JP4567652B2 - 電子線照射システム - Google Patents
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Description
[第1の実施形態]
第2の実施形態に係る電子線照射システム1は、ステージ3の載置面3a上に更に複数の電子線検出器9が設けられている点で、第1の実施形態に係る電子線照射システム1と主に相違している。
第3の実施形態に係る電子線照射システム1は、電子線検出器7がステージ3の載置面3a上に載置されていない点で、第1の実施形態に係る電子線照射システム1と主に相違している。
Claims (6)
- 電子線を出射する電子線源と、
前記電子線が照射される試料を収容するチャンバと、
前記チャンバ内に配置され、前記電子線を検出する電子線検出器と、を備え、
前記電子線検出器の検出面は、前記電子線を透過させ且つ光を遮断する導電性遮光膜で覆われ、
前記チャンバは、内部が不活性ガス雰囲気とされ、
前記導電性遮光膜は、前記検出面に対してアルミ蒸着によって厚さ50nm以下に形成されると共に、接地電位とされていることを特徴とする電子線照射システム。 - 前記電子線検出器は、シリコンフォトダイオードであることを特徴とする請求項1記載の電子線照射システム。
- 前記電子線検出器は、前記電子線源の電子線出射軸線上に配置されていることを特徴とする請求項1または2記載の電子線照射システム。
- 前記電子線源の電子線出射軸線と交差する搬送軸線に沿って前記試料を搬送する搬送手段を備え、
前記電子線検出器は、前記搬送軸線上に位置するように前記搬送手段に配置されていることを特徴とする請求項1または2記載の電子線照射システム。 - 前記電子線源の電子線出射軸線と交差する搬送軸線に沿って前記試料を搬送する搬送手段を備え、
前記電子線検出器は、前記搬送軸線と交差する方向に沿って並設されるように前記搬送手段に複数配置されていることを特徴とする請求項1または2記載の電子線照射システム。 - 前記電子線源の電子線出射軸線上に対して前記電子線検出器を進退させる移動手段を備えることを特徴とする請求項1または2記載の電子線照射システム。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006317503A JP4567652B2 (ja) | 2006-11-24 | 2006-11-24 | 電子線照射システム |
PCT/JP2007/071608 WO2008062670A1 (fr) | 2006-11-24 | 2007-11-07 | Système de rayonnement de faisceau d'électrons |
TW96142858A TW200832512A (en) | 2006-11-24 | 2007-11-13 | Electron beam irradiation system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006317503A JP4567652B2 (ja) | 2006-11-24 | 2006-11-24 | 電子線照射システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008128972A JP2008128972A (ja) | 2008-06-05 |
JP4567652B2 true JP4567652B2 (ja) | 2010-10-20 |
Family
ID=39429608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006317503A Active JP4567652B2 (ja) | 2006-11-24 | 2006-11-24 | 電子線照射システム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4567652B2 (ja) |
TW (1) | TW200832512A (ja) |
WO (1) | WO2008062670A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5492405B2 (ja) * | 2008-12-02 | 2014-05-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP7377730B2 (ja) | 2020-02-07 | 2023-11-10 | 日立造船株式会社 | ノズル式電子線出射装置の交換時期決定方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09293652A (ja) * | 1996-04-24 | 1997-11-11 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光装置及びその方法 |
JPH10213666A (ja) * | 1997-01-30 | 1998-08-11 | Yazaki Corp | α線センサー |
-
2006
- 2006-11-24 JP JP2006317503A patent/JP4567652B2/ja active Active
-
2007
- 2007-11-07 WO PCT/JP2007/071608 patent/WO2008062670A1/ja active Application Filing
- 2007-11-13 TW TW96142858A patent/TW200832512A/zh unknown
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09293652A (ja) * | 1996-04-24 | 1997-11-11 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光装置及びその方法 |
JPH10213666A (ja) * | 1997-01-30 | 1998-08-11 | Yazaki Corp | α線センサー |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200832512A (en) | 2008-08-01 |
WO2008062670A1 (fr) | 2008-05-29 |
JP2008128972A (ja) | 2008-06-05 |
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A621 | Written request for application examination |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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