JPH02154978A - 浮遊炉 - Google Patents
浮遊炉Info
- Publication number
- JPH02154978A JPH02154978A JP63309674A JP30967488A JPH02154978A JP H02154978 A JPH02154978 A JP H02154978A JP 63309674 A JP63309674 A JP 63309674A JP 30967488 A JP30967488 A JP 30967488A JP H02154978 A JPH02154978 A JP H02154978A
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- JP
- Japan
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- levitating
- floating
- furnace
- levitating object
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- Pending
Links
- 230000005484 gravity Effects 0.000 abstract description 3
- 238000005188 flotation Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、宇宙環境利用の一環として、非接触で物体
の加工を行なうための浮遊炉、特に浮遊炉内で浮遊する
浮遊物体に回転力を与えるための装置に関するものであ
る。
の加工を行なうための浮遊炉、特に浮遊炉内で浮遊する
浮遊物体に回転力を与えるための装置に関するものであ
る。
(従来の技術)
第2図はDevelopment of an ele
ctrostaticpositioner for
5pace material processing
Review of 5cientific Inst
ruments、 Vo156゜No、2.Febru
ary、1985.307頁〜317頁に示されている
従来の静電型浮遊炉を示すもので、図中、(1) 、
(2)は所要間隔で平行に対向配置された同一形状の円
盤状電極、(3) 、 (4)は上記各円盤状電極(1
) 、 (2)の外周部に同心となるように配されたリ
ング状電極、(5)はこの浮遊炉の作動時に円盤状電極
(1) 、 (2)から等距離に静止する浮遊物体であ
る。
ctrostaticpositioner for
5pace material processing
Review of 5cientific Inst
ruments、 Vo156゜No、2.Febru
ary、1985.307頁〜317頁に示されている
従来の静電型浮遊炉を示すもので、図中、(1) 、
(2)は所要間隔で平行に対向配置された同一形状の円
盤状電極、(3) 、 (4)は上記各円盤状電極(1
) 、 (2)の外周部に同心となるように配されたリ
ング状電極、(5)はこの浮遊炉の作動時に円盤状電極
(1) 、 (2)から等距離に静止する浮遊物体であ
る。
従来の浮遊炉は上記のように構成され、まず円盤状電極
(1) 、 (2)に同電位を与え、次いで、リング状
電極(3) 、 (4)に、円盤状電極(1) 、 (
2)と同符号の電位を互いに等しい大きさだけ与える。
(1) 、 (2)に同電位を与え、次いで、リング状
電極(3) 、 (4)に、円盤状電極(1) 、 (
2)と同符号の電位を互いに等しい大きさだけ与える。
この際、リング状電極(3) 、 (4)の電位は、円
盤状電極(1) 、 (2)より大きくなければならな
い。
盤状電極(1) 、 (2)より大きくなければならな
い。
次いで、浮遊させる物体(5)に、上記各電極<1>
、 (2) 、 (3) 、 (4)と同符号の電荷を
与え、円盤状電極(1) 、 (2)の同心軸上の等距
離の位置に置く。
、 (2) 、 (3) 、 (4)と同符号の電荷を
与え、円盤状電極(1) 、 (2)の同心軸上の等距
離の位置に置く。
これにより、各電極(1) 、 (2) 、 (3)
、 (4)からの反発力を受けて、浮遊物体(5)はそ
の位置に静止する。
、 (4)からの反発力を受けて、浮遊物体(5)はそ
の位置に静止する。
(発明が解決しようとする課題)
上記のような従来の浮遊炉では、浮遊物体(5)を静止
させる機能を有しているのみであるので、浮遊物体(5
)の向きを変えることができない等の課題があった。
させる機能を有しているのみであるので、浮遊物体(5
)の向きを変えることができない等の課題があった。
この発明は、かかる課題を解決するためになされたもの
で、浮遊物体を任意の方向に回転させることができる浮
遊炉を得ることを目的とする。
で、浮遊物体を任意の方向に回転させることができる浮
遊炉を得ることを目的とする。
この発明に係る浮遊炉は、静電型浮遊炉あるいは電磁浮
遊炉等の浮遊炉において、浮遊炉内で浮遊する浮遊物体
に対し、複数の方向から高出力ビームを照射して浮遊物
体に回転力のみを与える照射装置を設けるようにしたも
のである。
遊炉等の浮遊炉において、浮遊炉内で浮遊する浮遊物体
に対し、複数の方向から高出力ビームを照射して浮遊物
体に回転力のみを与える照射装置を設けるようにしたも
のである。
この発明においては、照射装置から出力された高出力ビ
ームが、浮遊物体に対し複数の方向から照射され、これ
により浮遊炉内で浮遊する浮遊物体に回転力が与えられ
る。この際、浮遊物体には、高出力ビームの照射により
回転力のみが与えられ、移動力が与えられることはない
。
ームが、浮遊物体に対し複数の方向から照射され、これ
により浮遊炉内で浮遊する浮遊物体に回転力が与えられ
る。この際、浮遊物体には、高出力ビームの照射により
回転力のみが与えられ、移動力が与えられることはない
。
(実施例)
第1図はこの発明の一実施例を示すもので、図中、第2
図と同一符号は同−又は相当部分を示す。(6) 、
(7)は浮遊物体(5)に対し異なる方向から照射され
浮遊物体(5)に回転力のみを与えるレーザビーム、(
8) 、 (9)は上記各レーザビーム(6) 、 (
7)を出力するレーザ発振器で、上記各レーザビーム(
8) 、 (7)の焦点距離や照射位置を自由に調節で
きるようになっている。この調節により、上記各レーザ
ビーム(6) 、 (7)は、例えば浮遊物体(5)の
重心に関して対称となる2つの照射点に対し、その接線
に近い逆の方向から同一出力で照射されるようになって
いる。
図と同一符号は同−又は相当部分を示す。(6) 、
(7)は浮遊物体(5)に対し異なる方向から照射され
浮遊物体(5)に回転力のみを与えるレーザビーム、(
8) 、 (9)は上記各レーザビーム(6) 、 (
7)を出力するレーザ発振器で、上記各レーザビーム(
8) 、 (7)の焦点距離や照射位置を自由に調節で
きるようになっている。この調節により、上記各レーザ
ビーム(6) 、 (7)は、例えば浮遊物体(5)の
重心に関して対称となる2つの照射点に対し、その接線
に近い逆の方向から同一出力で照射されるようになって
いる。
上記のように構成された浮遊炉においては、まず円盤状
電極(1) 、 (2)に同電位を与え、次いで、リン
グ状電極(3) 、 (4)に、円盤状電極(1) 、
(2) と同符号の電位を互いに等しい大きさだけ与
える。
電極(1) 、 (2)に同電位を与え、次いで、リン
グ状電極(3) 、 (4)に、円盤状電極(1) 、
(2) と同符号の電位を互いに等しい大きさだけ与
える。
この際、リング状電極(3) 、 (4)の電位は、上
記両日盤状電極(1) 、 (2)よりも大きくしなけ
ればならない。
記両日盤状電極(1) 、 (2)よりも大きくしなけ
ればならない。
次いで、浮遊される物体(5) に、上記各電極(1)
、 (2) 、 (3) 、 (4)と同符号の電荷
を与え、円盤状電極(1) 、 (2)の同心軸上に浮
遊させる。これにより、浮遊物体(5)は各電極(1)
、 (2) 、 (3) 、 (4)からの反発力を
受け、円盤状電極(1) 、 (2)の同心軸上の等距
離の位置に静止する。
、 (2) 、 (3) 、 (4)と同符号の電荷
を与え、円盤状電極(1) 、 (2)の同心軸上に浮
遊させる。これにより、浮遊物体(5)は各電極(1)
、 (2) 、 (3) 、 (4)からの反発力を
受け、円盤状電極(1) 、 (2)の同心軸上の等距
離の位置に静止する。
次いで、この浮遊物体(5)の1つの照射点に対し、そ
の接線に近い方向から、レーザ発振器(8)によりレー
ザビーム(6)を照射するとともに、浮遊物体(5)の
重心に関して対称となる他の照射点に対し、その接線に
近い逆の方向から、レーザ発振器(9)によりレーザビ
ーム(7)を照射する。すると、浮遊物体(5)は、両
レーザビーム(6) 、 (7)の圧力を受け、その位
置を変えることなく垂直軸廻りに回転する。すなわち、
浮遊物体(5) は、両レーザビーム(6) 、 (7
)により回転力のみが与えられ、移動力が与えられるこ
とはない。
の接線に近い方向から、レーザ発振器(8)によりレー
ザビーム(6)を照射するとともに、浮遊物体(5)の
重心に関して対称となる他の照射点に対し、その接線に
近い逆の方向から、レーザ発振器(9)によりレーザビ
ーム(7)を照射する。すると、浮遊物体(5)は、両
レーザビーム(6) 、 (7)の圧力を受け、その位
置を変えることなく垂直軸廻りに回転する。すなわち、
浮遊物体(5) は、両レーザビーム(6) 、 (7
)により回転力のみが与えられ、移動力が与えられるこ
とはない。
なお、各レーザ発振器(8) 、 (9)の調節により
、レーザビーム(6)を浮遊物体(5)の下方に、また
レーザビーム(7)を浮遊物体(5)の上方に照射する
ようにすれば、浮遊物体(5)を水平軸廻りに回転させ
ることもできる。また、同様の方法により、浮遊物体(
5)を任意の方向に回転させることができる。
、レーザビーム(6)を浮遊物体(5)の下方に、また
レーザビーム(7)を浮遊物体(5)の上方に照射する
ようにすれば、浮遊物体(5)を水平軸廻りに回転させ
ることもできる。また、同様の方法により、浮遊物体(
5)を任意の方向に回転させることができる。
しかして、浮遊物体(5)には、両レーザビーム(5)
、 (7)の照射により、任意方向の回転力が与えら
れ、これにより、浮遊物体(5)の向きを自由に変える
ことができる。
、 (7)の照射により、任意方向の回転力が与えら
れ、これにより、浮遊物体(5)の向きを自由に変える
ことができる。
なお、上記実施例では、2木のレーザビーム(6) 、
(7)を用いる場合を示したが、3本以上のレーザビ
ームを用いるようにしてもよい。また、上記実施例では
、静電浮遊炉について示したが、電磁浮遊炉にも同様に
適用でき、上記実施例と同様の効果が期待できる。また
、上記実施例では、浮遊物体(5)に回転力を与える高
出力ビームとして、レーザビーム(6) 、 (7)を
用いる場合を示したが、例えば荷電粒子ビーム等の他の
高出力ビームを用いるようにしても、同様の効果が得ら
れる。
(7)を用いる場合を示したが、3本以上のレーザビ
ームを用いるようにしてもよい。また、上記実施例では
、静電浮遊炉について示したが、電磁浮遊炉にも同様に
適用でき、上記実施例と同様の効果が期待できる。また
、上記実施例では、浮遊物体(5)に回転力を与える高
出力ビームとして、レーザビーム(6) 、 (7)を
用いる場合を示したが、例えば荷電粒子ビーム等の他の
高出力ビームを用いるようにしても、同様の効果が得ら
れる。
この発明は以上説明したとおり、照射装置から出力され
る高出力ビームにより、浮遊物体に回転力のみが与えら
れるので、位置6勤を伴なうことなく、浮遊物体の向き
を自由に変えることができる等の効果がある。
る高出力ビームにより、浮遊物体に回転力のみが与えら
れるので、位置6勤を伴なうことなく、浮遊物体の向き
を自由に変えることができる等の効果がある。
第1図はこの発明の一実施例を示す浮遊炉の構成図、第
2図は従来の浮遊炉を示す構成図である!、(2)・・
・円盤状電極、 3、(4)・・・リング状電極、 5 ・・・浮遊物体、 1i、(7)・・・レーザビーム、 8、(9)・・・レーザ発振器。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄
2図は従来の浮遊炉を示す構成図である!、(2)・・
・円盤状電極、 3、(4)・・・リング状電極、 5 ・・・浮遊物体、 1i、(7)・・・レーザビーム、 8、(9)・・・レーザ発振器。 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄
Claims (1)
- 静電型浮遊炉あるいは電磁浮遊炉等の浮遊炉において、
浮遊炉内で浮遊する浮遊物体に対し、複数の方向から高
出力ビームを照射して浮遊物体に回転力のみを与える照
射装置を設けたことを特徴とする浮遊炉。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63309674A JPH02154978A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 浮遊炉 |
CA002004786A CA2004786C (en) | 1988-12-07 | 1989-12-06 | Levitator |
DE3940769A DE3940769A1 (de) | 1988-12-07 | 1989-12-07 | Schwebevorrichtung |
US07/815,837 US5155651A (en) | 1988-12-07 | 1991-12-30 | Levitator with rotation control |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63309674A JPH02154978A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 浮遊炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02154978A true JPH02154978A (ja) | 1990-06-14 |
Family
ID=17995907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63309674A Pending JPH02154978A (ja) | 1988-12-07 | 1988-12-07 | 浮遊炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02154978A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5558837A (en) * | 1994-04-05 | 1996-09-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Droplet floating apparatus |
JP2005274032A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Air Trick,Inc. | 静電浮遊炉 |
JP2019059671A (ja) * | 2014-06-13 | 2019-04-18 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス材の製造方法及びガラス材の製造装置 |
US10730782B2 (en) | 2014-06-13 | 2020-08-04 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Method for manufacturing glass material and device for manufacturing glass material |
-
1988
- 1988-12-07 JP JP63309674A patent/JPH02154978A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5558837A (en) * | 1994-04-05 | 1996-09-24 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Droplet floating apparatus |
JP2005274032A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Air Trick,Inc. | 静電浮遊炉 |
JP4540096B2 (ja) * | 2004-03-25 | 2010-09-08 | エアー トリック インコーポレイテッド | 静電浮遊炉 |
JP2019059671A (ja) * | 2014-06-13 | 2019-04-18 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス材の製造方法及びガラス材の製造装置 |
US10730782B2 (en) | 2014-06-13 | 2020-08-04 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Method for manufacturing glass material and device for manufacturing glass material |
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