JP4592461B2 - 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 - Google Patents

Description

本発明は、透明体の欠陥を検査する欠陥検査装置及びその欠陥検査装置を用いた欠陥検査方法に関するものである。

従来、ＩＣ（集積回路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）、ＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）等の半導体装置を製造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスクやレティクルに異物が付着することを防止するために、該フォトマスクやレティクルの両面側にペリクルと称する防塵手段を配置して該フォトマスクやレティクルへの異物の付着を防止することが行われている。

ペリクルはフォトマスクやレティクルの形状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度の枠体の一方の縁面にセルロース誘導体或いはフッ素樹脂等の透明な高分子膜からなるペリクル膜を展張して接着し、且つ該枠体の他方の縁面にマスク粘着材を介してフォトマスクやレティクルの表面に貼着される。

フォトマスクやレティクルの表面に異物が付着した場合、その異物が半導体ウェハや液晶パネル上に形成されたフォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因となるが、フォトマスクやレティクルにペリクルを配置した場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォーカス位置のずれによって半導体ウェハや液晶パネル上に形成されたフォトレジスト上に結像することなく回路パターンに欠陥を生じさせないものである。

そして、このペリクルについてはその利用目的から、当然ペリクル膜の内外表面やペリクル膜の内部に異物等の欠陥が存在してはならないので、目視による厳密な検査が行なわれている。

透明体の欠陥を検査する欠陥検査装置としては、特開2002-228428号公報（特許文献１）及び特許第3524756号公報（特許文献２）に記載されたように、光源に対して被検体となるペリクル膜を移動して検査を行うもの、特開昭63-208746号公報（特許文献３）に記載されたように、光ビームを被検査基板に斜め入射の状態で少なくとも一次元方向に走査して検査を行うもの、特開平4-344447号公報（特許文献４）に記載されたように、透明ガラスの基板の一点に向けて少なくとも３方向から検査光を同時に照射する光源を検査光と透明ガラス基板の法線とが１０°〜４０°の角度を有して配置されたものが提案されている。

特開２００２−２２８４２８号公報 特許第３５２４７５６号公報 特開昭６３−２０８７４６号公報 特開平０４−３４４４４７号公報

しかしながら、近年、ペリクルの大型化に伴い、目視による厳密な検査が困難となりつつあり、前述の従来例のように光源に対して被検体となるペリクル膜を移動して検査を行う場合には広い面積を必要とし、かつ、大型ペリクルを安定して移動することが困難である。また大型ペリクルに対して撮像カメラや光源を移動する場合も大型ペリクルに応じて走査装置が大型化するため停止動作時に大きな慣性力が作用して振動し、撮像した画像に振動によるノイズが発生するという問題があった。

本発明は前記課題を解決するものであり、その目的とするところは、撮像した画像に振動によるノイズが発生することがなく、自動的に且つ短時間で且つ正確に透明体に付着した異物等の欠陥を検査することが出来る欠陥検査装置及びその欠陥検査装置を用いた欠陥検査方法を提供せんとするものである。

前記目的を達成するための本発明に係る欠陥検査装置の第１の構成は、透明体の欠陥を検査する欠陥検査装置であって、検査対象の透明体を支持する支持台と、前記透明体の表面を走査する走査手段と、前記走査手段のキャリッジに搭載され、前記透明体の検査領域を撮像する撮像手段と、前記キャリッジに搭載され、前記透明体の検査領域を照明する照明手段と、前記走査手段のキャリッジの走査を制御する走査制御手段と、前記キャリッジに搭載され、前記走査手段のキャリッジの移動加速度を検知する加速度検知手段と、前記走査制御手段により前記キャリッジの停止動作が実行され且つ前記加速度検知手段により検知された加速度が所定時間、予め設定された値以下になった時点で前記撮像手段による撮像を開始する撮像制御手段とを有することを特徴とする。

また、本発明に係る欠陥検査装置の第２の構成は、前記第１の構成において、前記照明手段は、前記撮像手段の光軸を含み且つ該光軸を中心に交差する複数の平面上にそれぞれ光軸が設定されて前記透明体の検査領域を一同に照明する複数の照明手段であることを特徴とする請求項１に記載の欠陥検査装置。

また、本発明に係る欠陥検査装置の第３の構成は、前記第１の構成において、前記支持台により支持された透明体に隣接して前記撮像手段の撮像系の校正を行なう校正ステージを設けたことを特徴とする。

