JPH05239616A - フィルム状材料の蒸着装置 - Google Patents
フィルム状材料の蒸着装置Info
- Publication number
- JPH05239616A JPH05239616A JP3156750A JP15675091A JPH05239616A JP H05239616 A JPH05239616 A JP H05239616A JP 3156750 A JP3156750 A JP 3156750A JP 15675091 A JP15675091 A JP 15675091A JP H05239616 A JPH05239616 A JP H05239616A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- electron beam
- vapor deposition
- electron
- filament
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】フィルム状の被蒸着材料の帯電による影響をほ
とんどなくし、フィルム状材料に効率良く均一に特定材
料の蒸着を行う。 【構成】フィルム３上に発生するフィルムの幅方向の正
電荷分布は、フィルム３の幅方向に並べられた複数の静
電容量検出器３３によって検出される。この検出器３３
によって検出された信号は、ＡＤ変換器３４を介して制
御装置３５に供給され、演算処理される。この各検出器
３５で処理された値は、各検出器３３に対応した電子ビ
ーム発生装置２５に含まれる複数の電子銃に供給され、
各電子銃からの電子ビーム強度を個別に制御する。この
結果、電子ビームの強度は、各電子銃が分担して受け持
つフィルム３上の正電荷分布を局所的に中和するに必要
にして十分な値とされる。フィルム３は、電子ビーム発
生装置２５内の各電子銃からの電子ビームの照射を受け
て正電荷が中和され、蒸着室８に送られる。
とんどなくし、フィルム状材料に効率良く均一に特定材
料の蒸着を行う。 【構成】フィルム３上に発生するフィルムの幅方向の正
電荷分布は、フィルム３の幅方向に並べられた複数の静
電容量検出器３３によって検出される。この検出器３３
によって検出された信号は、ＡＤ変換器３４を介して制
御装置３５に供給され、演算処理される。この各検出器
３５で処理された値は、各検出器３３に対応した電子ビ
ーム発生装置２５に含まれる複数の電子銃に供給され、
各電子銃からの電子ビーム強度を個別に制御する。この
結果、電子ビームの強度は、各電子銃が分担して受け持
つフィルム３上の正電荷分布を局所的に中和するに必要
にして十分な値とされる。フィルム３は、電子ビーム発
生装置２５内の各電子銃からの電子ビームの照射を受け
て正電荷が中和され、蒸着室８に送られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチックスシート
のようなフィルム状の材料にアルミニウムなどの材料を
蒸着するようにしたフィルム状材料の蒸着装置に関す
る。
のようなフィルム状の材料にアルミニウムなどの材料を
蒸着するようにしたフィルム状材料の蒸着装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】高速に走行しているプラスチックスなど
のフィルムに一定の膜厚でアルミニウムなどの蒸発材料
（コーティング材）を蒸着させる場合、フィルム走行の
駆動機構とフィルムとの摩擦により、通常正の電荷がフ
ィルム上に蓄積され、この正電荷が蓄積されたフィルム
は、蒸着のときに蒸発材料を反発させ、蒸着効率を著し
く低下させる。また、フィルム上の正の電荷の不均一性
は、膜厚の均一性に対して悪い影響を与えている。これ
らの問題点を解決するため、フィルム走行位置が蒸着可
能領域に入る寸前に電子ビームをフィルム上に照射し、
フィルム上の正の電荷を完全に中和することが考えられ
る。
のフィルムに一定の膜厚でアルミニウムなどの蒸発材料
（コーティング材）を蒸着させる場合、フィルム走行の
駆動機構とフィルムとの摩擦により、通常正の電荷がフ
ィルム上に蓄積され、この正電荷が蓄積されたフィルム
は、蒸着のときに蒸発材料を反発させ、蒸着効率を著し
く低下させる。また、フィルム上の正の電荷の不均一性
は、膜厚の均一性に対して悪い影響を与えている。これ
らの問題点を解決するため、フィルム走行位置が蒸着可
能領域に入る寸前に電子ビームをフィルム上に照射し、
フィルム上の正の電荷を完全に中和することが考えられ
る。
【０００３】図５は、上記考察に基づいて提案された蒸
着装置を示している。この図において、１は電子ビーム
発生用真空室であり、真空室１の上部には、電子ビーム
発生装置２が設けられている。３はフィルムであり、フ
ィルム３はフィルム供給駆動部４とフィルム巻取駆動部
５により図中矢印方向に走行される。なお、６，７は、
フィルム位置決めドラムである。フィルム３は真空室１
の側部に設けられた細長い間隙を通過するように構成さ
れている。８は真空室１に隣り合って配置された蒸着室
であり、蒸着室８の側部に設けられた細長い間隙を通っ
てフィルム３が走行される。この蒸着室８の下部には、
蒸着材料９が入れられたルツボ１０と電子銃１１が設け
られている。この電子銃１１から発生した電子ビーム
は、図示していない電磁石によって２７０°偏向され、
ルツボ１０内の材料９に照射される。なお、１２は電子
銃電源、１３は排気系である。
着装置を示している。この図において、１は電子ビーム
発生用真空室であり、真空室１の上部には、電子ビーム
発生装置２が設けられている。３はフィルムであり、フ
ィルム３はフィルム供給駆動部４とフィルム巻取駆動部
５により図中矢印方向に走行される。なお、６，７は、
フィルム位置決めドラムである。フィルム３は真空室１
の側部に設けられた細長い間隙を通過するように構成さ
れている。８は真空室１に隣り合って配置された蒸着室
であり、蒸着室８の側部に設けられた細長い間隙を通っ
てフィルム３が走行される。この蒸着室８の下部には、
蒸着材料９が入れられたルツボ１０と電子銃１１が設け
られている。この電子銃１１から発生した電子ビーム
は、図示していない電磁石によって２７０°偏向され、
ルツボ１０内の材料９に照射される。なお、１２は電子
銃電源、１３は排気系である。
【０００４】上記した構成で、被蒸着材料であるプラス
チックスなどのフィルム３は、駆動部４，５によって矢
印方向に走行させられている。蒸着室８では、電子銃１
１からの電子を２７０°偏向し、ルツボ１０内の蒸着材
料９に照射し、材料９を高温に加熱することによって該
材料を蒸発させるようにしている。蒸発した材料は、フ
ィルム３に付着し、蒸着が行われる。このフィルム３が
蒸着室８に入る前に、フィルム３は真空室１において電
子ビーム発生装置２からの電子ビームの照射を受け、予
め正の帯電は中和され、結果として蒸着効率を向上さ
せ、更に蒸着のムラをなくすようにしている。
チックスなどのフィルム３は、駆動部４，５によって矢
印方向に走行させられている。蒸着室８では、電子銃１
１からの電子を２７０°偏向し、ルツボ１０内の蒸着材
料９に照射し、材料９を高温に加熱することによって該
材料を蒸発させるようにしている。蒸発した材料は、フ
ィルム３に付着し、蒸着が行われる。このフィルム３が
蒸着室８に入る前に、フィルム３は真空室１において電
子ビーム発生装置２からの電子ビームの照射を受け、予
め正の帯電は中和され、結果として蒸着効率を向上さ
せ、更に蒸着のムラをなくすようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記提案装置で使用さ
れる電子ビーム発生装置２としては、フィルム３の幅が
広いため、フィルム３の走行方向に垂直な方向に細長い
フィラメントを有した装置を用いなければならない。図
６は、このような電子ビーム発生装置の一例を示してお
り、１５はフィルム３の幅より長いリニア型タングステ
ンフィラメントである。このフィラメント１５は、支持
機構１６によってその両端が支持され、フィラメント加
熱電源１７からフィラメントエミッション表面積から所
定のビーム電流が得られるように、加熱電流が供給され
る。なお、このフィラメント１５の形状は、フィラメン
トの寿命と適切なフィラメント電流を考慮して決められ
る。例えば、フィラメント材の蒸発、イオン衝撃による
フィラメント表面の損傷などが考慮される。フィラメン
ト１５から発生した電子ビームは、接地したアノード電
極１８とフィラメント１５との間に加速電源１９から加
速電圧を印加することによって加速される。また、電子
ビーム発生装置２からフィルム３に到達する電子ビーム
の量の調整は、グリッド電極２０にグリッド電源２１か
ら制御電圧を印加することによって行う。
れる電子ビーム発生装置２としては、フィルム３の幅が
広いため、フィルム３の走行方向に垂直な方向に細長い
フィラメントを有した装置を用いなければならない。図
６は、このような電子ビーム発生装置の一例を示してお
り、１５はフィルム３の幅より長いリニア型タングステ
ンフィラメントである。このフィラメント１５は、支持
機構１６によってその両端が支持され、フィラメント加
熱電源１７からフィラメントエミッション表面積から所
定のビーム電流が得られるように、加熱電流が供給され
る。なお、このフィラメント１５の形状は、フィラメン
トの寿命と適切なフィラメント電流を考慮して決められ
る。例えば、フィラメント材の蒸発、イオン衝撃による
フィラメント表面の損傷などが考慮される。フィラメン
ト１５から発生した電子ビームは、接地したアノード電
極１８とフィラメント１５との間に加速電源１９から加
速電圧を印加することによって加速される。また、電子
ビーム発生装置２からフィルム３に到達する電子ビーム
の量の調整は、グリッド電極２０にグリッド電源２１か
ら制御電圧を印加することによって行う。
【０００６】このような電子ビーム発生装置において、
フィラメントの寿命を考慮したフィラメントの形状は、
フィラメントの断面積が大きくなり、その結果、所定の
フィラメント温度に加熱するための加熱電流が大電流と
なる。従って、フィラメント１５近傍に発生する自己磁
場によってフィルム３の幅方向の電子ビームの均一性が
著しく劣化する。そのため、このような電子ビーム発生
装置を用いて正電荷を中和しようとしても、フィルム表
面には部分的に電荷が残ってしまい、最終的に蒸着によ
り形成された膜の質が悪くなる。また、フィルム３の幅
方向に正電荷分布が存在していても、それに対応してフ
ィルムの幅方向の電子ビームの分布を制御することはで
きない。更に、フィラメント１５が長尺化するため、フ
ィラメント支持機構の構造が複雑となる欠点もある。す
なわち、このリニア型フィラメントでは、単純な支持構
造とすると、フィラメントの熱膨張，熱歪みなどの影響
で長時間安定したビーム電流を得ることはできない。
フィラメントの寿命を考慮したフィラメントの形状は、
フィラメントの断面積が大きくなり、その結果、所定の
フィラメント温度に加熱するための加熱電流が大電流と
なる。従って、フィラメント１５近傍に発生する自己磁
場によってフィルム３の幅方向の電子ビームの均一性が
著しく劣化する。そのため、このような電子ビーム発生
装置を用いて正電荷を中和しようとしても、フィルム表
面には部分的に電荷が残ってしまい、最終的に蒸着によ
り形成された膜の質が悪くなる。また、フィルム３の幅
方向に正電荷分布が存在していても、それに対応してフ
ィルムの幅方向の電子ビームの分布を制御することはで
きない。更に、フィラメント１５が長尺化するため、フ
ィラメント支持機構の構造が複雑となる欠点もある。す
なわち、このリニア型フィラメントでは、単純な支持構
造とすると、フィラメントの熱膨張，熱歪みなどの影響
で長時間安定したビーム電流を得ることはできない。
【０００７】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、フィルム状の被蒸着材料の帯電に
よる影響をほとんどなくし、フィルム状材料に効率良く
均一に特定材料の蒸着を行うことができるフィルム状材
料の蒸着装置を実現するにある。
もので、その目的は、フィルム状の被蒸着材料の帯電に
よる影響をほとんどなくし、フィルム状材料に効率良く
均一に特定材料の蒸着を行うことができるフィルム状材
料の蒸着装置を実現するにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に基づくフィルム
状材料の蒸着装置は、フィルム状の被蒸着材料を連続的
に走行させる手段と、該フィルムの走行路の所定位置で
該フィルムに対して特定材料を蒸着させる蒸着手段と、
該フィルムの走行路の蒸着位置の手前において、該フィ
ルムの走行方向と垂直な方向におけるフィルムの帯電の
状態を検出する複数の検出器と、該フィルムの走行路の
帯電検出位置と蒸着位置との間において、該フィルムの
走行方向と垂直な方向に並べられフィルムに荷電粒子ビ
ームを照射するための複数の荷電粒子ビーム発生手段
と、該各検出器の検出信号に応じて各荷電粒子ビーム発
生手段からの荷電粒子ビームの強度を制御する制御手段
とを備えたことを特徴としている。
状材料の蒸着装置は、フィルム状の被蒸着材料を連続的
に走行させる手段と、該フィルムの走行路の所定位置で
該フィルムに対して特定材料を蒸着させる蒸着手段と、
該フィルムの走行路の蒸着位置の手前において、該フィ
ルムの走行方向と垂直な方向におけるフィルムの帯電の
状態を検出する複数の検出器と、該フィルムの走行路の
帯電検出位置と蒸着位置との間において、該フィルムの
走行方向と垂直な方向に並べられフィルムに荷電粒子ビ
ームを照射するための複数の荷電粒子ビーム発生手段
と、該各検出器の検出信号に応じて各荷電粒子ビーム発
生手段からの荷電粒子ビームの強度を制御する制御手段
とを備えたことを特徴としている。
【０００９】
【作用】本発明に基づくフィルム状材料の蒸着装置は、
フィルムの走行方向と垂直な方向におけるフィルムの帯
電の状態を検出し、フィルムの走行路の帯電検出位置と
蒸着位置との間において、フィルムの走行方向と垂直な
方向に並べられた複数の荷電粒子ビーム発生手段から、
フィルムの帯電の状態に応じた強度の荷電粒子ビームを
フィルムに照射する。
フィルムの走行方向と垂直な方向におけるフィルムの帯
電の状態を検出し、フィルムの走行路の帯電検出位置と
蒸着位置との間において、フィルムの走行方向と垂直な
方向に並べられた複数の荷電粒子ビーム発生手段から、
フィルムの帯電の状態に応じた強度の荷電粒子ビームを
フィルムに照射する。
【００１０】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図１は、本発明に基づく蒸着装置を示して
おり、図４の提案装置と同一部分は同一番号が付されて
いる。この実施例と図５の提案装置と相違する点は、真
空室１内におけるフィルム３への電子ビームの照射方法
に工夫がされていることである。真空室１の上部には、
電子ビーム発生装置２５が配置されるが、この電子ビー
ム発生装置２５は、図２に示すように複数の電子銃２６
ａ〜２６ｄを有している。この複数の電子銃２６ａ〜２
６ｄは、フィルム３の走行方向とは垂直な方向（フィル
ムの幅方向）に一列に並べられているが、電子銃の数
は、図示した４つに限定されず、出来る限り多いほうが
良い。各電子銃２６は、図３に示すようにフィラメント
２７とグリッド電極２８とアノード電極２９とより構成
されている。フィラメント２７としては、タングステン
フィラメントを無誘導巻きにしたものや、ランタニウム
ヘキサボライド（ＬａＢ6 ）をディスク状にしたものな
どが用いられる。このフィラメント２７から発生したビ
ーム量（ビーム強度）の調整は、グリッド電極２８に供
給されるグリッド電極３０からのグリッド電圧と、フィ
ラメント電源３１からフィラメント２７に供給されるフ
ィラメント電流を変化させることによって行うことがで
きる。フィラメント２７から発生した電子ビームは、ア
ノード電極２９とフィラメント２７との間に加速電源３
２から加速電圧を印加することによって加速される。な
お、加速電圧に応じて電子ビームは所定の拡がりでフィ
ルム３に向け照射されるが、このビームの拡がり幅は、
フィラメント２７とフィルム３との間の距離，グリッド
電極２８の形状およびグリッド電圧，加速電圧に依存す
るので、予め、設計条件（ビーム電流，拡がり角度，フ
ィルム幅など）に応じて適切な値や形状を求めておく必
要がある。
に説明する。図１は、本発明に基づく蒸着装置を示して
おり、図４の提案装置と同一部分は同一番号が付されて
いる。この実施例と図５の提案装置と相違する点は、真
空室１内におけるフィルム３への電子ビームの照射方法
に工夫がされていることである。真空室１の上部には、
電子ビーム発生装置２５が配置されるが、この電子ビー
ム発生装置２５は、図２に示すように複数の電子銃２６
ａ〜２６ｄを有している。この複数の電子銃２６ａ〜２
６ｄは、フィルム３の走行方向とは垂直な方向（フィル
ムの幅方向）に一列に並べられているが、電子銃の数
は、図示した４つに限定されず、出来る限り多いほうが
良い。各電子銃２６は、図３に示すようにフィラメント
２７とグリッド電極２８とアノード電極２９とより構成
されている。フィラメント２７としては、タングステン
フィラメントを無誘導巻きにしたものや、ランタニウム
ヘキサボライド（ＬａＢ6 ）をディスク状にしたものな
どが用いられる。このフィラメント２７から発生したビ
ーム量（ビーム強度）の調整は、グリッド電極２８に供
給されるグリッド電極３０からのグリッド電圧と、フィ
ラメント電源３１からフィラメント２７に供給されるフ
ィラメント電流を変化させることによって行うことがで
きる。フィラメント２７から発生した電子ビームは、ア
ノード電極２９とフィラメント２７との間に加速電源３
２から加速電圧を印加することによって加速される。な
お、加速電圧に応じて電子ビームは所定の拡がりでフィ
ルム３に向け照射されるが、このビームの拡がり幅は、
フィラメント２７とフィルム３との間の距離，グリッド
電極２８の形状およびグリッド電圧，加速電圧に依存す
るので、予め、設計条件（ビーム電流，拡がり角度，フ
ィルム幅など）に応じて適切な値や形状を求めておく必
要がある。
【００１１】図１に戻り、電子ビーム発生装置２５から
発生した電子ビームがフィルム３に照射される位置の手
前に、フィルム３の幅方向に複数の静電容量検出器３３
が配置されている。この検出器３３の数は電子銃２６の
数と等しくされ、また、検出器３３は、フィルム３の走
行方向に垂直な方向に一列に並べられている。複数の検
出器３３によって検出された信号は、ＡＤ変換器３４を
介してコンピュータの如き制御装置３５に供給される。
制御装置３５は、ＤＡ変換器３６を介して各電子銃２６
からの電子ビームを偏向する複数の偏向器３７に偏向信
号を供給したり、各電源を制御する。もちろん、偏向器
３７は電子銃２６と等しい数設けられている。
発生した電子ビームがフィルム３に照射される位置の手
前に、フィルム３の幅方向に複数の静電容量検出器３３
が配置されている。この検出器３３の数は電子銃２６の
数と等しくされ、また、検出器３３は、フィルム３の走
行方向に垂直な方向に一列に並べられている。複数の検
出器３３によって検出された信号は、ＡＤ変換器３４を
介してコンピュータの如き制御装置３５に供給される。
制御装置３５は、ＤＡ変換器３６を介して各電子銃２６
からの電子ビームを偏向する複数の偏向器３７に偏向信
号を供給したり、各電源を制御する。もちろん、偏向器
３７は電子銃２６と等しい数設けられている。
【００１２】上記した構成において、高速で走行してい
るフィルム３上に発生するフィルムの幅方向の正電荷分
布は、フィルム３の幅方向に並べられた複数の静電容量
検出器３３によって検出される。この検出器３３によっ
て検出された信号は、ＡＤ変換器３４を介して制御装置
３５に供給され、演算処理される。この各検出器３５で
処理された値は、各検出器３３に対応した電子銃２６の
グリッド電極３０などに供給され、各電子銃２６からの
電子ビームの量（強度）を個別に制御する。この結果、
各電子銃２６からの電子ビームの強度は、各電子銃が分
担して受け持つフィルム３上の正電荷分布を局所的に中
和するに必要にして十分な値とされる。フィルム３は、
電子ビーム発生装置２６内の各電子銃からの電子ビーム
の照射を受けて正電荷が中和され、蒸着室８に送られ
る。従って、蒸着室８では、フィルム３に効率良く蒸着
が行われ、また、正電荷の遍在した分布がないので、蒸
着のムラがなくなり、フィルムに形成された膜の質が著
しく向上することになる。
るフィルム３上に発生するフィルムの幅方向の正電荷分
布は、フィルム３の幅方向に並べられた複数の静電容量
検出器３３によって検出される。この検出器３３によっ
て検出された信号は、ＡＤ変換器３４を介して制御装置
３５に供給され、演算処理される。この各検出器３５で
処理された値は、各検出器３３に対応した電子銃２６の
グリッド電極３０などに供給され、各電子銃２６からの
電子ビームの量（強度）を個別に制御する。この結果、
各電子銃２６からの電子ビームの強度は、各電子銃が分
担して受け持つフィルム３上の正電荷分布を局所的に中
和するに必要にして十分な値とされる。フィルム３は、
電子ビーム発生装置２６内の各電子銃からの電子ビーム
の照射を受けて正電荷が中和され、蒸着室８に送られ
る。従って、蒸着室８では、フィルム３に効率良く蒸着
が行われ、また、正電荷の遍在した分布がないので、蒸
着のムラがなくなり、フィルムに形成された膜の質が著
しく向上することになる。
【００１３】図４（ａ），（ｂ）は、夫々フィルム３の
幅方向の正電荷分布と、検出された正電荷分布に対する
各電子銃からのビーム強度分布を示した図であり、一点
鎖線で示されているものが正電荷分布である。図４
（ａ）の場合は、フィルム３の幅方向の正電荷分布が均
一な場合であり、各電子銃からの電子ビームの強度Ｉ1
〜Ｉn は等しくされている。図４（ｂ）の場合は、フィ
ルムの端部の正電荷量が多く、中心に向かうにしたがっ
て少なくなっている場合である。この場合、電子ビーム
の強度は、フィルムの端部に近い部分の電子銃からは、
中和すべき電荷量が多いので高い強度の電子ビームがフ
ィルムに照射され、中心近傍の電子銃からは、低い強度
の電子ビームが照射される。従って、帯電の状態が均一
でなくても、フィルム３の幅方向の帯電を正確に中和す
ることができる。
幅方向の正電荷分布と、検出された正電荷分布に対する
各電子銃からのビーム強度分布を示した図であり、一点
鎖線で示されているものが正電荷分布である。図４
（ａ）の場合は、フィルム３の幅方向の正電荷分布が均
一な場合であり、各電子銃からの電子ビームの強度Ｉ1
〜Ｉn は等しくされている。図４（ｂ）の場合は、フィ
ルムの端部の正電荷量が多く、中心に向かうにしたがっ
て少なくなっている場合である。この場合、電子ビーム
の強度は、フィルムの端部に近い部分の電子銃からは、
中和すべき電荷量が多いので高い強度の電子ビームがフ
ィルムに照射され、中心近傍の電子銃からは、低い強度
の電子ビームが照射される。従って、帯電の状態が均一
