JP4529614B2 - Method for manufacturing printed wiring board - Google Patents

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Description

本発明は、受動素子を内蔵したプリント配線板の製造方法に係り、特に、生産性と経済性に優れ、特性のばらつきの少ない抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board with a built-in passive element, and more particularly to a method for manufacturing a printed wiring board with a built-in resistance element that is excellent in productivity and economy and has little variation in characteristics.

近年、電子機器の高性能化・小型化の要求に伴い、回路部品の高密度化・高機能化が一層進んでいる。例えば、プリント配線板に電子部品を実装する場合、実装密度を高めつつ、ノイズの低減機能を持たせるためにインダクタ素子(L)・コンデンサ素子(C)・抵抗素子(R)等の受動素子を基板に内蔵した構造のプリント配線板が用いられる。   In recent years, with the demand for higher performance and smaller size of electronic devices, the density and functionality of circuit components have been further increased. For example, when electronic components are mounted on a printed wiring board, passive elements such as an inductor element (L), a capacitor element (C), and a resistance element (R) are used to increase the mounting density and provide a noise reduction function. A printed wiring board having a structure built in the substrate is used.

このようなプリント配線板には、受動素子を基板に内蔵させる観点から、セラミック基板におけるLCR一括焼成による有名な形成方法が古くから用いられている(例えば、特許文献1参照。)。   For such a printed wiring board, a famous forming method by LCR batch firing on a ceramic substrate has been used for a long time from the viewpoint of incorporating passive elements in the substrate (for example, see Patent Document 1).

しかしながら、一括焼成による形成方法は、生産性やコストの面で問題がある。また、焼成による形成方法では、半導体や有機物を含む受動素子を内蔵することができない。そのため、セラミック基板においては、内蔵空隙を空けた部分の上部には部品を実装できないことから、3次元的な接続ができず、高密度化に限界がある。また、セラミック基板を用いた場合、層間の接続は、タングステンやモリブデンといった高抵抗金属を焼結したビアを介するため、接続抵抗が比較的大きくなる。これは、抵抗による損失を抑えたい電源などの回路において、大きな問題となっている。   However, the formation method by batch firing has problems in terms of productivity and cost. In addition, passive elements including semiconductors and organic substances cannot be built in the formation method by firing. For this reason, in a ceramic substrate, a part cannot be mounted on the upper part of the part where a built-in gap is made, so that a three-dimensional connection cannot be made and there is a limit to increasing the density. Further, when a ceramic substrate is used, the connection between the layers is made via vias sintered with a high resistance metal such as tungsten or molybdenum, so that the connection resistance becomes relatively large. This is a serious problem in a circuit such as a power supply that wants to suppress loss due to resistance.

一方、焼成による形成方法に限らず、スピンコート法や、あるいはレーザー照射等による物理エッチング等の半導体プロセスの応用により、回路基板上に高精度のLCRをシーケンシャルに積層させる試みも行われている。すなわち、絶縁層と導体層とを順次積層形成する方式である。   On the other hand, not only a formation method by baking but also an attempt to sequentially stack high-precision LCRs on a circuit board by applying a semiconductor process such as a spin coating method or physical etching by laser irradiation or the like. That is, this is a system in which an insulating layer and a conductor layer are sequentially stacked.

しかしながら、回路基板上に高精度のLCRをシーケンシャルに積層させる試みでは、汎用性に欠け、プロセス的にも高価な設備を必要とする。   However, an attempt to sequentially stack high-precision LCRs on a circuit board lacks versatility and requires expensive equipment in terms of process.

そこで、汎用性があり、安価な設備で経済性に優れた方法として、樹脂基板にLCRを内蔵させてプリント配線板を製造する方式が広く用いられている。   Therefore, as a method that is versatile, inexpensive, and economical, a method of manufacturing a printed wiring board by incorporating an LCR in a resin substrate is widely used.

例えば、樹脂基板へのインダクタ素子(L)の形成方法としては、導体回路のパターニングによりコイルパターンを形成する方法がある(例えば、特許文献2参照。)。また、樹脂基板へのコンデンサ素子(C)の誘電体層形成法としては、樹脂中に高誘電率のフィラーを高充填化したものを用いて薄い誘電体層を形成し、コンデンサを内蔵化する方法がある(例えば、特許文献3参照。)。また、樹脂基板への抵抗素子(R)の形成方法としては、樹脂中にカーボンブラックを分散させた抵抗体ペーストをスクリーン印刷して抵抗素子を形成する方法がある。   For example, as a method of forming the inductor element (L) on the resin substrate, there is a method of forming a coil pattern by patterning a conductor circuit (see, for example, Patent Document 2). In addition, as a method for forming a dielectric layer of the capacitor element (C) on the resin substrate, a thin dielectric layer is formed using a highly filled filler having a high dielectric constant in the resin, and the capacitor is built in. There is a method (for example, refer to Patent Document 3). In addition, as a method of forming the resistance element (R) on the resin substrate, there is a method of forming a resistance element by screen printing a resistor paste in which carbon black is dispersed in a resin.

ところで、実装効率を高めた多層プリント配線板は、一般的に、優れた生産性を得る観点から比較的大きな基板に互いに同一の複数の製品を面付けして製造し、製造最終工程で製品毎に小片(ピース)に切り出すのが好ましい。   By the way, multilayer printed wiring boards with improved mounting efficiency are generally manufactured by imposing a plurality of identical products on a relatively large substrate from the viewpoint of obtaining excellent productivity, and each product is manufactured in the final manufacturing process. It is preferable to cut into small pieces.

従って、前述した汎用性があり経済性に優れたプリント配線板についても、同様に、比較的大きな基材に互いに同一の複数の製品を面付けして製造する方が、優れた生産性を得る観点で好ましい。   Therefore, for the printed wiring board that is versatile and excellent in economic efficiency, it is also possible to obtain excellent productivity by imposing a plurality of identical products on a relatively large base material. It is preferable from the viewpoint.

このように優れた生産性及び経済性を得る観点から、大きな基材に複数の製品を印刷により形成可能なスクリーン印刷を用い、内蔵される受動素子を樹脂基板に印刷してプリント配線板を製造する方法が検討されている。   From the viewpoint of obtaining such excellent productivity and economic efficiency, printed wiring boards are manufactured by printing built-in passive elements on a resin substrate using screen printing that can form multiple products on a large substrate by printing. How to do is being studied.

特に、受動素子の1つである抵抗素子(R)の形成方法として、電気絶縁性基板上に第1及び第2銅系金属層を形成する工程と、第1及び第2銅系金属層の間の基板上にアンダーコート層を印刷する工程と、第1及び第2銅系金属層の表面に銀メッキ層を成膜する工程と、銀メッキ層を有する第1及び第2銅系金属層の間に電気抵抗体を印刷する工程とを有するプリント配線板の製造方法が開示されている(例えば、特許文献4参照。)。
特開2001−85839号公報 特開2003−142832号公報 特開2002−176266号公報 特開平11−4056号公報
In particular, as a method of forming a resistance element (R) that is one of passive elements, a step of forming first and second copper-based metal layers on an electrically insulating substrate, and a step of forming first and second copper-based metal layers A step of printing an undercoat layer on the substrate, a step of forming a silver plating layer on the surfaces of the first and second copper-based metal layers, and a first and second copper-based metal layer having a silver plating layer A method of manufacturing a printed wiring board having a step of printing an electric resistor between the two is disclosed (for example, see Patent Document 4).
JP 2001-85839 A JP 2003-142832 A JP 2002-176266 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-4056

しかしながら、特許文献4に記載のプリント配線板の製造方法では、第1及び第2銅系金属層上の銀メッキ層上と、その間のアンダーコート層上とに電気抵抗体を印刷しているが、銅系金属層部分の段差に起因した印刷形状のばらつき(印刷精度の低さ)により抵抗値にばらつきが生じる。そのため、抵抗値の制御が非常に困難となり、特性がばらつく問題がある。   However, in the method for manufacturing a printed wiring board described in Patent Document 4, electrical resistors are printed on the silver plating layers on the first and second copper-based metal layers and on the undercoat layer therebetween. The resistance value varies due to the variation in the printing shape (low printing accuracy) caused by the level difference of the copper-based metal layer portion. Therefore, there is a problem that the control of the resistance value becomes very difficult and the characteristics vary.

本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、生産性と経済性に優れ、特性のばらつきの少ない抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a printed wiring board having a built-in resistance element that is excellent in productivity and economy and has little variation in characteristics.

請求項1に対応する発明は、基板と、前記基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層からそれぞれ表面が平滑に露出するように、互いに離れて前記絶縁層の表面に埋め込み形成された1対の導電層と、前記各導電層と個別に一部が重なるように前記絶縁層上に選択的に形成された1対の配線層と、前記各導電層を電気的に接続するように、少なくとも当該各導電層の一部と前記絶縁層の一部との上に形成された抵抗体とを備えたプリント配線板の製造方法において、金属層上に前記1対の導電層を形成する工程と、前記基板上に前記絶縁層を配置する工程と、前記絶縁層表面に前記各導電層を埋め込むように、前記金属層を前記絶縁層上に積層する工程と、前記積層された金属層を選択的にエッチングすることにより、前記1対の導電層に個別に接する前記1対の配線層を形成するとともに、前記各配線層の間における各導電層の表面と前記絶縁層の表面とを互いに平滑に露出させる工程と、前記各導電層を電気的に接続するように、少なくとも当該各導電層の一部と前記絶縁層の一部との上に前記抵抗体をスクリーン印刷により形成する工程とを備えたプリント配線板の製造方法である。 The invention corresponding to claim 1 is embedded in the surface of the insulating layer so as to be separated from each other so that the surface is exposed smoothly from the substrate, the insulating layer formed on the substrate, and the insulating layer. A pair of conductive layers, a pair of wiring layers selectively formed on the insulating layer so as to partially overlap each of the conductive layers, and the conductive layers are electrically connected. In the method of manufacturing a printed wiring board including at least a part of each conductive layer and a part of the insulating layer, the pair of conductive layers is formed on the metal layer. A step, a step of disposing the insulating layer on the substrate, a step of laminating the metal layer on the insulating layer so as to embed each conductive layer on the surface of the insulating layer, and the laminated metal layer Are selectively etched into the pair of conductive layers. Forming the pair of wiring layers in contact with each other, exposing the surface of each conductive layer and the surface of the insulating layer between the respective wiring layers smoothly, and electrically connecting each conductive layer As described above, there is provided a method for manufacturing a printed wiring board comprising a step of forming the resistor by screen printing on at least a part of each conductive layer and a part of the insulating layer .

請求項2に対応する発明は、請求項1に対応するプリント配線板の製造方法において、前記各配線層は、前記各導電層および前記絶縁層のエッチング速度よりも大きいエッチング速度を有する金属よりなるプリント配線板の製造方法である。 The invention corresponding to claim 2 is the method for manufacturing a printed wiring board corresponding to claim 1, wherein each of the wiring layers is made of a metal having an etching rate higher than that of each of the conductive layers and the insulating layer. It is a manufacturing method of a printed wiring board.

<作用>
従って、請求項1に対応する発明は以上のような手段を講じたことにより、絶縁層の表面に対して表面が平滑に露出するように埋め込まれた1対の導電層を備えていることにより、平滑な面に抵抗体を印刷できるため、特性のばらつきを少なくすることができる。また、抵抗体をスクリーン印刷により形成しているので、生産性と経済性に優れている。よって、生産性と経済性に優れ、特性のばらつきの少ない抵抗素子を内蔵したプリント配線板を提供することができる。
<Action>
Accordingly, the invention corresponding to claim 1 is provided with a pair of conductive layers embedded so that the surface is exposed to the surface of the insulating layer smoothly by taking the above-described means. Since the resistor can be printed on a smooth surface, variation in characteristics can be reduced. Further, since the resistor is formed by screen printing, it is excellent in productivity and economy. Therefore, it is possible to provide a printed wiring board having a built-in resistance element that is excellent in productivity and economy and has little variation in characteristics.

請求項2に対応する発明は、各配線層が各導電層および絶縁層よりエッチングされやすい金属であるので、請求項1に対応する作用に加え、各配線層をエッチングにより形成する時にも各導電層と絶縁層がエッチングされず、平滑な面を形成することが容易となる。   In the invention corresponding to claim 2, each wiring layer is a metal that is easier to be etched than each conductive layer and insulating layer. Therefore, in addition to the operation corresponding to claim 1, each conductive layer is electrically conductive even when each wiring layer is formed by etching. The layer and the insulating layer are not etched, and it becomes easy to form a smooth surface.

請求項に対応する発明は、金属層上に1対の導電層を形成し、基板上に絶縁層を配置し、絶縁層表面に各導電層を埋め込むように、金属層を絶縁層上に真空積層し、積層された金属層をエッチングしているので、絶縁層の表面に対して表面が平滑に露出するように埋め込まれた1対の導電層を形成することが容易になる。そのため、平滑な表面に抵抗体を印刷できることから、印刷のばらつきを少なくすることができる。また、抵抗体をスクリーン印刷により形成しているので、生産性と経済性に優れている。よって、生産性と経済性に優れ、特性のばらつきの少ない抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法を提供することができる。 The invention corresponding to claim 1 forms a pair of conductive layers on a metal layer, disposes the insulating layer on the substrate, and embeds each conductive layer on the surface of the insulating layer so that the metal layer is formed on the insulating layer. Since the stacked metal layers are etched in a vacuum, it is easy to form a pair of conductive layers embedded so that the surface is exposed smoothly with respect to the surface of the insulating layer. Therefore, since the resistor can be printed on a smooth surface, it is possible to reduce variations in printing. Further, since the resistor is formed by screen printing, it is excellent in productivity and economy. Therefore, it is possible to provide a method for manufacturing a printed wiring board having a built-in resistance element that is excellent in productivity and economy and has little variation in characteristics.

以上説明したように本発明によれば、生産性と経済性に優れ、特性のばらつきの少ない抵抗素子を内蔵したプリント配線板の製造方法を提供できる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a printed wiring board having a built-in resistance element that is excellent in productivity and economy and has little variation in characteristics.

以下、本発明の各実施形態について図面を参照しながら説明する。
<第1の実施形態>
図1は本発明の第1の実施形態に係るプリント配線板の構造の一例を示す断面図である。このプリント配線板10は、絶縁層20の表面に対して表面が平滑に露出するように埋め込まれた1対の導電層30A,30Bと、各導電層30A,30Bと個別に一部が重なるように形成された1対の第1配線層40A,40Bと、各導電層を電気的に接続するように各導電層の一部と絶縁層の一部との上にスクリーン印刷により形成された抵抗体50とを備えたビルドアップ層が、スルーホールめっき60を介して基板70上の第2配線層80A,80Bと接続されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
<First Embodiment>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the structure of a printed wiring board according to the first embodiment of the present invention. The printed wiring board 10 has a pair of conductive layers 30A and 30B embedded so that the surface is exposed smoothly to the surface of the insulating layer 20, and a part of each of the conductive layers 30A and 30B individually overlaps. Resistors formed by screen printing on a pair of first wiring layers 40A and 40B formed on the conductive layer and a part of each conductive layer and a part of the insulating layer so as to electrically connect the conductive layers. The build-up layer including the body 50 is connected to the second wiring layers 80A and 80B on the substrate 70 through the through-hole plating 60.

ここで、絶縁層20は、基板70上に第2配線層80A,80Bを介して形成されており、基板70とは反対側の表面に導電層30A,30Bが埋め込まれるものである。ここで用いるプリプレグの材質としては、例えばガラス繊維にエポキシ樹脂を含浸させたものや、ガラス繊維にポリイミド樹脂を含浸させたもの、或いは紙にフェノール樹脂を含浸させたもの等が用いられる。また、ビスマレイミドトリアジン樹脂やベンゾシクロブテン樹脂、液晶ポリマー等も適用可能である。   Here, the insulating layer 20 is formed on the substrate 70 via the second wiring layers 80A and 80B, and the conductive layers 30A and 30B are embedded on the surface opposite to the substrate 70. As a material of the prepreg used here, for example, a glass fiber impregnated with an epoxy resin, a glass fiber impregnated with a polyimide resin, or a paper impregnated with a phenol resin is used. Further, bismaleimide triazine resin, benzocyclobutene resin, liquid crystal polymer, and the like are also applicable.

導電層30A,30Bは、互いに離れて絶縁層20の表面に埋め込み形成された電極であり、一部がそれぞれ第1配線層40A,40Bと接触するように形成され、かつ抵抗体50とそれぞれ電気的に接続されるものである。この電極の材質としては、印刷法によりパターン形成が可能な導電性ペーストであればどのようなものでも良い。例えば金ペースト、白金ペースト、銀ペースト、銅ペースト、ニッケルペースト、パラジウムペースト等があげられる。中でも空気中で酸化され難く、コスト的にも比較的安価な銀ペーストが特に好ましい。また、導電層30A,30Bは、導電性ペーストをスクリーン印刷等により積層しパターニングする形成方法に限らず、めっき等により全面積層した後に不要部を取り除く方式により形成してもよい。   The conductive layers 30A and 30B are electrodes embedded in the surface of the insulating layer 20 so as to be separated from each other, partly formed so as to be in contact with the first wiring layers 40A and 40B, respectively, and electrically connected to the resistor 50. Connected. As a material of this electrode, any conductive paste can be used as long as it can form a pattern by a printing method. For example, gold paste, platinum paste, silver paste, copper paste, nickel paste, palladium paste and the like can be mentioned. Among them, a silver paste that is not easily oxidized in air and is relatively inexpensive is particularly preferable. In addition, the conductive layers 30A and 30B are not limited to a formation method in which a conductive paste is stacked and patterned by screen printing or the like, and may be formed by a method in which unnecessary portions are removed after the entire surface is stacked by plating or the like.

配線層40A,40Bは、後述する金属層40をエッチングして形成され、プリント配線板の配線を構成するものである。また、一部がそれぞれ導電層30A,30Bと接触するように形成されている。金属層40の材質は、この製造法に適したものであればどのようなものでも良いが、特に、使用される薬液などに対して耐性を有し、最終的にエッチングや剥離により除去可能であることが好ましい。ここで、金属層40は、金属層40のパターニング時に導電層30A,30Bがエッチングされない(されにくい)観点から、導電層30A,30Bおよび絶縁層20のエッチング速度より大きいエッチング速度を有する金属を用いている。そのような金属層40の材質としては、例えば銅、銅合金、42合金、ニッケル等があげられる。特に、銅箔、銅板、銅合金は、電解めっき品、圧延品を選択できるだけでなく、様々な厚みのものを容易に入手できるため好ましい。   The wiring layers 40A and 40B are formed by etching a metal layer 40, which will be described later, and constitute the wiring of the printed wiring board. Further, a part is formed so as to be in contact with the conductive layers 30A and 30B, respectively. The material of the metal layer 40 may be any material as long as it is suitable for this manufacturing method. In particular, the metal layer 40 is resistant to chemicals used and can be finally removed by etching or peeling. Preferably there is. Here, the metal layer 40 is made of a metal having an etching rate higher than that of the conductive layers 30A and 30B and the insulating layer 20 from the viewpoint that the conductive layers 30A and 30B are not etched (difficulty) when the metal layer 40 is patterned. ing. Examples of the material of the metal layer 40 include copper, copper alloy, 42 alloy, nickel, and the like. In particular, a copper foil, a copper plate, and a copper alloy are preferable because not only electrolytic plated products and rolled products can be selected, but also various thicknesses can be easily obtained.

抵抗体50は、各導電層30A,30Bとそれぞれ電気的に接続される抵抗の機能を有するものである。この抵抗体50の材質としては、例えばカーボン等のフィラーをエポキシ樹脂やフェノール樹脂に分散、混練した抵抗ペーストが好ましい。   The resistor 50 has a function of a resistor that is electrically connected to each of the conductive layers 30A and 30B. As a material of the resistor 50, for example, a resistor paste in which a filler such as carbon is dispersed and kneaded in an epoxy resin or a phenol resin is preferable.

スルーホールめっき60は、プリント配線板10に形成されるスルーホール61の表面に施されるめっき層であり、第1配線層40A,40Bと第2配線層80A,80Bとを電気的に接続する。また、多層プリント配線板を形成した場合には、各層毎に形成される配線層を電気的に接続する。   The through-hole plating 60 is a plating layer applied to the surface of the through-hole 61 formed in the printed wiring board 10 and electrically connects the first wiring layers 40A and 40B and the second wiring layers 80A and 80B. . When a multilayer printed wiring board is formed, the wiring layers formed for each layer are electrically connected.

基板70は、予め第2配線層80A,80Bが選択的に形成された樹脂基板である。コアとしてガラス繊維等を有するコア基板でもよく、また、除去可能な金属層等を有し、最終的に取り除かれるようなものであってもよい。なお、第1の実施形態ではコアのあるものを選択する。ここで、第2配線層80A,80Bは、予め基板70上に選択的に形成される回路の配線である。   The substrate 70 is a resin substrate on which second wiring layers 80A and 80B are selectively formed in advance. A core substrate having glass fibers or the like as a core may be used, or a metal layer or the like that can be removed and finally removed. In the first embodiment, one having a core is selected. Here, the second wiring layers 80 </ b> A and 80 </ b> B are circuit wirings selectively formed on the substrate 70 in advance.

ここで、絶縁層20上に形成される受動素子を受動機能部90と呼ぶ。受動機能部90は、抵抗体や誘電体などの機能体と、この機能体に接する少なくとも2つの導体回路とからなるものであって、同一層に形成された1対の導体回路の間に機能体が形成された平面構造のものと、厚み方向に導体/機能体/導体の構成となる3層構造のものがある。機能体が抵抗の場合、受動素子は抵抗素子であり、機能体が誘電体の場合はコンデンサ素子となる。抵抗素子を形成する場合は形成プロセスの少ない平面構造とすることが好ましい。   Here, the passive element formed on the insulating layer 20 is referred to as a passive function unit 90. The passive function unit 90 includes a functional body such as a resistor and a dielectric and at least two conductor circuits in contact with the functional body, and functions between a pair of conductor circuits formed in the same layer. There are a planar structure in which a body is formed and a three-layer structure having a structure of conductor / functional body / conductor in the thickness direction. When the functional body is a resistor, the passive element is a resistive element, and when the functional body is a dielectric, it is a capacitor element. In the case of forming a resistance element, it is preferable to have a planar structure with few formation processes.

図1中、受動機能部90は、対になった第1配線層40Aと40Bの間に位置する機能体(抵抗体50)と導電体30A,30Bとの平面構造からなる抵抗素子が該当する。そして、受動機能部90が抵抗素子である場合の電気特性は、導電体30A,30B及び機能体(抵抗体50)の各々の厚み、断面積、形状、抵抗率、対になった第1配線層40Aと40Bの間隔、導電体30A,30Bとの接触面積、形状などにより決定され、それらを調整することで抵抗値(Ω)が調整可能となっている。   In FIG. 1, the passive function unit 90 corresponds to a resistance element having a planar structure of a functional body (resistor 50) and conductors 30A and 30B positioned between the paired first wiring layers 40A and 40B. . When the passive function unit 90 is a resistance element, the electrical characteristics of the conductors 30A and 30B and the function body (resistor 50) are the thickness, cross-sectional area, shape, resistivity, and the first wiring pair. It is determined by the distance between the layers 40A and 40B, the contact area with the conductors 30A and 30B, the shape, and the like, and the resistance value (Ω) can be adjusted by adjusting them.

次に、以上のように構成されたプリント配線板の製造方法の一例を図2を用いて説明する。   Next, an example of the manufacturing method of the printed wiring board comprised as mentioned above is demonstrated using FIG.

始めに、金属層40上にパターニングされた導電層30A,30Bを印刷形成する(図2(A),(B))。   First, patterned conductive layers 30A and 30B are printed on the metal layer 40 (FIGS. 2A and 2B).

この際、導電層30A,30Bを形成する工程とは別に、第2配線層80A,80Bを予め表面に形成した基板70を用意する。   At this time, separately from the step of forming the conductive layers 30A and 30B, the substrate 70 having the second wiring layers 80A and 80B formed in advance on the surface is prepared.

そして、基板70上に絶縁層20を配置し、絶縁層20の表面に各導電層30A,30Bを埋め込むように、金属層40を絶縁層20と重ね合せ、真空積層する(図2(C))。この際、金属層40と基板70との位置合わせは、予め金属層40および基板70の面内の一部分に貫通孔(図示せず)を形成し、この貫通孔にピンを嵌め込むことでなされる。   Then, the insulating layer 20 is disposed on the substrate 70, and the metal layer 40 is overlapped with the insulating layer 20 so as to embed the conductive layers 30A and 30B on the surface of the insulating layer 20, and vacuum lamination is performed (FIG. 2C). ). At this time, the metal layer 40 and the substrate 70 are aligned by previously forming a through hole (not shown) in a part of the surface of the metal layer 40 and the substrate 70 and fitting a pin into the through hole. The

基板70に絶縁層20を積層後、基板にドリルでスルーホール61を形成し(図2(D))、スルーホールめっき60を施して層間を電気的に接続する(図2(E))。   After laminating the insulating layer 20 on the substrate 70, a through hole 61 is formed in the substrate with a drill (FIG. 2D), and through-hole plating 60 is applied to electrically connect the layers (FIG. 2E).

更に、一般的なサブトラクティブ法により、金属層40を選択的にエッチングし、各導電層30A,30Bに個別に接する配線層40A,40Bを絶縁層20上に形成する(図2(F))。ここで、金属層40をエッチングする際、金属層40に、導電層30A,30Bおよび絶縁層20よりエッチングされやすい金属を用いているので、各導電層30A,30Bの表面と絶縁層20の表面とを互いに平滑に露出させることができる。   Further, the metal layer 40 is selectively etched by a general subtractive method to form wiring layers 40A and 40B in contact with the conductive layers 30A and 30B on the insulating layer 20 (FIG. 2F). . Here, when the metal layer 40 is etched, the metal layer 40 is made of a metal that is more easily etched than the conductive layers 30A and 30B and the insulating layer 20, so that the surfaces of the conductive layers 30A and 30B and the surfaces of the insulating layer 20 are used. Can be exposed to each other smoothly.

次に、パターニングにより先端が電極(導電層30A,30B)に接するように抵抗体50を印刷形成する(図2(G))。具体的には抵抗ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷して熱硬化させ、抵抗体50を形成する。本発明で言うスクリーン印刷にはメッシュを金属や樹脂できってあるスクリーン版を用いるものや、メタルマスク印刷が挙げられる。ここで、抵抗体50と配線層40A,40Bとの間は、印刷のマージンをとる観点から、図2(G)に示すように、少し隙間を空けるとよい。理由は、少々抵抗体50の印刷位置がずれても、抵抗素子の抵抗値は抵抗体50のサイズと導電層30A,30B間の距離及びサイズで決定されることから、導電層30A,30Bと絶縁層20には段差が無く、平坦な面に抵抗体50を形成するので、抵抗体の形状を高い精度で形成できるからである。特に、スクリーン印刷法により、抵抗体50を形成する場合、印刷面の凹凸に起因する、特に電極に起因する回りこみや、厚みが不均一になるという問題が起こらない。   Next, the resistor 50 is printed by patterning so that the tip contacts the electrodes (conductive layers 30A and 30B) (FIG. 2G). Specifically, a resistor paste is pattern-printed by screen printing and thermally cured to form the resistor 50. Examples of the screen printing referred to in the present invention include those using a screen plate having a mesh made of metal or resin, and metal mask printing. Here, as shown in FIG. 2G, it is preferable to leave a small gap between the resistor 50 and the wiring layers 40A and 40B from the viewpoint of obtaining a printing margin. The reason is that even if the printing position of the resistor 50 is slightly shifted, the resistance value of the resistance element is determined by the size of the resistor 50 and the distance and size between the conductive layers 30A and 30B. This is because the insulating layer 20 has no step and the resistor 50 is formed on a flat surface, so that the shape of the resistor can be formed with high accuracy. In particular, when the resistor 50 is formed by the screen printing method, problems such as wraparound caused by unevenness of the printed surface, particularly due to the electrode, and uneven thickness do not occur.

また、プリント配線板10を多層プリント配線板とする場合、図2に示す(A)〜(G)の工程を複数回繰り返すことで任意の層に抵抗素子を作り込むことが可能となる。   When the printed wiring board 10 is a multilayer printed wiring board, it is possible to build a resistance element in an arbitrary layer by repeating the steps (A) to (G) shown in FIG. 2 a plurality of times.

上述したように本実施形態によれば、絶縁層20の表面に対して表面が平滑に露出するように埋め込まれた1対の導電層30A,30Bを備えていることにより、平滑な面に抵抗体50を印刷することができる。すなわち、受動素子の一部が絶縁層20中に埋め込まれ、機能体(抵抗体50)が電極(導電層30A,30B)の段差を受けずに形成される。   As described above, according to the present embodiment, the pair of conductive layers 30A and 30B embedded so that the surface is exposed smoothly with respect to the surface of the insulating layer 20 can be used to provide resistance to the smooth surface. The body 50 can be printed. That is, a part of the passive element is embedded in the insulating layer 20, and the functional body (resistor 50) is formed without receiving the step of the electrodes (conductive layers 30A and 30B).

そのため、特性のばらつきの少ない抵抗素子を内蔵したプリント配線板を提供することができる。補足すると、平坦な面に抵抗体50を形成するので、抵抗体の形状を高い精度で形成できる。また、導電層30A,30Bに起因する段差が生じないので、上層の絶縁層20、配線層40A,40Bにひびきにくい利点を有する。   Therefore, it is possible to provide a printed wiring board having a built-in resistance element with little variation in characteristics. Supplementally, since the resistor 50 is formed on a flat surface, the shape of the resistor can be formed with high accuracy. In addition, since the step due to the conductive layers 30A and 30B does not occur, there is an advantage that the upper insulating layer 20 and the wiring layers 40A and 40B are not easily cracked.

また、抵抗体50をスクリーン印刷により形成しているので、生産性と経済性に優れた抵抗素子を内蔵したプリント配線板10及びその製造方法を提供することが可能となる。   In addition, since the resistor 50 is formed by screen printing, it is possible to provide a printed wiring board 10 incorporating a resistance element excellent in productivity and economy, and a method for manufacturing the same.

また、各第1配線層40A,40Bが各導電層30A,30Bおよび絶縁層20よりエッチングされやすい金属であるので、平滑な面を形成することが容易となる。そのため、特性のばらつきをより一層、少なくすることができる。   Further, since each of the first wiring layers 40A and 40B is a metal that is more easily etched than each of the conductive layers 30A and 30B and the insulating layer 20, it is easy to form a smooth surface. Therefore, the variation in characteristics can be further reduced.

さらに製造方法としても、金属層40上に1対の導電層30A,30Bを形成し、導電層30A,30Bを形成する工程とは個別に、基板70上に絶縁層20を配置し、絶縁層20表面に各導電層30A,30Bを埋め込むように、金属層40を絶縁層20上に真空積層し、積層された金属層40をエッチングしているので、絶縁層20の表面に対して表面が平滑に露出するように埋め込まれた1対の導電層30A,30Bを形成することが容易になる。そのため、特性のばらつきの少ない抵抗素子を内蔵したプリント配線板10の製造方法を提供することが可能となる。   Further, as a manufacturing method, a pair of conductive layers 30A and 30B are formed on the metal layer 40, and the insulating layer 20 is disposed on the substrate 70 separately from the step of forming the conductive layers 30A and 30B. 20, the metal layer 40 is vacuum-laminated on the insulating layer 20 so as to embed the conductive layers 30 </ b> A and 30 </ b> B on the surface, and the laminated metal layer 40 is etched. It becomes easy to form the pair of conductive layers 30A and 30B embedded so as to be exposed smoothly. Therefore, it is possible to provide a method for manufacturing the printed wiring board 10 including the resistance elements with little variation in characteristics.

なお、本実施形態によるプリント配線板10の用途としては、次に示す例が挙げられる。   Examples of the use of the printed wiring board 10 according to the present embodiment include the following examples.

(1)プリント配線板10の一方の面(図では上面)に、半導体チップ(図示せず)をフリップチップ方式またはワイヤーボンディング方式により実装することで、受動機能部90が内蔵された半導体パッケージを得ることができる。これにより、半導体チップとの距離が実質的に小さい、すなわちインダクタンス成分の小さい受動機能を得ることができる。   (1) By mounting a semiconductor chip (not shown) on one surface (upper surface in the figure) of the printed wiring board 10 by a flip chip method or a wire bonding method, a semiconductor package in which the passive function unit 90 is built-in is obtained. Obtainable. Thereby, it is possible to obtain a passive function having a substantially small distance from the semiconductor chip, that is, a small inductance component.

(2)基板70の片面、或いは両面に図2(A)〜(G)に示す工程を複数回繰り返し、受動素子が内蔵された絶縁層20を順次積層(ビルドアップ)することで、受動素子が内蔵された多層プリント配線板を得ることができる。多層プリント配線板の層間接続には、従来のスルーホールやビアホール(IVH)を用いて行う。   (2) The process shown in FIGS. 2A to 2G is repeated a plurality of times on one side or both sides of the substrate 70, and the insulating layer 20 containing the passive element is sequentially stacked (build-up), thereby forming the passive element. Can be obtained. A conventional through hole or via hole (IVH) is used for interlayer connection of the multilayer printed wiring board.

なお、本実施形態によれば、多層化する際には、下層の抵抗体が平滑な面に形成されるので、従来のシーケンシャルに積層させる試みとは異なり、上層の抵抗体を平滑な面に容易に形成することができる。そのため、多層化しても特性のばらつきの少ないプリント配線板を容易に得ることができる。 According to the present embodiment, when the multilayer is formed, the lower-layer resistor is formed on a smooth surface. Therefore, unlike the conventional sequential lamination, the upper-layer resistor is formed on a smooth surface. It can be formed easily. Therefore, it is possible to easily obtain a printed wiring board with little variation in characteristics even when the number of layers is increased.

<第2の実施形態>
本発明の第2の実施形態は、第1の実施形態の変形例であり、抵抗素子およびコンデンサ素子を同時に形成するものである。抵抗素子およびその形成方法は第1の実施形態と同様であるので説明を省略し、ここでは主にコンデンサ素子およびその形成方法を述べる。
<Second Embodiment>
The second embodiment of the present invention is a modification of the first embodiment, in which a resistance element and a capacitor element are formed simultaneously. Since the resistor element and the method for forming the resistor element are the same as those in the first embodiment, the description thereof will be omitted. Here, the capacitor element and the method for forming the capacitor element will be mainly described.

図3は本発明の第2の実施形態に係るプリント配線板の構造の一例を示す断面図である。なお、図1と同一部分には同一符号を付し、ここでは異なる部分について主に述べる。なお、以下の各実施形態も同様にして重複した説明を省略する。   FIG. 3 is a sectional view showing an example of the structure of a printed wiring board according to the second embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and different parts will be mainly described here. In the following embodiments, the same description is omitted.

本発明のプリント配線板10Aは、抵抗部100とコンデンサ部110からなるビルドアップ層を備えており、それぞれスルーホールめっき60を介して基板70上の第2配線層80A〜80Dと接続されている。   10 A of printed wiring boards of this invention are provided with the buildup layer which consists of the resistance part 100 and the capacitor | condenser part 110, and are connected with the 2nd wiring layers 80A-80D on the board | substrate 70 through the through-hole plating 60, respectively. .

ここで、抵抗部100は、絶縁層20Aの表面に対して表面が平滑に露出するように埋め込まれた1対の導電層30A,30Bと、各導電層30A,30Bと個別に一部が重なるように形成された1対の第1配線層40A,40Bと、各導電層30A,30Bとそれぞれ電気的に接続するように形成された抵抗体50とを備えている。   Here, the resistance portion 100 partially overlaps with each of the conductive layers 30A and 30B, and the pair of conductive layers 30A and 30B embedded so that the surface is exposed smoothly with respect to the surface of the insulating layer 20A. A pair of first wiring layers 40A and 40B formed as described above and a resistor 50 formed so as to be electrically connected to each of the conductive layers 30A and 30B are provided.

コンデンサ部110は、絶縁層20Bの表面に表面が平滑に露出するように埋め込まれた誘電体層120およびコンデンサ電極130と、誘電体層120上に形成された第1配線層40C,40Dと、コンデンサ電極130上に形成された第1配線層40Eを備えている。   Capacitor portion 110 includes dielectric layer 120 and capacitor electrode 130 embedded on the surface of insulating layer 20B so that the surface is smoothly exposed, first wiring layers 40C and 40D formed on dielectric layer 120, A first wiring layer 40E formed on the capacitor electrode 130 is provided.

誘電体層120は、コンデンサ電極130とともに絶縁層20Bに埋め込まれる電極であり、スクリーン印刷が可能な誘電体ペーストである。ここでいう誘電体ペーストとはエポキシ樹脂やフェノール樹脂等の熱硬化型樹脂に高誘電率フィラーを高充填し、分散させたものである。高誘電率フィラーとしては酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸バリウム系セラミック、チタン酸ジルコン酸系セラミック、チタン酸ストロンチウム系セラミック等を用いることができる。その粒子形状は球状のものであっても、針状のものであっても差支えない。   The dielectric layer 120 is an electrode embedded in the insulating layer 20B together with the capacitor electrode 130, and is a dielectric paste capable of screen printing. The dielectric paste here is a paste obtained by highly filling a thermosetting resin such as an epoxy resin or a phenol resin with a high dielectric constant filler and dispersing it. As the high dielectric constant filler, titanium oxide, barium titanate, barium titanate ceramic, zirconate titanate ceramic, strontium titanate ceramic, or the like can be used. The particle shape may be spherical or needle-shaped.

コンデンサ電極130は、誘電体層120の一部を覆うように形成されるものである。コンデンサ電極130の材質は、印刷法によりパターン形成が可能な導電性ペーストであればどのようなものでも良い。例えば金ペースト、白金ペースト、銀ペースト、銅ペースト、ニッケルペースト、パラジウムペースト等があげられる。中でもイオンマイグレーションが発生し難く、コスト的にも安価な銅ペーストが特に好ましい。   The capacitor electrode 130 is formed so as to cover a part of the dielectric layer 120. The capacitor electrode 130 may be made of any conductive paste as long as it can be patterned by a printing method. For example, gold paste, platinum paste, silver paste, copper paste, nickel paste, palladium paste and the like can be mentioned. Among them, a copper paste that is less likely to cause ion migration and is inexpensive is particularly preferable.

第1配線層40C〜40Eは、金属層40をエッチングして形成されるものである。   The first wiring layers 40 </ b> C to 40 </ b> E are formed by etching the metal layer 40.

なお、受動機能部140は誘電体120からなる機能体が第1配線層40Eと、もう一方の第1配線層40Dと接続する形で予め印刷形成されたコンデンサ電極130とで挟まれた、電極130、誘電体120及び第1配線層40Eとの3層構造からなるコンデンサ素子である。   The passive function unit 140 is an electrode sandwiched between a first wiring layer 40E and a capacitor electrode 130 that is printed in advance so as to connect the functional body made of the dielectric 120 to the other first wiring layer 40D. 130, a capacitor element having a three-layer structure including a dielectric 120 and a first wiring layer 40E.

受動機能部140の電気特性は、誘電体層120の厚み、表面積、形状、第1配線層40Eとコンデンサ電極130の間隔、接触面積、形状などにより決定され、それらを調整することでコンデンサ素子の静電容量(F)が調整可能となっている。   The electrical characteristics of the passive function unit 140 are determined by the thickness, surface area, and shape of the dielectric layer 120, the distance between the first wiring layer 40E and the capacitor electrode 130, the contact area, the shape, and the like. The capacitance (F) can be adjusted.

次に、以上のように構成されたプリント配線板の製造方法の一例を図4を用いて説明する。   Next, an example of the manufacturing method of the printed wiring board comprised as mentioned above is demonstrated using FIG.

始めに、金属層40上にパターニングされた導電層30A,30Bを印刷形成する(図4(A),(B))。   First, patterned conductive layers 30A and 30B are printed on the metal layer 40 (FIGS. 4A and 4B).

また、金属層40上に誘電体層120をスクリーン印刷法により形成する(図4(C))。   Further, the dielectric layer 120 is formed on the metal layer 40 by a screen printing method (FIG. 4C).

そして、誘電体層120の一方の面(図では上面)に接するようにコンデンサ電極130を印刷形成する(図4(D))。   Then, the capacitor electrode 130 is printed and formed so as to be in contact with one surface (the upper surface in the drawing) of the dielectric layer 120 (FIG. 4D).

次に、導電層30A,30B、誘電体層120およびコンデンサ電極130を形成する工程とは別に、第2配線層80A〜80Eを予め表面に形成した基板70を用意し、基板70上に絶縁層20を配置し、絶縁層20の表面に導電層30A,30B及びコンデンサ電極130を埋め込むように、金属層40を絶縁層20と重ね合せ、真空積層する(図4(E))。この際、金属層40と基板70との位置合わせは、予め金属層40および基板70の面内の一部分に貫通孔(図示せず)を形成し、この貫通孔にピンを嵌め込むことでなされる。   Next, separately from the step of forming the conductive layers 30A and 30B, the dielectric layer 120, and the capacitor electrode 130, a substrate 70 on which the second wiring layers 80A to 80E are formed in advance is prepared, and an insulating layer is formed on the substrate 70. 20 is placed, and the metal layer 40 is overlapped with the insulating layer 20 and vacuum-laminated so that the conductive layers 30A and 30B and the capacitor electrode 130 are embedded in the surface of the insulating layer 20 (FIG. 4E). At this time, the metal layer 40 and the substrate 70 are aligned by previously forming a through hole (not shown) in a part of the surface of the metal layer 40 and the substrate 70 and fitting a pin into the through hole. The

基板70に絶縁層20を積層後、基板にドリルでスルーホール61A,61Bを形成し(図4(F))、スルーホールめっき60A〜60Dを施して層間を接続する(図4(G))。   After the insulating layer 20 is laminated on the substrate 70, through holes 61A and 61B are formed on the substrate with a drill (FIG. 4F), and through-hole plating 60A to 60D is applied to connect the layers (FIG. 4G). .

さらに、一般的なサブトラクティブ法により絶縁層20上に第1配線層40A〜40Eを形成する(図4(H))。ここで、金属層40をエッチングする際、導電層30A,30B、コンデンサ電極130および絶縁層20よりエッチングされやすい金属を金属層40に用いているので、絶縁層20の表面と平滑な状態で電極(導電層30A,30B、コンデンサ電極130)を露出させることができる。   Further, the first wiring layers 40A to 40E are formed on the insulating layer 20 by a general subtractive method (FIG. 4H). Here, when the metal layer 40 is etched, a metal that is more easily etched than the conductive layers 30A and 30B, the capacitor electrode 130, and the insulating layer 20 is used for the metal layer 40. (Conductive layers 30A and 30B, capacitor electrode 130) can be exposed.

次に、パターニングにより先端を絶縁層20の表面と平滑な状態で露出した電極(導電層30A,30B)に接するように抵抗体50を印刷形成する(図4(I))。   Next, the resistor 50 is printed and formed so as to be in contact with the exposed electrodes (conductive layers 30A and 30B) in a smooth state with the surface of the insulating layer 20 by patterning (FIG. 4I).

また、プリント配線板10Aを多層配線板とする場合、図4に示す(A)〜(I)の工程を複数回繰り返すことで可能となる。   Further, when the printed wiring board 10A is a multilayer wiring board, the steps (A) to (I) shown in FIG. 4 can be repeated a plurality of times.

上述したように本実施形態によれば、第1の実施形態の効果に加え、スクリーン印刷により形成した誘電体層120をコンデンサ電極130と第1配線層40Eで挟んだ3層構造のコンデンサ素子を絶縁層20内に埋め込み形成することができる。すなわち、生産性と経済性に優れたスクリーン印刷を用い、積層しても特性のばらつきの少ないコンデンサ素子を内蔵したプリント配線板及びその製造方法を提供することができる。   As described above, according to the present embodiment, in addition to the effects of the first embodiment, the capacitor element having a three-layer structure in which the dielectric layer 120 formed by screen printing is sandwiched between the capacitor electrode 130 and the first wiring layer 40E. It can be embedded in the insulating layer 20. That is, it is possible to provide a printed wiring board having a built-in capacitor element with little variation in characteristics even when stacked using screen printing excellent in productivity and economy, and a method for manufacturing the same.

さらに、抵抗素子とコンデンサ素子の形成を同時に行うことが可能であるので、各素子を別々に作る必要がなく、生産性と経済性に優れている。   Furthermore, since it is possible to form the resistance element and the capacitor element at the same time, it is not necessary to make each element separately, and the productivity and economy are excellent.

なお、従来は樹脂中に高誘電率のフィラーを高充填化したものを用いて薄い誘電体層を形成し、コンデンサを内蔵化する方法においては、下部電極や配線パターンの段差の影響で平坦性が悪くなっていた。特にコンデンサーパターンは、同じパターンを積層するので電極部が盛り上がってしまいがちであった。そして、平坦性を重視した場合、誘電体の厚みを厚くしなければならず、容量が小さくなり必要とする容量のコンデンサを得ることができなかった。   Conventionally, in a method of forming a thin dielectric layer using a high-filler filler with a high dielectric constant in a resin and incorporating a capacitor, flatness is affected by the step of the lower electrode and wiring pattern. Was getting worse. In particular, the capacitor pattern has a tendency to swell because the same pattern is laminated. When the flatness is regarded as important, the thickness of the dielectric must be increased, and the capacitance is reduced, so that a capacitor having the required capacity cannot be obtained.

本実施形態によれば、これらの問題点を解消した電極部の平坦性を重視しつつ誘電体の厚みを薄くしたコンデンサ素子を内蔵したプリント配線板をも提供することができる。   According to the present embodiment, it is possible to provide a printed wiring board including a capacitor element in which the thickness of the dielectric is reduced while emphasizing the flatness of the electrode portion in which these problems are eliminated.

<第3の実施形態>
本実施形態では、第1・第2の実施形態とは異なり、金属層をエッチング除去した後に一般的なセミアディティブ法により配線層を形成するものである。
<Third Embodiment>
In this embodiment, unlike the first and second embodiments, the wiring layer is formed by a general semi-additive method after the metal layer is removed by etching.

図5は本発明の第3の実施形態に係るプリント配線板の構造の一例を示す断面図である。このプリント配線板10Bの構造は、第1及び第2の実施形態とは異なり、基板70の第2配線層80A〜80Cとビルドアップ層の第1配線層40A〜40Eとがスルーホールでなく、フィルドめっきで形成されたフィルドビアホール150A,150Bにより接続されている。   FIG. 5 is a sectional view showing an example of the structure of a printed wiring board according to the third embodiment of the present invention. Unlike the first and second embodiments, the structure of the printed wiring board 10B is that the second wiring layers 80A to 80C of the substrate 70 and the first wiring layers 40A to 40E of the buildup layer are not through holes. They are connected by filled via holes 150A and 150B formed by filled plating.

フィルドビアホール150A,150Bは、多層配線板とした際に、ビアホールの真上にビアホールや受動部品の形成が可能である等、設計の自由度の点で、通常のめっき液によるコンフォーマルビアに比べて有利である。   When filled via holes 150A and 150B are formed as multilayer wiring boards, via holes and passive components can be formed directly above the via holes, and in terms of design freedom, compared to conformal vias using ordinary plating solutions. It is advantageous.

その他の構造については、第1及び第2の実施形態と同一であるので、説明を省略する。   Since other structures are the same as those in the first and second embodiments, description thereof is omitted.

次に、以上のように構成されたプリント配線板の製造方法の一例を図6を用いて説明する。   Next, an example of the manufacturing method of the printed wiring board comprised as mentioned above is demonstrated using FIG.

始めに、支持体40S上にパターニングされた導電層30A,30B、およびビルドアップ層の導体層を形成する際に使用するアライメントマーク160A,160Bを印刷形成する(図6(A),(B))。ここで、支持体40Sは、剥離又はエッチング除去することが可能であれば、任意の材質が使用可能となっている。なお、支持体40Sとしては、例えば剥離可能な透光性の樹脂(フィルム)を用いると、アライメントが容易且つ高精度に実行可能となるが、ここではエッチング除去可能な金属層を用いた例を述べている。   First, the conductive marks 30A and 30B patterned on the support 40S and the alignment marks 160A and 160B used when forming the conductor layer of the buildup layer are printed and formed (FIGS. 6A and 6B). ). Here, any material can be used for the support 40S as long as it can be peeled off or removed by etching. As the support 40S, for example, if a peelable translucent resin (film) is used, alignment can be performed easily and with high accuracy. However, here, an example using a metal layer that can be removed by etching is used. Says.

また、支持体40S上に誘電体層120をスクリーン印刷法により形成する(図6(C))。   Further, the dielectric layer 120 is formed on the support 40S by a screen printing method (FIG. 6C).

そして、誘電体層120の一方の面(図では上面)に接するようにコンデンサ電極130を印刷形成する(図6(D))。   Then, the capacitor electrode 130 is printed and formed so as to be in contact with one surface (the upper surface in the drawing) of the dielectric layer 120 (FIG. 6D).

次に、導電層30A,30B、誘電体層120およびコンデンサ電極130を形成する工程とは別に、第2配線層80A〜80Cを予め表面に形成した基板70を用意し、基板70上に絶縁層20を配置し、絶縁層の表面に導電層30A,30B及びコンデンサ電極130を埋め込むように、支持体40Sを絶縁層20と重ね合せ、真空積層する(図6(E))。   Next, apart from the step of forming the conductive layers 30A and 30B, the dielectric layer 120, and the capacitor electrode 130, a substrate 70 on which the second wiring layers 80A to 80C are formed in advance is prepared, and an insulating layer is formed on the substrate 70. 20 is placed, and the support 40S is overlapped with the insulating layer 20 so as to embed the conductive layers 30A and 30B and the capacitor electrode 130 on the surface of the insulating layer, and vacuum lamination is performed (FIG. 6E).

この際、支持体40Sと基板70との位置合わせは、予め支持体40S及び基板70の面内の一部分に貫通孔(図示せず)を形成し、この貫通孔にピンを嵌め込むことでなされる。   At this time, the support 40S and the substrate 70 are aligned by previously forming a through hole (not shown) in a part of the surface of the support 40S and the substrate 70 and fitting a pin into the through hole. The

基板70に絶縁層20を積層後、支持体40Sを一般的な方法によりエッチング除去し、露出した絶縁層20の表面に炭酸ガスレーザーやUV/YAGレーザー、エキシマレーザーを用いてビアホール151を形成する(図6(F))。   After laminating the insulating layer 20 on the substrate 70, the support 40S is etched away by a general method, and a via hole 151 is formed on the exposed surface of the insulating layer 20 using a carbon dioxide laser, UV / YAG laser, or excimer laser. (FIG. 6F).

このとき、予め印刷形成したアライメントマーク160A,160Bを読み込んでビア加工を行うが、後のレジスト露光工程で使用するアライメントマークの加工も同時に行う。   At this time, the alignment marks 160A and 160B printed and formed in advance are read and via processing is performed, but the alignment marks used in the subsequent resist exposure process are also simultaneously processed.

さらに、過マンガン酸カリウム等の薬液で表面を粗化した後、無電解めっき処理を行い、その表面にレジストを貼り付けた後、露光・現像を行う。これにより、パターニングレジスト170が形成される。露光の際の位置合わせは先に形成したアライメントマーク160A,160Bを基準に行う。最後にパターンめっきを用いてビアホール151を満たし、フィルドビアホール150A,150Bを形成する(図6(G))。   Furthermore, after roughening the surface with a chemical such as potassium permanganate, an electroless plating treatment is performed, a resist is attached to the surface, and then exposure and development are performed. Thereby, the patterning resist 170 is formed. The alignment at the time of exposure is performed with reference to the alignment marks 160A and 160B previously formed. Finally, the via hole 151 is filled by using pattern plating to form filled via holes 150A and 150B (FIG. 6G).

そして、パターニングレジスト170をアルカリで剥離した後、弱いエッチング処理にて無電解めっき層を除去し、絶縁層20上に第1配線層40A〜40Eを形成する(図6(H))。   Then, after peeling the patterning resist 170 with alkali, the electroless plating layer is removed by a weak etching process, and the first wiring layers 40A to 40E are formed on the insulating layer 20 (FIG. 6H).

これにより、受動機能部140は誘電体層120をコンデンサ電極130と第1配線層40Eで挟んだ3層構造となり、コンデンサ素子としての機能を有することになる。   Thereby, the passive function unit 140 has a three-layer structure in which the dielectric layer 120 is sandwiched between the capacitor electrode 130 and the first wiring layer 40E, and has a function as a capacitor element.

次に、パターニングにより先端を絶縁層20の表面と平滑な状態で露出した電極(導電層30A,30B)に接するように抵抗体50を印刷形成する。この抵抗ペーストをスクリーン印刷でパターン印刷して熱硬化させ抵抗素子を形成する(図6(I))。   Next, the resistor 50 is printed by patterning so that the tip is in contact with the surface of the insulating layer 20 exposed in a smooth state (conductive layers 30A and 30B). This resistance paste is pattern-printed by screen printing and thermally cured to form a resistance element (FIG. 6I).

また、プリント配線板10Bを多層配線板とする場合、図6に示す(A)〜(I)の工程を複数回繰り返すことで可能となる。   Further, when the printed wiring board 10B is a multilayer wiring board, the steps (A) to (I) shown in FIG. 6 can be repeated a plurality of times.

なお、本発明においては受動素子の電気特性を所定抵抗値の許容範囲内に入るように、レーザーによるトリミングを行うことも可能である。この場合、絶縁層20上に形成した抵抗体50の膜にレーザーを照射してトリミング溝を形成し、抵抗体50の全抵抗を調整する。   In the present invention, it is also possible to perform trimming with a laser so that the electrical characteristics of the passive element fall within the allowable range of the predetermined resistance value. In this case, the film of the resistor 50 formed on the insulating layer 20 is irradiated with a laser to form a trimming groove, and the total resistance of the resistor 50 is adjusted.

上述したように本実施形態によれば、支持体40S上に1対の導電層30A,30Bを形成し、基板70上に絶縁層20を配置し、絶縁層20表面に各導電層30A,30Bを埋め込むように、支持体40Sを絶縁層20上に真空積層する工程と、積層された支持体40Sを除去しているので、絶縁層20の表面に対して表面が平滑に露出するように埋め込まれた1対の導電層30A,30Bを形成することが容易になる。そのため、平滑な表面に抵抗体を印刷できることから、印刷のばらつきを少なくすることができる。また、抵抗体をスクリーン印刷により形成しているので、生産性と経済性に優れている。よって、生産性と経済性に優れ、特性のばらつきの少ない抵抗素子を内蔵したプリント配線板及びその製造方法を提供することができる。   As described above, according to the present embodiment, a pair of conductive layers 30A and 30B are formed on the support 40S, the insulating layer 20 is disposed on the substrate 70, and the conductive layers 30A and 30B are formed on the surface of the insulating layer 20. Since the support 40S is vacuum-laminated on the insulating layer 20 so as to be embedded, and the stacked support 40S is removed, the support 40S is embedded so that the surface is exposed to the surface of the insulating layer 20 smoothly. It becomes easy to form the pair of conductive layers 30A and 30B. Therefore, since the resistor can be printed on a smooth surface, it is possible to reduce variations in printing. Further, since the resistor is formed by screen printing, it is excellent in productivity and economy. Therefore, it is possible to provide a printed wiring board having a built-in resistance element that is excellent in productivity and economy and has little variation in characteristics, and a manufacturing method thereof.

また、本実施形態によれば、セミアディティブ法により配線層40A〜40Eを形成するので、サブトラクティブ法(第1の実施形態)よりもファインパターンの形成が可能であり、半導体パッケージ等のより高密度なプリント配線板の製造が可能となる。   Further, according to the present embodiment, since the wiring layers 40A to 40E are formed by the semi-additive method, a fine pattern can be formed as compared with the subtractive method (first embodiment), and the semiconductor package or the like is higher. A dense printed wiring board can be manufactured.

なお、本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に構成要素を適宜組み合わせてもよい。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine a component suitably in different embodiment.

本発明の第1の実施形態に係るプリント配線板の構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the structure of the printed wiring board which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係るプリント配線板の構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the structure of the printed wiring board which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係るプリント配線板の構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the structure of the printed wiring board which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on the 3rd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10・・・プリント配線板、20,20A,20B・・・絶縁層、30A,30B・・・導電層、40・・・金属層、40A〜40E・・・第1配線層、40S・・・支持体、50・・・抵抗体、60A〜60D・・・スルーホールめっき、70・・・基板、80A〜80E・・・第2配線層、90・・・受動機能部(抵抗)、100・・・抵抗部、110・・・コンデンサ部、120・・・誘電体層、130・・・コンデンサ電極、140・・・受動機能部(コンデンサ)、150A,150B・・・フィルドビアホール、160A,160B・・・アライメントマーク、170・・・パターニングレジスト。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Printed wiring board 20,20A, 20B ... Insulating layer, 30A, 30B ... Conductive layer, 40 ... Metal layer, 40A-40E ... 1st wiring layer, 40S ... Support, 50 ... resistor, 60A-60D ... through-hole plating, 70 ... substrate, 80A-80E ... second wiring layer, 90 ... passive function part (resistance), 100. ..Resistance part, 110 ... capacitor part, 120 ... dielectric layer, 130 ... capacitor electrode, 140 ... passive function part (capacitor), 150A, 150B ... filled via hole, 160A, 160B ... Alignment mark, 170 ... Pattern resist.

Claims (2)

基板と、
前記基板上に形成された絶縁層と、
前記絶縁層からそれぞれ表面が平滑に露出するように、互いに離れて前記絶縁層の表面に埋め込み形成された1対の導電層と、
前記各導電層と個別に一部が重なるように前記絶縁層上に選択的に形成された1対の配線層と、
前記各導電層を電気的に接続するように、少なくとも当該各導電層の一部と前記絶縁層の一部との上に形成された抵抗体とを備えたプリント配線板の製造方法において、
金属層上に前記1対の導電層を形成する工程と、
前記基板上に前記絶縁層を配置する工程と、
前記絶縁層表面に前記各導電層を埋め込むように、前記金属層を前記絶縁層上に積層する工程と、
前記積層された金属層を選択的にエッチングすることにより、前記1対の導電層に個別に接する前記1対の配線層を形成するとともに、前記各配線層の間における各導電層の表面と前記絶縁層の表面とを互いに平滑に露出させる工程と、
前記各導電層を電気的に接続するように、少なくとも当該各導電層の一部と前記絶縁層の一部との上に前記抵抗体をスクリーン印刷により形成する工程と
を備えたことを特徴とするプリント配線板の製造方法。
A substrate,
An insulating layer formed on the substrate;
A pair of conductive layers embedded in the surface of the insulating layer so as to be exposed from the insulating layer smoothly,
A pair of wiring layers selectively formed on the insulating layer so as to partially overlap each of the conductive layers;
Wherein each conductive layer so as to be electrically connected, in the manufacturing method of the print wiring board and at least the resistor formed on the part of some and the insulating layer of each of the conductive layers,
Forming the pair of conductive layers on a metal layer;
Disposing the insulating layer on the substrate;
Laminating the metal layer on the insulating layer so as to embed each conductive layer on the surface of the insulating layer;
By selectively etching the stacked metal layers, the pair of wiring layers individually contacting the pair of conductive layers is formed, and the surface of each conductive layer between the wiring layers and the Exposing the surface of the insulating layer to each other smoothly;
Forming the resistor by screen printing on at least a part of each conductive layer and a part of the insulating layer so as to electrically connect the conductive layers;
A method of manufacturing a printed wiring board, comprising:
請求項1に記載のプリント配線板の製造方法において、
前記各配線層は、前記各導電層および前記絶縁層のエッチング速度よりも大きいエッチング速度を有する金属よりなることを特徴とするプリント配線板の製造方法
In the manufacturing method of the printed wiring board of Claim 1,
The respective wiring layers, a method for manufacturing a printed wiring board characterized by comprising a metal having a greater etching rate than the etching rate of each of the conductive layers and the insulating layer.
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