また、本発明に係る欠陥検査装置の第４の構成は、前記第１の構成において、前記支持台により支持される検査対象の面状の透明体が鉛直方向に配置され、前記照明手段の光軸は投光方向に対して上向きまたは水平に配置されたことを特徴とする。

また、本発明に係る欠陥検査装置の第５の構成は、前記第１の構成において、前記撮像手段は、ＥＭ−ＣＣＤカメラを有して構成したことを特徴とする。

また、本発明に係る欠陥検査装置の第６の構成は、前記第１の構成において、前記照明手段は、ハロゲン照明を有して構成したことを特徴とする。

また、本発明に係る欠陥検査方法は、前記第１〜第６の構成の欠陥検査装置を用いた欠陥検査方法であって、前記撮像手段により撮像した撮像画像において、該撮像手段の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積と、該撮像輝度のピーク値とを二次元座標にプロットし、該二次元座標上の領域を区分して検査される欠陥を分類することを特徴とする。

本発明に係る欠陥検査装置の第１の構成によれば、加速度検知手段により撮像手段及び照明手段を搭載したキャリッジの移動加速度を検知し、走査制御手段により該キャリッジの停止動作が実行され且つ該加速度検知手段により検知された加速度が所定時間、予め設定された値以下になった時点で撮像制御手段により撮像手段による撮像を開始するためキャリッジが完全に静止した状態で撮像を開始することが出来る。これにより撮像した画像に振動によるノイズが発生することがなく、自動的に且つ短時間で且つ正確に透明体に付着した異物等の欠陥を検出することが出来る。

本発明に係る欠陥検査装置の第２の構成によれば、複数の角度から異物等の欠陥を照明することで異物等の欠陥検出の精度が向上する。

本発明に係る欠陥検査装置の第３の構成によれば、撮像系の校正を行う校正ステージを支持台により支持された透明体に隣接して設けたことで、透明体に付着した異物等の欠陥を検出する動作に先んじて撮像系の校正を行うことが出来る。校正ステージは撮像手段のシェーディングやフォーカス、或いは輝度勾配、更には照明手段の光源光量を校正することが出来る。

本発明に係る欠陥検査装置の第４の構成によれば、支持台により支持される検査対象の面状の透明体が鉛直方向に配置され、照明手段の光軸が投光方向に対して上向きまたは水平に配置されたことで欠陥検査装置が設けられる構造物の壁面に反射する１次反射光及びその１次反射光が更に構造物の壁面に反射する２次反射光がノイズとして撮像手段により撮像されないように配置することが容易に出来る。

本発明に係る欠陥検査装置の第５の構成によれば、ＥＭ−ＣＣＤ（Electron Multiplying Charge Coupled Devices）カメラにより低ノイズで高い素子分解能を維持したまま増幅された信号を検出することが出来、異物等の欠陥の検出性能を向上させることが出来る。

本発明に係る欠陥検査装置の第６の構成によれば、ハロゲン照明により高照度を得ることが出来、ＥＭ−ＣＣＤ（Electron Multiplying Charge Coupled Devices）カメラと協働して異物等の欠陥の検出性能を向上させることが出来る。ハロゲン照明は長波長側にブロードなピークを持ち、ＥＭ−ＣＣＤカメラの分光感度特性と合っているため、効率良く高照度な照明を得ることが出来る。

また本発明に係る欠陥検査方法によれば、撮像手段の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積と、該撮像輝度のピーク値とを二次元座標にプロットし、該二次元座標上の領域を区分して検査される欠陥を分類することで、所定の閾値を設定して透明体の良、不良の判定が容易に出来、該透明体の製造工程における工程改善の指針とすることも出来る。

図により本発明に係る欠陥検査装置及びその欠陥検査装置を用いた欠陥検査方法の一例として、ペリクル膜の異物等の欠陥を検出する場合の一実施形態を具体的に説明する。図１（ａ）は本発明に係る欠陥検査装置の構成を示す模式断面説明図、図１（ｂ）は校正ステージの構成を示す斜視説明図、図２（ａ）は本発明に係る欠陥検査装置の構成を示す正面説明図、図２（ｂ）は撮像順序を説明する図、図３（ａ），（ｂ）は１つの撮像手段に対して２つの照明手段を配置した構成を示す斜視図及び模式説明図、図４は本発明に係る欠陥検査装置の制御系の構成を示すブロック図、図５は撮像タイミングを説明する図、図６は撮像画像の一例を示す図、図７及び図８は図６の撮像画像に対応する各種データの一例を示す図、図９は撮像輝度のピーク値と目視評価との関係を示す図、図10は撮像手段の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積（ピーク面積）と目視評価との関係を示す図、図11は撮像手段の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積（ピーク面積）と、該撮像輝度のピーク値とを二次元座標にプロットした様子を示す図、図12は図11の二次元座標上の領域を区分して検査される欠陥を分類した様子を示す図、図13（ａ），（ｂ）は１つの撮像手段に対して３つの照明手段を配置した構成を示す斜視図及び模式説明図である。

図１において、１は透明体となるセルロース誘導体或いはフッ素樹脂等の透明な高分子膜からなるペリクル膜である。尚、検査対象となる透明体はペリクル膜に限定される必要は無く、石英，低膨張ガラス，ソーダライムガラス製の半導体や液晶用のマスク，マスクブランクス，液晶マザーガラス等のガラス製品，ポリイミド製のフレキシブルフィルム，液晶に使用される反射防止，位相制御，偏光制御用の各種フィルム，アクリル製の面材或いはそれ等の成形体であっても良い。検査対象となる透明体の形状は、本実施形態で例示した四角形以外の種々の形状であっても、その形状に対応してコンピュータ及び／又は動作コントローラ20に記録する走査手段６の動作パターンを変更するだけで容易に実現出来る

２は透明体となるペリクル膜１の表面に付着した異物等の欠陥を検出する欠陥検査装置である。欠陥検査装置２は反射光の出射を抑制する壁面が周囲に施された暗室５内に設けられており、検査対象となるペリクル膜１が支持台３により支持されている。本実施形態では、面状の透明体となるペリクル膜１が鉛直方向に起立（或いは垂下）した状態で配置される。

支持台３により支持されたペリクル膜１の周囲には、上方よりＨＥＰＡ（Ｈigh Ｅfficiency Ｐarticulate Air)フィルター或いはＵＬＰＡ(Ultra Low Penetration Air)フィルター等を通じた清浄な空気が供給される。６は支持台３により支持された透明体となるペリクル膜１の表面を走査する走査手段であり、走査手段６のキャリッジ７には透明体となるペリクル膜１の検査領域を撮像する撮像手段８と、該撮像手段８により撮像される透明体となるペリクル膜１の検査領域を一同に照明する複数の照明手段９が搭載されている。

本実施形態の撮像手段８は、ＥＭ−ＣＣＤ（Electron Multiplying Charge Coupled Devices）からなる超高感度カメラを採用している。ＥＭ−ＣＣＤカメラは、ＣＣＤ（Charge Coupled Devices）チップで検出した光電子を、多段のゲインレジスターに通すことによりＣＣＤチップ上で増幅させてからＡ／Ｄ（アナログ／デジタル）変換で読み出す超高感度ＣＣＤ検出器として構成されたものである。

増幅タイプのマルチチャンネル検出器としてはＩＣＣＤ（Charge Coupled Device with Image-intensifier）が一般的であるが、このＥＭ−ＣＣＤはＩＣＣＤと違いイメージインテンシファイアが無いので、低ノイズ、高い素子分解能を維持したまま増幅された信号を検出することが出来る。

通常のＣＣＤではチップ上で光から電子に変換され、そのままＡ／Ｄコンバータによりデジタル信号として読み出されるが、ＥＭ−ＣＣＤではＡ／Ｄコンバータで読み出す前に電圧をかけて電子を増幅させ、それにより光から変換された電子が増幅し、Ｓ／Ｎ比の高い信号として検出される。ＥＭ−ＣＣＤにはＣＣＤチップの前にイメージインテンシファイアがなく、その分のノイズが低減される。また、感度もＣＣＤチップの感度によるので、非常に高感度なカメラとして構成することが出来る。

図３に示すように、照明手段９ａ，９ｂは、撮像手段８の光軸８ａを含み且つ該光軸８ａを中心に交差する複数の平面上にそれぞれ光軸9a1，9b1が設定された構成としている。即ち、本実施形態の照明手段９ａ，９ｂは撮像手段８の光軸８ａを含み且つ該光軸８ａを中心に９０度の角度で交差する２つの平面上に照明手段９ａ，９ｂのそれぞれの光軸9a1，9b1が設定されている。照明手段９ａ，９ｂの一例として、小さな欠陥を検出するためには照度の高い高照度ハロゲン照明を採用することが出来る。また色むらと呼ばれる僅かな膜厚の違いによる欠陥の検出には、干渉性の良いナトリウムランプ等の単色光源を採用することが出来る。

図２に示すように、走査手段６はＸ方向に平行に配置された２本のフレーム６ａ，６ｂ上をＹ方向に配置された１本のフレーム６ｃが該フレーム６ａ，６ｂの長手方向と直行する方向に走行し得るように構成されており、更にフレーム６ｃ上をキャリッジ７が該フレーム６ｃの長手方向に走行し得るように構成されている。

キャリッジ７は図示しない駆動源となるモータを、図４に示すＹ軸コントローラ・ドライバ18が制御することでフレーム６ｃ上を走行し、該フレーム６ｃは図示しない駆動源となるモータをＸ軸コントローラ・ドライバ19が制御することでフレーム６ａ，６ｂ上を走行する。そして、Ｙ軸コントローラ・ドライバ18及びＸ軸コントローラ・ドライバ19は走査制御手段となる動作コントローラ20により制御される。

キャリッジ７には図３（ａ）に示すように、１つの撮像手段８と２つの照明手段９ａ，９ｂを有して構成された撮像ユニット10が２組設けられており、例えば図２（ｂ）に示すように、ペリクル膜１の下端角隅部に設定されたホームポジションからペリクル膜１表面の撮像を開始して高さ方向に配置されたフレーム６ｃに沿ってキャリッジ７が適宜上方向に移動して所定の検査領域で停止し、その検査領域を撮像する。

そして、撮像領域を所定の寸法だけ重ねて順次撮像し、ペリクル膜１の上端角隅部まで撮像し終わったら、水平方向に配置されたフレーム６ａ，６ｂに沿ってフレーム６ｃが図２（ｂ）の右方向に移動して所定の検査領域で停止し、その検査領域を撮像する。更にフレーム６ｃに沿ってキャリッジ７が適宜下方向に移動して所定の検査領域で停止し、その検査領域を撮像する。

そして、撮像領域を所定の寸法だけ重ねて順次撮像し、ペリクル膜１の下端部まで撮像し終わったら、フレーム６ａ，６ｂに沿ってフレーム６ｃが図２（ｂ）の右方向に移動して所定の検査領域で停止し、その検査領域を撮像し、上記走査を繰り返してペリクル膜１全面の撮像を完了する。

キャリッジ７に搭載された撮像手段８には、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の移動加速度を検知するための加速度検知手段となる加速度センサ11ａ，11ｂが設けられており、走査制御手段となる動作コントローラ20によりキャリッジ７の停止動作が実行され且つ加速度検知手段となる加速度センサ11ａ，11ｂにより検知された加速度が所定時間、予め設定された値以下になった時点で、撮像制御手段となる画像収集・画像処理コンピュータ12により撮像手段８による撮像を開始する。本実施形態では、予め設定された値として加速度が所定時間、実質的に「０」になった時点で撮像を開始するように構成している。またキャリッジ７の動作方向以外の移動加速度を検知するように加速度センサを設置して、該キャリッジ７の移動によって励起された動作方向以外の振動や外部由来の振動等も検知し、撮像手段８による撮像タイミングを適切にすることも出来る。

図５はキャリッジ７の移動動作速度の変化を示し、加速移動部13ａ、等速移動部13ｂ、減速移動部13ｃの後、サーボ制御による減衰部13ｄを経て停止部13ｅに至る。図４に示す加速度センサ11ａ，11ｂにより検出された加速度は加速度計14により測定され、キャリッジ７の移動加速度が所定時間、実質的に「０」になった時点で図５の停止部13ｅに至ったものと判断し、撮像手段８による撮像を開始する。

支持台３により支持された透明体となるペリクル膜１に隣接して撮像手段８及び照明手段９ａ，９ｂからなる撮像ユニット10の撮像系の校正を行う校正ステージ15が設けられている。校正ステージ15は図１（ｂ）に示すように、減光フィルタ15ａを介して撮像手段８に対面する位置に配置されており、撮像系のシェーディング、フォーカス、輝度勾配が適宜校正される。

図１（ａ）に示すように、照明手段９ａの光軸は投光方向に対して水平方向に配置されており、照明手段９ｂの光軸は投光方向に対して上向きに配置されている。これにより、暗室５内における１次反射光及び２次反射光が撮像手段８に向けて反射しないように設定されている。床面５ａは作業をするために欠陥検査装置２の近くに存在することが必須なので、暗室５の壁面から距離を離すことが出来るように照明手段９ａ、９ｂの投光方向を水平方向から上方向に向けて１次反射光と２次反射光が撮像手段８に向けて反射しないようにする。

撮像手段８により撮像した撮像画像を処理した結果の一例を図６に示す。図６において黒く表示された部分が欠陥となる異物を検出した輝点画像であり、各異物の各種データは図７及び図８に示す通りである。それぞの輝点画像は、図６の撮像画像中の輝点のＩＤ番号と括弧によって囲まれた目視によって評価した数値を付記した。目視評価は、数字が大きい方が大きな欠陥としてあり、（１）〜（２０）及びそれ以降は１０刻みで（８０）までの２６に分類した。尚、本実施形態で見つかった異物が該当しなかった分類も存在する。撮像手段８の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積が図７及び図８に示すピーク面積欄16に記録されており、撮像輝度のピーク値が図７及び図８に示すピーク値欄17に記録されている。図７及び図８に示すピーク位置は撮像範囲の上左の角を０として縦横の撮像範囲の一辺の長さを１としたときの相対的距離を示す。

図９は撮像輝度のピーク値と目視評価との関係を示し、図10は撮像手段８の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積（ピーク面積）と目視評価との関係を示す。

それぞの輝点画像は、それぞれの輝点ピーク値と、撮像手段８の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積（ピーク面積）のパラメータを持っている。これによる分類をグラフ上で確認すると、目視で（１０）以上と評価された輝点は、図９に示すピーク値２００付近に集中するためピーク値での評価が難しく、目視で（１０）以下と評価された輝点は、図10に示すピーク面積５０以下に集中するためピーク面積での評価が難しい。

即ち、検出する欠陥の大きさにより、散乱光強度が大きく変化するため微小な欠陥を検出するために感度を上げると、光量が検出器のダイナミックレンジを超えてしまうため、いずれか一方の評価では判断出来る欠陥の大きさが制限される。例えば、ピーク値の評価だけでは大きいものの区別が出来ず、ピーク面積だけでの評価では小さいものの区別が出来なくなる。

例えば、特開２００２−２２８４２８号公報（特許文献１）、特開２０００−０８８５３５号公報に記載されたように、ピーク値での評価とピーク面積の評価を切り替える方法も提案されているが、検出後の面積とピーク値の関係が単純な増加関係にある場合以外は使用出来ない。また、特開平１０−１０６９４１号公報の明細書〔０００８〕乃至〔０００９〕欄に記載されたような、感度を複数持つ検出器を組合せる方法も提案されているが、この場合は測定を複数回行ったり、検出器を複数個使用する等の対策が必要である。

図11は図７及び図８に示すピーク面積欄16に記録された撮像手段８の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積（ピーク面積）と、図７及び図８に示すピーク値欄17に記録された撮像輝度のピーク値とを二次元座標にプロットしたものであり、図12に示すように、二次元座標上の領域を区分して検査される欠陥を分類することが出来る。

図11及び図12において、目視評価のばらつきによりプロットは混在しているもののおおよその範囲で異物を分類することが出来る。例えば図12に示す領域Ａから領域Ｑ及び領域Ｚのように２次元的に分類すれば全ての輝点を統一的に分類することが出来る。図12では便宜的に１５分割した一例であるが、分割領域を適宜増減することは容易であり、またグラフ上で確認出来るため変更や調整も容易に出来る。

撮像手段８として高感度のカメラを使用し、微細な欠陥を見る場合には大きな欠陥がつぶれて写るため、このように広範囲の異物撮影を広範囲にわたって一度に行う場合にこの画像処理法が有効である。また、ある近似ラインの上にプロットした結果がまとまる場合は、その範囲に入らないもの（図12の領域Ｘ）を異常値として分類する等の使い方も出来る。

図13は撮像手段８の光軸８ａを含み且つ該光軸８ａを中心に交差する複数の平面上にそれぞれ光軸が設定されて透明体となるペリクル膜１の検査領域を一同に照明する複数の照明手段９の他の例として、撮像手段８の光軸８ａを含み且つ該光軸８ａを中心に６０度の角度で交差する３つの平面上に照明手段９ａ，９ｂ，９ｃのそれぞれの光軸9a1，9b1，9c1が設定された一例を示す。他の構成は上記実施形態と同様に構成され、同様の効果を得ることが出来る。

本発明の活用例として、透明体の欠陥を検査する欠陥検査装置及びその欠陥検査装置を用いた欠陥検査方法に適用することが出来る。

本発明に係る欠陥検査装置の構成を示す模式断面説明図、（ｂ）は校正ステージの構成を示す斜視説明図である。 （ａ）は本発明に係る欠陥検査装置の構成を示す正面説明図、（ｂ）は撮像順序を説明する図である。 （ａ），（ｂ）は１つの撮像手段に対して２つの照明手段を配置した構成を示す斜視図及び模式説明図である。 本発明に係る欠陥検査装置の制御系の構成を示すブロック図である。 撮像タイミングを説明する図である。 撮像画像の一例を示す図である。 図６の撮像画像に対応する各種データの一例を示す図である。 図６の撮像画像に対応する各種データの一例を示す図である。 撮像輝度のピーク値と目視評価との関係を示す図である。 撮像手段の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積（ピーク面積）と目視評価との関係を示す図である。 撮像手段の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積（ピーク面積）と、該撮像輝度のピーク値とを二次元座標にプロットした様子を示す図である。 図11の二次元座標上の領域を区分して検査される欠陥を分類した様子を示す図である。 （ａ），（ｂ）は１つの撮像手段に対して３つの照明手段を配置した構成を示す斜視図及び模式説明図である。

符号の説明

１…ペリクル膜
２…欠陥検査装置
３…ペリクル膜支持台
５…暗室
５ａ…床面
６…走査手段
６ａ，６ｂ，６ｃ…フレーム
７…キャリッジ
８…撮像手段
８ａ…光軸
９…照明手段
9a1，9b1…光軸
10…撮像ユニット
11ａ，11ｂ…加速度センサ
12…画像収集・画像処理コンピュータ
13ａ…加速移動部
13ｂ…等速移動部
13ｃ…減速移動部
13ｄ…減衰部
13ｅ…停止部
14…加速度計
15…校正ステージ
15ａ…減光フィルタ
16…ピーク面積欄
17…ピーク値欄
18…Ｙ軸コントローラ・ドライバ
19…Ｘ軸コントローラ・ドライバ
20…動作コントローラ
Ａ〜Ｑ、Ｚ…領域

Claims (7)

1. 透明体の欠陥を検査する欠陥検査装置であって、
   検査対象の透明体を支持する支持台と、
   前記透明体の表面を走査する走査手段と、
   前記走査手段のキャリッジに搭載され、前記透明体の検査領域を撮像する撮像手段と、
   前記キャリッジに搭載され、前記透明体の検査領域を照明する照明手段と、
   前記走査手段のキャリッジの走査を制御する走査制御手段と、
   前記キャリッジに搭載され、前記走査手段のキャリッジの移動加速度を検知する加速度検知手段と、
   前記走査制御手段により前記キャリッジの停止動作が実行され且つ前記加速度検知手段により検知された加速度が所定時間、予め設定された値以下になった時点で前記撮像手段による撮像を開始する撮像制御手段と、
   を有することを特徴とする欠陥検査装置。
2. 前記照明手段は、前記撮像手段の光軸を含み且つ該光軸を中心に交差する複数の平面上にそれぞれ光軸が設定されて前記透明体の検査領域を一同に照明する複数の照明手段であることを特徴とする請求項１に記載の欠陥検査装置。
3. 前記支持台により支持された透明体に隣接して前記撮像手段の撮像系の校正を行なう校正ステージを設けたことを特徴とする請求項１に記載の欠陥検査装置。
4. 前記支持台により支持される検査対象の面状の透明体が鉛直方向に配置され、前記照明手段の光軸は投光方向に対して上向きまたは水平に配置されたことを特徴とする請求項１に記載の欠陥検査装置。
5. 前記撮像手段は、ＥＭ−ＣＣＤカメラを有して構成したことを特徴とする請求項１に記載の欠陥検査装置。
6. 前記照明手段は、ハロゲン照明を有して構成したことを特徴とする請求項１に記載の欠陥検査装置。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の欠陥検査装置を用いた欠陥検査方法であって、
   前記撮像手段により撮像した撮像画像において、該撮像手段の二次元セル平面に対して撮像輝度をプロットした三次元グラフを所定の輝度で切断した断面積と、該撮像輝度のピーク値とを二次元座標にプロットし、該二次元座標上の領域を区分して検査される欠陥を分類することを特徴とする欠陥検査方法。

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