JP4501562B2 - 積層膜付き基材およびその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明における自己流出層は、降雨や洗浄等といった水や水蒸気との接触により、汚染物質とともに流出したり、太陽光の照射をすることにより一部または全部の層が分解除去されたりして、徐々に流出され消失していく層、つまり自己流出性の層である。自己流出層が徐々に流れ出ていくことにより、汚染物質による初期汚れを防止できるとともに、長期間汚れを防止でき、結果的に光触媒膜の諸特性が長期間維持されるため好ましい。
膜付き基材のヘーズ値を直読ヘーズコンピュータ(スガ試験機社製)で測定し、ヘーズ値が2.0%以下のものを○、2.0%を超えるものを×とした。
膜付き基材を作製後、最外層の自己流出層をカッターで削り取り、自己流出層の暑さを触針法により測定した。
作製直後の自己流出層表面における水の接触角を接触角計(協和界面科学社製:CA−X150)にて測定した。測定は異なる5ヶ所の部位で行い、平均値を採用した。接触角は、20°以下であることが親水性を発揮できる点から好ましい。
作製直後から膜付き基材を光のあたらない環境に1週間保持した後、水の接触角を接触角計(協和界面科学社製:CA−X150)にて測定した。測定は異なる5ヶ所の部位で行い、平均値を採用した。接触角は、20°以下であることが親水性を長期間発揮できる点から好ましい。
作製直後の膜付き基材にオレイン酸を付着させて水の接触角が70°程度である汚れた表面を作り、その表面にブラックライト(中心波長365nm)を0.5mW/cm2の強度で6時間照射した後、水の接触角を測定した。5°以下の場合を◎、10°以下の場合を○、20°以下の場合を△、20°超の場合を×として評価した。なお、実用上◎、○、△がこの順で好ましい。
膜付き基材の中央に厚さ5mm、面積10mm×40mmとなるようにシリコーン系シーリング材(シリコーン70:横浜ゴム社製)を塗布し、2日間乾燥させた後、水平面に対して45°傾斜、南向きで横浜地区の屋外に曝露し、曝露開始から1ヶ月経過した時点でサンプルを回収した。回収したサンプルの膜の表面に蒸留水をかけ、水滴が付着した疎水部位をシーリング材により汚染された部位と判断し、シーリング材端からの上下左右の疎水部位の距離を測定し、その長さが長いほどシーリング材による汚染が大きいと判断した。
作製直後の膜付き基材表面に息を吹きかけ、曇らない場合を◎、息を吹きかけると半分以下の表面が曇るがすぐ透明になる場合を○、息を吹きかけると半分以上の表面が曇るが透明になる場合を△、息を吹きかけると曇りが発生し透明になるまでに時間がかかる場合を×とした。
作製直後の膜付き基材にテーバー磨耗試験(JIS−R3212(1998年)磨耗回数:100回、荷重:4.9N)を行い、磨耗試験前後におけるヘーズ値を測定(測定機器名:スガ試験機社製:直読ヘーズコンピュータ)し、その変化量を求めた。ヘーズ変化が3%以下であることが実用上好ましい。
膜付き基板を水平面に対して45°傾斜、南向きで横浜地区の屋外に曝露し、曝露開始から3ヶ月経過した時点でサンプルを回収した。曝露試験前後のサンプルの断面および表面のSEM像を、それぞれ観察した。
膜付き基材の可視光透過率を、分光光度計(日立製作所製:U−3500)により、JIS−R3106(1998年)に従い測定した。
例に用いられるサンプルは下記のとおり調製した。
塩化アルミニウム水溶液(Al2O3濃度11.5質量%、Cl濃度24.5質量%)308gに水1343gを添加し、撹拌しながら、アルミン酸ナトリウム水溶液(Al2O3濃度20質量%、Na2O濃度19質量%)243gを添加した。形成された液を95℃に昇温した後、撹拌しながら、再びアルミン酸ナトリウム水溶液(Al2O3濃度20質量%、Na2O濃度19質量%)106gを添加した。この液を撹拌しながら液温を95℃に保持し24時間熟成してスラリーを得た。なお、95℃でアルミン酸ナトリウムを添加した直後の液のpHは9.2であった。熟成後のスラリーを限外濾過装置を用いて洗浄した後、再び95℃に昇温し、この洗浄後のスラリーの総固形分量の3質量%となる量のアミド硫酸を添加し、総固形分濃度が22.4質量%となるまで減圧濃縮した後、超音波分散してアルミナゾル(A)(AlOOH濃度:22質量%)を得た。
アルミナゾル(A)の結晶構造はX線解析の結果、ベーマイト構造であった。アルミナゾル(A)の凝集粒子径は80nmであった。また、アルミナゾル(A)から溶媒を除去して得られたキセロゲルの細孔容積は0.80ミリリットル/gであった。
塩化アルミニウム水溶液(Al2O3濃度11.5質量%、Cl濃度24.5質量%)360gに水1235gを添加し、撹拌しながら、アルミン酸ナトリウム水溶液(Al2O3濃度20質量%、Na2O濃度19質量%)127gを添加した。形成された液を95℃に昇温した後、撹拌しながら、再びアルミン酸ナトリウム水溶液(Al2O3濃度20質量%、Na2O濃度19質量%)278gを添加した。この液を撹拌しながら液温を95℃に保持し48時間熟成してスラリーを得た。なお、95℃でアルミン酸ナトリウムを添加した直後の液のpHは8.8であった。熟成後のスラリーを限外濾過装置を用いて洗浄した後、再び95℃に昇温し、この洗浄後のスラリーの総固形分量の3質量%となる量のアミド硫酸を添加し、総固形分濃度が22.4%となるまで減圧濃縮した後、超音波分散してアルミナゾル(B)(AlOOH濃度:22質量%)を得た。
アルミナゾル(B)の結晶構造はX線解析の結果、ベーマイト構造であった。アルミナゾル(B)の凝集粒子径は170nmであった。また、アルミナゾル(B)から溶媒を除去して得られたキセロゲルの細孔容積は0.95ミリリットル/gであった。
2−プロパノール22.6gに、テトラメトキシシラン3.8gと1質量%の硝酸水溶液3.6gを添加し、25℃で1時間撹拌して、シリカゾル(C)(SiO2濃度:5質量%)を得た。
水37.5gにケイ酸ソーダ4号(SiO2:23.35質量%、Na2O:6.29質量%。SiO2/Na2Oのモル比:3.83。)12.5gを添加し、さらに強酸性陽イオン交換樹脂「SK1BH」(商品名、三菱化学社製)30gを添加して、10分間室温で撹拌して脱塩ケイ酸ソーダ液(ケイ酸の100質量部に対してナトリウムイオンは0.12質量部。)を調製した。さらに、この脱塩ケイ酸液に蒸留水を添加しシリカゾル(D)(SiO2濃度:5質量%)を得た。
ソーダライムガラス基材(100mm×100mm、厚さ3.5mm)を用意し、その膜形成部分の表面を酸化セリウムで研磨し、蒸留水で洗浄した後に乾燥させ、前処理済ガラス基材とした。
2−プロパノール38.1gに、アナターゼ型酸化チタン微粒子(平均粒子径:56nm)の水分散液「STS−01」(商品名、石原産業社製、固形分濃度30質量%、以下、チタニアゾル(E)と記す。)9gおよびシリカゾル(D)8.9gを添加し、さらに界面活性剤「L−77」(商品名、日本ユニカー社製)を液量に対して100ppmとなるように添加して、組成物1(ナトリウムイオン濃度は12ppm。)を得た。
組成物1の2ミリリットルを前処理済ガラス基材の表面に滴下し、スピンコート法により塗布した後、大気雰囲気中200℃にて60分間焼成し、厚さ80nmの光触媒膜付きガラス基材を得た。
蒸留水39.4gおよびエタノール59.2gの混合溶液中に、アルミナゾル(A)0.5gとシリカゾル(C)0.9gとを混合した。次いで、ノニオン性界面活性剤「アデカトールSO−145」(商品名、旭電化工業社製)を混合液に対して400ppmとなるように添加して、塗布液1を得た(固形分濃度0.15質量%)。
塗布液1の2ミリリットルを前記光触媒膜付きガラス基材の表面に滴下し、スピンコート法により塗布した後、大気雰囲気中80℃にて5分間焼成し、厚さ40nmの自己流出層(金属の組成を原子比で表1に示す。以下、例2〜17についても同じ。)が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1に示す。なお、自己流出層中のゾル(アルミナゾル、シリカゾル)の合計含有量は79質量%であり、自己流出層中の界面活性剤の含有量は21質量%であった。
例1におけるアルミナゾル(A)0.5gの代わりにアルミナゾル(B)0.5gを用いる以外は例1と同様に処理して自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
例1におけるアルミナゾル(A)0.5gの代わりにアルミナゾル「AS−2」(商品名、触媒化成工業社製)0.9gを用い、かつエタノール59.2gの代わりにエタノール58.8gを用いる以外は例1と同様に処理して自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。なお、「AS−2」のAlOOH濃度は11.8質量%であり、AS−2の結晶構造、凝集粒子径および細孔容積は、各々ベーマイト構造、130nm、0.3ミリリットル/gであった。
例1におけるシリカゾル(C)0.9gの代わりにシリカゾル(D)0.9gを用いる以外は例1と同様に処理して自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
メタノール99.6gに、アルミナゾル(A)0.23gとチタニアゾル(E)0.17gとを混合した。次いで、ノニオン性界面活性剤「アデカトールSO−145」(商品名、旭電化工業社製)を混合液に対して400ppmとなるように添加して、塗布液2を得た(固形分濃度0.1質量%、Ti/全金属=43原子%、Al/全金属=57原子%)。
塗布液2の2ミリリットルを前記光触媒膜付きガラス基材の表面に滴下し、スピンコート法により塗布した後、大気雰囲気中80℃にて5分間焼成し、厚さ20nmの自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
蒸留水39.2gおよびエタノール58.7gの混合溶液中に、アルミナゾル(A)1.6gとシリカゾル「OSCAL1432」(商品名、触媒化成工業社製、SiO2濃度:30質量%)0.5gとを混合した。次いで、ノニオン性界面活性剤「アデカトールSO−145」(商品名、旭電化工業社製)を混合液に対して400ppmとなるように添加して、塗布液3を得た(固形分濃度0.5質量%)。
得られた塗布液3の2ミリリットルを前記光触媒膜付きガラス基材の表面に滴下し、スピンコート法により塗布した後、大気雰囲気中80℃にて5分間焼成し、厚さ30nmの自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
ポリビニルアルコール樹脂「ポバール124」(商品名、クラレ社製)と水を混合して、固形分濃度0.15質量%の樹脂溶液1を得る。
塗布液4の2ミリリットルを前記光触媒膜付きガラス基材の表面に滴下し、スピンコート法により塗布後、大気雰囲気中40℃にて2時間焼成し、厚さ80nmの自己流出層が形成された膜付き基材を得る。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
例7におけるポリビニルアルコール樹脂の代わりにポリアクリル酸樹脂「ジュリマーAPO−601N」(商品名、日本純薬社製)を用いる以外は、例7と同様な方法で自己流出層が形成された膜付き基材を得る。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
蒸留水56.0gおよびメタノール41.7gの混合溶液中に、アルミナゾル(A)2.3gを混合した。次いで、ノニオン性界面活性剤「アデカトールSO−145」(商品名、旭電化工業社製)を混合液に対して1質量%となるように添加して、塗布液5を得た(固形分濃度0.5質量%)。
塗布液5の2ミリリットルを前記光触媒膜付きガラス基材の表面に滴下し、スピンコート法により塗布後、大気雰囲気中80℃にて5分間焼成し、厚さ70nmの自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
例9におけるアルミナゾル(A)2.3gをチタニアゾル(E)1.7gに、メタノールの量を42.3gに変更した以外は例9と同様な方法で自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
例9におけるアルミナゾル(A)2.3gをジルコニアゾル(ZrO2濃度:20質量%)2.5gに、メタノールの量を41.5gに変更した他は例9と同様な方法で自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
例9におけるアルミナゾル(A)2.3gを酸化錫ゾル「C−10」(商品名、多木化学社製、SnO2濃度:10質量%)5.1gに、メタノールの量を38.9gに変更した他は例9と同様な方法で自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
例9におけるアルミナゾル(A)2.3gを酸化亜鉛ゾル(ZnO濃度:10質量%)5.1gに、メタノールの量を38.9gに変更した他は例9と同様な方法で自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
例9において界面活性剤を添加しない以外は例9と同様な方法で自己流出層が形成された膜付き基材を得た。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
自己流出層を形成せず、光触媒膜付きガラス基材を評価した。結果を表1〜2に示す。
例1と同様の光触媒膜付き基材を用いた建築物のガラス基材(設置してから約3年経過。)を水洗、乾燥した後、例1における塗布液1をスプレーコート法により塗布し24時間自然乾燥して厚さ10nmの自己流出層が形成された膜付き基材を得る。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
例9におけるノニオン性界面活性剤「アデカトールSO−145」(商品名、旭電化工業社製)を硫黄含有アニオン性界面活性剤「アデカホープDES−3025」(商品名、旭電化工業社製)に変更した他は例9と同様な方法で自己流出層が形成された膜付き基材を得る。この膜付き基材を評価した結果を表1〜2に示す。
また、自己流出性の評価で実施した曝露試験後の膜付き基材について、外観、親水持続性、汚れ分解性、シリコーンオイルに対する防汚性、防曇性、耐摩耗性および透過率を評価する。実施例(例1〜13、16、17)の膜付き基材は、曝露試験後であっても、曝露試験前と同等の外観、親水持続性、汚れ分解性、シリコーンオイルに対する防汚性、防曇性、耐摩耗性および透過率を有することが確認される。
Claims (3)
- 光触媒膜を含む積層膜付き基材の最外層に、(a)界面活性剤ならびに(b)Al、Si、Ti、Zr、SnおよびZnからなる群から選ばれる1種以上の金属の酸化物を含む自己流出性の層が形成されてなる積層膜付き基材。
- 光触媒膜を含む積層膜付き基材の最外層に、(a)界面活性剤および(c)ベーマイト構造を有するアルミナ微粒子を含む自己流出性の層が形成されてなる積層膜付き基材。
- 光触媒膜を含む積層膜付き基材上に、(a)界面活性剤ならびに(b)Al、Si、Ti、Zr、SnおよびZnからなる群から選ばれる1種以上の金属酸化物の微粒子を含む塗布液を塗布し、10〜150℃の温度で0.1〜60分間加熱することにより自己流出性の層を形成することを特徴とする積層膜付き基材の製造方法。
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