でなくても、フィルム３の幅方向の帯電を正確に中和す
ることができる。
【００１４】更に、この実施例では、フィルム３上の正
電荷の中和をより完全とするため、フィルム３の走行方
向に偏向器３７によって電子ビームを走査可能に構成し
ている。偏向器３７に与える走査信号は、検出器３３で
検出した値を処理して任意の波形発生装置により得るよ
うにしている。この走査波形は、予めフィルム幅の蒸着
分布と正電荷分布との対応、走査波形と正電荷分布の対
応を実験データを元にして決める必要がある。このよう
にして各電子ビームをフィルム走行方向に走査すること
により、電子ビームのフィルム走行方向におけるビーム
強度分布を一様にすることが可能となる。なお、電子ビ
ームの走査速度は、フィルムの走行速度に比べ、十分に
速くする必要がある。
電荷の中和をより完全とするため、フィルム３の走行方
向に偏向器３７によって電子ビームを走査可能に構成し
ている。偏向器３７に与える走査信号は、検出器３３で
検出した値を処理して任意の波形発生装置により得るよ
うにしている。この走査波形は、予めフィルム幅の蒸着
分布と正電荷分布との対応、走査波形と正電荷分布の対
応を実験データを元にして決める必要がある。このよう
にして各電子ビームをフィルム走行方向に走査すること
により、電子ビームのフィルム走行方向におけるビーム
強度分布を一様にすることが可能となる。なお、電子ビ
ームの走査速度は、フィルムの走行速度に比べ、十分に
速くする必要がある。
【００１５】以上本発明の一実施例を詳述したが、本発
明はこの実施例に限定されない。例えば、フィルムが正
に帯電し、電子ビームをフィルム上に照射する場合を例
に説明したが、フィルムが負に帯電し、フィルム上に正
のイオンを照射する場合にも本発明を適用することがで
きる。また、電子ビームの走査を静電偏向器を用いて行
ったが、電磁偏向器を用いても良い。なお、この電子ビ
ームの走査は帯電の状態によっては行う必要はない。
明はこの実施例に限定されない。例えば、フィルムが正
に帯電し、電子ビームをフィルム上に照射する場合を例
に説明したが、フィルムが負に帯電し、フィルム上に正
のイオンを照射する場合にも本発明を適用することがで
きる。また、電子ビームの走査を静電偏向器を用いて行
ったが、電磁偏向器を用いても良い。なお、この電子ビ
ームの走査は帯電の状態によっては行う必要はない。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に基づくフ
ィルム状材料の蒸着装置は、フィルムの走行方向と垂直
な方向におけるフィルムの帯電の状態を検出し、フィル
ムの走行路の帯電検出位置と蒸着位置との間において、
フィルムの走行方向と垂直な方向に並べられた複数の荷
電粒子ビーム発生手段から、フィルムの帯電の状態に応
じた強度の荷電粒子ビームをフィルムに照射するように
したので、フィルム状の被蒸着材料の帯電による影響を
ほとんどなくし、フィルム状材料に効率良く均一に特定
材料の蒸着を行うことができる。また、長いフィラメン
トを用いないので、フィラメントの変形などによる影響
をなくすことができる。
ィルム状材料の蒸着装置は、フィルムの走行方向と垂直
な方向におけるフィルムの帯電の状態を検出し、フィル
ムの走行路の帯電検出位置と蒸着位置との間において、
フィルムの走行方向と垂直な方向に並べられた複数の荷
電粒子ビーム発生手段から、フィルムの帯電の状態に応
じた強度の荷電粒子ビームをフィルムに照射するように
したので、フィルム状の被蒸着材料の帯電による影響を
ほとんどなくし、フィルム状材料に効率良く均一に特定
材料の蒸着を行うことができる。また、長いフィラメン
トを用いないので、フィラメントの変形などによる影響
をなくすことができる。
【図１】本発明に基づく装置の一実施例を示す図であ
る。
る。
【図２】図１の実施例に用いられた電子ビーム発生装置
の詳細を示す図である。
の詳細を示す図である。
【図３】図１の実施例に用いられた電子ビーム発生装置
の詳細を示す図である。
の詳細を示す図である。
【図４】正電荷分布と電子ビームの強度分布とを示す図
である。
である。
【図５】フィルムの帯電を中和させる提案装置を示す図
である。
である。
【図６】図５の提案装置に用いられる電子ビーム発生装
置の詳細を示す図である。
置の詳細を示す図である。
１…真空室 ３…フィルム ８…蒸着室 ９…蒸発材料 １１…電子銃 １２…電源 １３…排気系 ２５…電子ビーム発生装置 ２６…電子銃 ２７…フィラメント ２８…グリッド電極 ２９…アノード電極 ３０，３１，３２…電源 ３３…静電容量検出器 ３４…ＡＤ変換器 ３５…制御装置 ３６…ＤＡ変換器 ３７…静電偏向器
Claims (1)
- 【請求項１】 フィルム状の被蒸着材料を連続的に走行
させる手段と、該フィルムの走行路の所定位置で該フィ
ルムに対して特定材料を蒸着させる蒸着手段と、該フィ
ルムの走行路の蒸着位置の手前において、該フィルムの
走行方向と垂直な方向におけるフィルムの帯電の状態を
検出する複数の検出器と、該フィルムの走行路の帯電検
出位置と蒸着位置との間において、該フィルムの走行方
向と垂直な方向に並べられフィルムに荷電粒子ビームを
照射するための複数の荷電粒子ビーム発生手段と、該各
検出器の検出信号に応じて各荷電粒子ビーム発生手段か
らの荷電粒子ビームの強度を制御する制御手段とを備え
たフィルム状材料の蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3156750A JP3065382B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | フィルム状材料の蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3156750A JP3065382B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | フィルム状材料の蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05239616A true JPH05239616A (ja) | 1993-09-17 |
| JP3065382B2 JP3065382B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=15634502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3156750A Expired - Fee Related JP3065382B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | フィルム状材料の蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3065382B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006161099A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Toyobo Co Ltd | 真空蒸着装置 |
| JP2006233305A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Tohoku Pioneer Corp | 成膜方法及び成膜装置、自発光素子の製造方法及び製造装置 |
| WO2013091694A1 (en) * | 2011-12-21 | 2013-06-27 | Applied Materials, Inc. | System and methods for processing a substrate |
| CN111349891A (zh) * | 2018-12-24 | 2020-06-30 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种共蒸发系统及检测方法 |
-
1991
- 1991-06-27 JP JP3156750A patent/JP3065382B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006161099A (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Toyobo Co Ltd | 真空蒸着装置 |
| JP4569813B2 (ja) * | 2004-12-07 | 2010-10-27 | 東洋紡績株式会社 | 真空蒸着装置 |
| JP2006233305A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Tohoku Pioneer Corp | 成膜方法及び成膜装置、自発光素子の製造方法及び製造装置 |
| WO2013091694A1 (en) * | 2011-12-21 | 2013-06-27 | Applied Materials, Inc. | System and methods for processing a substrate |
| US20150079271A1 (en) * | 2011-12-21 | 2015-03-19 | Applied Materials, Inc. | System and methods for processing a substrate |
| US9926627B2 (en) * | 2011-12-21 | 2018-03-27 | Applied Materials, Inc. | System and methods for processing a substrate |
| CN111349891A (zh) * | 2018-12-24 | 2020-06-30 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种共蒸发系统及检测方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3065382B2 (ja) | 2000-07-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4812326A (en) | Evaporation source with a shaped nozzle | |
| US20100019648A1 (en) | Electron gun and electron beam exposure apparatus | |
| US5100526A (en) | Apparatus for forming thin film | |
| US5087476A (en) | Method of producing thin film | |
| JP3065382B2 (ja) | フィルム状材料の蒸着装置 | |
| KR960004776B1 (ko) | 박막(薄膜)형성장치 및 박막형성방법 | |
| US3526206A (en) | Coating apparatus including electron beam evaporating means | |
| JPH0711429A (ja) | 金属蒸気発生方法および装置 | |
| US3517240A (en) | Method and apparatus for forming a focused monoenergetic ion beam | |
| US3467057A (en) | Electron beam evaporator | |
| JPH089782B2 (ja) | 薄膜の製造方法 | |
| JPS63472A (ja) | 真空成膜装置 | |
| CN113308670A (zh) | 一种异形喷嘴的蒸发源及应用 | |
| JPH06158319A (ja) | 真空中で非導電性のシートを連続的に被覆する方法および装置 | |
| KR20220100024A (ko) | 기판에 대한 타겟 재료의 스퍼터 증착을 위한 방법 및 장치 | |
| JP4065725B2 (ja) | ピアス式電子銃およびこれを備える真空蒸着装置 | |
| JP2702235B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH06192823A (ja) | 真空蒸発装置 | |
| JP2002352761A (ja) | イオンビーム照射装置 | |
| Kisaki et al. | Study of negative ion beam optics in real and phase spaces | |
| JPH05339720A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPH062117A (ja) | 電子ビーム加熱式蒸着装置および蒸着方法 | |
| JPS6254076A (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
| JPS6369968A (ja) | 蒸着装置 | |
| JPS616271A (ja) | バイアスイオンプレ−テイング方法および装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000411 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080512 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090512 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |