JP4500939B2 - 光グラフト法 - Google Patents
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また、単体のクロメン化合物へ、光照射体したのち、付加反応が示された例は、
アルコールの付加(非特許文献1)及びアミンの付加(非特許文献2)が知られている。
A.Padwa,G.A.Lee, J.Chem.Soc., Chem.Commun., 795 (1972) 桜木、PCPM99光反応制御・光機能材料国際シンポジウム(1999,つくば)
高分子表面のグラフト化による機能化は、表面アロイ、塗装、電気・磁気特性、生体適合性向上など、種々の用途で求められており、その手法に対する新規な技術開発は重要である。本発明者は、クロメン構造に着目し、クロメン構造を有するフェノール系樹脂高分子を作成することに成功し、これを用いて長寿命の活性種を開発し、本来的な効率を高めるとともに、高分子の種類によらないグラフト法を提供することを目的としている。
クロメン構造を有する高分子へ、光照射をして、高分子表面上に、アミノ基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシル基から選ばれる1種若しくは2種以上の官能基を有する化合物を反応させて、クロメン構造を有する高分子の側鎖に官能基を有する化合物をグラフトさせる方法である。
また、本発明は、クロメン構造を有する高分子を溶媒に分散若しくは溶解させ、官能基を有する化合物を反応させることができる。
さらに、本発明は、クロメン構造を有する高分子が固体であり、当該固体表面において、官能基を有する化合物を反応させることができる。
さらにまた本発明は、クロメン構造を有する高分子を溶媒に分散ないし溶解し、一定時間、紫外光を照射し、この分散液ないし溶液を支持体に塗布し固化した後、官能基を有する化合物と接触させることにより反応させる支持体上においてクロメン構造を有する高分子の側鎖に官能基を有する化合物をグラフトさせる方法である。
すなわち、フェノール樹脂系高分子において、一部のフェノール環をクロメン構造に変換したことを特徴とするフェノール樹脂系高分子である。その代表的な製造方法は、フェノール樹脂系高分子に、一般式
さらに、本発明の典型的な例としては、クロメンへのアルコールの光付加、クロメンへのアミンの光付加を挙げることが出来る。
さらに、代表的なグラフトの形態として次のものが挙げられる。
○分散グラフト系:クロメン構造を有する高分子を有機溶剤等の媒体に分散または溶解し、一定時間、紫外光を照射して着色体を生成する。着色体の分散液に、アミノ基、ヒドロキシル基を有する物質を添加、反応させることによって、これらのグラフト化生成物を得る。
○表面グラフト系:クロメン構造を有する高分子の固体表面に、一定時間、紫外光を照射、着色体を生成する。アミノ基、ヒドロキシル基を有する物質またはそれらの分散液を、着色体の表面に接触することによって、これらのグラフト化表面を得る。
○変形法:クロメン構造を有する高分子を有機溶剤等の媒体に分散または溶解し、一定時間、紫外光を照射して着色体を生成する。この分散液を支持体に塗布・固化した後、アミノ基、ヒドロキシル基を有する物質と接触することによって、これらのグラフト化表面を得る。
(実施例1)
ポリ(4−ビニルフェノール)(重量平均分子量約20,000、ユニット分子量120.15)の10wt%テトラヒドロフラン溶液60μlを、石英製スライド硝子(26x76x1mm)上に置き、液膜厚4μmのバーコーターを用い展開、塗布した。風乾後、1,1−ジフェニル−2−プロピン−1−オール(分子量208.26)0.45g、パラトルエンスルホン酸23mgを含む、乾燥トルエン23mlに浸漬し、窒素下で30分還流することによって、2,2−ジフェニルクロメンを表面に有するフィルムを石英基板上に形成した。
石英基板を取り出しトルエン浴で2回洗浄、窒素ガス下で風乾した。石英板をもう一枚重ね6W低圧水銀灯の254nm光を5分照射後、1−アミノアントラキノンの1%トルエン溶液を石英板の間隙に注入し、1分放置した。石英板をトルエンで2回超音波洗浄後、紫外可視吸収スペクトル変化を測定し、アントラキノンの導入を確認した(図1(3)を参照)。
図1は、クロメン化したポリマー表面へのアントラキノンの導入できたことを示す紫外可視吸収スペクトル変化図である。
(1)クロメン化ポリ(4−ビニルフェノール)フィルム
(2)(1)に254nm光を5分照射した後のフィルム
(3)(2)に1−アミノアントラキノン5wt%トルエン溶液を5分接触、トルエン洗浄したフィルム
(4)1−アミノアントラキノン/トルエン溶液
をそれぞれ示す。
化学式は、クロメン構造を有する高分子が、光照射によりクロメン構造が活性化し、1−アミノアントラキノンをグラフトしたことを示す。
石英基板を取り出しトルエン浴で2回洗浄、窒素ガス下で風乾した。石英板をもう一枚重ね6W低圧水銀灯の254nm光を5分照射後、4−アミノアゾベンゼンの1%トルエン溶液を石英板の間隙に注入し、1分放置した。石英板をトルエンで2回超音波洗浄後、紫外可視吸収スペクトル変化を測定し、アゾベンゼンがフィルムに導入されたことを確認した(図2(2)参照)。フィルム上のアゾベンゼンは、その特長であるトランス体・シス体間の光異性化反応を示した。(図2(3)(4)参照)
図2は、クロメン化したポリマー表面への4−アミノアゾベンゼンの導入できたことを示す紫外可視吸収スペクトル変化図である。
(1)クロメン化ポリ(4−ビニルフェノール)フィルム
(2)254nm光を照射後、4−アミノアゾベンゼン5wt%トルエン溶液に5分接触、トルエン洗浄したフィルム
(3)フィルムに254nm光を5分照射
(4)(3)に可視光を5分照射
をそれぞれ示す。
Claims (4)
- 一般式
- クロメン構造を有する高分子(A)を溶媒に分散若しくは溶解させ、アミノ基を有する化合物(B)を反応させる、請求項1に記載したクロメン構造を有する高分子(A)の側鎖に化合物(B)をグラフトさせる方法。
- クロメン構造を有する高分子(A)が固体であり、当該固体表面において、アミノ基を有する化合物(B)を反応させる、請求項1に記載したクロメン構造を有する高分子(A)の側鎖に化合物(B)をグラフトさせる方法。
- クロメン構造を有する高分子(A)を溶媒に分散ないし溶解し、一定時間、紫外光を照射し、この分散液ないし溶液を支持体に塗布し固化した後、アミノ基を有する化合物(B)と接触させることにより支持体上において反応させる、請求項1に記載したクロメン構造を有する高分子(A)の側鎖に化合物(B)をグラフトさせる方法。
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JPS6176514A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Shiseido Co Ltd | ホトクロミック剤 |
JPS63308014A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-15 | Toray Ind Inc | 水溶性フォトクロミックポリマ− |
JP2001508417A (ja) * | 1996-12-23 | 2001-06-26 | コーニング インコーポレイテッド | 2−アダマンチルベンゾピラン、それらを含有する組成物および(コ)ポリマーマトリクス |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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