JP4508429B2 - センサマトリックス - Google Patents
センサマトリックス Download PDFInfo
- Publication number
- JP4508429B2 JP4508429B2 JP2000619195A JP2000619195A JP4508429B2 JP 4508429 B2 JP4508429 B2 JP 4508429B2 JP 2000619195 A JP2000619195 A JP 2000619195A JP 2000619195 A JP2000619195 A JP 2000619195A JP 4508429 B2 JP4508429 B2 JP 4508429B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensor
- capacitor
- field effect
- effect transistor
- metallization layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title claims description 18
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 73
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 60
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 25
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/50—Control of the SSIS exposure
- H04N25/57—Control of the dynamic range
- H04N25/59—Control of the dynamic range by controlling the amount of charge storable in the pixel, e.g. modification of the charge conversion ratio of the floating node capacitance
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/30—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof for transforming X-rays into image signals
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
- H04N25/771—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising storage means other than floating diffusion
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N5/00—Details of television systems
- H04N5/30—Transforming light or analogous information into electric information
- H04N5/32—Transforming X-rays
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Description
【技術分野】
本発明は、行及び列のマトリックスに配され、入射する照射量に依存して電荷を発生させる光感知又はX線感知センサを含む装置であって、各センサが、それぞれのトランジスタと共に、端子と並列に接続されるストレージキャパシタ又は固有のストレージキャパシタンスを備えたそれぞれの光センサ素子を含み、センサの各行には、少なくとも1つのスイッチングラインが備えられ、このラインを介して前記トランジスタが活性化され、関連して活性化されたセンサSの電荷が読取りライン8を介して同時に読み取れる装置に関する。さらに本発明は、当該装置を動作させる方法に関する。
【0002】
【背景技術】
前述のような装置は、欧州特許出願公報EP 0 440 282 A2号により知られている。特にX線アプリケーションの場合、僅かのX線量がセンサに入射する。その結果、入射放射線に依存して光センサ素子で発生された電荷もまた極く僅かである。多くの量のノイズが読み取られる信号上に重畳されるので、この僅かな電荷量がしばしば問題を生じさせる。この問題を緩和させるために、上記EP 0 440 282 A2号の公報で開示された装置の1つのセンサは、放射線の感度を高めるためにできるだけ大きい感知表面エリアを持つ。このような大きな表面エリアを実現させるべく、マトリックスの各読取りラインがこのマトリックス列のすべてのセンサから読み取られる信号を増幅するのに役に立つ、ただ一つの増幅器を具備する。
【0003】
【発明の開示】
本発明の目的は、前述の種類の改良された装置を提供し、当該装置を動作させる方法を提案することである。特に、装置の動作モードに依存して、センサの読取りにより生じるスイッチングノイズが減少され、及び/又はより高い画像のリピートレート、光センサ素子のより安定した動作条件、また大きな信号の場合には、光センサ素子の増大したダイナミックレンジも可能であろう。
【0004】
上述の目的は、第1のトランジスタとは独立して駆動可能な他のトランジスタと、各センサにおいて付加的なキャパシタとの協働を供給するというアイデアを基にして達成される。
【0005】
特に、上記目的は、各センサが光センサ素子と直接接続され少なくとも一つの制御ラインを介して活性化される他のトランジスタを含み、各センサのこれら2つのトランジスタが直列接続され、他のキャパシタの電極が前記2つのトランジスタの接合部に接続される装置において達成される。
【0006】
本発明の好ましい実施例において、センサのこれらトランジスタは両方共、導電チャネルが直列接続されている電界効果トランジスタとして構成される。この装置の動作の種々のモードが、制御ラインを介して光センサ素子に接続された電界効果トランジスタ(制御用電界効果トランジスタ)のゲート端子の駆動に依存して実現可能である。動作の個々のモードは、請求項9乃至11に記載された発明による装置を動作させる方法から実行される。
【0007】
制御用電界効果トランジスタと直列に接続される電界効果トランジスタ(スイッチング用電界効果トランジスタ)のゲート端子は、既知の態様でセンサを読み取るために活性化されるスイッチングラインに接続されている。
【0008】
既知のスイッチングラインに適合するように、センサの各行に対して、他のトランジスタ、特に制御用電界効果トランジスタを制御する少なくとも一つの制御ラインが設けられる。しかしながら、択一的に、マトリックス全体のすべての他のトランジスタを駆動するただ一つの制御ラインを設けることもできる。
【0009】
スイッチング用電界効果トランジスタのスイッチングノイズを効果的に減ずるために、本発明の実施例では、他のキャパシタが、固有のキャパシタンスよりも小さいか、及び/又は光センサ素子と並列に接続されたストレージキャパシタよりも小さいように選択される。
【0010】
各センサの構成素子は、薄膜基板上に近接して配されるか、及び/又は一方の素子の上に他の素子が配されている。付加的な制御用電界効果トランジスタは、アモルファスシリコン又はポリ結晶シリコンから構成されてもよい。
【0011】
本発明による装置が、請求項9の特徴によって動作するとき、上記他のキャパシタへの連続的な電荷転送が達成される。光センサ素子にかかる電圧が一定に維持されるとき、上記他のキャパシタは、照射線が当該光センサ素子に入射するときに上記ストレージキャパシタの代わりに放電される。以下、「チャージポンプ」の語句が、制御用電界効果トランジスタの動作のこのモードのために用いられる。結果として、他のキャパシタが読み出しラインを介して読み出されている間、再びチャージされる。他のキャパシタがストレージキャパシタよりも小さいとき、読みとられた容量の大きさに比例するスイッングノイズが減少される。
【0012】
光センサ素子にかかる電圧が一定に維持されるので、該光センサ素子の動作は大きな信号の場合でさえ安定する。なぜならば、同一の動作点で連続して動作するからである。さらに、センサのより大きなダイナミックレンジが、他のキャパシタにかかる最大電圧揺れ幅が適当に選択される場合に得られる。
【0013】
ストレージキャパシタと上記他のキャパシタとの間の制御された電荷転送は、請求項10の特徴に適合した発明による装置の動作によって達成しうる。動作のこのようなモードでは、電荷が他のキャパシタから読みとられる一方、光センサに入射する放射線が既にストレージキャパシタ内に新たな電荷を作り出している。このため、上記制御用電界効果トランジスタは一時的にチャージポンプとして動作する。
【0014】
ストレージキャパシタよりも小さい他のキャパシタは、制御された電荷転送の場合においてもスイッチング用電界トランジスタのスイッチングノイズを減少する効果を及ぼす。ストレージキャパシタにかかる電荷の蓄積の一時的な重畳及び他のキャパシタの読み取りのために、この動作モードは、これまで知られている装置で達成されるより高いイメージ(画像)リピートレートを許容する。
【0015】
請求項11の特徴に適合する発明による装置の動作モードでは、ストレージキャパシタが他のキャパシタにより効果的に大きくされる。光センサ素子、特にフォトダイオードにかかる所定のバイアス電圧の存在が、そのダイナミックレンジを増大させる。
【0016】
本発明による装置を実現するための経済的で簡便な可能性が、請求項6に記載のように上に被さっている光センサ素子、特にフォトダイオードを伴う既知の多層画像センサ技術により提供される。
【0017】
ボトムゲート型電界効果トランジスタが使用されるとき、請求項7の特徴に適合する2つの直列接続のキャパシタとしての他のキャパシタンスの構成が、ゲート誘電体を通るスルーコンタクトの必要性を排除し、よってセンサの製造において処理ステップを節約する。
【0018】
請求項8の特徴に適合する装置の構成は、共通電極と読みとりラインとの間の交差を避けるのに効果的である。
【0019】
本発明の実施例は、図を参照してこれ以降詳細に述べられるだろう。
【0020】
【発明の実施の態様】
本発明の実施例は、センサマトリックスの一部を示す図1を参照して以下詳細に述べられる。
【0021】
図1は、一つの照射線感知センサSだけを、単に本発明による装置の一部として示す。この実施例のすべてのセンサは、nチャネルの電界効果トランジスタを備えている。明らかに、異なる構造を持つ電界効果トランジスタも本発明の中で使用可能である。
【0022】
マトリックスは、行及び列で配される、例えば2000x2000個の大きさのセンサSの既知の態様で構成される。マトリックスの行の各第1のセンサSが一緒になって第1の列を形成し、各行の各第2のセンサのそれぞれが一緒になって第2の列を構成する。以下、同様である。
【0023】
各センサSは光センサ素子を含む。適当な半導体が使用される場合、光センサ素子自体がすでにX線に敏感になりうる。しかしながら、それは、X線がその上に配されるシンチレータ層に入射するときはいつでも光を受光する光感知フォトダイオード1であってもよい。シンチレータ層がない場合には、当該装置は、光を直接検知するためにも適している。フォトダイオード1の端子と並列に、ストレージキャパシタ2が接続される。フォトダイオード1のアノード及びストレージキャパシタ2の電極が、負のDC電圧を用いてバイアスする共通電極9に接続されている。フォトダイオード1のカソード及びストレージキャパシタ2の他の電極が、制御用電界効果トランジスタ5のソース端子に接続されている。順に制御用電界効果トランジスタ5のドレイン端子が、スイッチング用電界効果トランジスタ3のソース端子に接続される。
【0024】
照射線がフォトダイオード1に入射するとき、チャージキャリアペア(電荷)がフォトダイオード1に発生される。これはチャージされたストレージキャパシタが一部放電される結果を伴う。この放電はフォトダイオード1に入射されたフォトンの数に依存する。各センサは、電界効果トランジスタ3及び5の導電チャネルを介して、各電荷の欠乏を補償することにより個々に読み取られうる。このために、制御ライン6及びスイッチングライン7は、センサマトリックスの各行に具備される。スイッチングライン7はスイッチング用電界効果トランジスタ3のゲート端子に接続され、制御ラインはセンサSの制御用電界効果トランジスタ5のゲート端子に接続される。
【0025】
スイッチングライン及び制御ライン6、7は、マトリックスの関連する行の電界効果トランジスタ3及び5を活性化させる。これらは、例えば図示しないがそれ自体既知である駆動回路により駆動される。この駆動回路は異なるアナログ制御電圧をライン6及び7に印加する。駆動回路は、センサSに記憶された電荷を読み取るために連続してセンサマトリックスの行を活性化するのに役立つ。
【0026】
読取りライン8は、マトリックスの各列に対して既知の態様で具備される。すべての読取りライン8は関連する列のセンサのスイッチング用電界効果トランジスタ3のドレイン端子に接続される。増幅器11は各読取りライン8に規則的に関連づけられ、この増幅器は個々のセンサSにおいて行方向に流れる電荷を蓄積する。増幅器11はアナログマルチプレサ(不図示)により先行され、これら入力部は当該増幅器の出力部に接続される。アナログマルチプレサは、マトリックスの一つの行毎に同時かつ平行に到達する電荷を、さらに処理するためにアナログマルチプレサのシリアル出力部に存在するシリアル信号に変換する。
【0027】
他のキャパシタ4の電極は、制御用電界効果トランジスタ5のドレイン端子及びスイッチング用電界効果トランジスタ3のソース端子それぞれと接続される。前記他のキャパシタの他の電極4aは一般的電極9、又はそことは独立した一般的電極とさらに接続される。本発明の情況下で、制御用電界効果トランジスタ5にかかるドレイン電圧を安定させるために、各センサSのスイッチング用電界効果トランジスタ3と、制御用電界効果トランジスタ5との間の接続部に一つ以上のカスコードトランジスタを挿入することができる。
【0028】
制御用電界効果トランジスタ5と関連して、そのゲート端子が制御ライン6を介して駆動され、他のキャパシタ4が本発明による装置の個別のセンサSに対して以下のモードの動作を可能にする。
【0029】
A.連続電荷転送
適切な電圧が制御ライン6を介して制御用電界効果トランジスタ5のゲート端子に印加されるとき、このトランジスタはチャージポンプとして動作しうる。適切な電圧とは、制御用電界効果トランジスタ5を飽和レンジで動作させる電圧である。フォトダイオード1とストレージキャパシタ2とにかかる電圧は、このようにして一定に保たれる。
【0030】
照射線がセンサSの動作のこのモードでフォトダイオード1に入射するとき、フォトダイオード1のストレージキャパシタ2はもはや放電されず、他のキャパシタ4が放電される。スイッチング用電界効果トランジスタ3がそれから読み取りの目的で閉じられるとき、他のキャパシタ4が読取りライン8を介して電荷の読み取り中に再びチャージされる。
【0031】
B.制御電荷転送
他のキャパシタ4からストレージキャパシタ2への電荷転送は、制御ライン6の電圧により支配される。この関係に基づけば、(ソース端子の電圧に関連した)負電圧を制御ライン6を介して電界効果トランジスタ5のゲート端子に印加することによるイメージデータ取得の所定の相において上述のサブAで述べられた電荷転送を抑制することが可能であり、制御用電界効果トランジスタ5がターンオフされる。
【0032】
電荷転送が抑制されるとき、まず、ストレージキャパシタ2のみが放電され、その後他のキャパシタ4から再びチャージされる。放射線が既にフォトダイオード1に再び入射し、キャパシタ2が放電されるとき、活性化されるスイッチング用電界効果トランジスタ3と読取りライン8を介して、他のキャパシタ4にかかる電荷の補償がそのとき起こりうる。
【0033】
C.ストレージキャパシタの増大
ソース端子の電圧と比較して、大きな正電圧が制御用電界効果トランジスタ5のゲート端子に印加されるとき、それのチャネルは導電性になる。この電圧が維持される場合、連続した接続がストレージキャパシタ2と他のキャパシタ4との間で確立される。フォトダイオード1と並列に接続された全体にわたるキャパシタンスがこのようにして、追加のキャパシタンス4により増大される。フォトダイオード1のダイナミックレンジは、所与のバイアス電圧に対してこのように増大されうる。
【0034】
図2は、例えば、M.J. Powell, C. Glasse, I.D. French, A.R. Franklin, J.R. Hughes 及び J.E. Curran著による、 Materials Research Symposium Proceedings, 467 863 (1997)で述べられているような、上に被さった(overlying)ダイオードを持つ既知の多層画像センサ技術によって、図1に示されるような回路の可能性ある実施例を示す。図1に対応して、図2は、同一の構成の複数のセンサを有するマトリックスの一部としてのセンサを単なる例示として示す。
【0035】
2つの主要な接続部が当該センサの両方向に設けられていて、各ラインと直角に延在するスイッチングライン7,制御ライン6,読みとりライン8及び一般的電極9を具備する。図3及び図4に示されるように、3つの金属化層12,13,14が、原則として2方向の1つが共通電極9のコースに対して自由に選択できるようなやり方で、多層画像センサ技術で構成される。しかしながら、図2に示されるように、読みとりライン8との交差を避けることが有利である。
【0036】
図3は、多層画像センサ技術で構成されたセンサSの断面図であり、ボトムゲート型電界効果トランジスタとして制御用電界効果トランジスタ5及びスイッチング用電界効果トランジスタ3を含む。さらに言うと、センサSは、第1金属化層12,その上に配される第2金属化層13及びその上に配される第3金属化層14を含む。
【0037】
第1金属化層12は、他のキャパシタ4の一部を形成する他の金属化領域15とともに、スイッチングライン7及び制御ライン6に対するゲートメタルを含む。上に配された金属化層13と第1金属化層12との間に、アモルファスシリコンの形式で、半導体物質17を具備する部分上にゲート誘電体層12が設けられる。第2の金属化層13において、半導体物質17上に、他のキャパシタ4の一部をも形成する2つの他の金属化領域18,19とともに、制御用電界効果トランジスタ5及びスイッチング用電界効果トランジスタ3のドレイン及びソース端子が設けられる。第1及び第2金属化層の金属化領域15,18,19は、ゲート誘電体16により分離されて、他のキャパシタ4を作る直列接続を持つ2つのキャパシタを形成する。第1金属化層12の金属化領域15は、前記2つの連続して接続されたキャパシタの導電接続部及び共通電極であり、一方金属化領域18,19は前記2つの連続して接続されたキャパシタの対向電極を形成する。この直列接続部は、ゲート誘電体16を通るスルーコンタクトの必要性を排除する。なぜならば、追加のキャパシタ4は、スイッチング用電界効果トランジスタ3のソース端子と共通電極9との間に位置する。
【0038】
金属化領域18により形成された前記対向電極は、追加のスルーコンタクト21を介して一般的電極9に接続される。金属化領域18は、この実施例では一般的電極9に接続された図1の追加のキャパシタ4の端子4aに対応する。スルーコンタクト22は、従来の多層画像センサ技術に適合して製造されたセンサに既に存在し、固有のキャパシタンスを持って、フォトダイオード1,2を金属化層13の制御用電界効果トランジスタ5のソース端子に接触させる(図1も参照)。
【0039】
図4は、多層画像センサ技術で構成されたセンサSの断面図であり、トップゲート型電界効果トランジスタとして制御用電界効果トランジスタ5及びスイッチング用電界効果トランジスタ3を含む。センサSのこの実施例では、スイッチング用電界効果トランジスタ3のソース端子は、金属化層12内にある。キャパシタ4は、センサSの全領域間に延在する電界効果トランジスタ3,5のゲート誘電体16を利用する。このレイアウトにおいて、他のキャパシタ4を2つの直列接続キャパシタに副分割する必要はない、なぜならば、スイッチング用電界効果トランジスタ3のソース端子が、他のキャパシタ4の対向電極とともに2つの電界効果トランジスタ3,5のソース/ドレインメタルを形成する金属化層12内に位置するからである。金属化層13は、2つの電界効果トランジスタ3,5のゲート端子とともに共通電極9に接続される追加のキャパシタ4の電極を含む。
【0040】
これらの好ましい実施例に加えて、他のキャパシタ4は、フォトダイオード1,2のパッシベーションのために絶縁層23内にも実現できた。しかしながら、このことは、前に述べたようにスルーコンタクトを必要とした。その上、その領域に配されたキャパシタは、絶縁体24の表面領域を占めるので、フォトダイオード1,2の活性領域を低減する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 X線を感知するセンサの回路装置の一部を示す。
【図2】 図1に示される回路装置の概略的レイアウトを示す。
【図3】 図1に示される回路装置を持つマトリックスのボトムゲート型電界効果トランジスタ技術をともなうセンサの断面図である。
【図4】 図1に示される回路装置を持つマトリックスのトップゲート型電界効果トランジスタ技術をともなうセンサの断面図である。
【符号の説明】
S X線感知センサ
1 光センサ素子
2 ストレージキャパシタ
3 トランジスタ
4 他のキャパシタ
5 制御用電界効果トランジスタ
6 各センサ
7 スイッチングライン
8 読取りライン
Claims (11)
- 行及び列のマトリックスに配され、入射する照射量に依存して電荷を発生させる光感知又はX線感知センサを含む装置であって、各センサが、それぞれのトランジスタと共に、端子と並列に接続されるストレージキャパシタ及び/又は固有のストレージキャパシタンスを備えたそれぞれの光センサ素子を含み、センサの各行には、少なくとも1つのスイッチングラインが備えられ、このラインを介して前記トランジスタが活性化され、関連して活性化されたセンサの電荷が読取りラインを介して同時に読み取れる装置において、各センサが前記トランジスタと前記光センサ素子との間に直列に接続され、少なくとも1つの制御ラインを介して活性化される他のトランジスタを含み、各センサのこれら2つのトランジスタが直列に接続され、他のキャパシタの電極がこれら2つのトランジスタの接合部に接続されていることを特徴とする装置。
- 前記他のトランジスタが、センサの行あたり少なくとも1つの制御ライン又は全体のマトリックスに対して1つの制御ラインを介して活性化されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 各センサのこれらトランジスタが、電界効果トランジスタとして構成されており、これらの導電チャネルは直列に接続され、前記光センサ素子に接続される制御用電界効果トランジスタのゲート端子は前記制御ラインに接続され、一方、直列に接続されたスイッチング用電界効果トランジスタのゲート端子は前記スイッチングラインに接続されることを特徴とする請求項2に記載の装置。
- 前記他のキャパシタが前記ストレージキャパシタよりも小さいことを特徴とする請求項1又は3に記載の装置。
- 前記センサの連続した素子が、薄膜基板上で一方の素子が他方の素子の上若しくはとなり、又は上であって且つ隣に配されることを特徴とする請求項3又は4に記載の装置。
- 各センサは、第1金属化層、その上に配される第2金属化層、第2金属化層の上に配される第3金属化層、第1金属化層と第2金属化層との間のゲート誘電体層、及び前記センサのエッジ領域に位置するスルーコンタクトを介して一般的電極に接続される前記他のキャパシタを形成する第1及び第2金属化層の金属化領域をともなった、光センサ素子の多層画像センサ技術で構成されることを特徴とする請求項1又は5に記載の装置。
- 第1金属化層の金属化領域が前記他のキャパシタの一部を形成し、第2金属化層の2つの金属化領域も前記他のキャパシタの一部を形成し、第1及び第2の金属化層のこれら金属化領域が、前記他のキャパシタを形成するために直列に接続される2つのキャパシタの電極を形成し、第1の金属化層の前記金属化領域が前記2つの直列接続されたキャパシタの導電接続と共通電極とを形成する一方、第2金属化層の前記金属化領域が前記2つの直列接続されたキャパシタの対向電極を構成することを特徴とする請求項6に記載の装置。
- 前記スイッチングラインと前記制御ラインとが、互いに平行に、且つ前記読みとりライン及び前記一般的電極に直交して延在することを特徴とする請求項6に記載の装置。
- 各センサの前記制御用電界効果トランジスタのゲート端子にかかる電圧は、前記光センサ素子にかかる電圧を一定に維持して、チャージポンプとして動作するように選択されることを特徴とする請求項3乃至8のいずれか1項に記載の装置を動作させる方法。
- 各センサの前記制御用電界効果トランジスタの前記導電チャネルは、前記光センサ素子に入射する照射線の前記ストレージキャパシタにおける電荷蓄積の間ブロックされ、電荷がブロックされていない導電チャネルにより前記他のキャパシタに転送され、前記スイッチング用電界効果トランジスタのブロックされていない導電チャネルにより、そこから読み出されることを特徴とする請求項3乃至8のいずれか1項に記載の装置を動作する方法。
- 各センサの前記制御用電界効果トランジスタのゲート端子にかかる電圧が非常に高くなるように選択され、導電チャネルが前記ストレージキャパシタを前記他のキャパシタに直接接続することを特徴とする請求項3乃至8のいずれか1項に記載の装置を動作する方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19922650.4 | 1999-05-18 | ||
DE19922650A DE19922650A1 (de) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | Sensormatrix |
PCT/EP2000/004607 WO2000070864A1 (de) | 1999-05-18 | 2000-05-17 | Sensormatrix |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003500905A JP2003500905A (ja) | 2003-01-07 |
JP4508429B2 true JP4508429B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=7908320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000619195A Expired - Fee Related JP4508429B2 (ja) | 1999-05-18 | 2000-05-17 | センサマトリックス |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6894283B1 (ja) |
EP (1) | EP1097569A1 (ja) |
JP (1) | JP4508429B2 (ja) |
DE (1) | DE19922650A1 (ja) |
WO (1) | WO2000070864A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1130417B1 (en) * | 2000-02-29 | 2007-10-03 | Agfa HealthCare NV | Photostimulable phosphor read-out apparatus |
US7483515B2 (en) | 2003-06-05 | 2009-01-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Detector for the detection of X-radiation |
US8053777B2 (en) * | 2005-03-31 | 2011-11-08 | General Electric Company | Thin film transistors for imaging system and method of making the same |
US8217867B2 (en) * | 2008-05-29 | 2012-07-10 | Global Oled Technology Llc | Compensation scheme for multi-color electroluminescent display |
JP2010011158A (ja) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Fujifilm Corp | 検出素子 |
US10788595B2 (en) | 2016-02-23 | 2020-09-29 | Koninklijke Philips N.V. | Driving of an X-ray detector to compensate for cross scatter in an X-ray imaging apparatus |
JP7167060B2 (ja) * | 2017-05-01 | 2022-11-08 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 多層検出器 |
CN115000109A (zh) * | 2022-06-08 | 2022-09-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 射线探测器及射线探测设备 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4839735A (en) * | 1986-12-22 | 1989-06-13 | Hamamatsu Photonics K.K. | Solid state image sensor having variable charge accumulation time period |
US5017989A (en) * | 1989-12-06 | 1991-05-21 | Xerox Corporation | Solid state radiation sensor array panel |
DE4002431A1 (de) | 1990-01-27 | 1991-08-01 | Philips Patentverwaltung | Sensormatrix |
DE4036163A1 (de) * | 1990-11-14 | 1992-05-21 | Philips Patentverwaltung | Roentgenuntersuchungsgeraet |
JPH04281681A (ja) * | 1991-03-08 | 1992-10-07 | Sony Corp | X‐yアドレス型固体撮像装置 |
US5198673A (en) * | 1992-01-23 | 1993-03-30 | General Electric Company | Radiation image detector with optical gain selenium photosensors |
JP3357767B2 (ja) * | 1995-09-14 | 2002-12-16 | 株式会社東芝 | 2次元画像検出装置 |
JP3415348B2 (ja) * | 1995-11-07 | 2003-06-09 | 東芝医用システムエンジニアリング株式会社 | X線撮像装置 |
EP0777379B1 (en) * | 1995-11-21 | 2002-02-20 | STMicroelectronics S.r.l. | Adaptive optical sensor |
JP3612139B2 (ja) * | 1996-03-18 | 2005-01-19 | 株式会社東芝 | 光検出装置 |
US5770871A (en) * | 1996-06-20 | 1998-06-23 | Xerox Corporation | Sensor array with anticoupling layer between data lines and charge collection electrodes |
JP3462041B2 (ja) * | 1997-06-19 | 2003-11-05 | 株式会社東芝 | X線診断装置 |
US6369853B1 (en) * | 1997-11-13 | 2002-04-09 | Foveon, Inc. | Intra-pixel frame storage element, array, and electronic shutter method suitable for electronic still camera applications |
-
1999
- 1999-05-18 DE DE19922650A patent/DE19922650A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-05-17 US US09/743,656 patent/US6894283B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-17 WO PCT/EP2000/004607 patent/WO2000070864A1/de active Application Filing
- 2000-05-17 EP EP00929546A patent/EP1097569A1/de not_active Withdrawn
- 2000-05-17 JP JP2000619195A patent/JP4508429B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6894283B1 (en) | 2005-05-17 |
EP1097569A1 (de) | 2001-05-09 |
WO2000070864A1 (de) | 2000-11-23 |
JP2003500905A (ja) | 2003-01-07 |
DE19922650A1 (de) | 2000-11-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4388139B2 (ja) | イメージ検出器 | |
US5930591A (en) | High resolution, low voltage flat-panel radiation imaging sensors | |
US5917210A (en) | Flat panel imaging device | |
JP5080172B2 (ja) | 画像検出装置 | |
JP4022276B2 (ja) | パターン形成した共通電極を有するフラット・パネル放射線撮像装置 | |
US7208810B2 (en) | Integrated MIS photosensitive device using continuous films | |
US8039809B2 (en) | Sensor panel and image detecting device | |
JPH06209097A (ja) | X線画像検出器 | |
KR20010088443A (ko) | 이미지 센서 및 그의 제조방법 | |
US7932500B2 (en) | Radiation image detection method and apparatus | |
JP2013089869A (ja) | 検出装置及び検出システム | |
JPH1093066A (ja) | 固体撮像装置及びその駆動方法 | |
US7804071B2 (en) | Image detection device | |
JP4508429B2 (ja) | センサマトリックス | |
CA2482279C (en) | Radiation detector | |
US5780858A (en) | Electromagnetic radiation imaging device using dual gate thin film transistors | |
JP2002236054A (ja) | 電磁波検出器 | |
JP2001257333A (ja) | 二次元画像検出器 | |
US6232606B1 (en) | Flat panel detector for radiation imaging and pixel for use therein | |
JPH09275201A (ja) | 固体撮像素子 | |
JP4217443B2 (ja) | 放射線画像撮影装置及びその製造方法並びに撮像回路基板 | |
JP2002124676A (ja) | 半導体装置 | |
US20120025190A1 (en) | Radiation detector | |
JP5324024B2 (ja) | 互い違い画素配列を有するイメージングシステム及び方法 | |
WO2023207847A1 (zh) | 平板探测器、其驱动方法及x射线探测装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070516 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091029 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100203 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100319 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100413 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100427 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4508429 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |