JP4569813B2 - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4569813B2
JP4569813B2 JP2004354168A JP2004354168A JP4569813B2 JP 4569813 B2 JP4569813 B2 JP 4569813B2 JP 2004354168 A JP2004354168 A JP 2004354168A JP 2004354168 A JP2004354168 A JP 2004354168A JP 4569813 B2 JP4569813 B2 JP 4569813B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
plastic film
film
electrode
roll
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2004354168A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006161099A (ja
Inventor
清司 伊関
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP2004354168A priority Critical patent/JP4569813B2/ja
Publication of JP2006161099A publication Critical patent/JP2006161099A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4569813B2 publication Critical patent/JP4569813B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は長尺なプラスチックフィルムの基材上に電子ビームを使い蒸着薄膜を連続的に形成する巻き取り式電子ビーム真空蒸着装置に関するものである。
従来より長尺なプラスチックフィルムまたは紙等の基材上に、金属等の無機薄膜を連続的に形成するのに、巻き取り式の半連続蒸着装置が良く使われている。図1に巻き取り式蒸着装置の概念図を示す。一般的には、巻き取り式蒸着装置は、長尺プラスチックフィルムの巻き出しロール12、巻き取りロール2が有るワインダー室1と蒸着を行う蒸着室10とに仕切り7で別れている。蒸着室10は蒸着可能圧力0.1Pa以下には少なくとも保持されている。対してワインダー室1は蒸着室10の圧力が保持できる圧力レベルに保持される。通常仕切り7により100倍程度の圧力差が有る。
巻き出しロール12よりプラスチックフィルム4が巻き出され、ガイドロール等3をへてコーティングロール6に移動する。コーティングロール6は通常プラスチックフィルム4を熱より守るために冷却されている。
蒸発源9には蒸着材料が入っており、加熱蒸発させプラスチックフィルム4上に膜形成する。工程としては、蒸着材料の昇温中、プラスチックフィルム4が低速で走行中などには、シャッター11が閉じている。蒸着条件が整ったときにシャッター11を開けて膜形成を開始する。
膜形成したプラスチックフィルム4は、ガイドロール等3を通り巻き取りロール2に巻き取られる。
蒸着源9としては、カーボン製の坩堝を交流電磁界により加熱する誘導加熱方式、BNとTiB2とのコンポジットセラミック等を材料としたボートに電流を流し加熱する抵抗加熱方式、さらに電子銃8により電子ビームを蒸着材料に直接照射して加熱する電子ビーム加熱方式がある。
電子ビーム加熱は直接蒸着材料を加熱するために高融点材料が使用でき、またや蒸着速度を速くすることができるなどの特徴がある。しかしながら電子ビーム蒸着では、蒸着材料にあたった電子ビームが反射して電子がプラスチックフィルムに到達したり、電子ビームにたたかれた材料から発生した二次電子が上がりプラスチックフィルムに到達したりして、プラスチックフィルムに電子が乗り帯電してしまう。帯電したプラスチックフィルムはコーティングロール6よりはなれてガイドロール等3に移動するときにプラスチックフィルム−ロール間等でアーク放電等が発生して蒸着膜にダメージを与えてしまったり、酷い時は基材のプラスチックフィルム自体もダメージを与えてしまったりするという問題があった。
そこで、コーティングロール6を絶縁して放電を防ぐ方法が開示されている。(例えば、特許文献1)また、イオン源を設置して中和させる方法が開示されている。(例えば、特許文献2)さらにアースに落とした導電性を有するロールを接触させる方法が開示されている。(例えば、特許文献3)
特開平4−346665号公報 特開平7−118835号公報 特開平7−150355号公報
また、図2に示すような電極13を持った図1に示す除電器5を設置することも知られている。この除電器は、アースに接地したケース14に板状の電極13を設置したものがある。これは、スパッタリングで使われるターゲット電極とほぼ同じである。電極13とコーティングロール6は通常 50mm程度間隔がある。またケース14とコーティングロール6との隙間を10mm以下程度に保持しガス導入口15から導入されるガスによる圧力を保持する事が多い。ガスは一般にはアルゴンガスが使われる。電極13は、電極表面13aと電極の加熱を防ぐために冷却水を通した電極ベース13bよりなる場合が多い。また、放電をより安定させるために電極ベース13bに磁石を埋め込みマグネトロンとすることもある。ちなみに電極表面にはチタンなどの金属が使用されている。
電極13には直流電圧の場合はマイナス電位にする。また、RF電源により高周波電圧をかける場合もある。この場合セルフバイアス効果により直流的にはマイナス電位になる。(例えば、特許文献4)
アメリカ特許 4815415号公報
帯電に対する対策として前記の方法では以下の問題があった。
上記特許文献1に開示されたコーティングロールを絶縁する方法では冷却能力が十分でなくプラスチックフィルムにしわ等が発生することがある。
また、上記特許文献2に開示されたイオン源を設置して中和させる方法では、反射電子や二次電子が多い材料を蒸発させるとき能力不足になる。
さらにまた、上記特許文献3に開示された設置した導電性のロールを接触させる方法では、ミクロ的に見た場合フィルム表面とロールとはまばらにしか接触せず除電は出来ない。
さらにまた、上記特許文献4に開示された放電電極を使った方式では、除電能力は高いが電極材料がスパッタされて周りに膜が付着する。長期間使用すると付着した膜は剥がれてプラスチックフィルムに巻き込まれたり、電極とアースの間に入り短絡したりする。膜がプラスチックフィルムに巻き込まれてしまうと工業製品として価値が損なわれる。また、電極が短絡すると放電が止まってしまい除電装置としての機能がなくなり、電子ビーム蒸着を行えなくなる。
本発明者は、上記課題を鑑みて、鋭意検討した結果、本発明に至った。
本発明は長尺プラスチックフィルムの基材を巻き出しロールから巻き出し、コーティングロール上を走行させ、対向して設置した蒸着材料を電子ビームにより加熱し蒸発させ、該プラスチックフィルム上に蒸着薄膜を形成した後、巻き取りロールで巻き取る装置において、該プラスチックフィルムがコーティングロールより離れる地点または付近に設置した面電極を有する除電装置の陰電極が炭素で出来ていることを特徴とする真空蒸着装置である。
この場合において、前記除電装置に導入するガスとして酸素を含んだガスを使用することが好適である。
また、この場合において、前記真空蒸着装置を用いて製造した蒸着フィルムが好適である。
本発明によれば長期間での使用においても除電装置の陰極よりスパッタリングされる量が軽減されまた、堆積した膜も剥離しにくく、除去しやすいものとなる。つまり自然には膜は落ちなく掃除を実施するときに簡単に除去が可能である。また、酸素ガスを混合して使用することにより、スパッタされた炭素原子は、酸化されガスとして排出される。従って膜として堆積することがない。
従って、電極よりスパッタされ付着した膜が剥がれてプラスチックフィルムに巻き込まれたり、電極とアースの間に入り短絡したりする事がなくなる。
これにより蒸着フィルムの不良率が大幅に改善される。
以下に図を示して本発明を説明する。
図1は、本発明に係る除電器を使用した蒸着装置の実施形態を示している。この蒸着装置は、電子銃8を使った電子ビーム加熱方式の蒸着装置であり、長尺プラスチックフィルムに薄膜層を蒸着する装置である。蒸着源9は銅などの金属製水冷坩堝に蒸着原料をいれる。
本発明でいう長尺プラスチックフィルムとは、有機高分子を溶融押し出しをして、必要に応じ、長手方向、及び、又は、幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルムであり、有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタート、ポリエチレン−2、6−ナフタレート、ナイロン6、ナイロン4、ナイロン66、ナイロン12、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニールアルコール、全芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイドなどがあげられる。また、これらの(有機重合体)有機高分子は他の有機重合体を少量共重合をしたり、ブレンドしたりしてもよい。
更にこの有機高分子には、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、着色剤などが添加されていてもよく、その透明度は特に限定するものではないが、透明性を利用したフィルムの観点より70%以上の透過率をもつものが好ましい。
本発明に使用するプラスチックフィルムは、薄膜層を積層するに先行して、該フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理、その他の表面粗面化処理を施してもよく、また、公知のアンカーコート処理が施されていてもよい。本発明に使用するプラスチックフィルムは、その厚さとして5〜1000μmの範囲が好ましく、更に好ましくは10〜500μmの範囲である。
巻き出しロール12より出たプラスチックフィルムは、ガイドロール等3をへてコーティングロール6に移動する。電子銃8により蒸着源9に入った材料を加熱、蒸発させコーティングロール6上でプラスチックフィルム4に無機薄膜層を形成する。
その後除電器5を通過して巻き取りロール2に巻き取られる。
除電器5を設置する位置としては、少なくとも蒸着された後、コーティングロール6よりプラスチックフィルム4が剥離する点のあいだに除電器5の一端があり、もう一端が少なくとも該剥離点付近、好ましくは前記剥離点を越えたところに一端があるのが好ましい。
たとえば剥離前600mm剥離後300mm程度が好ましいコーティングロール6と電極表面13aとの間隔は、50mm程度が一般的であるがこれに縛られない。30〜150mmが好ましい。
図2は、本発明に係る蒸着装置に使用する除電器の実施形態を示している。
ケース14は、電極13と絶縁されておりアース電位になっている。電極表面以外は間隔5mm以下程度に保たれているか、絶縁物質が入っており不要な放電を防いでいる。
ケース14の端は、プラスチックフィルム4との間隔を5mm程度に保持されており、ガス導入口15より供給されるガスによる圧力上昇を効率良くしている。圧力は、0.1〜2.0Paに保たれることが放電を安定するのに好ましい。
放電電極13は、DC定電流電源に接続しアース電位に対して負電位に保ち一定の電流で放電させる。通常数百V程度の電圧がかかる。放電電流は電極の大きさ、帯電の大きさにより適宜変更する。
また、RF電源(13MHz程度の周波数電源)を使い放電させても良い。この場合でも電極はセルフバイアス効果により時間平均で見るとDC負電位になる。
電極の大きさは少なくとも走行するプラスチックフィルムの幅よりひろい必要がある。
電極13は、電極表面13aと電極ベース13bとからなる。表面電極13aは炭素よりなるものであるところに本発明の特徴がある。炭素材料としては、かさ比重1.70以上の黒鉛が好ましい。比重が少ないものでは電極の減りが大きくさらにガスの吸着など問題がある。
電極ベース13bは、銅等の金属で出来ており電源とつながっている。放電による熱を逃がすために水冷することが望ましい。放電をより安定させるために13b内に例えば、特許文献4に記載のように磁石をいれマグネトロン方式にしてもよい。
電極ベース13bと電極表面13aとは、通常用いられるボンディングが使える。接着剤による接着や好ましくはインジューム等による接着がある。
また、電極表面の交換を容易にするためにネジ止め等により簡易に脱着出来る方法により取り付けることができる。この場合電極表面13aと電極ベース13bとの間にインジュームや弾力性のあるカーボンシートを挟むことにより熱コンタクトを取ることが好ましい。
放電を安定化させるためガス導入口15よりアルゴンガスを入れて0.1〜2.0Paに保つようにする。好ましくはアルゴンガスに酸素ガスを数十%程度混合して導入することが好ましい。これは、スパッタリングされた炭素原子が酸素により酸化され炭酸ガスになり排出されるからである。
以下に具体例をあげて本発明を説明する。
(実施例1)
図1に示す電子ビーム加熱方式蒸着装置を使用し、長尺プラスチックフィルム4にアルミナ−シリカ層を蒸着した。
長尺プラスチックフィルムとしてフィルム幅2000mmフィルム長50000mの12μm厚みPETフィルムを使用し、巻き出しロール12にセットした。PETフィルムはポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績株式会社製 エステルフィルム E5100)である。
粒状の二酸化ケイ素と酸化アルミニウムとを蒸着原料として約2800mm×800mm×180mm銅製水冷坩堝にいれ、蒸着源9とした。
巻き出しロール12より出たフィルムは、コーティングロール6に移動する。電子銃8により蒸着源9に入った材料を加熱、蒸発させコーティングロール6上でプラスチックフィルム4にアルミナ−シリカ層を形成する。その後除電器5を通過して巻き取りロール2にまきとる。
除電器5において、図2に示すものを使用した。このとき、約2800mm×800mmの電極表面13a(厚み5mm)として冷間等方圧加圧法で作成したかさ比重1.80の黒鉛を使用した。
放電ガスとして、アルゴンにガスに酸素ガスを10%混合したものを使用した。
巻き取ったプラスチックフィルムは、スリッターで欠点検知機を通して980mm幅 長さ4000m巻きロールにスリットした。
10バッチ蒸着を実施し、その間除電器周りのメンテナンスは実施しなかった。
除電器起因のゴミによる不良は発生しなかった。
(比較例)
実施例1と同様に蒸着を実施した。但し炭素の電極表面13aのかわりにチタン製の電極表面13aを使用した。ガスは純粋アルゴンガスである。
蒸着バッチの後半で電極起因と推定される異物が多数フィルムに混入した。異物により製品とならない不良率が8%発生した。
本発明の真空蒸着装置は、長期間での使用においても除電装置の陰極よりスパッタリングされる量が軽減されまた、堆積した膜も剥離しにくく、除去しやすいものとなる。つまり自然には膜は落ちなく掃除を実施するときに簡単に除去が可能である。また、酸素ガスを混合して使用することにより、スパッタされた炭素原子は、酸化されガスとして排出される。従って膜として堆積することがないので、蒸着フィルムの生産の分野において寄与することが大である。
蒸着装置の概略図 除電器の概略図
符号の説明
1:ワインダー室
2:巻き取りロール
3:ガイドロール等
4:プラスチックフィルム
5:除電器
6:コーティングロール
7:仕切り
8:電子銃
9:蒸着源
10:蒸着室
11:シャッター
12:巻き出しロール
13:電極
13a:電極表面
13b:電極ベース
14:ケース
15:ガス導入口

