JP4525677B2 - 光学素子成形用金型の製造方法 - Google Patents
光学素子成形用金型の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4525677B2 JP4525677B2 JP2006512000A JP2006512000A JP4525677B2 JP 4525677 B2 JP4525677 B2 JP 4525677B2 JP 2006512000 A JP2006512000 A JP 2006512000A JP 2006512000 A JP2006512000 A JP 2006512000A JP 4525677 B2 JP4525677 B2 JP 4525677B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- film layer
- mold
- manufacturing
- molding die
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/42—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the shape of the moulding surface, e.g. ribs or grooves
- B29C33/424—Moulding surfaces provided with means for marking or patterning
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
- C12G—WINE; PREPARATION THEREOF; ALCOHOLIC BEVERAGES; PREPARATION OF ALCOHOLIC BEVERAGES NOT PROVIDED FOR IN SUBCLASSES C12C OR C12H
- C12G3/00—Preparation of other alcoholic beverages
- C12G3/08—Preparation of other alcoholic beverages by methods for altering the composition of fermented solutions or alcoholic beverages not provided for in groups C12G3/02 - C12G3/07
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/082—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses having profiled, patterned or microstructured surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/16—Metals or alloys, e.g. Ni-P, Ni-B, amorphous metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/16—Metals or alloys, e.g. Ni-P, Ni-B, amorphous metals
- C03B2215/17—Metals or alloys, e.g. Ni-P, Ni-B, amorphous metals comprising one or more of the noble meals, i.e. Ag, Au, platinum group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/20—Oxide ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/22—Non-oxide ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/24—Carbon, e.g. diamond, graphite, amorphous carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/30—Intermediate layers, e.g. graded zone of base/top material
- C03B2215/32—Intermediate layers, e.g. graded zone of base/top material of metallic or silicon material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/30—Intermediate layers, e.g. graded zone of base/top material
- C03B2215/34—Intermediate layers, e.g. graded zone of base/top material of ceramic or cermet material, e.g. diamond-like carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/40—Product characteristics
- C03B2215/41—Profiled surfaces
- C03B2215/412—Profiled surfaces fine structured, e.g. fresnel lenses, prismatic reflectors, other sharp-edged surface profiles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Genetics & Genomics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Zoology (AREA)
- Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Description
光学素子成型用金型の成形転写面を成形するためのマスター型のマスター転写面に、所定の組成からなる過冷却液体領域を有する非晶質合金の第1の膜層を形成する工程と、
前記第1の膜層の表面と,光学素子成型用金型の基材の被転移面とを対向して押付けながら、前記過冷却液体領域を有する非晶質合金のガラス転移点以上に、前記第1の膜層を加熱する工程(加熱プレス工程ともいう)及び、
前記第1の膜層を、前記マスター型から剥離して,前記光学素子成型用金型の基材に転移させる工程とを有することを特徴とする。
前記第1の機能膜は、Pt,Ir,Pd,Au,Ru,Rh,Agの貴金属元素、Fe,Co,Ni,Cr,W,Ti,Mo,Zrの遷移金属元素、及び、アルミナ,クロミナ,WC,チッ化ケイ素,チッ化炭素,TiN,TiAlN,ジルコニア,ダイアモンド,ダイヤモンドライクカーボン,カーボンから選ばれる少なくとも1種を含有することが更に好ましい。
以下、本発明者らが行った比較例について説明する。まず,直径約3〜5mmの光学素子用成形型の基材として,鉄を主成分に含む,容易に切削できる材料を用意した。光学素子成型用金型を製作するにあたり,まずブランク金型(金型の基材ともいう)を切削・研削加工により5つ製作した。ブランク金型の型基材面を100μm以下の形状精度で(研削・切削)加工を行い、光学素子の非球面に対応した凹面を形成した。この基材面に,スパッタ成膜装置により,過冷却液体領域を295〜395℃の間で有する非晶質合金の膜層を膜厚0.02、10、50、100、500μmにそれぞれ形成した。
(実施例)
これに対し、本発明者らが行った実施例について説明する。まず,マスター型,金型の基材5つを比較例と同様に製作した。その後,マスター型のマスター転写面と同時に金型の基材にも、過冷却液体領域Tg−Txを295〜395℃の間に有する非晶質合金を、スパッタ成膜装置により厚さ0.02、10、50、100、500μmでそれぞれ成膜した。その後,非晶質合金膜層を形成したマスター型のマスター転写面と,金型の基材(あるいは,過冷却液体領域を有する非晶質合金膜層が形成された金型の基材)を対向して設置し、Heガスに置換した雰囲気中(約100Pa)で,ガラス転移点以上の310℃に加熱し200Nで1時間プレス成形することで,マスター型のマスター転写面に形成された非晶質合金膜層を、マスター型から剥離させ,金型の基材に(あるいは,過冷却液体領域を有する非晶質合金膜層が形成された金型の基材に)写しとった(マスター型上の非晶質合金の膜厚は、上述の5種類について同様の方法で行った)。マスター型の温度を330℃,金型の基材の温度を300℃と,Tg以上ではあるが,熱勾配をつけたほうが,マスター型からの離形及び型基材への密着力向上という点で良好な条件となる。金型への加熱方法は,両型内にカートリッジヒーター,あるいはシースヒーターを入れ,また,周辺からランプ加熱等で補助加熱を行うと,熱制御がよく効く上,ヒーター出力を大幅に稼ぐことができた。
Claims (67)
- 光学素子成形用金型の成形転写面を成形するためのマスター型のマスター転写面に、過冷却液体領域を有する非晶質合金の第1の膜層を形成する工程、
前記第1の膜層の表面と、光学素子成形用金型の基材の被転移面とを対向して押付けながら、前記過冷却液体領域を有する非晶質合金のガラス転移点以上に、前記第1の膜層を加熱する工程、及び
前記第1の膜層を、前記マスター型から剥離して、前記光学素子成形用金型の基材に転移させる工程、とを有することを特徴とする光学素子成形用金型の製造方法。 - 前記マスター型のマスター転写面に前記第1の膜層を形成する工程において、前記第1の膜層の膜厚が0.01〜500μmであることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子成型用金型の製造方法が、少なくとも前記第1の膜層を前記マスター型から剥離して、前記光学素子成形用金型の基材に転移させる工程の前に、前記光学素子成型用金型の基材の被転移面に、過冷却液体領域を有する非晶質合金の第2の膜層を形成する工程を有し、
前記第1の膜層を前記光学素子成型用金型の基材に転移させる工程において、前記第1の膜層と前記第2の膜層とを対向して押しつけながら、前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金及び前記第2の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の少なくとも一方のガラス転移点以上に、前記第1の膜層及び前記第2の膜層の少なくとも一方を加熱することを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。 - 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成と前記第2の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が同じであることを特徴とする請求の範囲第3項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成と前記第2の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が互いに異なることを特徴とする請求の範囲第3項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第2の膜層の膜厚が0.01〜500μmであることを特徴とする請求の範囲第3項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子成型用金型の製造方法が、マスター型のマスター転写面に、過冷却液体領域を有する非晶質合金の第1の膜層を形成する工程の前に、前記マスター転写面に第1の機能膜を設ける工程を有することを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜の膜厚が0.01〜20μmであることを特徴とする請求の範囲第7項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜が、Pt,Ir,Pd,Au,Ru,Rh,Agの貴金属元素、Fe,Co,Ni,Cr,W,Ti,Mo,Zrの遷移金属元素、及び、アルミナ,クロミナ,WC,チッ化ケイ素,チッ化炭素,TiN,TiAlN,ジルコニア,ダイアモンド,ダイヤモンドライクカーボン,カーボンから選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする請求の範囲第7項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜が、Pt,Ir,Pd,Au,Ru,Rh,Agの貴金属元素及びFe,Co,Ni,Cr,W,Ti,Mo,Zrの遷移金属元素から選ばれる少なくとも1種の元素を含有することを特徴とする請求の範囲第9項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜が、アルミナ,クロミナ,WC,チッ化ケイ素,チッ化炭素,TiN,TiAlN,ジルコニア,ダイアモンド,ダイヤモンドライクカーボン,カーボンから選ばれる少なくとも1種の素材を含有することを特徴とする請求の範囲第9項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子成型用金型の製造方法が、前記マスター型のマスター転写面に、過冷却液体領域を有する非晶質合金の第1の膜層を形成する工程の前に、前記第1の機能膜の膜上に第2の機能膜を設ける工程を有することを特徴とする請求の範囲第7項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第2の機能膜の膜厚が0.01〜20μmであることを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第2の機能膜が、Pt,Ir,Pd,Au,Ru,Rh,Agの貴金属元素、Fe,Co,Ni,Cr,W,Ti,Mo,Zrの遷移金属元素、及び、アルミナ,クロミナ,WC,チッ化ケイ素,チッ化炭素,TiN,TiAlN,ジルコニア,ダイアモンド,ダイヤモンドライクカーボン,カーボンから選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第2の機能膜が、Pt,Ir,Pd,Au,Ru,Rh,Agの貴金属元素及びFe,Co,Ni,Cr,W,Ti,Mo,Zrの遷移金属元素から選ばれる少なくとも1種の元素を含有することを特徴とする請求の範囲第14項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第2の機能膜が、アルミナ,クロミナ,WC,チッ化ケイ素,チッ化炭素,TiN,TiAlN,ジルコニア,ダイアモンド,ダイヤモンドライクカーボン,カーボンから選ばれる少なくとも1種の素材を含有することを特徴とする請求の範囲第12項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜が蒸着法により形成されることを特徴とする請求の範囲第7項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜がCVD処理によって形成されることを特徴とする請求の範囲第17項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜がPVD処理によって形成されることを特徴とする請求の範囲第17項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜がスパッタ処理により形成されることを特徴とする請求の範囲第19項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜がイオンプレーティング処理により形成されることを特徴とする請求の範囲第19項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜が真空蒸着法により形成されることを特徴とする請求の範囲第19項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記マスター型のマスター転写面の光学形状は、前記マスター転写面により形成される光学素子成型用金型の成形転写面を用いて成型される光学素子の光学面形状に対して、前記マスター転写面に形成される第1機能膜の厚さ及び前記光学素子材料の熱収縮の少なくとも一方に応じて異ならせていることを特徴とする請求の範囲第7項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜は、前記第1の膜層を、前記マスター転写面から剥離して、前記光学素子成形用金型の基材に転移させる工程の後に、前記マスター転写面に残ることを特徴とする請求の範囲第7項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の機能膜は、前記第1の膜層を、前記マスター転写面から剥離して、前記光学素子成形用金型の基材に転移させる工程の後に、前記光学素子成形用金型の基材の成形転写面に転移することを特徴とすることを特徴とする請求の範囲第7項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子成型用金型の製造方法が、更に前記光学素子成型用金型の成形転写面に転移した前記第1の機能膜を除去する工程を有することを特徴とする請求の範囲第25項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子成型用金型の成形転写面により形成される前記光学素子の光学面に、光軸を中心とした輪帯構造が形成されることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記輪帯構造が、光路差付与構造であることを特徴とする請求の範囲第27項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記輪帯構造が、光軸方向の断面形状が鋸歯状のブレーズ型回折構造であることを特徴とする請求の範囲第27項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記輪帯構造が、光軸方向の断面形状が階段状の回折構造であることを特徴とする請求の範囲第27項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記輪帯構造が、前記光学素子に対して光を照射する光源の波長変化による前記光学素子の収差変化を補正する機能を有することを特徴とする請求の範囲第27項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記輪帯構造が、前記光学素子の温度変化による収差変化を補正する機能を有することを特徴とする請求の範囲第27項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子成型用金型の成形転写面により形成される光学素子の光学面に、複数の突起またはくぼみが形成されるように、前記マスター型のマスター転写面には対応した突起又はくぼみが形成され、且つ前記光学素子成型用金型の成形転写面には対応したくぼみまたは突起が形成されることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子の光学面の突起またはくぼみは、等価屈折率領域の微細構造を形成することを特徴とする請求の範囲第33項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子の光学面の突起またはくぼみは、反射防止効果を発生する微細構造を形成することを特徴とする請求の範囲第33項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子の光学面の突起またはくぼみは、構造複屈折を発生する微細構造を形成することを特徴とする請求の範囲第33項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子の光学面の突起またはくぼみは、共鳴領域の微細構造を形成することを特徴とする請求の範囲第33項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子の光学面の突起またはくぼみが、該光学面の一部に形成されるように、前記マスター型のマスター転写面には、対応した突起又はくぼみが形成され、且つ前記光学素子成型用金型の前記成形転写面に対応したくぼみまたは突起が形成されることを特徴とする請求の範囲第33項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子の光学面の突起またはくぼみが、少なくとも複数の形状または配置パターンを有するとともに、前記光学素子の光学面の一部に形成されるように、前記マスター型のマスター転写面には、対応した突起又はくぼみが形成され、且つ前記光学素子成型用金型の前記成形転写面に対応したくぼみまたは突起が形成されることを特徴とする請求の範囲第33項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記光学素子成型用金型の成形転写面は、非球面形状のみからなることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層が、蒸着法により形成されることを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層が、CVD処理によって形成されることを特徴とする請求の範囲第41項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層が、PVD処理によって形成されることを特徴とする請求の範囲第41項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層が、スパッタ処理により形成されることを特徴とする請求の範囲第43項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層が、イオンプレーティング処理により形成されることを特徴とする請求の範囲第43項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層が、真空蒸着法により形成されることを特徴とする請求の範囲第43項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Pdを20mol%以上90mol%以下の割合で含むことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Cu,Ni,Al,Si,P,Bから選ばれる少なくとも1種の元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第47項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Zrを20mol%以上90mol%以下の割合で含むことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Fe,Co,Hf,Ti,Cu,Ni,Al,Sn,Si,P,Bから選ばれる少なくとも1種の元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第49項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Tiを20mol%以上90mol%以下の割合で含むことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Hf,Zr,Cu,Ni,Co,Fe,Sn,Al,Si,P,Bから選ばれる少なくとも1種の元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第51項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Mgを20mol%以上90mol%以下の割合で含むことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Y,Hf,Zr,Cu,Fe,Co,Ni,Al,Si,P,Bから選ばれる少なくとも1種の元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第53項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Laを20mol%以上90mol%以下の割合で含むことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Cu,Ni,Co,Al,Si,P,B,Hf,Zrから選ばれる少なくとも1種の元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第55項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Feを20mol%以上90mol%以下の割合で含むことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Co,Ni,Hf,Zr,Ti,Cu,Ni,Al,Sn,Si,P,Bから選ばれる少なくとも1種の元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第57項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Coを20mol%以上90mol%以下の割合で含むことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Ni,Hf,Fe,Zr,Ti,Cu,Ni,Al,Sn,Si,P,Bから選ばれる少なくとも1種の元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第59項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Niを20mol%以上90mol%以下の割合で含むことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Co,Hf,Fe,Zr,Ti,Cu,Ni,Al,Sn,Si,P,Bから選ばれる少なくとも1種の元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第61項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Moを20mol%以上90mol%以下の割合で含むことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Fe、Co,Ni、Cu、Hf,Zr,Ti,W,Sn,Al,Si,P,B、Pdから選ばれる少なくとも1種の元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第63項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Ptを20mol%以上90mol%以下の割合で含むことを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Mo、Fe、Co,Ni、Cu、Hf,Zr,Ti,W,Sn,Al,Si,P,B、Pdから選ばれる少なくとも1種の元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第65項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
- 前記第1の膜層の過冷却液体領域を有する非晶質合金の組成が、Os,Pt、Ir、Au,Ag,Rh,Pd,Ruから選ばれる少なくとも1種の貴金属元素を、1mol%以上の割合で含有することを特徴とする請求の範囲第1項に記載の光学素子成型用金型の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004104251 | 2004-03-31 | ||
JP2004104251 | 2004-03-31 | ||
PCT/JP2005/005314 WO2005097450A1 (ja) | 2004-03-31 | 2005-03-24 | 光学素子成形用金型の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2005097450A1 JPWO2005097450A1 (ja) | 2008-02-28 |
JP4525677B2 true JP4525677B2 (ja) | 2010-08-18 |
Family
ID=35044956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006512000A Expired - Fee Related JP4525677B2 (ja) | 2004-03-31 | 2005-03-24 | 光学素子成形用金型の製造方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7366395B2 (ja) |
EP (1) | EP1604757B1 (ja) |
JP (1) | JP4525677B2 (ja) |
KR (1) | KR101139071B1 (ja) |
CN (1) | CN1676477B (ja) |
DE (1) | DE602005011892D1 (ja) |
TW (1) | TWI346092B (ja) |
WO (1) | WO2005097450A1 (ja) |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7488170B2 (en) * | 2004-04-09 | 2009-02-10 | Konica Minolta Opto, Inc. | Metallic mold for optical element and optical element |
DE112006002822B4 (de) * | 2005-10-19 | 2013-07-25 | Tokyo Institute Of Technology | Korrosions- und wärmebeständige Metalllegierung für eine Formmatrize und daraus hergestellte Matrize |
JP4753249B2 (ja) * | 2006-01-13 | 2011-08-24 | 株式会社神戸製鋼所 | ガラス成形用金型 |
US8641839B2 (en) * | 2007-02-13 | 2014-02-04 | Yale University | Method for imprinting and erasing amorphous metal alloys |
JP2009280410A (ja) * | 2008-04-21 | 2009-12-03 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス基板成形用金型、ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体 |
TW201111144A (en) | 2009-09-30 | 2011-04-01 | E Pin Optical Industry Co Ltd | High sag optical lens and method for fast molding the same |
RU2457185C1 (ru) * | 2011-02-11 | 2012-07-27 | Открытое акционерное общество "Обнинское научно-производственное предприятие "Технология" | Устройство для прессования полых стеклоизделий |
US8459331B2 (en) | 2011-08-08 | 2013-06-11 | Crucible Intellectual Property, Llc | Vacuum mold |
US8858868B2 (en) | 2011-08-12 | 2014-10-14 | Crucible Intellectual Property, Llc | Temperature regulated vessel |
JP5941253B2 (ja) * | 2011-08-22 | 2016-06-29 | 株式会社小糸製作所 | 車輌用灯具 |
US9302320B2 (en) | 2011-11-11 | 2016-04-05 | Apple Inc. | Melt-containment plunger tip for horizontal metal die casting |
WO2013070240A1 (en) | 2011-11-11 | 2013-05-16 | Crucible Intellectual Property, Llc | Dual plunger rod for controlled transport in an injection molding system |
US20130125590A1 (en) * | 2011-11-23 | 2013-05-23 | Jiangwei Feng | Reconditioning glass-forming molds |
CN102615820A (zh) * | 2012-04-12 | 2012-08-01 | 中国科学院物理研究所 | 金属玻璃基塑料热压印微成型模具及其制备方法 |
US9314839B2 (en) | 2012-07-05 | 2016-04-19 | Apple Inc. | Cast core insert out of etchable material |
US9004151B2 (en) | 2012-09-27 | 2015-04-14 | Apple Inc. | Temperature regulated melt crucible for cold chamber die casting |
US8701742B2 (en) | 2012-09-27 | 2014-04-22 | Apple Inc. | Counter-gravity casting of hollow shapes |
US8833432B2 (en) | 2012-09-27 | 2014-09-16 | Apple Inc. | Injection compression molding of amorphous alloys |
US8813816B2 (en) | 2012-09-27 | 2014-08-26 | Apple Inc. | Methods of melting and introducing amorphous alloy feedstock for casting or processing |
US8826968B2 (en) | 2012-09-27 | 2014-09-09 | Apple Inc. | Cold chamber die casting with melt crucible under vacuum environment |
US8813813B2 (en) | 2012-09-28 | 2014-08-26 | Apple Inc. | Continuous amorphous feedstock skull melting |
US8813817B2 (en) | 2012-09-28 | 2014-08-26 | Apple Inc. | Cold chamber die casting of amorphous alloys using cold crucible induction melting techniques |
US8813814B2 (en) | 2012-09-28 | 2014-08-26 | Apple Inc. | Optimized multi-stage inductive melting of amorphous alloys |
US10197335B2 (en) | 2012-10-15 | 2019-02-05 | Apple Inc. | Inline melt control via RF power |
JP6199086B2 (ja) * | 2013-06-13 | 2017-09-20 | 東洋鋼鈑株式会社 | パラジウムめっき被覆材料、およびパラジウムめっき被覆材料の製造方法 |
US9925583B2 (en) | 2013-07-11 | 2018-03-27 | Crucible Intellectual Property, Llc | Manifold collar for distributing fluid through a cold crucible |
US9445459B2 (en) | 2013-07-11 | 2016-09-13 | Crucible Intellectual Property, Llc | Slotted shot sleeve for induction melting of material |
JP6706067B2 (ja) | 2013-10-28 | 2020-06-03 | 東洋鋼鈑株式会社 | 合金めっき被覆材料、および合金めっき被覆材料の製造方法 |
JP6411734B2 (ja) * | 2013-12-12 | 2018-10-24 | Hoya株式会社 | 研磨用ガラス光学素子ブランク用成形型、並びに、研磨用ガラス光学素子ブランクおよび光学素子の製造方法 |
US20150175467A1 (en) * | 2013-12-23 | 2015-06-25 | Infineon Technologies Austria Ag | Mold, method for producing a mold, and method for forming a mold article |
CN103774109B (zh) * | 2014-01-26 | 2016-06-08 | 浙江大学 | 一种超高灵敏度的Fe-Y-B金属薄膜及其制备方法 |
AT14576U1 (de) * | 2014-08-20 | 2016-01-15 | Plansee Se | Metallisierung für ein Dünnschichtbauelement, Verfahren zu deren Herstellung und Sputtering Target |
US9873151B2 (en) | 2014-09-26 | 2018-01-23 | Crucible Intellectual Property, Llc | Horizontal skull melt shot sleeve |
CN104730674A (zh) * | 2015-02-10 | 2015-06-24 | 华南理工大学 | 一种led光学透镜的制备方法及其模具 |
US11884032B2 (en) * | 2017-12-19 | 2024-01-30 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Production method for spectacle lens molding mold and production method for spectacle lens |
CN111847852B (zh) * | 2020-07-23 | 2023-11-14 | 北方夜视技术股份有限公司 | 龙虾眼光学器件球面成形系统与方法 |
CN112062450B (zh) * | 2020-08-31 | 2022-05-27 | 深圳大学 | 一种非晶玻璃热压模具的制备方法以及热压模具 |
EP4122689A1 (en) * | 2021-07-20 | 2023-01-25 | Essilor International | Low thermal conductivity metal insert with surface microstructures |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05297210A (ja) * | 1992-04-21 | 1993-11-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回折格子の成形用金型及びその製造方法及び回折格子及びその製造方法 |
JPH0725628A (ja) * | 1993-07-09 | 1995-01-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 微細光学ガラス素子の成形用金型及びその製造方法 |
JPH07172849A (ja) * | 1993-12-16 | 1995-07-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学素子のプレス成形用金型およびその製造方法 |
JPH07307553A (ja) * | 1994-05-11 | 1995-11-21 | Nitto Denko Corp | 金属基板上への金属薄膜形成方法 |
JP2002326825A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-11-12 | Konica Corp | 光学素子成形金型及び光学素子 |
JP2002326230A (ja) * | 2001-05-07 | 2002-11-12 | Ricoh Co Ltd | 金型製造方法とその装置、金型及び成形品 |
JP2003154529A (ja) * | 2001-11-20 | 2003-05-27 | Akira Shimokawabe | 光学素子成形用金型 |
JP2003160343A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-06-03 | Konica Corp | 光学素子成形用金型及び光学素子 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000040516A1 (fr) * | 1999-01-05 | 2000-07-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Poinçon pour le formage de dispositif optique, son procede de fabrication et dispositif optique |
US20020118465A1 (en) * | 2001-02-28 | 2002-08-29 | Konica Corporation | Molding die for optical element, optical element and master die |
JP2003251552A (ja) * | 2002-02-27 | 2003-09-09 | Nikon Corp | 加工方法、光学素子及び金型の製造方法、光学素子及び光学装置 |
JP2005173558A (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-30 | Seiko Epson Corp | 円周面の加工方法、現像ローラ及び感光ドラムの製造方法並びに現像ローラ及び感光ドラム |
US7488170B2 (en) * | 2004-04-09 | 2009-02-10 | Konica Minolta Opto, Inc. | Metallic mold for optical element and optical element |
-
2005
- 2005-03-24 EP EP05251886A patent/EP1604757B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-24 TW TW094109132A patent/TWI346092B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-03-24 DE DE602005011892T patent/DE602005011892D1/de active Active
- 2005-03-24 WO PCT/JP2005/005314 patent/WO2005097450A1/ja active Application Filing
- 2005-03-24 JP JP2006512000A patent/JP4525677B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-28 CN CN2005100624129A patent/CN1676477B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-03-28 KR KR1020050025444A patent/KR101139071B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-03-28 US US11/090,232 patent/US7366395B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05297210A (ja) * | 1992-04-21 | 1993-11-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回折格子の成形用金型及びその製造方法及び回折格子及びその製造方法 |
JPH0725628A (ja) * | 1993-07-09 | 1995-01-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 微細光学ガラス素子の成形用金型及びその製造方法 |
JPH07172849A (ja) * | 1993-12-16 | 1995-07-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学素子のプレス成形用金型およびその製造方法 |
JPH07307553A (ja) * | 1994-05-11 | 1995-11-21 | Nitto Denko Corp | 金属基板上への金属薄膜形成方法 |
JP2002326825A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-11-12 | Konica Corp | 光学素子成形金型及び光学素子 |
JP2002326230A (ja) * | 2001-05-07 | 2002-11-12 | Ricoh Co Ltd | 金型製造方法とその装置、金型及び成形品 |
JP2003154529A (ja) * | 2001-11-20 | 2003-05-27 | Akira Shimokawabe | 光学素子成形用金型 |
JP2003160343A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-06-03 | Konica Corp | 光学素子成形用金型及び光学素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1676477B (zh) | 2010-05-26 |
US20050242454A1 (en) | 2005-11-03 |
EP1604757A3 (en) | 2005-12-21 |
JPWO2005097450A1 (ja) | 2008-02-28 |
KR101139071B1 (ko) | 2012-04-30 |
CN1676477A (zh) | 2005-10-05 |
TW200602274A (en) | 2006-01-16 |
DE602005011892D1 (de) | 2009-02-05 |
EP1604757B1 (en) | 2008-12-24 |
KR20060044839A (ko) | 2006-05-16 |
WO2005097450A1 (ja) | 2005-10-20 |
TWI346092B (en) | 2011-08-01 |
US7366395B2 (en) | 2008-04-29 |
EP1604757A2 (en) | 2005-12-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4525677B2 (ja) | 光学素子成形用金型の製造方法 | |
JP4110506B2 (ja) | 光学素子成形用金型 | |
US7383701B2 (en) | Method of makeing a molding die | |
US7488170B2 (en) | Metallic mold for optical element and optical element | |
CN1733444B (zh) | 光学元件用成形模具的制造方法,光学元件用成形模具和光学元件 | |
JPWO2007046437A1 (ja) | 成形金型用耐食耐熱合金および光学素子成型用金型 | |
US5958469A (en) | Method for fabricating tools for molding diffractive surfaces on optical lenses | |
TW201130753A (en) | Pressing mold for optical lenses, glass optical lens and method for manufacturing glass optical lenses | |
JP2005319778A (ja) | 光学素子用成形金型、光学素子成形方法及び光学素子 | |
JP4525900B2 (ja) | 光学素子用成形金型の製造方法及び光学素子用成形金型 | |
JP2002326232A (ja) | 光学面成形金型、光学素子、レンズ及びマスター型 | |
JP4835818B2 (ja) | 光学素子成形金型用成形金型及び光学素子成型金型の製造方法 | |
EP0924043B1 (en) | Method for fabricating molding tools for molding optical surfaces | |
JP2002326231A (ja) | 光学素子用金型、光学素子及びマスター型 | |
JP3964188B2 (ja) | 光学素子成形用金型 | |
JP5282304B2 (ja) | ガラス素子用成形金型の製造方法、ガラス素子用成形金型、光学素子の成形方法、及びガラスブランクの成形方法 | |
JP4382392B2 (ja) | 成形金型の製造方法 | |
JP2009051138A (ja) | 金型および金型の製造方法 | |
JP2001322130A (ja) | 回折光学素子の製造方法および回折光学素子の製造に用いる金型の製作方法 | |
JPH08160211A (ja) | 金型の製造方法およびそれを用いた光学素子の製造方法 | |
JP2002182024A (ja) | レンズ及びその製造方法 | |
JP2013136517A (ja) | ガラス素子用成形金型の製造方法、ガラス素子用成形金型、光学素子の成形方法、及びガラスブランクの成形方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080319 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100511 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100524 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |