して作製される電子機器の一例として、デジタルカメラ、カーオーディオなどの音響再生装置、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(携帯電話、携帯型ゲーム機等)、家庭用ゲーム機などの記録媒体を備えた画像再生装置などが挙げられる。それら電子機器の具体例を図10に示す。
本実施例では、積層膜からなるマスクの有無における結晶性について調べるため、以下の構造a、b(()内にはそれぞれの膜厚を記載)において、光学特性シミュレーションを行い、透過率・反射率・吸収率を算出した結果を示す。
構造b(マスク無し): 基板 (コーニング社製1737)\SiNO(50nm)\SiON(100nm)\a−Si(54nm)
なお、CVD法により形成されたSiNO、又はSiONは、CVD−SiNO、又はCVD−SiONと記載している。
(実施例2)
構造d:AQ\a−Si(54nm)\SiNO(0〜200nm)\SiON(0〜200nm)
(実施例3)
Claims (12)
- 第1の領域及び第2の領域に非結晶性半導体膜を形成し、
前記第1の領域にマスクとして屈折率n1である第1の材料と、n1<n2を満たす屈折率n2である第2の材料とを前記非結晶性半導体膜から順に積層して積層膜を形成し、
前記マスクを用いて前記非結晶性半導体膜にレーザ光を照射して、前記第2の領域の非結晶性半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を形成し、
前記第1の領域に前記非結晶性半導体膜を有する第1の薄膜トランジスタを形成し、前記第2の領域に前記結晶性半導体膜を有する第2の薄膜トランジスタを形成する
ことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 第1の領域及び第2の領域に非結晶性半導体膜を形成し、
前記第1の領域にマスクとして屈折率n1である第1の材料と、n1<n2を満たす屈折率n2である第2の材料とを前記非結晶性半導体膜から順に積層して積層膜を形成し、
前記マスクを用いて前記非結晶性半導体膜にレーザ光を照射して、前記第2の領域の非結晶性半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を形成し、
前記第1の領域に前記非結晶性半導体膜を有するnチャネル型の第1の薄膜トランジスタを形成し、前記第2の領域に前記結晶性半導体膜を有するnチャネル型の第2の薄膜トランジスタ及びpチャネル型の第3の薄膜トランジスタを形成する
ことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 第1の領域及び第2の領域に非結晶性半導体膜を形成し、
前記第1の領域にマスクとして屈折率n1である第1の材料と、n1<n2を満たす屈折率n2である第2の材料とを前記非結晶性半導体膜から順に積層して積層膜を形成し、且つ前記第2の領域に前記積層膜の一つを形成し、
前記マスクを用いて前記非結晶性半導体膜にレーザ光を照射して、前記第2の領域の非結晶性半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を形成し、
前記第1の領域に前記非結晶性半導体膜を有するnチャネル型の第1の薄膜トランジスタを形成し、前記第2の領域に前記結晶性半導体膜を有するnチャネル型の第2の薄膜トランジスタ及びpチャネル型の第3の薄膜トランジスタを形成する
ことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上の第1の領域及び第2の領域に非結晶性半導体膜を形成し、
前記基板の他方の面であって、第1の領域にマスクとして屈折率n1である第1の材料と、n1<n2を満たす屈折率n2である第2の材料とを前記非結晶性半導体膜から順に積層して積層膜を形成し、
前記マスクを用いて前記非結晶性半導体膜に前記基板の他方の面からレーザ光を照射して、前記第2の領域の非結晶性半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を形成し、
前記第1の領域に前記非結晶性半導体膜を有するnチャネル型の第1の薄膜トランジスタを形成し、前記第2の領域に前記結晶性半導体膜を有するnチャネル型の第2の薄膜トランジスタ及びpチャネル型の第3の薄膜トランジスタを形成する
ことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 基板上の第1の領域及び第2の領域に非結晶性半導体膜を形成し、
前記基板の他方の面であって、第1の領域にマスクとして屈折率n1である第1の材料と、n1<n2を満たす屈折率n2である第2の材料とを前記非結晶性半導体膜から順に積層して積層膜を形成し、且つ前記第2の領域に前記積層膜の一つを形成し、
前記マスクを用いて前記非結晶性半導体膜に前記基板の他方の面からレーザ光を照射して、前記第2の領域の非結晶性半導体膜を結晶化して結晶性半導体膜を形成し、
前記第1の領域に前記非結晶性半導体膜を有するnチャネル型の第1の薄膜トランジスタを形成し、前記第2の領域に前記結晶性半導体膜を有するnチャネル型の第2の薄膜トランジスタ及びpチャネル型の第3の薄膜トランジスタを形成する
ことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1乃至5のいずれか一において、
前記第1の領域を画素部とし、前記第2の領域を駆動回路部とすることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1乃至6のいずれか一において、
前記非結晶性半導体膜へ照射するレーザ光の波長をλとすると、
前記第1の材料の膜厚が(λ/4)×n1を満たし、
前記第2の材料の膜厚が(λ/4)×n2を満たすように前記積層膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1乃至7のいずれか一において、
照射するレーザ光の波長に対する消衰係数が0.01以下である前記第1の材料、及び消衰係数が0.01以下である前記第2の材料を用いて前記積層膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1乃至8のいずれか一において、
前記第1の材料は酸化窒化珪素であり、前記第2の材料は窒化酸化珪素又は窒化珪素であることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1乃至9のいずれか一において、
前記第1の材料、及び前記第2の材料はCVD法、又はスパッタリング法により形成されることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1乃至10のいずれか一において、
前記レーザ光を照射する前に、前記非結晶性半導体膜に結晶化を促進させる金属元素を選択的に添加し加熱処理を行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1乃至11のいずれか一に記載の半導体装置の作製方法を用いて前記画素部に形成された第1の薄膜トランジスタの一方の電極に、発光素子の陰極を形成し、前記陰極上に発光層を形成し、前記発光層を覆って前記発光素子の陽極を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
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