JP4516309B2 - ガス測定装置 - Google Patents
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 131
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 48
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 42
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 16
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 8
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims description 7
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 7
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N platinum rhodium Chemical compound [Rh].[Pt] PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
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Description
値を下回ったときに前記エアポンプを稼働し、前記バッファ部の内圧が上限しきい値を上回ったときに前記エアポンプを稼働停止させる。
量制御部16を設け、前記カラム1に供給されるエア量を一定に維持すべく調整可能に構成してある。
このとき、前記制御部による前記エアポンプの動作は、前記バッファ部の内圧を、下限しきい値の142kPa(1.4気圧)に達すると、エアポンプを稼働し、上限しきい値の182kPa(1.8気圧)に達すると、エアポンプを停止させるように制御する。
すると、バッファ部の内圧が、上限しきい値から下限しきい値に達するまでの約12分間エアポンプを停止することができる。逆に、下限しきい値から上限しきい値に達するまでには約15秒で済み、エアポンプの稼働効率を極めて少なくできた。しかも、その間、エア流量は20mL/分で極めて安定し、脈動もなかった。そのため、従来の装置では、装置全体としての通気抵抗が大きく、エアポンプの負荷が大きくなっていたのに対して、エアポンプの消費電力を極めて少なくでき、しかも、寿命を大きく延ばすことができた。
<熱線型ガス検知素子>
図2に示すように、ガス検知素子6aは、白金を主成分とし、線径30μm、巻き数15turn、長さ550μmの導線コイル6bに、金属酸化物半導体を塗布焼成して球状に形成した感応層6cを設けてある。
尚、前記導線コイル6bとしては、白金に代えて白金ロジウム、白金パラジウム等の貴金属線コイルを用いると、熱的安定性が高いので好ましい。また、酸化スズに代えて酸化インジウム、酸化鉄、酸化亜鉛、等の金属酸化物半導体も利用可能である。さらに、感応層には、ガス選択性を高める等の目的で、必要に応じてコーティング層6dが設けられる。
図3に示すように、ガス検知素子6aは、アルミナ基板6e上に金属酸化物半導体を主成分とする膜層(感応層)6cを備えて構成されており、この金属酸化物半導体膜層6cに電気的に接続された検出電極としての白金薄膜電極6gを備えて構成されている。そして、この白金薄膜電極6gに対して、この電極間における抵抗値の変化を検出するように、検出端子が設けられる。さらに、アルミナ基板6eの裏面側に白金薄膜ヒーター6hが備えられ、これにセンサ温度制御装置への加熱端子6fを設けて加熱手段が構成されている。この加熱手段は、センサの動作に適する450〜550℃にガス検知素子6aを加熱維持する。さらに、感応層には、ガス選択性を高める等の目的で、必要に応じてコーティング層6dが設けられる。
b側に排出される。この排出された各成分が順次ガス検知部6に誘導され、ガス検知素子6aに接触する。すると、前記ガス検知素子6aの見かけ抵抗値は変化するので、前記ガス検知回路9からその抵抗値の変化に対応するガス検知出力が得られる。
演算により求められたガス種および被検知ガスのガス濃度は、表示部12に表示され、分析結果を知ることができる。
このとき、前記制御部による前記エアポンプの動作は、前記バッファ部の内圧を、下限しきい値の30kPa(0.3気圧)に達すると、エアポンプを停止し、上限しきい値の61kPa(0.6気圧)に達すると、エアポンプを稼働させるように制御する。
2 エアポンプ
1,6 ガス測定部
16 流量制御部
13 バッファ部
13a ガス吸着剤
15 制御部
Claims (2)
- カラム分離部を有するガス測定部と、
キャリアガスとしてのエアを前記ガス測定部に供給するエアポンプと、
前記エアポンプの下流側に配設され、前記エアの流量を制御する流量制御部と、
前記エアポンプに連接するよう、前記エアポンプと前記流量制御部との間に配置され、前記エアを一旦貯留するバッファ部と、
前記バッファ部の内圧をモニタする圧力検知部と、
前記バッファ部の内圧が下限しきい値を下回ったときに前記エアポンプを稼働させ、前記バッファ部の内圧が上限しきい値を上回ったときに前記エアポンプを停止させる制御部と、を備えたガス測定装置。 - 前記バッファ部に夾雑ガス吸着用のガス吸着剤を内装してある請求項1に記載のガス測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003419310A JP4516309B2 (ja) | 2003-12-17 | 2003-12-17 | ガス測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003419310A JP4516309B2 (ja) | 2003-12-17 | 2003-12-17 | ガス測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005180996A JP2005180996A (ja) | 2005-07-07 |
JP4516309B2 true JP4516309B2 (ja) | 2010-08-04 |
Family
ID=34781242
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003419310A Expired - Fee Related JP4516309B2 (ja) | 2003-12-17 | 2003-12-17 | ガス測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4516309B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2065704B1 (de) * | 2007-11-30 | 2019-03-06 | Inrag AG | Gaschromatograph |
JP5413319B2 (ja) * | 2010-07-07 | 2014-02-12 | 株式会社デンソー | ガス検知装置 |
JP2013029475A (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | New Cosmos Electric Corp | 吸引式ガス検知器 |
JP5957973B2 (ja) * | 2012-03-07 | 2016-07-27 | 東ソー株式会社 | 微小流量送液方法および前記方法を利用した装置 |
EP3267192B1 (en) * | 2016-07-07 | 2020-08-19 | Alpha M.O.S. | Gas chromatograph comprising metal oxide sensors |
JP6854332B2 (ja) * | 2019-11-21 | 2021-04-07 | ホーチキ株式会社 | 煙検知装置及び煙発生場所の特定方法 |
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JP2003342008A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Gl Sciences Inc | 窒素発生装置 |
-
2003
- 2003-12-17 JP JP2003419310A patent/JP4516309B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2003342008A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-03 | Gl Sciences Inc | 窒素発生装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005180996A (ja) | 2005-07-07 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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