JP4540096B2 - 静電浮遊炉 - Google Patents
静電浮遊炉 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4540096B2 JP4540096B2 JP2004088755A JP2004088755A JP4540096B2 JP 4540096 B2 JP4540096 B2 JP 4540096B2 JP 2004088755 A JP2004088755 A JP 2004088755A JP 2004088755 A JP2004088755 A JP 2004088755A JP 4540096 B2 JP4540096 B2 JP 4540096B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- electrode
- container
- heating
- floating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
2 上部容器
3 下部容器
4 アクセス用窓
5 上部電極(垂直制御用電極)
6 下部電極(帯電用電極)
7 上段電極(垂直制御用電極)
8 下段電極(帯電用電極)
9 サイド電極(水平制御用電極)
13 遮蔽板
17 加熱用反射鏡
18a 照射用反射鏡
18b 捕捉用反射鏡
19 集光レンズ
20 開口部
21 供給回収装置
22 円柱体
23 供給ポケット
24 回収ポケット
26 プランジャ
A1 帯電領域
A2 制御領域
L 加熱用レーザ光
P 試料
Claims (6)
- 帯電させた試料を電極間で発生する電場により浮遊状態にして加熱処理を行う静電浮遊炉であって、
互いに結合する上部容器と下部容器とで内部を真空に排気可能な密閉容器を形成し、
上部容器の上面側に、試料を加熱するための加熱用レーザ光が透過可能な材料から成るアクセス用窓を設けると共に、
下部容器の内部空間は、底部側が試料の帯電領域であると共に、帯電領域の上側が浮遊した試料の制御領域であり、
下部容器の内部空間における上下方向の中心線を基準にして、上部容器に上部電極を設けるとともに下部容器の底部に下部電極を設け、且つ、下部容器内に、上部電極と下部電極との間において夫々リング状を成す上段電極及び下段電極を上下に配置すると共に、
上部電極と下部電極との間において前記中心線を間にして対向する二個一組のサイド電極を90度の位相差で二組配置し、
下部電極と下段電極が、帯電領域において、試料を帯電させて帯電した試料の軌道を中心線上に保つ帯電用電極を構成し、
上部電極と上段電極が、制御領域において、浮遊した試料の垂直移動を制御する垂直制御用電極を構成し、
サイド電極が、制御領域において、浮遊した試料の水平移動を制御する水平制御用電極を構成していることを特徴とする静電浮遊炉。 - 上部容器に、透明な材料から成り且つ前記上部電極が貫通するとともに浮遊した試料の制御領域の上側に配置される遮蔽板を設けると共に、サイド電極の内部に、アクセス用窓を通して上側から導入した加熱用レーザ光を制御領域において浮遊した試料に向けて反射する加熱用反射鏡を設け、且つ同サイド電極の内部に、加熱用レーザ光の導入及び反射の経路を設けたことを特徴とする請求項1に記載の静電浮遊炉。
- 密閉容器の外部に、加熱用レーザ光の集光レンズを備えると共に、集光レンズが、密閉容器に対する加熱用レーザ光の導入方向に位置調整可能であることを特徴とする請求項2に記載の静電浮遊炉。
- 下部容器の底面に、試料が通過可能な開口部を設けると共に、下部容器の底部に、内部空間に対して、開口部を通して試料を供給し且つ回収するための供給回収装置を備えたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の静電浮遊炉。
- 供給回収装置は、軸線回りに回転可能な円柱体を備えており、円柱体は、試料押し出し用のプランジャとともに未処理の試料を収容する供給ポケットと、処理後の試料を収容する回収ポケットを、周方向に所定間隔で交互に備えていることを特徴とする請求項4に記載の静電浮遊炉。
- 下部容器に、前記サイド電極と異なる位相に、平行にコリメートされ且つアクセス用窓を通して上側から導入した位置認識用レーザ光を制御領域において浮遊した試料に向けて反射する照射用反射鏡と、位置認識用レーザ光が照射された試料の像を上側のアクセス用窓に向けて反射する捕捉用反射鏡を配置したことを特徴とする請求項1に記載の静電浮遊炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004088755A JP4540096B2 (ja) | 2004-03-25 | 2004-03-25 | 静電浮遊炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004088755A JP4540096B2 (ja) | 2004-03-25 | 2004-03-25 | 静電浮遊炉 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005274032A JP2005274032A (ja) | 2005-10-06 |
JP2005274032A6 JP2005274032A6 (ja) | 2008-06-05 |
JP4540096B2 true JP4540096B2 (ja) | 2010-09-08 |
Family
ID=35173902
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004088755A Expired - Fee Related JP4540096B2 (ja) | 2004-03-25 | 2004-03-25 | 静電浮遊炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4540096B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111257314A (zh) * | 2020-01-17 | 2020-06-09 | 中国科学院国家空间科学中心 | 一种用于高温熔融材料静电悬浮无容器实验装置的控制系统 |
JP7343878B2 (ja) * | 2020-02-21 | 2023-09-13 | 株式会社Ihiエアロスペース | 静電浮遊炉用試料ホルダ及び試料の帯電方法 |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3965753A (en) * | 1970-06-01 | 1976-06-29 | Browning Jr Alva Laroy | Electrostatic accelerometer and/or gyroscope radioisotope field support device |
US4896849A (en) * | 1987-06-26 | 1990-01-30 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Sample levitation and melt in microgravity |
JPH02154978A (ja) * | 1988-12-07 | 1990-06-14 | Natl Space Dev Agency Japan<Nasda> | 浮遊炉 |
JPH02228263A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 静電浮遊装置 |
JPH04172979A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-06-19 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 静電浮遊装置 |
JPH06297180A (ja) * | 1993-04-15 | 1994-10-25 | Ricoh Co Ltd | エキシマレーザ加工方法およびその加工方法を実施するエキシマレーザ加工装置およびその加工装置によって形成されたノズルシートおよびそのノズルシートを有するインクジェット記録ヘッド |
JPH07332868A (ja) * | 1994-06-03 | 1995-12-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 静電浮遊炉 |
JPH08320182A (ja) * | 1995-05-26 | 1996-12-03 | Uchu Kankyo Riyou Suishin Center | 静電浮遊炉 |
JPH08338900A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Agency Of Ind Science & Technol | X線露光装置 |
JP2692207B2 (ja) * | 1988-12-12 | 1997-12-17 | 石川島播磨重工業株式会社 | 静電浮遊炉 |
JPH10191671A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-21 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 静電浮遊装置 |
JP2867500B2 (ja) * | 1989-11-30 | 1999-03-08 | 石川島播磨重工業株式会社 | 静電浮遊炉 |
JPH11241888A (ja) * | 1998-02-25 | 1999-09-07 | Mitsubishi Electric Corp | 静電浮遊炉 |
JP2002206865A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | 静電浮遊炉 |
JP2002206866A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | 静電浮遊炉 |
WO2003029742A1 (fr) * | 2001-09-28 | 2003-04-10 | Ihi Aerospace Co., Ltd. | Four a levitation electrostatique |
-
2004
- 2004-03-25 JP JP2004088755A patent/JP4540096B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3965753A (en) * | 1970-06-01 | 1976-06-29 | Browning Jr Alva Laroy | Electrostatic accelerometer and/or gyroscope radioisotope field support device |
US4896849A (en) * | 1987-06-26 | 1990-01-30 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Sample levitation and melt in microgravity |
JPH02154978A (ja) * | 1988-12-07 | 1990-06-14 | Natl Space Dev Agency Japan<Nasda> | 浮遊炉 |
JP2692207B2 (ja) * | 1988-12-12 | 1997-12-17 | 石川島播磨重工業株式会社 | 静電浮遊炉 |
JPH02228263A (ja) * | 1989-02-23 | 1990-09-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 静電浮遊装置 |
JP2867500B2 (ja) * | 1989-11-30 | 1999-03-08 | 石川島播磨重工業株式会社 | 静電浮遊炉 |
JPH04172979A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-06-19 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 静電浮遊装置 |
JPH06297180A (ja) * | 1993-04-15 | 1994-10-25 | Ricoh Co Ltd | エキシマレーザ加工方法およびその加工方法を実施するエキシマレーザ加工装置およびその加工装置によって形成されたノズルシートおよびそのノズルシートを有するインクジェット記録ヘッド |
JPH07332868A (ja) * | 1994-06-03 | 1995-12-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 静電浮遊炉 |
JPH08320182A (ja) * | 1995-05-26 | 1996-12-03 | Uchu Kankyo Riyou Suishin Center | 静電浮遊炉 |
JPH08338900A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Agency Of Ind Science & Technol | X線露光装置 |
JPH10191671A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-21 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 静電浮遊装置 |
JPH11241888A (ja) * | 1998-02-25 | 1999-09-07 | Mitsubishi Electric Corp | 静電浮遊炉 |
JP2002206865A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | 静電浮遊炉 |
JP2002206866A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-26 | Mitsubishi Electric Corp | 静電浮遊炉 |
WO2003029742A1 (fr) * | 2001-09-28 | 2003-04-10 | Ihi Aerospace Co., Ltd. | Four a levitation electrostatique |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005274032A (ja) | 2005-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101135499B1 (ko) | 전지용 전극 탭의 레이저 세정 장치 및 이를 이용한 레이저 세정 방법 | |
US11404243B1 (en) | Microscopy | |
JP4301946B2 (ja) | 静電浮遊炉 | |
CN102484045B (zh) | 等离子体光源系统 | |
JP4540096B2 (ja) | 静電浮遊炉 | |
JP2005274032A6 (ja) | 静電浮遊炉 | |
JP2004031207A (ja) | 電子線照射装置および走査型電子顕微鏡装置 | |
CA1280630C (en) | Stereoscopic optical viewing system | |
CN113488222B (zh) | 一种中子散射静电悬浮器 | |
JP2012028019A (ja) | 集光器装置 | |
JP2002206865A (ja) | 静電浮遊炉 | |
US3135855A (en) | Electron beam heating devices | |
JP2016062751A (ja) | 透過型電子顕微鏡 | |
CN112207428A (zh) | 实现与定向束线360°位型相互作用的激光聚焦调节系统 | |
CN102136406B (zh) | 电子显微镜的小聚光镜 | |
JP2022533716A (ja) | 荷電粒子結晶学用回折計 | |
US7864829B2 (en) | Dropping model electrostatic levitation furnace | |
JP2019075325A (ja) | X線発生装置 | |
CN108831581A (zh) | 一种具有三个激光的光镊捕获粒子或细胞的装置 | |
CN108931847A (zh) | 一种具有七个激光的光镊捕获粒子或细胞的装置 | |
CN220855922U (zh) | 一种光镊原理演示实验装置 | |
JP2003229086A (ja) | 電子線照射装置及び走査型電子顕微鏡装置 | |
JPH0518887A (ja) | 微粒子の計測及び操作方法 | |
JP2012191040A (ja) | プラズマ光源システム | |
JP2004279355A (ja) | X線分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070326 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100308 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100526 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100604 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100621 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100621 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130702 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |