JP4513322B2 - 液体噴射ヘッド及びこれを備えた液体噴射装置 - Google Patents

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Description

本発明は、液体噴射ヘッド及びこれを備えた液体噴射装置に関する。
従来から液体噴射ヘッドの一例として、インク滴を吐出するノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧電体素子により変形させて圧力発生室内のインクを加圧してノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッドがある。このようなインクジェット式記録ヘッドとしては、例えば、ノズル開口に連通する圧力発生室の列を少なくとも2列備えた流路形成基板と、この流路形成基板の圧電体素子側に接合され且つ圧電体素子を駆動させる駆動回路が実装される接合基板とを有し、駆動回路と各圧電体素子とが接合基板に設けられた貫通孔を介して電気的に接続されている構造が知られている。(例えば、特許文献1参照)。
また、流路形成基板の圧電体素子側に接合され、当該圧電体素子を駆動させる駆動回路が実装される接合基板を有すると共に、この接合基板の圧力発生室の列間に対応する部分に当該接合基板を厚さ方向に貫通する貫通孔が設けられ、各圧電体素子のそれぞれから引き出される引き出し配線が前記貫通孔に対応する部分まで延設されると共に、当該引き出し配線と前記駆動回路とが前記貫通孔を介して延設される導電性ワイヤによって電気的に接続されたインクジェット式記録ヘッドも紹介されている。このインクジェット式記録ヘッドでは、流路形成基板の両脇にリザーバが形成されている。(例えば、特許文献2参照)。
特開2000−296616号公報 特開2003−246065号公報
しかしながら、特開2000−296616号公報に記載されたインクジェット式記録ヘッドは、1つの駆動回路で2列の圧電体素子を駆動させる構造であるため、製造コストは比較的低く抑えられるが、駆動回路の両側にそれぞれ貫通孔を形成しているため、流路形成基板及び接合基板を比較的大きくする必要があり、ヘッドの小型化が困難である。
そこで、特開2003−246065号公報では、前記貫通孔を形成する領域を小さくすることができるようにして、圧力発生室を高密度に配列することができると共に、ヘッドの小型化を達成することができるインクジェット式記録ヘッドを開示している。しかしながら、このインクジェット式記録ヘッドは、インク供給路とリザーバとの間に流路形成基板のみで構成される空間が存在するため、各圧力発生室からリザーバ側に流出するインクは、その空間内で圧力発生室の並設方向のみに流れることになる。このため、隣接する圧力発生室から流出したインクの流れが干渉して、いわゆるクロストークが発生し、安定したインク吐出特性を得ることが困難になる虞がある。そして、このような現象は、インクを吐出するインクジェット式記録ヘッドだけでなく、インク以外の液体を噴射(吐出)する液体噴射ヘッドについても同様に存在する。
本発明は、このような事情に鑑み、クロストークの発生を防止できると共に、保護基板の接合部分に対応する領域で、振動板にクラックが生じることを防止でき、安定した液体吐出特性を得ることができる液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供することを目的とする。
この目的を達成するため、本発明は、ノズル開口に連通する複数の圧力発生室が並設された流路形成基板と、当該流路形成基板に振動板を介して設けられた下部電極、圧電体層及び上部電極からなる圧電体素子と、前記流路形成基板の前記圧電体素子側の面に接合される保護基板と、を具備し、当該保護基板が、圧電体素子の運動を阻害しない程度の空間を有して当該圧電体素子を保持する圧電体素子保持部と、各圧力発生室の共通の液体室であるリザーバの一部を構成するリザーバ部と、を有し、前記リザーバが、前記リザーバ部と前記流路形成基板に設けられた連通部と、を有して構成されてなる液体噴射ヘッドであって、
前記保護基板の前記圧電体素子保持部と前記リザーバ部との間の領域が前記流路形成基
板との接合部分であり、当該接合部分の前記リザーバ側の端部近傍まで前記圧力発生室の
幅方向両側の隔壁を延設し、前記圧力発生室に連通して当該圧力発生室の幅より小さい幅
を有する液体供給路と、当該液体供給路と前記連通部とを連通すると共に、前記液体供給
路の幅より広い幅を有する連通路とを前記隔壁により前記圧力発生室毎に区画して設け、
前記振動板の、前記保護基板の前記接合部分に対応する領域上に、下部電極形成用膜を
介して第1の積層体と、第2の積層体を互いに離間して設け、前記保護基板の前記接合部分を、前記第1の積層体及び第2の積層体に接着剤を介して接合してなる液体噴射ヘッドを提供するものである。
この構成を備えた液体噴射ヘッドは、各液体供給路とリザーバとの間のそれぞれに連通路を個別に設けることで、クロストークの発生が防止され、安定した液体吐出特性が得られる。さらに、保護基板の接合部分が取付けられる第1の積層体と第2の積層体との間の領域に、下部電極形成用膜が形成されており、この領域では振動板が露出していない構成となっている。このため、下部電極形成用膜がパターニング等によってこの領域内で切断されている場合に比べ、第1の積層体及び第2の積層体により形成される段差を小さく(低く)することができる。したがって、この領域における空気の巻き込みや、温度変化による膨張の発生を抑制することができる。
また、振動板は、前記保護基板の接合部分と対応する領域において露出されている部分が無いため、仮に、保護基板を接合するための接着剤等が流路形成基板側に垂れたとしても、振動板が接着剤に侵されることを防止することができる。したがって、振動板にクラックが生じることを防止することができ、例えば、振動板に形成されたクラックからインクが侵入する等の不具合が生じることもない。
前記保護基板は、前記接合部分の前記隔壁と対応する位置に、当該保護基板を前記流路形成基板に接合するための接着剤を待避させるための溝が形成された構成とすることができる。
この構成により、仮に、保護基板を接合するための接着剤等が流路形成基板側に垂れたとしても、振動板が接着剤に侵されることを一層防止することができる。
前記第1の積層体は、リード電極形成用膜を備えて構成することができる。また、前記第2の積層体は、圧電体層形成用膜、上部電極形成用膜及びリード電極形成用膜を備えて構成することができる。
そしてまた、前記隔壁の前記リザーバ側の端部は、前記接合部分に対応する領域内に位置するよう構成することができる。このように構成することで、前記利点に加え、隔壁の端部を連通部内に突出させることができるため、リザーバを形成する際の障害となるのを確実に防止できる。
また、本発明は、前述した構成の液体噴射ヘッドと、当該液体噴射ヘッドを駆動する駆動装置と、を備えた液体噴射装置を提供するものである。
この構成を備えた液体噴射装置は、各液体供給路とリザーバとの間のそれぞれに連通路を個別に設けることで、クロストークの発生を防止できると共に、保護基板の接合部分に対応する領域で、振動板にクラックが生じることを防止できる。したがって、安定した液体吐出特性を得ることができ、且つ信頼性を向上することができる。
次に、本発明の好適な実施の形態にかかる液体噴射ヘッド、並びに液体噴射装置について図面を参照して説明する。
なお、本実施の形態では、液体噴射ヘッドとして、インク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッドを、液体噴射装置として、インクジェット式記録ヘッドを備えたプリンタを例にとって説明する。また、以下に記載される実施の形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明をこれらの実施形態にのみ限定するものではない。したがって、本発明は、その要旨を逸脱しない限り、様々な形態で実施することができる。
図1は、本実施の形態にかかるプリンタを示す斜視図、図2は、図1に示すプリンタに使用されるインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図、図3は、図2に示すインクジェット式記録ヘッドの概略平面図、図4は、図3に示すIV−IV線に沿った断面図である。
図1に示すように、本実施の形態にかかるプリンタ1は、複数のインクジェット式記録ヘッド2(図2参照)を有するヘッドユニット1A及び1Bを備え、このヘッドユニット1A及び1Bには、インク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが着脱可能に設けられている。これらのカートリッジ2A及び2Bが着脱可能に設けられたヘッドユニット2は、キャリッジ3に搭載されており、このキャリッジ3は、プリンタ本体4に取り付けられたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられている。なお、ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、それぞれブラックインク組成物、及びカラーインク組成物を吐出する。
また、プリンタ本体4には、キャリッジ3を駆動するための駆動モータ6が設けられており、駆動モータ6の駆動力が図示しない複数の歯車及びタイミングベルト7を介してキャリッジ3に伝達されることで、ヘッドユニット1A及び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿って移動される。
さらに、プリンタ本体4には、キャリッジ軸5に沿ってプラテン8が設けられており、図示しない給紙ローラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートSがプラテン8上を搬送されるようになっている。そして、ヘッドユニット1A及び1Bから、所望のインク組成物が、所望のタイミングで記録シートSに吐出されることで、文字や画像等が印刷される。
本実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッド2は、図2〜図4に示すように、ノズル開口21に連通する複数の圧力発生室12が並設された流路形成基板10と、流路形成基板10に振動板50を介して設けられた下部電極60、圧電体層70及び上部電極80からなる圧電体素子300と、流路形成基板10の圧電体素子側の面に接合される保護基板30と、を具備している。
流路形成基板10は、本実施の形態では、面方位(110)のシリコン単結晶基板からなり、その一方の面には、予め熱酸化により形成した二酸化シリコン(SiO2)から構成された第1の絶縁膜50Aが形成され、他方の面には、圧力発生室12を形成する際にマスクとして用いられるマスクパターン51が形成されている。
流路形成基板10には、前記マスクパターン51をマスクとして異方性エッチングすることにより、複数の隔壁11によって区画された圧力発生室12が幅方向に並設され、且つその長手方向一端部側には、圧力発生室12と共に、インク供給路14と、連通路100と、各圧力発生室12の共通インク室となるリザーバ110の一部を構成する連通部13と、が形成されている。なお、隔壁11は、連通部13の端部近傍まで延設されて壁部11Aが形成され、この壁部11Aにより、インク供給路14と連通部13との間の空間が区画されることにより各連通路100が形成されている。
なお、連通路100を形成する壁部11Aのリザーバ110側の端部は、流路形成基板10と保護基板30とが接合される接合部分に対向する領域内に位置していることが好ましい。壁部11Aの端部が連通部13内に突出していると、後述する製造プロセスにおいて、連通部13と、後に詳述するリザーバ部32とを隔てる振動板50を破ってリザーバ110を形成する際の障害となる虞があるからである。
インク供給路14は、圧力発生室12の長手方向一端部側に連通し、且つ圧力発生室12より小さい断面積を有する。例えば、本実施の形態では、インク供給路14は、リザーバ110と各圧力発生室12との間の圧力発生室12側の流路を幅方向に絞ることで、圧力発生室12の幅より小さい幅で形成されている。
連通路100は、圧力発生室12の幅方向両側の隔壁11を連通部13側に延設し、これによりインク供給路14と連通路13との間の空間を区画することで形成されている。この連通路100は、各インク供給路14と連通部13との間に各圧力発生室12毎にそれぞれ独立して設けられ、インク供給路14と共に各圧力発生室12とリザーバ110との間の個別の流路を構成している。この連通路100の幅は、インク供給路14よりも幅広に形成されている。
ここで、前述した異方性エッチングは、シリコン単結晶基板のエッチングレートの違いを利用して行われる。例えば、本実施の形態では、シリコン単結晶基板をKOH等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々に浸食されて(110)面に垂直な第1の(111)面と、この第1の(111)面と約70度の角度をなし且つ前記(110)面と約35度の角度をなす第2の(111)面とが出現し、(110)面のエッチングレートと比較して(111)面のエッチングレートが約1/180であるという性質を利用して行われる。かかる異方性エッチングにより、2つの第1の(111)面と斜めの2つの(111)面とで形成される平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行うことができ、圧力発生室12を高密度に配列することができる。
なお、本実施の形態では、各圧力発生室12の長辺を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板10をほぼ貫通して第1の絶縁膜50Aに達するまでエッチングすることにより形成されている。第1の絶縁膜50Aはシリコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に浸される量が極めて小さい。
このような流路形成基板10の厚さは、圧力発生室12の配列密度に合わせて最適な厚さを選択すればよく、圧力発生室12の配列密度が、例えば、1インチ当たり180個(180dpi)程度であれば、流路形成基板10の厚さは、220μm程度であればよいが、例えば、200dpi以上と比較的高密度に配列する場合には、流路形成基板10の厚さは100μm以下、特に70μmと比較的薄くするのが好ましい。これは、隣接する圧力発生室12間の隔壁11の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるからである。
流路形成基板10の開口面側には、ノズル開口21が穿設されたノズルプレート20が接合されている。このようなノズルプレート20は、厚さが例えば、0.01〜1mmで、ガラスセラミックス、シリコン単結晶基板又は不錆鋼などからなる。ノズルプレート20は、一方の面で流路形成基板10の一面を全面的に覆い、流路形成基板10を衝撃や外力から保護する補強板の役目も果たす。ここで、インク滴吐出圧力をインクに与える圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズル開口21の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノズル開口21は数十μmの直径で精度よく形成する必要がある。
一方、流路形成基板10の開口面とは反対側には、厚さが例えば、約1.0μmの第1の絶縁膜50Aの上に、厚さが例えば、0.4μmの酸化ジルコニウム(ZrO2)膜から構成された第2の絶縁膜50Bが形成されており、この第1の絶縁膜50A及び第2の絶縁膜50Bにより、振動板50が構成されている。
この振動板50のうち、圧力発生室12が形成されている領域上には、厚さが例えば、約0.2μmの下部電極60と、厚さが例えば、約1.0μmの圧電体層70と、厚さが例えば、約0.05μmの上部電極80とが、後述するプロセスで積層形成されて、圧電体素子300を構成している。この圧電体素子300の個別電極である各上部電極80の一端部には、例えば、金(Au)、アルミ(Al)等からなり一端が後述する貫通孔33に対応する領域にまで延設されたリード電極90が接続されている。
ここで、圧電体素子300とは、下部電極60、圧電体層70、及び上部電極80を含む部分をいう。一般的には、圧電体素子300の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極と圧電体層70を、圧力発生室12毎にパターニングして構成する。そして、ここではパターニングされた何れか一方の電極及び圧電体層70から構成され、両電極への電圧の印加により圧電歪みが生じる部分を圧電体能動部という。
なお、本実施の形態では、下部電極60を圧電体素子300の共通電極とし、上部電極80を圧電体素子300の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。何れの場合においても、圧力発生室毎に圧電体能動部が形成されていることになる。また、ここでは、圧電体素子300と、この圧電体素子300の駆動により変位が生じる振動板50とを合わせて圧電アクチュエータと称する。
また、振動板50のうち、インク供給路14が形成されている領域上には、厚さが例えば、約0.2μmであり、後に詳述する第2の積層体形成領域の途中まで延出形成された下部電極形成用膜60Aが形成され、この下部電極形成用膜60A上のインク供給路14が形成されている領域上には、リード電極形成用膜90Aからなる第1の積層体92が形成されている。このリード電極形成用膜90Aは、後に詳述する保護基板30が接合される接合部分となる。
また、振動板50のうち、連通路100が形成されている領域上には、インク供給路14が形成されている領域から延出形成されている下部電極形成用膜60Aと所定の間隔をおいて、下部電極形成用膜60A(厚さが例えば、約0.2μm)が形成されている。そして、前記延出形成されている下部電極形成用膜60Aと、これと所定の間隔をおいて形成された下部電極形成用膜60A上であって、連通路100が形成されている領域上には、圧電体層形成用膜70A(厚さが例えば、約1.0μm)と、上部電極形成用膜80A(厚さが例えば、約0.05μm)と、リード電極形成用膜90Aとからなる第2の積層体93が形成されている。すなわち、下部電極形成用膜60Aは、第2の積層体93が形成されている領域で分離された構成となっている。そして、第1の積層体92と第2の積層体93との間には、下部電極形成用膜60Aが形成されており、振動板50が露出していない構成となっている。なお、リード電極形成用膜90Aは、後に詳述する保護基板30の接合部分が接合される。
このような圧電体素子300が形成された流路形成基板10上には、保護基板30が接合されている。この保護基板30は、各々の圧電体素子300の運動を阻害しない程度の空間を確保した状態で圧電体素子300を保持する圧電体素子保持部31と、連通部13に連通し、リザーバ110の一部を構成するリザーバ部32と、保護基板30を流路形成基板10に接合するための接着剤120が待避可能な逃げ溝130と、を備えている。尚、圧電体素子保持部31によって形成される空間は、圧電体素子300が外部環境からの影響を直接受けることがなければ密封される必要は無い。
リザーバ部32は、本実施の形態では、保護基板30を厚さ方向に貫通して圧力発生室12の幅方向に亘って形成されており、第1の絶縁膜50A及び第2の絶縁膜50Bからなる振動板50に設けられた貫通部を介して流路形成基板10の連通部13と連通され、各圧力発生室12の共通のインク室となるリザーバ110をそれぞれ構成している。なお、このよう保護基板30の厚さは、例えば、200〜400μmである。そして、このようなリザーバ110と各圧力発生室12とは、インク供給路14及び連通路100を介してそれぞれ連通している。
逃げ溝130は、圧電体素子保持部31とリザーバ部32との間に位置して、流路形成基板10との接合部分であって、壁部11Aと対向する位置に形成されている。
また、保護基板30のリザーバ部32とは反対側の領域には、保護基板30を厚さ方向に貫通した貫通孔33が設けられている。そして、各圧電体素子300から引き出されたリード電極90は、その端部近傍が貫通孔33内で露出されている。このような保護基板30としては、例えば、ガラス、セラミック材料、金属等を用いることができるが、本実施の形態では、流路形成基板10との熱膨張率と略同一の材料を用いることがより好ましいため、流路形成基板10と同一材料のシリコン単結晶基板を用いて形成した。
なお、保護基板30のリザーバ部32に対応する領域には、封止膜41及び固定板42からなるコンプライアンス基板40が接合されている。ここで、封止膜41は、剛性が低く可撓性を有する材料(例えば、厚さが6μmのポリフェニレンサルファイド(PPS)フィルム)からなり、この封止膜41によってリザーバ部32の一方面が封止されている。また、固定板42は、金属等の硬質の材料(例えば、厚さが30μmのステンレス鋼(SUS)等)で形成される。この固定板42のリザーバ110に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部43となっているため、リザーバ110の一方面は可撓性を有する封止膜41のみで封止されている。
この保護基板30が、流路形成基板10に接合される際は、圧電体素子保持部31とリザーバ部32との間に位置する領域が、流路形成基板10のインク供給路14が形成されている領域上に下部電極形成用膜60Aを介して形成された第1の積層体92(リード電極形成用膜90Aからなる層)と、連通路100が形成されている領域上に下部電極形成用膜60Aを介して形成された第2の積層体93(圧電体層形成用膜70A、上部電極形成用膜80A及びリード電極形成用膜90Aからなる層)上に接着剤120を介して接合される。
この時、第1の積層体92と第2の積層体93との間の領域には、下部電極形成用膜60Aが形成されているため、この下部電極形成用膜60Aがパターニング等によってこの領域内で切断されている場合に比べ、(すなわち、振動板50が露出している場合に比べ、)第1の積層体92及び第2の積層体93により形成される段差を小さく(低く)することができる。したがって、この領域における空気の巻き込みや、温度変化による膨張の発生を抑制することができる。また、この領域には、下部電極形成用膜60Aが形成されており、振動板50が露出されていないため、仮に接着剤120が流路形成基板10側に垂れたとしても、振動板50が接着剤120に侵されることを防止することができ、振動板50にクラックが生じることを防止することができる。この結果、例えば、振動板50に形成されたクラックからインクが侵入する等の不具合が生じることもない。
また、本実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッド2では、流路形成基板10の圧力発生室12の長手方向一端部にある保護基板30との接合部分に対向する領域(各インク供給路14とリザーバ110との間)に、壁部11Aによって圧力発生室12毎に独立して連通路100を所定幅で設けるようにしたので、インク吐出の際、隣接するインク供給路14からリザーバ110側へ流出するインク同士が干渉することがなく、クロストークの発生を防止できる。したがって、隣接するノズル開口21からインク滴を吐出させるか否かに関係なく、安定したインク吐出特性を得ることができる。また、クロストークを発生させることなくインク供給路14を短くすることができ、メニスカスの減衰特性を実質的に高めてヘッドの高速駆動を実現することも可能となる。
さらに、圧電体素子保持部31とリザーバ110との間の流路形成基板10と保護基板30との接合領域の長さL(図3参照)は、所定の長さであれば、圧電体素子保持部31とリザーバ部32との距離を確保でき、リザーバ110内のインクに含まれる水分が圧電体素子保持部31内へ侵入するのを防止でき、水分によって圧電体素子300が破壊されるのを確実に防止することができる。また、流路形成基板10と保護基板30との接合面積が大きくなるので、両基板の剛性を十分に確保でき、ヘッドの耐久性を向上できるという効果もある。
以上説明した本実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッド2は、図示しないインク供給手段からインクを取り込み、リザーバ110からノズル開口21に至るまで内部をインクで満たした後、図示しない駆動ICからの駆動信号に従い、圧力発生室12に対応するそれぞれの下部電極60と上部電極80との間に駆動電圧を印加し、振動板50、及び圧電体素子300を変位させることにより、各圧力発生室12内の圧力が高まりノズル開口21からインク滴が吐出する。
次に、本実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッド2の製造方法について説明する。
図5及び図6は、本実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッドの製造方法を示す工程図である。
まず、図5(a)に示すように、流路形成基板10となるシリコン単結晶基板のウェハを約1100℃の拡散炉で熱酸化して、各面に二酸化シリコン(SiO2)からなる第1の絶縁膜50Aを形成する。次に、図5(b)に示すように、この第1の絶縁膜50A上に、酸化ジルコニウム(ZrO2)からなる第2の絶縁膜50Bを形成する。このようにして、流路形成基板10上に、第1の絶縁膜50A及び第2の絶縁膜50Bからなる振動板50を形成する。
次に、図5(c)に示すように、例えば、白金とイリジウムとからなる下部電極形成用膜60Aを第2の絶縁膜50Bの全面に形成する。次いで、図5(d)に示すように、下部電極形成用膜60Aを所定形状にパターニングする。具体的には、このパターニングにより、後に圧電体素子300となる領域上に下部電極60を形成すると共に、後にインク供給路14及び連通路100が形成される領域上に下部電極形成用膜60Aを残存させ、且つ後に連通路100が形成される領域の所定位置で、下部電極形成用膜60Aを分離する(切断する)。次に、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)からなる圧電体層形成膜70Aと、イリジウムからなる上部電極形成用膜80Aとを順次積層し、これらを同時にパターニングして、下部電極60、圧電体層70及び上部電極80からなる圧電体素子300を形成すると共に、後に連通路100が形成される領域上に、圧電体層形成膜70A及び上部電極形成用膜80Aを残存させる。なお、前記下部電極形成用膜60Aが分離された部分は、この残存した圧電体層形成膜70A及び上部電極形成用膜80Aの下に位置している。
次に、図6(a)に示すように、例えば、金(Au)、又はアルミ(Al)からなるリード電極形成用膜90Aを流路形成基板10の全面に亘って形成する。次いで、このリード電極形成用膜90Aを、各圧電体素子300毎にパターニングしてリード電極90を形成すると共に、後にインク供給路14となる領域上及び図5(d)に示す工程で残存された上部電極形成用膜80A上にリード電極形成用膜90Aを残存させる。このようにして、下部電極形成用膜60A上のインク供給路14が形成される領域上に、リード電極形成用膜90Aからなる第1の積層体92が形成した。また、下部電極形成用膜60A上の連通路100が形成される領域上に、圧電体層形成膜70A、上部電極形成用膜80A及びリード電極形成用膜90Aからなる第2の積層体93を、第1の積層体92と所定の間隔をおいて形成した。ここで、第1の積層体92と第2の積層体93との間の領域上には、下部電極形成用膜60Aが存在している。以上が膜形成プロセスである。
次に、図6(b)に示すように、予め圧電体素子保持部31及びリザーバ部32等が形成された保護基板30を接合する。この時、保護基板30の圧電体素子保持部31とリザーバ部32との間の領域が、接着剤120を介して第1の積層体92及び第2の積層体93に接合される。なお、このような保護基板30は、後述するプロセスにて、流路形成基板10を異方性エッチングして圧力発生室12等を形成する際に、各圧電体素子300をアルカリ溶液から保護する役割も果たす。
その後は、前述したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板(流路形成基板10)の異方性エッチングを行い、圧力発生室12、連通部13及びインク供給路14、連通路100を形成する。具体的には、図6(c)に示すように、流路形成基板10の保護基板30との接合面とは反対側の面にマスクパターン51を形成した後、このマスクパターン51を介して流路形成基板10を異方性エッチングすることにより、圧力発生室12、連通部13、インク供給路14及び連通路100を形成する。なお、このように異方性エッチングを行う際には、保護基板30の表面を保護フィルム等で封止した状態で行う。また、このとき、リザーバ部32と連通部13との境界にある振動板50をレーザー等で破ってリザーバ110を形成する。このように、本実施の形態では、インク供給路14等を流路形成基板10の厚さ方向に貫通して設けることができるため、マスクパターン51を高精度にパターニングすれば、インク供給路14や連通路100等を高精度に形成できる。したがって、安定したインク吐出特性が得られる。
次いで、流路形成基板10の保護基板30とは反対側の面にノズル開口21が穿設されたノズルプレート20を接合する。なお、その後、保護基板30上にコンプライアンス基板40を接合すると共に、保護基板30上に駆動ICを実装し、各リード電極90と駆動ICとをボンディングワイヤからなる駆動配線によって接続することで、各圧電体素子300と駆動ICとを電気的に接続する。このようにして保護基板30に駆動ICを実装した後は、流路形成基板10、保護基板30等の各基板をチップサイズに分割することにより、本実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッド2とする。
なお、本実施の形態では、流路の幅を片側から絞ることでインク供給路14を形成したが、これに限らず、インク供給路は、流路の幅を両側から絞ることで形成してもよい。なお、この場合には、インク供給路は、例えば、流路形成基板を厚さ方向に異方性エッチング(ハーフエッチング)することにより形成される。また、上述の実施形態では、成膜及びリソグラフィプロセスを応用して製造される薄膜型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、勿論これに限定されるものではなく、例えば、グリーンシートを貼付する等の方法により形成される厚膜型のインクジェット式記録ヘッドにも本発明を採用することができる。
また、本実施の形態では、第2の積層体93の下に、下部電極形成用膜60Aの切れ目(分離箇所)を形成した場合について説明したが、これに限らず、下部電極形成用膜60Aの切れ目(分離箇所)は、第1の積層体92の下であってもよい。また、図7に示すように、第1の積層体92と第2の積層体93との間の領域部分に、下部電極形成用膜60Aの切れ目(分離箇所)を形成し、この切れ目を絶縁膜52で覆う等して、この領域で振動板50が露出しないようにしてもよい。
そしてまた、本実施の形態では、第1の積層体92を、リード電極形成用膜90Aから構成した場合について説明したが、これに限らず、リード電極形成用膜90Aに加え、圧電体層形成用膜70Aのいずれか一方、あるいは両方を備える等、他の構成であってもよい。
そしてまた、本実施の形態では、圧電体層70(圧電体層形成用膜70A)をチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)で形成した場合について説明したが、これに限らず、圧電体層70(圧電体層形成用膜70A)は、圧電性セラミックスの結晶であり、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)等の強誘電性圧電性材料の他、これに酸化ニオブ、酸化ニッケルまたは酸化マグネシウム等の金属酸化物を添加したものから構成してもよい。また、圧電体膜43の組成は、圧電体素子の特性、用途等を考慮して適宜選択する。具体的には、チタン酸鉛(PbTiO3)、チタン酸ジルコン酸鉛(Pb(Zr,Ti)O3)、ジルコニウム酸鉛(PbZrO3)、チタン酸鉛ランタン((Pb,La),TiO3)、ジルコン酸チタン酸鉛ランタン((Pb,La)(Zr,Ti)O3)又は、マグネシウムニオブ酸ジルコニウムチタン酸鉛(Pb(Zr,Ti)(Mg,Nb)O3)等が好適に用いられる。また、チタン酸鉛やジルコニウム酸鉛にニオブ(Nb)を適宜添加することにより、菱面体晶系の(100)面に優先配向させることができ圧電特性に優れた膜を得ることができる。
そしてまた、本実施の形態では、液体噴射ヘッドとして、インク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッドを、液体噴射装置として、インクジェット式記録ヘッドを備えたプリンタを例にとって説明したが、これに限らず、広く液体噴射ヘッドを有する液体噴射装置全般を対象としたものである。液体噴射ヘッドとしては、例えば、プリンタ等の画像記録装置に用いられる記録ヘッド、液晶ディスプレー等のカラーフィルタの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ELディスプレー、FED(面発光ディスプレー)等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオchip製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等を挙げることができる。
本発明の実施の形態にかかるプリンタを示す斜視図である。 図1に示すプリンタに使用されるインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図である。 図2に示すインクジェット式記録ヘッドの概略平面図である。 図3に示すIV−IV線に沿った断面図である。 本発明の実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッドの製造方法を示す工程図である。 本発明の実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッドの製造方法を示す工程図である。 本発明の他の実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッドの図4に対応する図である。
符号の説明
1・・・プリンタ、2・・・インクジェット式記録ヘッド、10・・・流路形成基板、11・・・隔壁、11A・・・壁部、12・・・圧力発生室、13・・・連通部、14・・・インク供給路、30・・・保護基板、31・・・圧電体素子保持部、32・・・リザーバ部、33・・・貫通孔、50・・・振動板、60・・・下部電極、60A・・・下部電極形成用膜、70・・・圧電体層、70A・・・圧電体層形成用膜、80・・・上部電極、80A・・・上部電極形成用膜、90・・・リード電極、91A・・・リード電極形成用膜、92・・・第1の積層体、93・・・第2の積層体、100・・・連通路、110・・・リザーバ、120・・・接着剤、130・・・逃げ溝、300・・・圧電体素子

Claims (6)

  1. ノズル開口に連通する複数の圧力発生室が並設された流路形成基板と、当該流路形成基
    板に振動板を介して設けられた下部電極、圧電体層及び上部電極からなる圧電体素子と、
    前記流路形成基板の前記圧電体素子側の面に接合される保護基板と、を具備し、当該保護
    基板が、圧電体素子の運動を阻害しない程度の空間を有して当該圧電体素子を保持する圧
    電体素子保持部と、各圧力発生室の共通の液体室であるリザーバの一部を構成するリザー
    バ部と、を有し、前記リザーバが、前記リザーバ部と前記流路形成基板に設けられた連通
    部と、を有して構成されてなる液体噴射ヘッドであって、
    前記保護基板の前記圧電体素子保持部と前記リザーバ部との間の領域が前記流路形成基
    板との接合部分であり、当該接合部分の前記リザーバ側の端部近傍まで前記圧力発生室の
    幅方向両側の隔壁を延設し、前記圧力発生室に連通して当該圧力発生室の幅より小さい幅
    を有する液体供給路と、当該液体供給路と前記連通部とを連通すると共に、前記液体供給
    路の幅より広い幅を有する連通路とを前記隔壁により前記圧力発生室毎に区画して設け、
    前記振動板の、前記保護基板の前記接合部分に対応する領域上に、下部電極形成用膜を
    介して第1の積層体と、第2の積層体を互いに離間して設け、
    前記第1の積層体と第2の積層体との間の領域上に、前記下部電極形成用膜を延在させ
    ると共に、当該下部電極形成用膜を前記第1の積層体形成領域または第2の積層体形成領
    域のいずれか一方の領域で分離し、
    前記保護基板の前記接合部分を、前記第1の積層体及び第2の積層体に接着剤を介して接合してなる液体噴射ヘッド。
  2. 前記保護基板は、前記接合部分の前記隔壁と対応する位置に、当該保護基板を前記流路
    形成基板に接合するための前記接着剤を待避させるための溝が形成されてなる請求項1記載の液体噴射ヘッド。
  3. 前記第1の積層体が、リード電極形成用膜を備えてなる請求項1ないし請求項のいず
    れか一項に記載の液体噴射ヘッド。
  4. 前記第2の積層体が、圧電体層形成用膜、上部電極形成用膜及びリード電極形成用膜を
    備えてなる請求項1ないし請求項のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッド。
  5. 前記隔壁の前記リザーバ側の端部は、前記接合部分に対応する領域内に位置している請
    求項1ないし請求項のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッド。
  6. 請求項1ないし請求項のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドと、当該液体噴射ヘッ
    ドを駆動する駆動装置と、を備えた液体噴射装置。
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