JP4612815B2 - 放射線検出装置、シンチレータパネル、これらの製造方法及び放射線検出システム - Google Patents
放射線検出装置、シンチレータパネル、これらの製造方法及び放射線検出システム Download PDFInfo
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Description
前記センサーパネル上に配置された、放射線を光に変換する蛍光体層と、
前記蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置において、
前記複数の蛍光体保護層はそれぞれホットメルト樹脂からなり、前記複数の蛍光体保護層の一層が前記蛍光体層を被覆し前記センサーパネルと密着していることを特徴とする。前記複数の蛍光体保護層は、前記蛍光体層を被覆し前記基板と密着する第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、前記蛍光体層と接しない第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層と、を含むことが望ましい。
前記複数の蛍光体保護層はそれぞれホットメルト樹脂からなり、該複数の蛍光体保護層の一層が前記蛍光体層を被覆し前記支持部材と密着していることを特徴とする。前記複数の蛍光体保護層は、前記蛍光体層を被覆し前記基板と密着する第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、前記蛍光体層と接しない第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層と、を含むことが望ましい。
前記センサーパネル上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、
該蛍光体層を被覆し前記センサーパネルと密着する蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置の製造方法において、
前記蛍光体層が形成された前記センサーパネルを用意し、第1のホットメルト樹脂を、前記蛍光体層を被覆し前記センサーパネルと密着するように設けて第1の蛍光体保護層を形成する第1工程と、
第2のホットメルト樹脂を、前記第1の蛍光体保護層を被覆するように設けて第2の蛍光体保護層を形成する第2工程と、
を有するものである。
該センサーパネル上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、該蛍光体層を被覆し前記センサーパネルと密着する蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置の製造方法において、
第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層上に第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層を有する蛍光体保護部材を形成する工程と、
前記蛍光体層が形成された前記センサーパネルを用意し、前記第1の蛍光体保護層が前記蛍光体層と接するように前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層及び前記センサーパネルに密着させる工程と、を有するものである。
前記蛍光体層が形成された前記支持部材を用意し、第1のホットメルト樹脂を、前記蛍光体層を被覆し前記支持部材と密着するよう設けて第1の蛍光体保護層を形成する第1工程と、
第2のホットメルト樹脂を、前記第1の蛍光体保護層を被覆するよう設けて第2の蛍光体保護層を形成する第2工程と、
を有するものである。
第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層上に第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層を有する蛍光体保護部材を形成する工程と、
前記蛍光体層が形成された前記支持部材を用意し、前記第1の蛍光体保護層が前記蛍光体層と接するように前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層及び前記支持部材に密着させる工程と、を有するものである。
[第1の実施の形態]
更に、図21及び図22に示すように、より密着力の強い蛍光体保護層8bを蛍光体下地層6に接するよう蛍光体保護層8aより大きな領域に形成し、蛍光体保護層8aの形成領域外の蛍光体保護層8bにおいてホットプレス処理を行うことにより、蛍光体保護層8bと蛍光体下地層6との密着性が向上し、蛍光体層7の周囲の領域においてより防湿性が向上する。図21は本発明に係わる直接蒸着タイプの放射線検出装置の他の撮像素子部の模式的平面図を示す。図22は、図21のA−A’断面図である。14cはホットプレス部を示す。図23(a)、(b)は図3(a)、(b)と同様な断面図を示し、ホットプレスを行った断面を図23(a)、ホットプレスを行わない断面を図23(b)に示す。
1) 外部からの衝撃による破壊を防止する耐衝撃性を有する
2) 放射線源からの放射線を好適に透過する放射線透過性を有する
3) 蛍光体層7で発せられた光を好適に透過する光透過性を有する
4) 蛍光体層、センサーパネルまたは支持部材表面との高い密着性を有する
5) 透過光の光路差による解像度低下を防止する層厚の面内均一性を有する
6) 基板と反射層との熱膨張係数差に起因する応力を吸収する吸収性を有する
7) 蛍光体層及び受光部に悪影響を及ぼさない成膜(形成)温度を有する
8) 生産性に富んだ高い成膜(形成)速度を有する
9) 外気からの水分の侵入を防ぐ高い防湿性(耐湿性、非透水性)を有する
10) 柱状結晶を溶解する水、極性溶媒、溶剤などを含まない
11) 柱状結晶間へのしみ込みによる顕著な解像度の低下を招かない粘性を有する
12) エタノールなど医療器具の消毒用溶剤に不溶または微溶である特性を有する
上記の機能を満たす第1及び第2の蛍光体保護層8a,8bの材料としては、ホットメルト樹脂を用いることが好ましい。そして、ホットメルト樹脂を用いた第1及び第2の蛍光体保護層8a,8bとしては以下に説明するような特性を有することが望ましい。
(2)また、上記構成の第1及び第2の蛍光体保護層8a,8bにおいて、第2の蛍光体保護層8bは、第1の蛍光体保護層8a上に形成される。第2の蛍光体保護層8b形成時において、第1の蛍光体保護層8aが溶融し、層の厚さや形状に変化が生じると、解像度や耐湿性に変化が生じる可能性がある。
(3)上記2つの観点より、
1).第1の蛍光体保護層に用いられる第1のホットメルト樹脂の処理温度t1における粘性率(粘度)をn1(t1)、第2の蛍光体保護層に用いられる第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における粘性率(粘度)をn2(t2)、とすると、 n1(t1)>n2(t2)
ホットメルト樹脂に求められる粘性率を考慮すると、
1×102(Pa・s)≦n2(t2)<n1 (t1)≦ 1×104(Pa・s)であることが望ましい。
ホットメルト樹脂に求められるよう融解し温度を考慮すると、70℃ ≦Ty2<Ty1 ≦150℃
なお、第2の蛍光体保護層8bは反射層及びパッシベーション膜との十分な密着性を確保できれば、第1の蛍光体保護層8aが形成されるときに、第2の蛍光体保護層8bが溶融しても問題ない場合には、シート上に第2の蛍光体保護層8b、第1の蛍光体保護層8aを形成した後に、蛍光体層と密着させる場合においても、第1の蛍光体保護層に第2の蛍光体保護層よりも高い融点(溶融(流動)開始温度)の材料を用いることができる。
1×103(Pa・s)≦n1(t1) ≦1×104(Pa・s)
4).上記n2(t2)は、微小な凹凸を有する金属膜などからなる反射層と良好に密着するために、
1×102(Pa・s)≦n2(t2) ≦6.0×103(Pa・s)
5).第1のホットメルト樹脂の第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における粘性率をn1(t2)とすると、
n1(t2)>n2(t2)
以下、ホットメルト樹脂について、更に説明する。
(1)ホットメルト樹脂中に含まれる共重合体の含有量、
(2)ホットメルト樹脂中に含まれる共重合体におけるアクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸エステルの含有量、
(3)ホットメルト樹脂中に含まれる添加剤の含有量、
の要素を単独あるいは2つ以上の要素の組み合わせにより変化させることによって制御することができる。以下にホットメルト樹脂に含まれる共重合体及び各種共重合体を構成する物質について説明する。
酢酸ビニル; ―CH2−CH(OCOCH3)−の分子構造を有する物質の共重合体であり、一般式は −〔(CH2−CH2)a−CH2−CH(OCOCH3)b−〕n (a,b,nは整数)
で示される。エチレンに対する酢酸ビニルの含有量は2−40重量%であることが望ましい。ホットメルト樹脂の防湿性を高くするには酢酸ビニルの含有率を低くすることが好ましい。また、蛍光体との接着力を高くするためには、酢酸ビニルの含有率を高くすることが好ましい。本発明における蛍光体保護層に用いるホットメルト樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体の含有率が5−20%であることが好ましい。
−〔(CH2−CH2)a−(CH2−CHCOOH)b−〕n (a,b,nは整数)
で示される。エチレンに対するアクリル酸の含有率は、4−20重量%であることが望ましい。
−〔(CH2−CH2)a−(CH2−CHCOOR)b−〕n (a,b,nは整数)
で示される(ここで、R:CH3,C2H5,C3H7のいずれかである)。エチレンに対するアクリル酸エステルの含有率は2〜35重量%であることが望ましい。上記同様に、ホットメルト樹脂の防湿性を高くするにはアクリル酸エステルの含有率を低くすることが好ましい。また、蛍光体層との密着力を高くするためには、アクリル酸エステルの含有量を高くすることが好ましい。本発明における蛍光体保護層8に用いるホットメルト樹脂としては、エチレン−アクリル酸エステル共重合体の含有率が8〜25%であることが望ましい。
−〔(CH2−CH2)a−(CH2−CCH3COOH)b−〕n (a,b,nは整数)
で示される。エチレンに対するメタクリル酸の含有率は2〜20重量%であることが望ましい。上記同様に、ホットメルト樹脂の防湿率を高くするにはメタクリル酸の含有率を低くすることが好ましい。また、蛍光体層との密着力を高くするためには、メタクリル酸の含有率を高くすることが好ましい。本発明における蛍光体保護層8に用いるホットメルト樹脂としては、エチレン−メタクリル酸共重合体の含有率が5〜15%であることが望ましい。
−〔(CH2−CH2)a−(CH2−CCH3COOR)b−〕n (a,b,nは整数)
で示される。エチレンに対するメタクリル酸エステルの含有率は2〜25重量%であることが望ましい。上記同様に、ホットメルト樹脂の防湿率を高くするにはメタクリル酸エステルの含有率を低くすることが好ましい。また、蛍光体層との密着力を高くするためには、メタクリル酸エステルの含有率を高くすることが好ましい。本発明における蛍光体保護層8に用いるホットメルト樹脂としては、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体の含有率が3〜15%であることが望ましい。
(1)、第1の蛍光体保護層8a、第2の蛍光体保護層8bの順で蛍光体層表面に積層する方法
a) 第1の蛍光体保護層8aの形成方法
a−1) 直接塗布法
図5(a)〜(c)に示すように、第1のホットメルト樹脂を溶融し、塗布装置を用いて溶融した樹脂を直接、蛍光体層7及び蛍光体下地層6上の所定の位置に配置する方法である。
フィルムシートF上に溶融した第1のホットメルト樹脂を押しだしコート法により射出して蛍光体保護シートを形成し、蛍光体保護シートを蛍光体層7上に重ねて熱ロールラミネートすることで、第1の蛍光体保護層18aを蛍光体層上に形成する。
図6で形成した蛍光体保護シートを蛍光体層7及び蛍光体下地層6上に設ける方法として、図13及び図14を用いて説明する蛍光体保護シート真空プレス法を用いることもできる。この場合、フィルムシート法と同様に、蛍光体保護シートを蛍光体層7及び蛍光体下地層6上に密着させた後に、フィルムシートFを剥離することで、第1の蛍光体保護層8aを蛍光体層7及び蛍光体下地層6上に設けることができる。
b−1) 直接塗布法
第2のホットメルト樹脂を溶融し、塗布装置を用いて溶融した第2のホットメルト樹脂を直接、第1の蛍光体保護層8a上に塗布して形成する方法である。
図9、図10に示すように、図6、図7と同様にフィルムシート法を用いて第1の蛍光体保護層8a上に第2の蛍光体保護層8bを形成することができる。すなわち、フィルムシートF上に押し出しコート法によって第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層8bを形成して、図9(b)で示される蛍光体保護シートを形成する。次に図10(a)に示すように、得られた蛍光体保護シートを第1の蛍光体保護層8a上に重ねて、熱ラミネートローラ27によってホットメルト樹脂の溶融温度以上に第2の蛍光体保護層8bのホットメルト樹脂を加熱して溶融し、熱ラミネートローラ27及び搬送ローラ28を用いて放射線検出装置を移動させ、第1の蛍光体保護層8a上に第2の蛍光体保護層8bを形成する。その後、第2のホットメルト樹脂が溶融状態の間にフィルムシートFを剥離する。こうして、図10(b)に示すように、第1の蛍光体保護層8a上に第2の蛍光体保護層8bが密着して形成される。
反射層保護層10となる樹脂及び反射層9となる金属膜上に溶融した第2のホットメルト樹脂を押し出しコート法により射出して蛍光体保護シート(第2の蛍光体保護層8b,反射層9,反射層保護層10からなる)を形成し、蛍光体保護シートを第1の蛍光体保護層8a上に重ねて真空プレス装置で圧着して形成する。
1)蛍光体保護シートが容易に大量に形成できる。
(2)蛍光体保護層8a,8bを有する樹脂シートを蛍光体層表面に貼り合わせる方法
a) 蛍光体保護シート熱ロールラミネート法
反射層保護層10となる樹脂及び反射層9となる金属膜上に溶融したホットメルト樹脂を2層押し出しコート法により射出して蛍光体保護シートS’(蛍光体保護層8a,8b、反射層9、反射層保護層10からなる)を形成し、蛍光体保護シートS’を蛍光体層7上に重ねて熱ロールラミネートする方法である。
蛍光体保護シートS上に溶融した第1のホットメルト樹脂を押し出しコート法により射出して蛍光体保護シートS’(蛍光体保護層8a,8b、反射層9、反射層保護層10からなる)を形成し、蛍光体保護シートS’を蛍光体層7上に重ねて真空プレス装置で圧着して形成する方法である。
[第2の実施の形態]
[第3の実施の形態]
2 光電変換素子
3 配線
4 電気的接続部(取り出し配線)
5 保護層
6 蛍光体下地層
7 柱状蛍光体層
8a 第1の蛍光体保護層
8b 第2の蛍光体保護層
9 光反射層
10 光反射層保護層
11 配線接続部
12 配線部材
13 封止部材
14 ホットプレス部
15 受光部
16 センサーパネル
Claims (53)
- 基板と、前記基板上に配置された、光を電気信号に変換する複数の光電変換素子からなる受光部と、前記受光部上に配置された保護層と、を有するセンサーパネルと、
前記センサーパネル上に配置された、放射線を光に変換する蛍光体層と、
前記蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置において、
前記複数の蛍光体保護層は、前記蛍光体層を被覆し前記センサーパネルと密着する第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、前記蛍光体層と接しない第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記第1のホットメルト樹脂の処理温度t1における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t1)、前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第2のホットメルト樹脂の粘性率をn2(t2)、とすると、n1(t1)>n2(t2)であることを特徴とする放射線検出装置。 - 請求項1記載の放射線検出装置において、1×102(Pa・s)≦n2(t2)<n1(t1)≦1×104(Pa・s)であることを特徴とする放射線検出装置。
- 請求項1記載の放射線検出装置において、1×103(Pa・s)≦n1(t1)≦1×104(Pa・s)かつ1×102(Pa・s)≦n2(t2)≦6.0×103(Pa・s)であることを特徴とする放射線検出装置。
- 基板と、前記基板上に配置された、光を電気信号に変換する複数の光電変換素子からなる受光部と、前記受光部上に配置された保護層と、を有するセンサーパネルと、
前記センサーパネル上に配置された、放射線を光に変換する蛍光体層と、
前記蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置において、
前記複数の蛍光体保護層は、前記蛍光体層を被覆し前記センサーパネルと密着する第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、前記蛍光体層と接しない第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t2)、前記温度t2における前記第2のホットメルト樹脂粘性率をn2(t2)とすると、n1(t2)>n2(t2)であることを特徴とする放射線検出装置。 - 基板と、前記基板上に配置された、光を電気信号に変換する複数の光電変換素子からなる受光部と、前記受光部上に配置された保護層と、を有するセンサーパネルと、
前記センサーパネル上に配置された、放射線を光に変換する蛍光体層と、
前記蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置において、
前記複数の蛍光体保護層は、前記蛍光体層を被覆し前記センサーパネルと密着する第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、前記蛍光体層と接しない第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記第1のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy1、前記第2のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy2とすると、Ty1>Ty2であることを特徴とする放射線検出装置。 - 請求項5記載の放射線検出装置において、70(℃)≦Ty2<Ty1≦150(℃)であることを特徴とする放射線検出装置。
- 請求項1から6のいずれか1項に記載の放射線検出装置において、前記蛍光体保護部材は、前記複数の蛍光体保護層のほかに、前記第2の蛍光体保護層と接していて前記蛍光体層で変換された光を反射する反射層と、該反射層を保護する反射層保護層とを有することを特徴とする放射線検出装置。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載の放射線検出装置において、前記第2の蛍光体保護層は前記第1の蛍光体保護層より広い領域を有し、前記第1の蛍光体保護層の形成領域外において前記センサーパネルに密着していることを特徴とする放射線検出装置。
- 請求項1から8のいずれか1項に記載の放射線検出装置において、前記蛍光体保護部材は、前記保護層と接する領域において加圧処理により圧着された領域を有することを特徴とする放射線検出装置。
- 請求項9記載の放射線検出装置において、前記加圧処理により圧着された領域は、前記第1の蛍光体保護層の形成領域外に配置されていることを特徴とする放射線検出装置。
- 請求項9又は10に記載の放射線検出装置において、前記圧着された領域が加熱圧着処理によって圧着されたことを特徴とする放射線検出装置。
- 請求項1から11のいずれか1項に記載の放射線検出装置において、前記第1及び第2のホットメルト樹脂がポリオレフィン系、ポリエステル系又はポリアミド系樹脂を主成分とすることを特徴とする放射線検出装置。
- 請求項1から11のいずれか1項に記載の放射線検出装置において、前記第1及び第2のホットメルト樹脂がポリオレフィン系を主成分とすることを特徴とする放射線検出装置。
- 請求項1から13のいずれか1項に記載の放射線検出装置において、前記蛍光体層は柱状結晶構造を有することを特徴とする放射線検出装置。
- 支持部材と、該支持部材上に形成された放射線を光に変換する蛍光体層と、該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有するシンチレータパネルにおいて、
前記複数の蛍光体保護層は、前記蛍光体層を被覆し前記支持部材と密着する第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、前記蛍光体層と接しない第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記第1のホットメルト樹脂の処理温度t1における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t1)、前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第2のホットメルト樹脂の粘性率をn2(t2)、とすると、n1(t1)>n2(t2)であることを特徴とするシンチレータパネル。 - 請求項15記載のシンチレータパネルにおいて、1×102(Pa・s)≦n2(t2)<n1(t1)≦1×104(Pa・s)であることを特徴とするシンチレータパネル。
- 請求項15記載のシンチレータパネルにおいて、1×103(Pa・s)≦n1(t1)≦1×104(Pa・s)かつ1×102(Pa・s)≦n2(t2)≦6.0×103(Pa・s)であることを特徴とするシンチレータパネル。
- 支持部材と、該支持部材上に形成された放射線を光に変換する蛍光体層と、該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有するシンチレータパネルにおいて、
前記複数の蛍光体保護層は、前記蛍光体層を被覆し前記支持部材と密着する第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、前記蛍光体層と接しない第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t2)、前記処理温度t2における前記第2のホットメルト樹脂粘性率をn2(t2)とすると、n1(t2)>n2(t2)であることを特徴とするシンチレータパネル。 - 支持部材と、該支持部材上に形成された放射線を光に変換する蛍光体層と、該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有するシンチレータパネルにおいて、
前記複数の蛍光体保護層は、前記蛍光体層を被覆し前記支持部材と密着する第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、前記蛍光体層と接しない第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記第1のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy1、前記第2のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy2とすると、Ty1>Ty2であることを特徴とするシンチレータパネル。 - 請求項19記載のシンチレータパネルにおいて、70(℃)≦Ty2<Ty1≦150(℃)であることを特徴とするシンチレータパネル。
- 請求項15から20のいずれか1項に記載のシンチレータパネルにおいて、前記支持部材は、支持基板と、該支持基板上に備えられ、前記蛍光体層で変換された光を反射する反射層と、該反射層上に備えられた蛍光体下地層と、を有することを特徴とするシンチレータパネル。
- 請求項21に記載のシンチレータパネルにおいて、前記蛍光体保護部材は前記支持部材と接する領域において加圧処理により圧着された領域を有することを特徴とするシンチレータパネル。
- 請求項22記載のシンチレータパネルにおいて、前記加圧処理により圧着された領域は、前記反射層の形成領域外に配置されていることを特徴とするシンチレータパネル。
- 請求項22記載のシンチレータパネルにおいて、前記加圧処理により圧着された領域は、前記第1の蛍光体保護層の形成領域外に配置されていることを特徴とするシンチレータパネル。
- 請求項23又は24に記載のシンチレータパネルにおいて、前記圧着された領域が加熱圧着処理によって圧着されたことを特徴とするシンチレータパネル。
- 請求項15から25のいずれか1項に記載のシンチレータパネルにおいて、前記第1及び第2のホットメルト樹脂がポリオレフィン系、ポリエステル系又はポリアミド系樹脂を主成分とすることを特徴とするシンチレータパネル。
- 請求項15から25のいずれか1項に記載のシンチレータパネルにおいて、前記第1及び第2のホットメルト樹脂がポリオレフィン系を主成分とすることを特徴とするシンチレータパネル。
- 請求項15から27のいずれか1項に記載のシンチレータパネルにおいて、前記蛍光体層は柱状結晶構造を有することを特徴とするシンチレータパネル。
- 請求項15から28のいずれか1項に記載のシンチレータパネルと、
前記シンチレータパネルで変換された光を光電変換する複数の光電変換素子を有するセンサーパネルと、を有することを特徴とする放射線検出装置。 - 基板と、前記基板上に配置された、光を電気信号に変換する複数の光電変換素子からなる受光部と、前記受光部上に配置された保護層と、を有するセンサーパネルと、
前記センサーパネル上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、
該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置の製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記蛍光体層が形成された前記センサーパネルを用意し、前記第1のホットメルト樹脂を、前記蛍光体層を被覆し前記センサーパネルと密着するように設けて前記第1の蛍光体保護層を形成する第1工程と、
前記第2のホットメルト樹脂を、前記第1の蛍光体保護層を被覆するように設けて前記第2の蛍光体保護層を形成する第2工程とを有し、
前記第1のホットメルト樹脂の処理温度t1における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t1)、前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第2のホットメルト樹脂の粘性率をn2(t2)、とすると、n1(t1)>n2(t2)であることを特徴とする放射線検出装置の製造方法。 - 基板と、前記基板上に配置された、光を電気信号に変換する複数の光電変換素子からなる受光部と、前記受光部上に配置された保護層と、を有するセンサーパネルと、
前記センサーパネル上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、
該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置の製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記蛍光体層が形成された前記センサーパネルを用意し、前記第1のホットメルト樹脂を、前記蛍光体層を被覆し前記センサーパネルと密着するように設けて前記第1の蛍光体保護層を形成する第1工程と、
前記第2のホットメルト樹脂を、前記第1の蛍光体保護層を被覆するように設けて前記第2の蛍光体保護層を形成する第2工程とを有し、
前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t2)、前記温度t2における前記第2のホットメルト樹脂粘性率をn2(t2)とすると、n1(t2)>n2(t2)であることを特徴とする放射線検出装置の製造方法。 - 基板と、前記基板上に配置された、光を電気信号に変換する複数の光電変換素子からなる受光部と、前記受光部上に配置された保護層と、を有するセンサーパネルと、
前記センサーパネル上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、
該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置の製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記蛍光体層が形成された前記センサーパネルを用意し、前記第1のホットメルト樹脂を、前記蛍光体層を被覆し前記センサーパネルと密着するように設けて前記第1の蛍光体保護層を形成する第1工程と、
前記第2のホットメルト樹脂を、前記第1の蛍光体保護層を被覆するように設けて前記第2の蛍光体保護層を形成する第2工程とを有し、
前記第1のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy1、前記第2のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy2とすると、Ty1>Ty2であることを特徴とする放射線検出装置の製造方法。 - 請求項30から32のいずれか1項に記載の放射線検出装置の製造方法において、前記第1又は/及び第2のホットメルト樹脂は溶融した状態で直接被覆されることを特徴とする放射線検出装置の製造方法。
- 請求項30から32のいずれか1項に記載の放射線検出装置の製造方法において、前記第1工程は、前記第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層がその上に形成された部材を用意し、前記第1の蛍光体保護層が前記蛍光体層と接するように前記部材を前記蛍光体層及び前記センサーパネルに密着させた後に、前記部材を剥離する工程を含むことを特徴とする放射線検出装置の製造方法。
- 請求項30から32のいずれか1項に記載の放射線検出装置の製造方法において、前記第2工程は、前記第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層がその上に形成された部材を用意し、前記第2の蛍光体保護層が前記第1の蛍光体保護層と接するように前記部材を前記第1の蛍光体保護層に密着させる工程を含むことを特徴とする放射線検出装置の製造方法。
- 基板と、前記基板上に配置された、光を電気信号に変換する複数の光電変換素子からなる受光部と、前記受光部上に配置された保護層と、を有するセンサーパネルと、
該センサーパネル上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、
該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置の製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記第2のホットメルト樹脂からなる前記第2の蛍光体保護層上に前記第1のホットメルト樹脂からなる前記第1の蛍光体保護層を有する蛍光体保護部材を形成する工程と、
前記蛍光体層が形成された前記センサーパネルを用意し、前記第1の蛍光体保護層が前記蛍光体層と接するように前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層及び前記センサーパネルに密着させる工程とを有し、
前記第1のホットメルト樹脂の処理温度t1における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t1)、前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第2のホットメルト樹脂の粘性率をn2(t2)、とすると、n1(t1)>n2(t2)であることを特徴とする放射線検出装置の製造方法。 - 基板と、前記基板上に配置された、光を電気信号に変換する複数の光電変換素子からなる受光部と、前記受光部上に配置された保護層と、を有するセンサーパネルと、
該センサーパネル上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、
該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置の製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記第2のホットメルト樹脂からなる前記第2の蛍光体保護層上に前記第1のホットメルト樹脂からなる前記第1の蛍光体保護層を有する蛍光体保護部材を形成する工程と、
前記蛍光体層が形成された前記センサーパネルを用意し、前記第1の蛍光体保護層が前記蛍光体層と接するように前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層及び前記センサーパネルに密着させる工程とを有し、
前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t2)、前記温度t2における前記第2のホットメルト樹脂粘性率をn2(t2)とすると、n1(t2)>n2(t2)であることを特徴とする放射線検出装置の製造方法。 - 基板と、前記基板上に配置された、光を電気信号に変換する複数の光電変換素子からなる受光部と、前記受光部上に配置された保護層と、を有するセンサーパネルと、
該センサーパネル上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、
該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有する放射線検出装置の製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記第2のホットメルト樹脂からなる前記第2の蛍光体保護層上に前記第1のホットメルト樹脂からなる前記第1の蛍光体保護層を有する蛍光体保護部材を形成する工程と、
前記蛍光体層が形成された前記センサーパネルを用意し、前記第1の蛍光体保護層が前記蛍光体層と接するように前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層及び前記センサーパネルに密着させる工程とを有し、
前記第1のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy1、前記第2のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy2とすると、Ty1>Ty2であることを特徴とする放射線検出装置の製造方法。 - 請求項36から38のいずれか1項に記載の放射線検出装置の製造方法において、前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層が形成された領域の周囲の領域において加熱加圧処理により圧着する工程と、を更に有することを特徴とする放射線検出装置の製造方法。
- 請求項36から38のいずれか1項に記載の放射線検出装置の製造方法において、前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層及び第1の蛍光体保護層が形成された領域の周囲の領域において加熱加圧処理により圧着する工程と、を更に有することを特徴とする放射線検出装置の製造方法。
- 支持部材と、該支持部材上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層と、を有するシンチレータパネルの製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記蛍光体層が形成された前記支持部材を用意し、前記第1のホットメルト樹脂を、前記蛍光体層を被覆し前記支持部材と密着するよう設けて前記第1の蛍光体保護層を形成する第1工程と、
前記第2のホットメルト樹脂を、前記第1の蛍光体保護層を被覆するよう設けて前記第2の蛍光体保護層を形成する第2工程とを有し、
前記第1のホットメルト樹脂の処理温度t1における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t1)、前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第2のホットメルト樹脂の粘性率をn2(t2)、とすると、n1(t1)>n2(t2)であることを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。 - 支持部材と、該支持部材上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層と、を有するシンチレータパネルの製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記蛍光体層が形成された前記支持部材を用意し、前記第1のホットメルト樹脂を、前記蛍光体層を被覆し前記支持部材と密着するよう設けて前記第1の蛍光体保護層を形成する第1工程と、
前記第2のホットメルト樹脂を、前記第1の蛍光体保護層を被覆するよう設けて前記第2の蛍光体保護層を形成する第2工程とを有し、
前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t2)、前記温度t2における前記第2のホットメルト樹脂粘性率をn2(t2)とすると、n1(t2)>n2(t2)であることを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。 - 支持部材と、該支持部材上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層と、を有するシンチレータパネルの製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記蛍光体層が形成された前記支持部材を用意し、前記第1のホットメルト樹脂を、前記蛍光体層を被覆し前記支持部材と密着するよう設けて前記第1の蛍光体保護層を形成する第1工程と、
前記第2のホットメルト樹脂を、前記第1の蛍光体保護層を被覆するよう設けて前記第2の蛍光体保護層を形成する第2工程とを有し、
前記第1のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy1、前記第2のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy2とすると、Ty1>Ty2であることを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。 - 請求項41から43のいずれか1項に記載のシンチレータパネルの製造方法において、前記第1又は/及び第2のホットメルト樹脂は溶融した状態で直接被覆されることを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。
- 請求項41から43のいずれか1項に記載のシンチレータパネルの製造方法において、前記第1工程は、前記第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層がその上に形成された部材を用意し、前記第1の蛍光体保護層が前記蛍光体層と接するように前記部材を前記蛍光体層及び支持部材に密着させた後に、前記部材を剥離する工程を含むことを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。
- 請求項41から43のいずれか1項に記載のシンチレータパネルの製造方法において、前記第2工程は、前記第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層がその上に形成された部材を用意し、前記第2の蛍光体保護層が前記第1の蛍光体保護層と接するように前記部材を前記第1の蛍光体保護層に密着させる工程を含むことを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。
- 支持部材と、該支持部材上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有するシンチレータパネルの製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記第2のホットメルト樹脂からなる前記第2の蛍光体保護層上に前記第1のホットメルト樹脂からなる前記第1の蛍光体保護層を有する蛍光体保護部材を形成する工程と、
前記蛍光体層が形成された前記支持部材を用意し、前記第1の蛍光体保護層が前記蛍光体層と接するように前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層及び前記支持部材に密着させる工程とを有し、
前記第1のホットメルト樹脂の処理温度t1における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t1)、前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第2のホットメルト樹脂の粘性率をn2(t2)、とすると、n1(t1)>n2(t2)であることを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。 - 支持部材と、該支持部材上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有するシンチレータパネルの製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記第2のホットメルト樹脂からなる前記第2の蛍光体保護層上に前記第1のホットメルト樹脂からなる前記第1の蛍光体保護層を有する蛍光体保護部材を形成する工程と、
前記蛍光体層が形成された前記支持部材を用意し、前記第1の蛍光体保護層が前記蛍光体層と接するように前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層及び前記支持部材に密着させる工程とを有し、
前記第2のホットメルト樹脂の処理温度t2における前記第1のホットメルト樹脂の粘性率をn1(t2)、前記温度t2における前記第2のホットメルト樹脂粘性率をn2(t2)とすると、n1(t2)>n2(t2)であることを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。 - 支持部材と、該支持部材上に形成され、放射線を光に変換する蛍光体層と、該蛍光体層上に積層された複数の蛍光体保護層を含む蛍光体保護部材と、を有するシンチレータパネルの製造方法において、前記複数の蛍光体保護層は、第1のホットメルト樹脂からなる第1の蛍光体保護層と、第2のホットメルト樹脂からなる第2の蛍光体保護層とを含み、
前記製造方法は、
前記第2のホットメルト樹脂からなる前記第2の蛍光体保護層上に前記第1のホットメルト樹脂からなる前記第1の蛍光体保護層を有する蛍光体保護部材を形成する工程と、
前記蛍光体層が形成された前記支持部材を用意し、前記第1の蛍光体保護層が前記蛍光体層と接するように前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層及び前記支持部材に密着させる工程とを有し、
前記第1のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy1、前記第2のホットメルト樹脂の溶融開始温度をTy2とすると、Ty1>Ty2であることを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。 - 請求項47から49のいずれか1項に記載のシンチレータパネルの製造方法において、前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層が形成された領域の周囲の領域において加熱加圧処理により圧着する工程と、を更に有することを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。
- 請求項47から49のいずれか1項に記載のシンチレータパネルの製造方法において、前記蛍光体保護部材を前記蛍光体層及び第1の蛍光体保護層が形成された領域の周囲の領域において加熱加圧処理により圧着する工程と、を更に有することを特徴とするシンチレータパネルの製造方法。
- 請求項47から49のいずれか1項に記載の製造方法により製造されたシンチレータパネルと、前記シンチレータパネルで変換された光を光電変換する複数の光電変換素子を有するセンサーパネルと、を貼り合わせる工程を有することを特徴とする放射線検出装置の製造方法。
- 請求項1から14、29のいずれか1項に記載の放射線検出装置と、
前記放射線検出装置からの信号を処理する信号処理手段と、
前記信号処理手段からの信号を記録するための記録手段と、
前記信号処理手段からの信号を表示するための表示手段と、
前記信号処理手段からの信号を伝送するための伝送処理手段と、
前記放射線を発生させるための放射線源とを具備することを特徴とする放射線検出システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004233421A JP4612815B2 (ja) | 2004-08-10 | 2004-08-10 | 放射線検出装置、シンチレータパネル、これらの製造方法及び放射線検出システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004233421A JP4612815B2 (ja) | 2004-08-10 | 2004-08-10 | 放射線検出装置、シンチレータパネル、これらの製造方法及び放射線検出システム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006052984A JP2006052984A (ja) | 2006-02-23 |
JP2006052984A5 JP2006052984A5 (ja) | 2007-09-27 |
JP4612815B2 true JP4612815B2 (ja) | 2011-01-12 |
Family
ID=36030569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004233421A Expired - Fee Related JP4612815B2 (ja) | 2004-08-10 | 2004-08-10 | 放射線検出装置、シンチレータパネル、これらの製造方法及び放射線検出システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4612815B2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008014859A (ja) * | 2006-07-07 | 2008-01-24 | Fujifilm Corp | 放射線像変換パネルおよび放射線像変換パネルの製造方法 |
JP2008082852A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Toshiba Corp | 放射線検出装置 |
JP2009025258A (ja) * | 2007-07-24 | 2009-02-05 | Toshiba Corp | 放射線検出器 |
KR100936476B1 (ko) | 2008-02-22 | 2010-01-13 | 주식회사바텍 | 대면적 x선 검출장치의 제조방법 |
JP2010060442A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Toshiba Corp | 放射線検出器 |
JP2010085121A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-15 | Fujifilm Corp | 放射線検出装置及び放射線画像撮影システム |
JP5305996B2 (ja) * | 2009-03-12 | 2013-10-02 | 株式会社東芝 | 放射線検出器およびその製造方法 |
JP5744570B2 (ja) * | 2011-03-02 | 2015-07-08 | キヤノン株式会社 | 放射線検出装置、放射線検出装置の製造方法及び放射線検出システム |
JP2012202831A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Fujifilm Corp | 放射線画像検出装置及び放射線画像検出装置の製造方法 |
JP6005092B2 (ja) * | 2014-03-25 | 2016-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 放射線検出装置および放射線検出装置の製造方法 |
JP2015230175A (ja) * | 2014-06-03 | 2015-12-21 | コニカミノルタ株式会社 | 放射線画像検出装置及びその製造方法 |
JP6872404B2 (ja) * | 2016-09-08 | 2021-05-19 | 昭和電工パッケージング株式会社 | 放射線検出装置および放射線検出装置用可視光反射シート |
WO2018150529A1 (ja) | 2017-02-17 | 2018-08-23 | 野洲メディカルイメージングテクノロジー株式会社 | シンチレータモジュール、シンチレータセンサユニット及びシンチレータモジュールの製造方法 |
JP2020098128A (ja) * | 2018-12-17 | 2020-06-25 | キヤノン株式会社 | シンチレータプレート、放射線検出装置および放射線検出システム |
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-
2004
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US20040124362A1 (en) * | 2001-12-06 | 2004-07-01 | Hennessy William Andrew | Direct scintillator coating for radiation detector assembly longevity |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006052984A (ja) | 2006-02-23 |
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