JP4492591B2 - イオン注入装置およびその調整方法 - Google Patents
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この場合は、イオンビーム20に対する空間電荷の影響はない。従ってこれは、小電流イオンビームの場合と同様である。このとき、分析電磁石30の出口部から下流側に約640mm離れた位置にイオンビーム20の焦点22が形成された。このシミュレーションでは分析スリット40を設けていないけれども、実際の装置では、この640mmの位置に分析スリット40を設けることになる。その位置でのイオンビーム20のX方向におけるビーム電流分布の一例を図7に示す。この図の縦軸は、X方向1mm当たりのY方向電流の積算値である。即ち、イオンビーム20がY方向に長いリボン状をしているため、そのX方向の1mmごとに、Y方向の電流を積算した電流値である。簡単に言えば、この図はX方向の電流密度分布に相当する。図8、図9の縦軸も同様である。
この場合は、イオンビーム20は空間電荷の影響によって広がる。従ってこれは、大電流イオンビームの場合と同様である。このとき、分析電磁石30の出口部から下流側に約1,300mm離れた位置にイオンビーム20の焦点22が形成された。この場合の640mmの位置でのイオンビーム20のX方向におけるビーム電流分布の一例を図8に示す。
この場合は、分析電磁石30の出口部から下流側に約640mm離れた位置にイオンビーム20の焦点22が形成されるように、電界レンズ70の中間電極74に印加する直流電圧V1 を調整した。このときの直流電圧V1 は−10kVであった。この場合の640mmの位置でのイオンビーム20のX方向におけるビーム電流分布の一例を図9に示す。
20 イオンビーム
22 焦点
30 分析電磁石
40 分析スリット
50 ターゲット
70 第1の電界レンズ
72 入口電極
74 中間電極
76 出口電極
78 直流電源
80 第2の電界レンズ
82 入口電極
84 中間電極
86 出口電極
88 直流電源
90 第1のビーム電流測定器
92 第1の制御装置
94 第2のビーム電流測定器
96 第2の制御装置
Claims (7)
- イオンビームを発生させるイオン源と、このイオン源からのイオンビームを偏向させて運動量分析を行うものであって下流側に所望運動量のイオンビームの焦点を形成する分析電磁石と、この分析電磁石からのイオンビームの焦点付近に設けられていて、当該分析電磁石と協働してイオンビームの運動量分析を行う分析スリットとを備えていて、分析スリットを通過したイオンビームをターゲットに入射させる構成のイオン注入装置であって、
前記イオン源と分析電磁石との間に設けられていて、前記イオンビームの焦点の位置を、前記分析スリットの位置に合わせる補正を行う電界レンズを備えており、
前記イオン源は、Y方向の寸法が当該Y方向と直交するX方向の寸法および前記ターゲットのY方向の寸法よりも大きいリボン状のイオンビームを発生させるものであり、
前記分析電磁石は、前記リボン状のイオンビームをその主面に直交する方向に偏向させて、当該イオンビームをX方向において集束させて前記焦点を形成するものであり、
前記イオン源はそれから発生させる前記イオンビームのビーム電流の大きさが可変であり、当該ビーム電流が前記可変の範囲の最小値のときの前記焦点に前記分析スリットを設けており、
前記電界レンズは、前記イオンビームの進行方向に互いに間をあけて並べられた入口電極、中間電極および出口電極を有していて、入口電極および出口電極は電気的に接地されており、
このイオン注入装置は、前記電界レンズの中間電極に直流電圧を印加する直流電源を備えており、
更に前記電界レンズの入口電極、中間電極および出口電極は、それぞれ、前記イオンビームが通過する空間を挟んでX方向において相対向して配置されていて前記イオンビームの主面に平行な一対の電極を有していて、前記電界レンズは前記リボン状のイオンビームをX方向において絞るものであることを特徴とするイオン注入装置。 - イオンビームを発生させるイオン源と、このイオン源からのイオンビームを偏向させて運動量分析を行うものであって下流側に所望運動量のイオンビームの焦点を形成する分析電磁石と、この分析電磁石からのイオンビームの焦点付近に設けられていて、当該分析電磁石と協働してイオンビームの運動量分析を行う分析スリットとを備えていて、分析スリットを通過したイオンビームをターゲットに入射させる構成のイオン注入装置であって、
前記分析電磁石と分析スリットとの間に設けられていて、前記イオンビームの焦点の位置を、前記分析スリットの位置に合わせる補正を行う電界レンズを備えており、
前記イオン源は、Y方向の寸法が当該Y方向と直交するX方向の寸法および前記ターゲットのY方向の寸法よりも大きいリボン状のイオンビームを発生させるものであり、
前記分析電磁石は、前記リボン状のイオンビームをその主面に直交する方向に偏向させて、当該イオンビームをX方向において集束させて前記焦点を形成するものであり、
前記イオン源はそれから発生させる前記イオンビームのビーム電流の大きさが可変であり、当該ビーム電流が前記可変の範囲の最小値のときの前記焦点に前記分析スリットを設けており、
前記電界レンズは、前記イオンビームの進行方向に互いに間をあけて並べられた入口電極、中間電極および出口電極を有していて、入口電極および出口電極は電気的に接地されており、
このイオン注入装置は、前記電界レンズの中間電極に直流電圧を印加する直流電源を備えており、
更に前記電界レンズの入口電極、中間電極および出口電極は、それぞれ、前記イオンビームが通過する空間を挟んでX方向において相対向して配置されていて前記イオンビームの主面に平行な一対の電極を有していて、前記電界レンズは前記リボン状のイオンビームをX方向において絞るものであることを特徴とするイオン注入装置。 - イオンビームを発生させるイオン源と、このイオン源からのイオンビームを偏向させて運動量分析を行うものであって下流側に所望運動量のイオンビームの焦点を形成する分析電磁石と、この分析電磁石からのイオンビームの焦点付近に設けられていて、当該分析電磁石と協働してイオンビームの運動量分析を行う分析スリットとを備えていて、分析スリットを通過したイオンビームをターゲットに入射させる構成のイオン注入装置であって、
前記イオン源と分析電磁石との間および分析電磁石と分析スリットとの間にそれぞれ設けられた第1および第2の電界レンズであって、両者が協働して、前記イオンビームの焦点の位置を、前記分析スリットの位置に合わせる補正を行う第1および第2の電界レンズを備えており、
前記イオン源は、Y方向の寸法が当該Y方向と直交するX方向の寸法および前記ターゲットのY方向の寸法よりも大きいリボン状のイオンビームを発生させるものであり、
前記分析電磁石は、前記リボン状のイオンビームをその主面に直交する方向に偏向させて、当該イオンビームをX方向において集束させて前記焦点を形成するものであり、
前記イオン源はそれから発生させる前記イオンビームのビーム電流の大きさが可変であり、当該ビーム電流が前記可変の範囲の最小値のときの前記焦点に前記分析スリットを設けており、
前記各電界レンズは、それぞれ、前記イオンビームの進行方向に互いに間をあけて並べられた入口電極、中間電極および出口電極を有していて、入口電極および出口電極は電気的に接地されており、
このイオン注入装置は、前記各電界レンズの中間電極に直流電圧をそれぞれ印加する直流電源を備えており、
更に前記各電界レンズの入口電極、中間電極および出口電極は、それぞれ、前記イオンビームが通過する空間を挟んでX方向において相対向して配置されていて前記イオンビームの主面に平行な一対の電極を有していて、前記各電界レンズは前記リボン状のイオンビームをX方向において絞るものであることを特徴とするイオン注入装置。 - 前記分析スリットを通過したイオンビームを受けてそのビーム電流を測定するビーム電流測定器と、
このビーム電流測定器で測定するビーム電流が最大になるように、前記直流電源から出力する直流電圧を制御する制御装置とを更に備えている請求項1、2または3記載のイオン注入装置。 - 前記分析スリットに流れるビーム電流を測定するビーム電流測定器と、
このビーム電流測定器で測定するビーム電流が最小になるように、前記直流電源から出力する直流電圧を制御する制御装置とを更に備えている請求項1、2または3記載のイオン注入装置。 - 請求項1、2または3記載のイオン注入装置において、前記分析スリットを通過したイオンビームを受けてそのビーム電流を測定するビーム電流測定器を用いて、このビーム電流測定器で測定するビーム電流が最大になるように、前記直流電源から出力する直流電圧を調整することを特徴とするイオン注入装置の調整方法。
- 請求項1、2または3記載のイオン注入装置において、前記分析スリットに流れるビーム電流を測定するビーム電流測定器を用いて、このビーム電流測定器で測定するビーム電流が最小になるように、前記直流電源から出力する直流電圧を調整することを特徴とするイオン注入装置の調整方法。
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