JP4551792B2 - 光学補償素子 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置等に用いられる光学補償素子に関するものであり、より詳しくは、クロスニコル下においても表示ムラ等が視認されない、優れた表示品質を備える光学補償素子に関するものである。

液晶表示装置は、その省電力、軽量、薄型等といった特徴を有することから、従来のＣＲＴディスプレイに替わり、近年急速に普及している。一般的な液晶表示装置を構成する液晶表示素子は、互いにクロスニコルの関係にある２枚の偏光板の間に液晶セルを配置した構成を有し、液晶セルに電圧を印加することにより、液晶の配列状態を変化させて映像を表示する機構を有する。

上記液晶セルは２枚のガラス基板の間に液晶性化合物が規則的に配列した構成を有するが、このような液晶性化合物は方向によって屈折率が異なるという屈折率異方性（複屈折性）を示すため、液晶表示素子を斜めから見た場合には、コントラストが低下したり、色調が変化する等の表示品質の低下が生じてしまう。このようなことから液晶表示装置の特有の問題点として、視野角が狭いという問題がある。

上記液晶表示装置の視野角の問題点を改善する手段として、光学補償素子を用いる方法が一般的に用いられている。光学補償素子は、液晶性分子と同様に屈折率異方性を有するものであり、液晶セルの種類に応じて所定の屈折率異方性を有する光学補償素子を液晶表示素子に付与することより、液晶性化合物が有する屈折率異方性を相殺する機能を有するものである。このような光学補償素子を用いることにより、元来液晶表示素子が有する光学的異方性を補償し、優れた視野角特性を発現することができるため、液晶表示装置の表示品質改良手段として広く用いられるに至っている。
このような光学補償素子を用いた液晶表示装置の視野角特性改善方法の一例として、特許文献１には、負のＣプレート特性を有する光学補償素子を用いた例が開示されている。

一般的な光学補償素子としては、一軸延伸フイルムや所定の基材上に液晶性化合物を配列させた光学補償層を有する液晶型補償素子などが挙げられる。上記液晶型補償素子は、一軸延伸フイルムに比べて単位厚み当たりの屈折率異方性が大きい（複屈折率が大きい）ため、適用できる液晶表示素子の種類が多く、また薄膜化することが可能であるといった利点を有する。

このように液晶型補償素子は、液晶表示素子に付与することにより視野角特性を改善できる点において有効であるが、クロスニコル下で観察される表示ムラの原因となることが問題となっている。問題となる表示ムラは、液晶型補償素子単体では視認することができないが、互いにクロスニコルの関係にある２枚の偏光板を有する液晶表示素子に液晶補償素子を付与した場合に表示ムラとして視認されるものであり、近年の液晶表示装置の高機能化・高精細化に伴って顕在化してきたものである。

特許文献２には、このような表示ムラを改善する手段として、液晶性化合物を基材上に塗布する塗布工程において、乾燥条件を厳しくコントロールする手段が開示されている。また、特許文献３には、同じく塗布工程において溶剤残留量を調整する手段が開示されている。しかしながら、これらの方法は液晶性化合物の塗布ムラを低減し、上記表示ムラの改善に寄与できる点においては有効であるが、その一方で塗布工程が複雑化したり、塗布工程に用いることができる溶剤の種類が制限されるため、生産性に欠けるといった問題があった。

特表平１０−５０６４７９号公報 特開２００２−２７７６３７公報 特開平１１−１７４４５２号公報

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、生産性に優れ、かつクロスニコル下においても表示ムラ等により、表示品質の低下を生じることなく使用できる光学補償素子を提供することを主目的とするものである。

発明者等は、上記実情に鑑み鋭意検討した結果、液晶型補償素子に起因するクロスニコル下で観察される表示ムラは、液晶型補償素子を構成する光学補償層において、波長４００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外線が多重反射し、薄膜干渉することによって、上記紫外線の透過率にムラが生じることが原因で発生することを見出した。さらに、発明者等は上記紫外線の透過率ムラの解消方法について鋭意検討を重ねた結果、当該透過率ムラは、液晶型補償素子を構成する光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を一定の範囲内に制御することにより容易に解消できることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち、上記目的を達成するために本発明は、光学的等方性を有する透明基材と、重合性液晶化合物の重合物からなる光学補償層とを有する光学補償素子であって、
前記光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）が、０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０であることを特徴とする光学補償素子を提供する。

本発明によれば、上記光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）が０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０の範囲内であることにより、波長４００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外線を光学補償層中において吸収することができるため、上記紫外線が光学補償層において多重反射することを防止することができる。すなわち、本発明によれば、上記光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０とすることによって、上記紫外線の薄膜干渉を低減し、透過率ムラが生じないようにすることができるため、クロスニコル下においても表示ムラの生じることのない、表示品質に優れた光学補償素子を得ることができる。

また本発明においては、光学補償素子の黄色度（ＹＩ_Ｔ）が、ＹＩ_Ｔ＜４．０であることが好ましい。光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）が０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０であって、かつ上記光学補償層を含む光学補償素子の黄色度（ＹＩ_Ｔ）が、ＹＩ_Ｔ＜４．０であることにより、本発明の光学補償素子を構成する上記透明基材の黄色度（ＹＩ_Ｓ）等に関わらず、クロスニコル下においても表示ムラの生じることのない、表示品質に優れた光学補償素子を得ることができるからである。

さらに本発明においては、上記光学補償層が、プレーナー配向したコレステリック規則性を有することが好ましい。プレーナー配向したコレステリック規則性を有する光学補償層は、上記紫外線の透過率ムラを生じやすいため、本発明による表示品質の向上効果をより一層得ることができるからである。

本発明によれば、クロスニコル下においても表示ムラの生じることのない、表示品質に優れた光学補償素子を得ることができるといった効果を奏する。

以下、本発明に係る光学補償素子について詳細に説明する。

本発明の光学補償素子は、光学的等方性を有する透明基材と、重合性液晶化合物の重合物からなる光学補償層とを有する光学補償素子であって、上記光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）が、０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０であることを特徴とするものである。