Claims (2)

  1. 長尺プラスチックフィルムの基材を巻き出しロールから巻き出し、コーティングロール上を走行させ、対向して設置した蒸着材料を電子ビームにより加熱し蒸発させ、該プラスチックフィルム上に蒸着薄膜を形成した後、巻き取りロールで巻き取る装置において、該プラスチックフィルムがコーティングロールより離れる地点または付近に設置した表面電極と電極ベースからなる面電極を有する除電器の表面電極がかさ比重1.70以上の黒鉛で出来ていることを特徴とする電子ビーム加熱方式の蒸着装置
  2. 請求項1において放電させるために除電器に導入するガスとして酸素を含んだガスを使用することを特徴とする電子ビーム加熱方式の蒸着装置
JP2004354168A 2004-12-07 2004-12-07 真空蒸着装置 Active JP4569813B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004354168A JP4569813B2 (ja) 2004-12-07 2004-12-07 真空蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004354168A JP4569813B2 (ja) 2004-12-07 2004-12-07 真空蒸着装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006161099A JP2006161099A (ja) 2006-06-22
JP4569813B2 true JP4569813B2 (ja) 2010-10-27

Family

ID=36663448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004354168A Active JP4569813B2 (ja) 2004-12-07 2004-12-07 真空蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4569813B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015037534A1 (ja) * 2013-09-10 2015-03-19 コニカミノルタ株式会社 機能性フィルムの製造装置及び製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05239616A (ja) * 1991-06-27 1993-09-17 Jeol Ltd フィルム状材料の蒸着装置
JPH07109571A (ja) * 1993-08-17 1995-04-25 Toppan Printing Co Ltd 電子ビーム式連続蒸着装置
JPH11238595A (ja) * 1997-11-27 1999-08-31 Toray Ind Inc 除電装置および除電方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05239616A (ja) * 1991-06-27 1993-09-17 Jeol Ltd フィルム状材料の蒸着装置
JPH07109571A (ja) * 1993-08-17 1995-04-25 Toppan Printing Co Ltd 電子ビーム式連続蒸着装置
JPH11238595A (ja) * 1997-11-27 1999-08-31 Toray Ind Inc 除電装置および除電方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006161099A (ja) 2006-06-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2005049883A1 (ja) 巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置
EP0041850B1 (en) A method of vacuum depositing a layer on a plastics film substrate
JP5056114B2 (ja) シートの薄膜形成装置および薄膜付きシートの製造方法
JP5481239B2 (ja) 薄膜付シートの製造装置及び薄膜付シートの製造方法、並びにこれらに用いられる円筒状ロール
JP6413832B2 (ja) シートの薄膜形成装置および薄膜付きシートの製造方法
JP4569813B2 (ja) 真空蒸着装置
JP4826907B2 (ja) 巻取式真空蒸着方法及び装置
JP5929835B2 (ja) 長尺樹脂フィルムの表面処理装置及び表面処理方法、並びに該表面処理装置を備えたロールツーロール成膜装置
JP4601385B2 (ja) 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置
JP4601387B2 (ja) 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置
JP5027418B2 (ja) シートの薄膜形成装置および薄膜付きシートの製造方法
JP4613048B2 (ja) 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置
EP2889396B1 (en) Vacuum coater and method of operating a vacuum coater
JP4613056B2 (ja) 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置および成膜方法
JPH1060643A (ja) 連続蒸着装置および連続蒸着製造方法
JP2006104568A (ja) 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置
WO2022264921A1 (ja) 加工プラスチックフィルムの製造方法
JP2009275251A (ja) 成膜装置および成膜方法
JP4613045B2 (ja) 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置
JP4904725B2 (ja) 巻取式真空蒸着方法
CN101063192A (zh) 金属板带真空镀膜设备
JP4380360B2 (ja) 巻取式真空蒸着装置
JP2006316335A (ja) 透明蒸着フィルム製造法
JP4161607B2 (ja) 巻き取り式電子ビーム真空蒸着装置
JP6443314B2 (ja) シートの帯電密着装置、シートの真空成膜装置および薄膜付きシートの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071206

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100114

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100309

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100715

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100728

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4569813

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350