JP4531531B2 - 有機el表示装置の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 60
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 55
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 55
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 52
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 38
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 30
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 26
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 26
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 14
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 11
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
図6の符号102は、従来技術の有機蒸着装置である。
この有機蒸着装置102は真空槽103を有しており、該真空槽103内の底壁側には有機蒸着源155が配置され、天井側には基板ホルダ130が配置されている。
この有機蒸着源155のヒータ123に通電し、有機材料122を昇温させると有機材料122の蒸気が発生し、容器121の開口部分から真空槽103内に放出される。
真空槽103内で、有機薄膜層が所定膜厚に形成されたら、ガラス基板108を他の有機蒸着装置に搬送する。
欠陥のない緻密な膜を作るためには成膜速度を遅くすればよいが、成膜時間が長くなると有機薄膜層の成長中に真空雰囲気中に含まれる水分が混入し、膜質が低下してしまう。また、成膜時間が長いとスループットが低下する。
なお、後述する本発明のように有機薄膜層用の蒸着装置にレーザ照射装置を取りつけたものには下記特許文献1がある。
また、本発明は、前記レーザ光を照射する有機薄膜層の形成と、該有機薄膜層に対する前記レーザ光の照射は同じ真空槽内で行う有機EL表示装置の製造方法である。
また、本発明は、前記マスクと前記成膜対象物との相対的な位置を変えずに、前記レーザ光が照射された前記有機薄膜層上に他の有機薄膜層を積層させる有機EL表示装置の製造方法。
また、 前記レーザ光の照射と前記他の有機薄膜層の積層は同じ真空槽内で行う請求項3記載の有機EL表示装置の製造方法である。
また、本発明は、前記レーザ光が照射された前記有機薄膜層を形成した後、前記マスクと前記成膜対象物との相対的な位置を変え、前記成膜対象物上に更に他の有機薄膜層を形成する有機EL表示装置の製造方法である。
一般に、カラーの有機EL表示装置は、赤色、緑色、及び青色の三色のそれぞれ表示するドットを組み合わせ、所望の映像を表示している。
上記有機蒸着装置2はカラー表示を行う有機EL表示装置を形成するため、真空槽3内の底壁上に、RGBの三色に対応可能な有機蒸着源が配置されている。
基板ホルダ30は、マスク移動装置31と、マスク懸吊板32と、基板懸吊板33とを有している。
上記のような有機蒸着装置2を使用し、有機薄膜を積層させる工程について説明する。
符号34は押さえ板であり、成膜対象物71の上方から降下させ、成膜対象物71表面に密着させ、成膜対象物71がフック36上で動かないようにする。
ここで、赤、緑、青の順番で各色のドットを形成するものとすると、孔11が赤色ドットが形成されるべき場所の真上に位置するように位置合わせが行われる。
レーザ光発生装置27は真空槽3の外部に配置されており、該レーザ光発生装置27が射出するレーザ光は、真空槽3に設けられた透明な窓26を通って真空槽3内に入射するように構成されている。
反射手段21の照射されたレーザ光は、真空槽3の天井側、即ち、マスク10が配置されている方に反射させれる。
レーザ光29は、ホール輸送層用蒸着材料52Rの蒸気が通過したのと同じ孔11を通過するので、赤色ドット用ホール輸送層75Rが形成されていない部分には照射されない。
図1、図2の符号22は反射手段21を収容する収容部材であり、真空槽3の壁面に設けられている。
このとき、既に形成されている赤色ドットと緑色ドットの上には遮蔽部材13が位置しており、レーザ光29は照射されない。
3……真空槽
10……マスク
11……孔
13……遮蔽部材
29……レーザ光
41R〜44R……赤色ドット用の有機蒸着源(緑色ドット用の有機蒸着源(41G)〜(44G)と青色ドット用の有機蒸着源(41B)〜(44B)は不図示である)
51R〜54R……赤色ドット用有機蒸着材料の(緑色ドット用の有機蒸着材料(51G)〜(54G)と青色ドット用の有機蒸着材料(51B)〜(54B)は不図示である)
70……有機EL表示装置
71……成膜対象物
74R〜77R……赤色ドット用の有機薄膜層
74G〜77G……緑色ドット用の有機薄膜層
74B〜77B……青色ドット用の有機薄膜層
Claims (5)
- 一層乃至二層以上の有機薄膜層を積層し、表示ドットを形成する有機EL表示装置製造方法であって、
蒸着源と成膜対象物との間にマスクを配置し、
前記蒸着源から放出させ、前記マスクの孔を通過し、前記成膜対象物に到達した有機蒸着材料の蒸気によって前記孔の底面下に前記有機薄膜層を形成した後、
前記マスクと前記成膜対象物との相対的な位置を変えずに前記孔底面下の前記有機薄膜層にレーザ光を照射し、前記有機薄膜層を昇温させる有機EL表示装置の製造方法。 - 前記レーザ光を照射する有機薄膜層の形成と、該有機薄膜層に対する前記レーザ光の照射は同じ真空槽内で行う請求項1記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 前記マスクと前記成膜対象物との相対的な位置を変えずに、前記レーザ光が照射された前記有機薄膜層上に他の有機薄膜層を積層させる請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 前記レーザ光の照射と前記他の有機薄膜層の積層は同じ真空槽内で行う請求項3記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 前記レーザ光が照射された前記有機薄膜層を形成した後、前記マスクと前記成膜対象物との相対的な位置を変え、前記成膜対象物上に更に他の有機薄膜層を形成する請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の有機EL表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004330376A JP4531531B2 (ja) | 2004-11-15 | 2004-11-15 | 有機el表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004330376A JP4531531B2 (ja) | 2004-11-15 | 2004-11-15 | 有機el表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006140085A JP2006140085A (ja) | 2006-06-01 |
JP4531531B2 true JP4531531B2 (ja) | 2010-08-25 |
Family
ID=36620768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004330376A Active JP4531531B2 (ja) | 2004-11-15 | 2004-11-15 | 有機el表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4531531B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115210896A (zh) * | 2020-03-11 | 2022-10-18 | 夏普株式会社 | 显示装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002241925A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-08-28 | Ulvac Japan Ltd | 有機蒸着装置及び有機薄膜製造方法 |
JP2004047128A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-02-12 | Sony Corp | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 |
-
2004
- 2004-11-15 JP JP2004330376A patent/JP4531531B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002241925A (ja) * | 2001-02-21 | 2002-08-28 | Ulvac Japan Ltd | 有機蒸着装置及び有機薄膜製造方法 |
JP2004047128A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-02-12 | Sony Corp | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006140085A (ja) | 2006-06-01 |
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