次に、本発明の光学補償素子について図面を参照しながら説明する。図１は本発明の光学補償素子の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本発明の光学補償素子１１は、光学的等方性を有する透明基材１と、重合性液晶化合物の重合物からなる光学補償層２とを有し、上記光学補償層２の黄色度（ＹＩ_Ｌ）が０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０であることを特徴とするものである。

本発明の光学補償素子は、光学補償素子を構成する光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０とすることによって、波長４００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外線を光学補償層で吸収することができるため、上記紫外線が光学補償層において多重反射することを防止することができる。すなわち、本発明によれば、上記光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０とすることによって、上記紫外線の薄膜干渉を低減することができ、透過率ムラが生じないようにすることができるため、クロスニコル下においても表示ムラの生じることのない、表示品質に優れた光学補償素子を得ることができる。
ここで、本発明におけるクロスニコル下とは、図２に示すように互いにクロスニコルの関係にある偏光板３、４間に光学補償素子１２を挟み、一方の偏光板３側から光照射５を実施して、他方の偏光板４側の正面方向ａから観察することを意味する。

液晶性化合物を含む光学補償層を有する光学補償素子は、液晶表示装置の視野角特性を改良する簡易的な手法として広く用いられているが、クロスニコル下で視認される表示ムラが問題となっている。このような表示ムラは、光学補償素子単体では視認できず、クロスニコル下においてのみ視認できるものであり、近年の液晶表示装置の高機能化・高精細化に伴って顕在化してきた問題である。

上記クロスニコル下で視認される表示ムラ（以下、単に表示ムラと称する場合もある。）を例示する写真を図３に示す。図３に示す表示ムラは光学補償素子単体では視認されず、クロスニコル下でのみ視認されるものである。ここで、図３において、Ａ部に代表される目視で白く視認される部分を、以下「白ムラ部」と称し、Ｂ部に代表される目視で黒く視認される部分を、以下「黒ムラ部」と称する。

図４は、上記白ムラ部と、上記黒ムラ部の透過率分布を示すグラフである。図４に示すように、白ムラ部では、波長４００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外線の透過率が黒ムラ部よりも高くなっていることが分かり、この透過率の差が表示ムラとして視認されるのである。このような透過率の差が生じるのは上記波長領域の紫外線が、光学補償層で多重反射することによって薄膜干渉が生じることが原因であると考えられる。すなわち、薄膜干渉によって上記紫外線が互いに強め合う部分に白ムラ部が発生し、互いに弱め合う部分に黒ムラ部が発生すると考えられる。

上記クロスニコル下で視認される表示ムラを解消するには、上記波長領域の紫外線透過率の差（透過率のムラ）が生じることを防止することが必要である。本発明者らは、このような手段として、透過率差の生じる上記波長領域の紫外線透過率を低下させる方法に着目した。図５に上記紫外線の透過率とクロスニコル下で視認される表示ムラの有無の関係を示す。図５より、クロスニコル下で視認される表示ムラは波長４００〜４５０ｎｍの紫外線の透過率を僅か数％低下させるのみで解消できることが分かる。また、上記紫外線の透過率差は、上記紫外線が上記光学補償層において多重反射し、薄膜干渉を生じることに起因すると考えられるため、上記紫外線を上記光学補償層で吸収することによって、多重反射を防止すると同時に透過率を低下させることが最も容易に上記クロスニコル下で視認される表示ムラを解消する手段となると考えられる。

このような知見から本発明者らは、上記光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０とすることにより、上記紫外線を光学補償層で吸収し、透過率を低下させることができるため、上記クロスニコル下で視認される表示ムラを解消できることを見出し、本発明を完成するに至った。また、本発明によれば光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０とすること以外に、光学補償素子の製造条件の変更等を必要としないため、低コストで容易に上記クロスニコル下で視認される表示ムラを解消することができる。
以下、本発明の光学補償素子の各構成について詳細に説明する。

Ａ．光学補償層
まず、本発明における光学補償層について説明する。本発明における光学補償層は重合性液晶化合物の重合物からなり、黄色度（ＹＩ_Ｌ）が、０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０であることを特徴とするものである。
本発明における光学補償層は、本発明の光学補償素子に位相差性を付与するとともに、黄色度（ＹＩ_Ｌ）が上記の範囲内であることによって、波長４００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外線の透過率を低下し、本発明の目的であるクロスニコル下で視認される表示ムラを解消する機能を有するものである。

１．光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）
本発明における光学補償層は、黄色度（ＹＩ_Ｌ）が０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０であることを特徴とするものである。光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を上記の範囲内とするのは、黄色度（ＹＩ_Ｌ）が上記の範囲よりも小さいと、クロスニコル下で視認される表示ムラの原因となる波長４００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外線を、表示ムラを解消するのに必要な程度まで吸収することができないため、本発明の目的を達成できないからである。また、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）が上記の範囲よりも大きいと、上記表示ムラを解消するのに必要な程度以上に波長４００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外線を吸収してしまうため、例えば本発明の光学補償素子の黄色味が増加し、表示品質を損なってしまうからである。以下、本発明における黄色度について説明する。

本発明における黄色度（ＹＩ）とは、ＪＩＳ Ｋ７１０５に定義されるものであり、無色、または白色から色相が黄方向に離れる度合いを表すものである。黄色度（ＹＩ）は上記波長４００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外線透過率との相関関係を有し、黄色度（ＹＩ）が大きい程上記波長領域の紫外線透過率は低く、また黄色度（ＹＩ）が小さい程上記波長領域の紫外線透過率は高い関係にある。したがって、本発明は上記光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０の範囲内とすることにより、間接的に上記波長範囲の紫外線の透過率を、クロスニコル下で視認される表示ムラを解消し、かつ表示品質を損なわない範囲内にしているのである。本発明においては、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）は上記の範囲内でも、特に０．５＜ＹＩ_Ｌ＜２．０の範囲内であることがこのましい。このような範囲内にすることにより、本発明の光学補償素子をより表示品質に優れたものにすることができるからである。

本発明における光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）は、ＪＩＳ Ｋ７１０５に規定する方法により測定することができる。光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）の測定方法としては、光学補償層単体を対象として黄色度（ＹＩ）を測定する方法と、光学補償素子を対象として黄色度（ＹＩ_Ｔ）を測定した後に、光学補償層以外が示す黄色度を差し引くことより求める方法とを挙げることができる。本発明においては、上記のいずれの方法によって黄色度（ＹＩ_Ｌ）を測定しても良く、また、上記のいずれかの方法によって測定した黄色度（ＹＩ_Ｌ）が上記範囲内に入る場合には、本発明の技術的範囲に含まれるものとする。

本発明における光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）の調整方法は、黄色度（ＹＩ_Ｌ）を０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０の範囲内とすることができる方法であれば特に限定されない。本発明に用いられる光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）の調整方法としては、任意の黄色度を示す光学補償層を形成した後に、黄色度を上記範囲内に調整する方法（第一の態様）と、黄色度（ＹＩ_Ｌ）が上記範囲内である光学補償層を直接形成する方法（第二の態様）とを挙げることができる。以下、これらの各態様について説明する。

（１）第一の態様
第一の態様は、任意の黄色度を示す光学補償層を形成した後に、光学補償層の黄色度を０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０の範囲内に調整する方法である。このような方法としては、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を上記の範囲内とすることができ、かつ光学補償層が示す位相差性を損なう方法でなければ特に限定されない。本発明においては中でも、黄色度（ＹＩ_Ｌ）がＹＩ_Ｌ≦０．５である光学補償層を形成した後に、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を増加させることによって上記範囲内に調整する方法が好ましい。黄色度を増加させる方法を用いることにより、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を調整する方法の選択の幅が広くなる等の利点を有するからである。

上記光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を増加させる方法としては、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を上記の範囲内とすることができ、かつ光学補償層が示す位相差性を損なう方法でなければ特に限定されない。本発明においては、中でも活性放射線を照射することによって、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を増加させる方法を好適に用いることができる。このような方法によれば低コストで、かつ容易に光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を増加させることができるからである。

上記活性放射線としては、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を増加させることができるものであれば、特に限定されるものではない。このような活性放射線としては、エネルギー光線や電子線を挙げることができるが、中でもエネルギー光線を用いること好ましい。エネルギー光線を用いることにより、照射装置が単純化できる等の利点を有するからである。

上記エネルギー光線としては、紫外線、可視光線、および赤外線等を挙げることができるが、中でも波長が３６０ｎｍ以下、さらに好ましくは波長が３００ｎｍ以下の紫外線を用いることが好ましい。このような紫外線は、可視光線や赤外線等と比較して光エネルギーが高いため、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）の変化速度が速く、短時間で上記範囲内に調整することが可能だからである。また、照射時間を短くすることが可能であることから、生産性の面においても有利となるからである。

活性放射線を照射する方法以外に、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を増加させる方法としては、例えば、光学補償層を形成した後に、波長４００ｎｍ〜４５０ｎｍの紫外線を吸収する化合物（以下、黄色度調整剤と称する。）を光学補償層に含浸させる方法を挙げることができる。

（２）第二の態様
第二の態様は、黄色度（ＹＩ_Ｌ）が０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０を示す光学補償層を直接形成する方法である。このような方法としては、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を上記範囲内にすることができる方法であれば特に限定されない。本発明においては、中でも上記黄色度調整剤を上記重合性液晶化合物の重合物に添加する方法を好適に用いることができる。このような方法によれば、上記黄色度調整剤の添加量を調整することにより、容易に光学補償層の黄色度(ＹＩ_Ｌ）を上記範囲内に調整することが可能だからである。

上記黄色度調整剤としては、光学補償層の位相差性を損なうものでなければ特に限定されない。このような化合物としては、紫外線吸収剤や光重合開始剤を挙げることができる。本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、無機紫外線吸収剤および有機紫外線吸収剤を挙げることができるが、有機紫外線吸収剤が好ましい。また、有機紫外線吸収剤の中でも、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤またはベンゾフェノン系紫外線吸収剤を用いることがより好ましく、特に本発明においては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を用いることが最も好ましい。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、黄色度の調整以外に光学補償層に不要な着色を生じない点において有利だからである。

上記黄色度調整剤として本発明に用いることができる光重合開始剤としては、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を上記の範囲内に調整することが可能なものであれば特に限定されない。このような光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製Ｎ１７１７、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組合せ等を例示できるがこれらに限られない。また本発明では、これらの光重合開始剤を１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。

本発明においては上記黄色度調整剤として、光重合開始剤を用いることが好ましい。上記のように本発明における光学補償層は、重合性液晶化合物の重合物からなることを特徴とするため、黄色度調整剤として光重合開始剤を用いることにより、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を上記の範囲内に調整できる効果と、重合性液晶化合物の重合反応を促進することができる効果とを奏することができるからである。また、光重合開始剤は重合性液晶化合物の重合反応を促進する手段として広く用いられているため、他の黄色度調整剤を使用する場合に比べて、光学補償層の液晶配列を害する恐れがないといった利点を有するからである。

また、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を上記の範囲内に調整する方法としては、上記黄色度調整剤を使用する方法以外に、上記重合性液晶化合物の重合物自体に、上記紫外線を吸収する化合物を用いる方法を挙げることができる。

２．重合性液晶化合物
本発明における光学補償層は、重合性液晶化合物の重合物からなることを特徴とするものである。以下、このような本発明における重合性液晶化合物について説明する。

本発明に用いられる重合性液晶化合物は、所定温度において液晶性を示す化合物であれば特に限定されるものではない。このような重合性液晶化合物としては、重合性液晶モノマー、重合性液晶オリゴマー、および重合性液晶高分子を挙げることができるが、本発明においては中でも、重合性液晶モノマーが好適に用いられる。重合性液晶モノマーは、重合性液晶オリゴマーや重合性液晶高分子と比較して、より低温で配向が可能であり、かつ配向に際しての感度も高いことから、容易に配向させることができるからである。

上記重合性液晶モノマーが示す液晶性としては、特に限定されるものではなく、本発明の光学補償素子の用途等に応じて所望の位相差性を発現できるものを適宜選択して用いることができる。このような液晶性としては、ネマチック液晶性、スメクチック液晶性、コレステリック液晶性、ディスコチック液晶性などを挙げることができるが、本発明においては、中でも、ネマチック液晶性またはコレステリック液晶性を示す重合性液晶モノマーを好適に用いることができる。また、本発明に用いられる重合性液晶モノマーは１種類に限らず、2種類以上の重合性液晶モノマーを混合して用いることもできる。

上記ネマチック液晶性を示す重合性液晶モノマーとしては、例えば下記式で示される化合物が挙げられる。

上記化合物（Ｉ）において、Ｒ^１、Ｒ^２は、それぞれ水素（Ｈ）またはメチル基（−ＣＨ_３）を示すが、Ｒ^１、Ｒ^２は共に水素であることが好ましい。上記化合物（Ｉ）が液晶相を示す温度範囲が広くなるからである。上記化合物（Ｉ）におけるＸは、水素、炭素数１〜２０のアルキル、炭素数１〜２０のアルケニル、炭素数１〜２０のアルキルオキシ、炭素数１〜２０のアルキルオキシカルボニル、ホルミル、炭素数１〜２０のアルキルカルボニル、炭素数１〜２０のアルキルカルボニルオキシ、ハロゲン、シアノまたはニトロを表す。また、上記化合物（Ｉ）におけるａ、ｂは２〜２０の範囲内の整数を表す。

また、コレステリック液晶性を示す重合性液晶モノマーとしては、例えば上記化合物（Ｉ）、あるいは、下記式で示される化合物が挙げられる。

さらに、上記ネマチック液晶性、コレステリック液晶性を有する重合性モノマーは、光学補償層においてプレーナー配向し、コレステリック規則性を示す配列状態となることが好ましい。プレーナー配向したコレステリック規則性を有する光学補償層は、上記波長範囲の紫外線の透過率ムラを生じやすいため、本発明による表示ムラの改良効果をより一層得ることができるからである。

上記重合性モノマーとして、ネマチック液晶性を示す化合物を用いる場合には、プレーナー配向したコレステリック規則性を発現するため、カイラル剤を用いることが好ましい。カイラル剤を用いることにより、ネマチック液晶性を示す重合性モノマーであっても、容易にプレーナー配向したコレステリック規則性を得ることが可能だからである。

本発明に用いられるカイラル剤としては、分子内にキラリティーを有する化合物であれば特に限定されないが、重合性官能基を有する重合性カイラル剤を用いることが好ましい。重合性カイラル剤を用いることにより、重合性カイラル剤が上記重合性液晶化合物と重合物を形成することができるため、光学補償層をより緻密で、機械強度に優れたものにすることができるからである。このようなカイラル剤としては下記式で表される化合物を例示することができるが、これらに限られない。また、本発明に用いられるカイラル剤は1種類でもよく、２種類以上を混合して用いても良い。

上記式において、Ｒ^３１は、水素またはメチル基を示す。Ｙは本発明の光学補償素子の用途等に応じて、上記式（ｉ）〜（ｘｘｉｖ）までに示す原子団の中から任意に採用することができるが、中でも（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｖ）および（ｖｉｉ）のいずれかを用いることが好ましい。また、上記式中において、ｄおよびｅは任意の整数とすることができるが、通常、それぞれ個別に２〜１２の範囲内が好ましく、特に４〜１０の範囲内が好ましい。ｄおよびｅが上記範囲よりも小さいと安定性に欠ける場合があり、また、上記範囲よりも大きいと融点が低くなり、上記重合性液晶化合物と相分離を生じる可能性があるからである。

３．光学補償層
本発明における光学補償層は、上記重合性液晶化合物を重合させた重合物からなり、黄色度（ＹＩ_Ｌ）が０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０であることに加えて、本発明の光学補償素子の用途に応じて所望の位相差性を発現する機能を有するものである。以下、本発明における光学補償層について説明する。

本発明における光学補償層の厚みは、上記重合性液晶化合物の種類や、本発明の光学補償素子の用途等に応じて、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０にすることができる範囲内で任意に決定することができるが、通常、０．５μｍ〜５０μｍの範囲内が好ましく、特に１μｍ〜３０μｍの範囲内が好ましく、中でも１μｍ〜１０μｍの範囲内が好ましい。厚みが上記範囲よりも薄いと、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）が上記の範囲よりも小さくなる可能性が有り、また厚みが上記範囲より厚いと、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）が上記範囲よりも大きくなってしまう可能性があるからである。

本発明における光学補償層の構成は、光学補償層に求められる位相差性に応じて任意の構成とすることができ、単層構造であっても、複数の層からなる構成であっても良い。光学補償層を複数の層からなる構成とする場合の具体例としては、同一の液晶性を示す重合性液晶化合物の重合物からなる光学補償層を積層して構成する態様や、互いに異なる液晶性を示す重合性液晶化合物の重合物からなる光学補償層を積層して構成する態様を挙げることができる。
互いに異なる液晶性を示す重合性液晶化合物の重合物からなる光学補償層を積層する構成としては、例えばネマチック液晶性を示す重合性液晶化合物の重合物からなる光学補償層と、コレステリック液晶性やスメクチック液晶性等の異なる液晶性を示す重合性液晶性化合物の重合物からなる光学補償層とを積層する構成を例示することができるが、これらに限られるものではない。

本発明における光学補償層の透明度は、上記重合性液晶化合物の種類等に応じて、任意の値にすることができるが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。透過率が上記の値よりも低いと、本発明の光学補償素子の表示品質を損なってしまう可能性があるからである。ここで、光学補償層の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

４．光学補償層の形成方法
本発明における光学補償層の形成方法は、膜厚が均一で平面性に優れた層を形成できる方法であれば、特に限定されるものではない。このような方法としては、光学補償層形成用組成物を上記透明基材上に塗工する方法や、任意の基材上に形成した光学補償層を上記透明基材上に転写させる方法等を挙げることができるが、本発明においては光学補償層形成用組成物を上記透明基材上、または後述する配向層上に塗工する方法が好ましい。このような方法によれば、平面性に優れた光学補償層を容易に形成することが可能だからである。以下、このような光学補償層の形成方法について説明する。

（１）光学補償層形成用組成物
上記光学補償層形成用組成物は、通常、重合性液晶化合物と、溶媒とからなり、必要に応じて他の化合物を含んでも良い。以下、光学補償層形成用組成物の各構成について説明する。

ａ．重合性液晶化合物
光学補償層形成用組成物に用いられる重合性液晶化合物は、上記「２．重合性液晶化合物」の項に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。

ｂ．溶媒
光学補償層形成用組成物に用いられる溶媒としては、上記重合性液晶化合物を所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されない。本発明に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、本発明に用いられる溶媒は、１種類でもよく、２種類以上の溶媒の混合溶媒でもよい。

ｃ．他の化合物
（黄色度調整剤）
上記光学補償層形成用組成物中には、必要に応じて黄色度調整剤を含んでも良い。特に黄色度（ＹＩ_Ｌ）が０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０である光学補償層を直接形成する場合には、黄色度調整剤を含むことが好ましい。このような黄色度調整剤としては、上記「１．光学補償層の黄色度」の項に記載したものと同様のものを用いることができる。また、必要に応じて二種類以上の黄色度調整剤を混合して用いることもできる。黄色度調整剤の含有量は、光学補償層の位相差性を損なわない範囲内であれば、黄色度調整剤の種類や目標とする黄色度（ＹＩ_Ｌ）の値等に応じて任意に決定することができる。

（光重合開始剤）
上記光学補償層形成用組成物中には、必要に応じて光重合開始剤を含んでも良い。本発明においては、上記光学補償層を形成する重合性液晶化合物の重合反応を促進でき、かつ添加量によっては黄色度調整剤としても機能することから、光重合開始剤を含むことが特に好ましい。本発明に用いられる光重合開始剤としては、上記「１．光学補償層の黄色度」の項に記載したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。

さらに、上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の３級アミン類や、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。

上記光重合開始剤の含有量は、上記重合性液晶化合物の種類に応じて任意に決定することができるが、通常、光学補償層形成用組成物中の固形分に対して０．５〜３０質量％の範囲内、特に１〜１０質量％の範囲内とすることが好ましい。

（カイラル剤）
光学補償層形成用組成物には、必要に応じてカイラル剤を含んでも良い。本発明の光学補償素子は、光学補償層がプレーナー配向したコレステリック規則性を有することが好ましいことから、上記重合性液晶化合物としてネマチック液晶性を示す化合物を用いる場合には、通常カイラル剤を含むことが好ましい。本発明に用いられるカイラル剤としては、上記「２．重合性液晶化合物」の項に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。

光学補償層形成用組成物中の、カイラル剤の含有量は、上記重合性液晶化合物の種類によって任意に決定することができるが、通常、上記重合性液晶化合物の１００重量部に対して、０．０１重量部〜６０重量部の範囲内が好ましく、特に１重量部〜２０重量部の範囲内が好ましい。含有量が上記の範囲よりも多いと、光学補償層の強度を低下させてしまう場合があり、また含有量が上記範囲よりも少ないと、十分なコレステリック規則性が得られない場合があるからである。

（その他の化合物）
上記光学補償層形成用組成物には、本発明の目的を損なわない範囲内で、下記に示すような化合物を添加することができる。添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物；アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。上記光学補償層形成用組成物に対するこれら化合物の添加量は、本発明の目的が損なわれない範囲内で決定することができる。上記のような化合物を添加することにより光学補償層の機械強度が向上し、安定性が改善される場合がある。

ｄ．光学補償層形成用組成物
光学補償層形成用組成物の固形分濃度は、所望の膜厚と平面性を達成できる範囲内であれば、後述する透明基材上への光学補償層形成用組成物の塗布方式に応じて、任意に決定すればよいが、通常、０．１質量％〜５０質量％の範囲内が好ましい。濃度が上記範囲よりも濃いと、所望の平面性を得ることができない場合があり、また、濃度が上記範囲よりも薄いと溶媒の乾燥負荷が増加し、生産性の面において不利となる可能性があるからである。

（２）光学補償層の形成方法
本発明における光学補償層は、通常、上記光学補償層形成用組成物を、上記透明基材または後述する配向層上に塗布し、塗膜を乾燥した後に、硬化処理を行うことにより形成される。

上記光学補償層形成用組成物を上記透明基材または後述する配向層上に塗工する塗布方式としては、所望の平面性を達成できる方法であれば、特に限定されるものではない。具体的には、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法などを例示することができるが、これに限られるものではない。

上記光学補償層形成用組成物の塗膜の乾燥方法は、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本発明における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。

上記光学補償層形成用組成物の硬化方法は、上記重合性液晶化合物を重合することができる方法であれば特に限定されないが、通常、重合性液晶化合物を加熱・配向処理により規則的に配列させた後、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、上記重合性液晶化合物を重合させることが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光線を使用することが好ましく、中でも、波長が１５０ｎｍ〜５００ｎｍ、好ましくは２５０ｎｍ〜４５０ｎｍ、さらに好ましくは３００ｎｍ〜４００ｎｍの照射光を用いることが好ましい。

この照射光の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）などが例示できる。中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等の使用が推奨される。また、照射強度は、光重合開始剤の含有量等によって適宜調整して照射することができる。

Ｂ．透明基材
次に、本発明に用いられる透明基材について説明する。本発明に用いられる透明基材は光学的等方性を有することを特徴とするものである。

本発明に用いられる透明基材の黄色度（ＹＩ_Ｓ）は、上記光学補償層能の黄色度（ＹＩ_Ｌ）や、例えば配向層等の本発明の光学補償素子が有する他の層の黄色度に応じて、光学補償素子の黄色度（ＹＩ_Ｔ）が、ＹＩ_Ｔ＜４．０となる範囲内であれば特に限定されないが、本発明においては、特に−１０＜ＹＩ_Ｓ＜２．０であることが好ましい。黄色度（ＹＩ_Ｓ）をこのような範囲にすることにより、より表示品質に優れた光学補償素子を得ることができるからである。ここで、透明基材の黄色度（ＹＩ_Ｓ）の定義および測定方法は、上記「Ａ．光学補償層」の項に記載した、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）の定義および測定方法と同様であるので、ここでの説明は省略する。

本発明に用いられる透明基材の透明度は、上記光学補償層を構成する材料の種類等に応じて、所望の光学的性質を達成できるものを任意に用いることができるが、中でも、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。透過率が低いと、上記光学補償層の構成材料の選択幅が狭くなってしまう場合があるからである。ここで、透明基材の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

上記透明基材の光学的等方性も、上記光学補償層を構成する材料の種類等に応じて、所望の光学特的性質を達成できるものを任意に採用できるが、中でも、レターデーション値（Ｒｅ）が０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましく、０ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内がより好ましく、０ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内がさらに好ましい。このような透明基材を用いることにより、本発明の光学補償素子の用途や上記光学補償層の構成材料の選択の幅を広げることができるからである。ここで、レターデーション値（Ｒｅ）とは、透明基材の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、透明基材の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率をｎｙ、透明基材の厚みをｄ（ｎｍ）とした場合に、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される値をいう。

本発明に用いられる透明基材の厚みは、本発明の光学補償素子の用途に応じて、必要な自己支持性を有する範囲内であれば特に限定されないが、通常、５μｍ〜５００μｍの範囲内が好ましく、特に３０μｍ〜１００μｍの範囲内が好ましい。厚みが上記の範囲よりも薄いと、本発明の光学補償素子に必要な自己支持性が得られない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲よりも厚いと、例えば、光学補償素子を裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。

また、本発明に用いられる透明基材は、上記光学的特性を具備するものであれば、可撓性を有するリジッド材でも、可撓性のないフレキシブル材を用いることもできるが、フレキシブル材を用いることが好ましい。フレキシブル材を用いることにより、本発明の光学補償素子の製造工程をロールトゥロールプロセスとすることができ、生産性に優れた光学補償素子を得ることができるからである。

上記フレキシブル材としては、セルロース誘導体、商品名アートン（ＪＳＲ社製）、商品名ゼオネックス（日本ゼオン社製）、などのノルボルネン系ポリマー、商品名ゼオノア（日本ゼオン社製）等のシクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類などを例示することができるが、中でもセルロース誘導体を用いることが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れるため、表示品質に優れた光学補償素子を得ることができるからである。

上記セルロース誘導体は、セルロースエステルを用いることが好ましく、さらに、セルロースエステル類の中では、セルロースアシレート類を用いることが好ましい。セルロースアシレート類は工業的に広く用いられていることから、入手容易性の点において有利だからである。

上記セルロースアシレート類としては、炭素数２〜４の低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸エステルとしては、例えばセルロースアセテートのように、単一の低級脂肪酸エステルのみを含むものでもよく、また、例えばセルロースアセテートブチレートやセルロースアセテートプロピオネートのような複数の脂肪酸エステルを含むものであっても良い。

本発明においては、上記低級脂肪酸エステルの中でもセルロースアセテートを特に好適に用いることができる。セルロースアセテートとしては、平均酢化度が５７．５〜６２．５％（置換度：２．６〜３．０）のトリアセチルセルロースを用いることが最も好ましい。このようなトリアセチルセルロースは数多くの種類が工業的に用いられていることから、本発明の光学補償素子の用途に適したトリアセチルセルロースを選択することが可能だからである。ここで、酢化度とは、セルロース単位重量当りの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験方法）におけるアセチル化度の測定および計算により求めることができる。

Ｃ．他の層
本発明の光学補償素子は、光学的等方性を有する透明基材と、重合性液晶化合物の重合物からなる光学補償層とを有することを特徴するが、必要に応じて他の層を含んでも良い。本発明の光学補償素子に用いられる他の層としては、光学補償素子の製造方法等に応じて、本発明の目的を損なわないものであれば特に限定されない。本発明においては、中でも液晶分子に対する配向能を有する配向層を有することが好ましい。本発明における光学補償層は重合性液晶化合物の重合物からなることから、本発明の光学補償素子を、配向層を有する構成にすることにより液晶の規則的配列を容易に形成することができるからである。

１．配向層
以下、本発明に用いることができる配向層について説明する。
本発明に配向層を用いる場合の態様を図６に示す。図６は本発明の光学補償素子が配向層を有する態様の一例を示す概略断面図である。図６に示すように、本発明の光学補償素子に配向層を含む場合には、通常、透明基材１と、光学補償層２との間に配向層６を形成することにより光学補償素子１３が形成される。

本発明に用いられる配向層としては、液晶分子の配向能を有するものであれば特に限定されない。このような配向層として、ラビング膜、光配向膜、および延伸フイルム等を挙げることができるが、本発明においてはラビング膜または光配向膜を好適に用いることができる。

上記ラビング膜としては、例えば、ポリイミド、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、セルロース誘導体等の多糖類、ビニルアルコール・ビニルアミン共重合体、または、ゼラチン等からなる膜を上記透明基材上に形成した後、一般的な方法によりラビング処理したものを挙げることができる。

上記光配向膜としては、光照射によって液晶分子を配向するために必要な異方性を付与できる光反応型材料からなるものであれば特に限定されない。このような光反応型材料としては、光二量化反応を生じることにより上記異方性を発現する光二量化型材料と、光異性化反応を生じることにより上記異方性を発現する光異性化型材料とを挙げることができる。

上記配向層の厚みは、配向層の種類に応じて、液晶分子の配向能を発現することができる範囲内であれば特に限られないが、通常、０．０１μｍ〜２０μｍの範囲内が好ましい。配向層の厚みが上記範囲よりも薄いと、液晶分子に対する十分な配向能を得ることができない場合があり、また、上記範囲よりも厚みが厚いとコスト的に不利になる可能性があるからである。

上記配向層の透明度は、上記光学補償層を形成する重合性液晶化合物、または上記透明基材の種類等に応じて任意に決定することができるが、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。透過率が上記の値よりも低いと、本発明の光学補償素子の表示品質を損なってしまう可能性があるからである。ここで、配向層の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

本発明における配向層の形成方法は、上記光学補償層を均質に積層することが可能な平面性を実現できる方法であれば、特に限定されるものではない。このような配向層の形成方法としては、液晶分子の配向能を有する高分子化合物からなる高分子フイルムを作成し、当該高分子フイルムを上記透明基材上に貼り合わせる方法や、配向層形成用組成物を上記透明基材上に塗工する方法等を挙げることができるが、本発明においては、配向層形成用組成物を上記透明基材上に塗工する方法が好ましい。このような方法によれば、平面性に優れた配向層を容易に形成することが可能だからである。

２．その他の層
上記配向層の他に、本発明の光学補償素子を構成するその他の層としては、本発明の目的を損なわないものであれば特に限定されず、本発明の光学補償素子の用途や製造方法等に応じて適宜選択して採用することができる。このようなその他の層としては、例えば光学補償層を上記塗布方式ではなく、転写方式により形成する場合に有用な粘着層、層間の密着性の向上に寄与する中間層、および透明基材に含まれる低分子化合物が、光学補償層へ移動し、光学補償層の光学的特性を損なうことを防止する遮蔽層を挙げることができるが、これらに限られるものではない。

Ｄ．光学補償素子
本発明の光学補償素子の黄色度（ＹＩ_Ｔ）は、ＹＩ_Ｔ＜４．０となる範囲内であれば特に限定されない。本発明においては、特に−１０＜ＹＩ_Ｔ＜２．０であることが好ましい。黄色度（ＹＩ_Ｔ）をこのような範囲内にすることにより、より表示品質に優れた光学補償素子を得ることができるからである。ここで、光学補償素子の黄色度（ＹＩ_Ｔ）の定義および測定方法は、上記「Ａ．光学補償層」の項に記載した、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）の定義および測定方法と同様であるので、ここでの説明は省略する。

本発明の光学補償素子の透明性は、光学補償素子の用途等により適宜決定することができるが、中でも、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

本発明の光学補償素子の膜厚は、その用途等により適宜選択されるものであるが、通常２０μｍ〜５００μｍの範囲内が好ましく、特に４０μｍ〜２５０μｍの範囲内が好ましく、中でも６０μｍ〜２００μｍの範囲内が好ましい。厚みが上記の範囲より薄いと、必要な自己支持性が得られない場合があるからである。また、厚みが上記の範囲より厚いと、例えば、光学補償素子を裁断加工する際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。

本発明の光学補償素子が示す位相差性としては、特に限定されず、本発明の光学補償素子の用途に応じて、任意に決定することができる。

本発明の光学補償素子の製造方法は、本発明の光学補償素子に求められる生産数量や光学補償素子に付与する位相差性等に応じて、本発明の目的を達成できる方法であれば特に限定されない。本発明の光学補償素子を製造する好適な方法として、上記透明基材上に必要に応じて配向層を形成する配向層形成工程と、上記透明基材上または上記配向層上に光学補償層を形成する光学補償層形成工程とからなる製造方法を挙げることができる。このような方法によれば、光学補償素子を構成する各層の膜質が均質で、表示品質に優れた光学補償素子を低コストで得ることができる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。

以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。

（実施例１）
透明基材として、厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルムを用い、下記組成の配向層形成用組成物をバーコート法により、上記ＴＡＣフイルム上に塗布した。その後、１００℃で４分間乾燥して配向層を形成し、ラビング処理を行った。配向層の厚みは０．２μｍであった。
次に、配向層上に下記組成の光学補償層形成用組成物をバーコート法により塗布し、８０℃オーブン内で２分間乾燥させた後、窒素雰囲気下で波長３６５ｎｍの紫外線を２０ｍＷ／ｃｍ^２で５秒間照射することにより硬化し、光学補償層を形成した。その後、空気中で２５４ｎｍの光を放射するＵＶ殺菌ランプを搭載したＵＶ照射装置（商品名 ＵＶクリーナー／４ ： 同潤光機社製）を用いて、光学補償層にＵＶ照射を２分間実施することにより、光学補償素子を作成した。ここで、配向層と光学補償層とをＴＡＣフイルムから剥離し、触針式膜厚計（Ｄｅｋｔａｋ）により配向層と光学補償層との厚みを測定したところ、２．２μｍであった。

＜配向層形成用組成物の組成（実施例１）＞
・ポリビニルアルコール ２重量部
・溶媒（水） ９８重量部

＜光学補償層形成用組成物の組成（実施例１)＞
・重合性液晶化合物 １９重要部
・カイラル剤 １重量部
・光重合開始剤 ０．２重量部
・トルエン ７９．８重量部

（実施例２）
光学補償層形成後、上記ＵＶ照射装置によるＵＶ照射時間を３分間とした以外は、実施例１と同様の方法により、光学補償素子を作成した。

(比較例１）
光学補償層形成後、上記ＵＶ照射装置によるＵＶ照射を実施しないこと以外は、実施例１と同様の方法により、光学補償素子を作成した。

(比較例２）
光学補償層形成後、上記ＵＶ照射装置によるＵＶ照射時間を１分間とした以外は、実施例１と同様の方法により、光学補償素子を作成した。

(実施例３）
透明基材として、厚み０．７ｍｍの無アルカリガラスを用いたこと以外は、実施例1と同様の方法により、光学補償素子を作成した。

(実施例４)
透明基材として、厚み０．７ｍｍの無アルカリガラスを用いたこと以外は、実施例２と同様の方法により、光学補償素子を作成した。

(比較例３)
透明基材として、厚み０．７ｍｍの無アルカリガラスを用いたこと以外は、比較例１と同様の方法により、光学補償素子を作成した。

(実施例５）
透明基材として、厚み８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルムを用い、下記組成の配向層形成用組成物をバーコート法により、上記ＴＡＣフイルム上に塗布した。その後、１００℃で４分間乾燥して配向層を形成し、ラビング処理を行った。配向層の厚みは０．２μｍであった。
次に、配向層上に下記組成の光学補償層形成用組成物をバーコート法により塗布し、８０℃オーブン内で２分間乾燥させた後、窒素雰囲気下で波長３６５ｎｍの紫外線を２０ｍＷ／ｃｍ^２で５秒間照射することにより硬化して光学補償層を形成し、光学補償素子を作成した。ここで、配向層と光学補償層とをＴＡＣフイルムから剥離し、触針式膜厚計（Ｄｅｋｔａｋ）により配向層と光学補償層との厚みを測定したところ、２．２μｍであった。

＜光学補償層形成用組成物の組成（実施例５）＞
・重合性液晶化合物 １９重要部
・カイラル剤 １重量部
・光重合開始剤 ０．６重量部
・トルエン ７９．４重量部

(実施例６）
光学補償層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量を５重量部としたこと以外は、実施例５と同様の方法により、光学補償素子を作成した。

(実施例７）
光学補償層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量を７重量部としたこと以外は、実施例５と同様の方法により、光学補償素子を作成した。

(比較例４）
光学補償層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量を１重量部としたこと以外は、実施例５と同様の方法により、光学補償素子を作成した。

(比較例５）
光学補償層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量を２重量部としたこと以外は、実施例５と同様の方法により、光学補償素子を作成した。

(評価）
上記実施例および比較例で作成した光学補償素子について、以下の方法により黄色度（ＹＩ）の測定、およびクロスニコル下で視認される表示ムラの評価を実施した。その結果を表１に示す。

１．黄色度（ＹＩ）の測定方法
黄色度（ＹＩ）は、分光光度計（商品名 リノスキャン ： グレタグマクベス社製）の透過モードにより透過率を測定後に、Ｃ光源によりＣＩＥ−Ｘ、Ｙ、Ｚを求め、ＪＩＳ Ｋ７１０５に規定される黄色度（ＹＩ）の定義式に従って算出した。
また、光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）は、光学補償素子の黄色度（ＹＩ_Ｔ）から、透明基材と配向層とが示す黄色度をリファレンスとして差し引くことにより求めた。

２．クロスニコル下で視認される表示ムラの評価方法
クロスニコル下で視認される表示ムラは、光学補償素子の両面に偏光板（商品名 ＨＬＣ２−５６１８ＨＣＳ ： サンリッツ社製）を互いにクロスニコルとなるように張り合わせ、暗室中において液晶用バックライト上にて、正面からのムラの状態を目視で観察することにより実施した。

上記表1に示すように、本発明においては光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）を０．５＜ＹＩ_Ｌ＜４．０とすることにより、クロスニコル下において表示ムラが視認されることのない、表示品質に優れた光学補償素子を得ることができる。

本発明の光学補償素子の一例を示す概略断面図である。 光学補償素子の表示ムラが視認される態様の一例を示す模式図である。 クロスニコル下で視認される表示ムラの一例を示す写真である。 クロスニコル下で視認される表示ムラの白ムラ部と黒ムラ部との透過率分布を示すグラフである。 光学補償素子の透過率分布とクロスニコル下で視認される表示ムラの関係を示すグラフである。 本発明の光学補償素子の他の例を示す概略断面図である。

符号の説明

１ … 透明基材
２ … 光学補償層
３ … 偏光板
４ … 偏光板
５ … 光照射
６ … 配向層
１１ … 光学補償素子
１２ … 光学補償素子
１３ … 光学補償素子
ａ … 観察方向
Ａ … クロスニコル下で視認される表示ムラの白ムラ部
Ｂ … クロスニコル下で視認される表示ムラの黒ムラ部

Claims (4)

1. 光学的等方性を有する透明基材と、重合性液晶化合物の重合物からなる光学補償層とを有する光学補償素子であって、
   前記光学補償層の黄色度（ＹＩ_Ｌ）が、０．６≦ＹＩ_Ｌ≦２．３であり、
   前記光学補償層の膜厚が、０．５μｍ〜５０μｍの範囲内であることを特徴とする光学補償素子。
2. 黄色度（ＹＩ_Ｔ）が、ＹＩ_Ｔ＜４．０であることを特徴とする、請求項１に記載の光学補償素子。
3. 前記光学補償層が、プレーナー配向したコレステリック規則性を有することを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の光学補償素子。
4. 前記光学的等方性を有する透明基材が、トリアセチルセルロースからなるものであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の光学補償素子。

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