JP4486559B2 - 無電解めっき液の再生装置及び再生方法 - Google Patents
無電解めっき液の再生装置及び再生方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4486559B2 JP4486559B2 JP2005203266A JP2005203266A JP4486559B2 JP 4486559 B2 JP4486559 B2 JP 4486559B2 JP 2005203266 A JP2005203266 A JP 2005203266A JP 2005203266 A JP2005203266 A JP 2005203266A JP 4486559 B2 JP4486559 B2 JP 4486559B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating solution
- plating
- tank
- phosphorous acid
- nickel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D21/00—Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value
- G05D21/02—Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value characterised by the use of electric means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1617—Purification and regeneration of coating baths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1655—Process features
- C23C18/1664—Process features with additional means during the plating process
- C23C18/1669—Agitation, e.g. air introduction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1675—Process conditions
- C23C18/1683—Control of electrolyte composition, e.g. measurement, adjustment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Description
更に、第1の移送手段は、めっき槽に貯溜されているめっき液を所定量以上分取する分取手段と、分取手段によって分取されためっき液の量を所定量に調整するとともに、余剰分のめっき液をめっき槽に戻す計量手段と、計量手段によって調整された所定量のめっき液を分取槽に移送する移送部とを備えている。
Claims (6)
- 次亜リン酸ニッケルをニッケル源として用いると共に、次亜リン酸ニッケル、次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸のうちの少なくとも二種を還元剤として用いためっき液を貯溜し、このめっき液を用いて、対象物にニッケルめっき処理を施すためのめっき槽と、
前記ニッケルめっき処理に伴って生成される亜リン酸の生成速度を測定する生成速度測定手段と、
制御信号を受けると、この制御信号に従った移送速度で、前記めっき槽に貯溜されているめっき液のうちの所定量を分取し、分取槽に移送する第1の移送手段と、
前記分取された所定量のめっき液に含まれる亜リン酸の濃度を測定する濃度測定手段と、
前記所定量と、前記濃度測定手段によって測定された亜リン酸の濃度とに基づいて、前記所定量のめっき液に含まれる亜リン酸から、亜リン酸カルシウムを生成させるために必要な炭酸カルシウム又は水酸化カルシウムの量を演算する演算手段と、
前記演算手段によって演算された量の炭酸カルシウム又は水酸化カルシウムを、前記分取槽に供給する第1の供給手段と、
前記分取槽に供給された炭酸カルシウム又は水酸化カルシウムが、前記分取槽内において、前記所定量のめっき液と混合することによって生成した亜リン酸カルシウムを、前記めっき液から分離除去する分離除去手段と、
前記制御信号を受けると、前記第1の移送手段と連動して、この制御信号に従った移送速度で、前記分離除去手段によって亜リン酸カルシウムが分離除去されためっき液を、前記めっき槽に移送する第2の移送手段と、
前記分離除去手段と、前記第2の移送手段との間に介挿して設けられ、前記除去分離手段によって前記亜リン酸カルシウムが除去されためっき液を、前記第2の移送手段によって移送されるまで貯液する中間槽と、
前記生成速度測定手段によって測定された生成速度に基づいて、前記第1及び第2の移送手段の移送速度を制御する前記制御信号を生成し、前記生成した制御信号を第1及び第2の移送手段に出力する制御手段とを備え、
更に前記第1の移送手段は、
前記めっき槽に貯溜されているめっき液を前記所定量以上分取する分取手段と、
前記分取手段によって分取されためっき液の量を前記所定量に調整するとともに、余剰分のめっき液を前記めっき槽に戻す計量手段と、
前記計量手段によって調整された前記所定量のめっき液を前記分取槽に移送する移送部とを備えた無電解めっき液の再生装置。 - 前記生成速度測定手段は、前記めっき槽内のめっき液のpHを測定し、測定したpH値に基づいて前記亜リン酸の生成速度を求めるpH測定手段と、前記めっき槽内のめっき液の比重を測定し、測定した比重に基づいて前記亜リン酸の生成速度を求める比重測定手段と、前記めっき槽内のめっき液に含まれるニッケル濃度を測定し、測定したニッケル濃度に基づいて前記亜リン酸の生成速度を求めるニッケル濃度測定手段と、前記めっき槽内のめっき液の屈折率を測定し、測定した屈折率に基づいて前記亜リン酸の生成速度を求める屈折率測定手段と、前記めっき槽内のめっき液の赤外分光特性を測定し、測定した赤外分光特性に基づいて前記亜リン酸の生成速度を求める赤外分光測定手段と、前記めっき槽内のめっき液に対して電気泳動キャピラリクロマトグラフィー測定を行い、この測定結果に基づいて前記亜リン酸の生成速度を求める電気泳動測定手段と、前記めっき槽内のめっき液に対して高速液体クロマトグラフィー測定を行い、この測定結果に基づいて前記亜リン酸の生成速度を求める液体クロマトグラフィー測定手段と、前記めっき槽内のめっき液の紫外線分光特性を測定し、測定した紫外線分光特性に基づいて前記亜リン酸の生成速度を求める紫外線分光測定手段と、前記めっき槽内のめっき液に対してイオンクロマトグラフィー測定を行い、この測定結果に基づいて前記亜リン酸の生成速度を求めるイオンクロマトグラフィー測定手段と、前記めっき槽内のめっき液に対して可視光比色分析測定を行い、この測定結果に基づいて前記ニッケル濃度を求める可視光比色分析測定手段とのうちの少なくとも何れかを含む請求項1に記載の無電解めっき液の再生装置。
- 前記供給手段によって前記分取槽に供給された炭酸カルシウム又は水酸化カルシウムと、前記分取槽内の所定量のめっき液とを攪拌する第1の攪拌手段と、
前記分取槽内の液温を予め定めた範囲内に保つ温度制御手段と
を前記分取槽に備えた請求項1または2に記載の無電解めっき液の再生装置。 - 前記分離除去手段は、
前記生成した亜リン酸カルシウムを、加圧ろ過、減圧ろ過、及び遠心分離のうちの少なくとも何れかによって前記めっき液から分離する分離部と、
前記分離部によって分離された亜リン酸カルシウムを装置外部に払い出す払出部と
を備えた請求項1乃至3のうち何れか1項に記載の無電解めっき液の再生装置。 - 前記中間槽に次亜リン酸及びめっき液を供給する第2の供給手段と、
前記中間槽内の液を攪拌する第2の攪拌手段と、
前記中間槽内の液のpHを測定するpHセンサと
を備えた請求項1乃至4のうち何れか1項に記載の無電解めっき液の再生装置。 - めっき処理に供された無電解めっき液を、再びめっき処理に用いるために再生する方法であって、
次亜リン酸ニッケルをニッケル源として用いると共に、次亜リン酸ニッケル、次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸のうちの少なくとも二種を還元剤として用いためっき液を貯溜し、このめっき液を用いて、対象物にニッケルめっき処理を施すためのめっき槽において、前記ニッケルめっき処理に伴って生成される亜リン酸の生成速度を測定し、
前記測定された生成速度に基づいて、第1及び第2の移送手段の移送速度を制御する制御信号を生成し、前記生成した制御信号を前記第1及び第2の移送手段に出力し、
前記第1の移送手段は、前記制御信号を受けると、この制御信号に従った移送速度で、前記めっき槽に貯溜されているめっき液のうちの所定量を分取して分取槽に移送し、
前記分取された所定量のめっき液に含まれる亜リン酸の濃度を測定し、
前記所定量と、前記測定された亜リン酸の濃度とに基づいて、前記所定量のめっき液に含まれる亜リン酸から、亜リン酸カルシウムを生成させるために必要な炭酸カルシウム又は水酸化カルシウムの量を演算し、
前記演算された量の炭酸カルシウム又は水酸化カルシウムを、前記分取槽に供給し、
前記分取槽に供給された炭酸カルシウム又は水酸化カルシウムが、前記分取槽内において、前記所定量のめっき液と混合することによって生成した亜リン酸カルシウムを、前記めっき液から分離除去し、
前記第2の移送手段は、前記制御信号を受けると、前記第1の移送手段と連動して、この制御信号に従った移送速度で、前記亜リン酸カルシウムが分離除去されためっき液を、前記めっき槽に移送する
ようにした無電解めっき液の再生方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005203266A JP4486559B2 (ja) | 2005-07-12 | 2005-07-12 | 無電解めっき液の再生装置及び再生方法 |
US11/483,357 US7892603B2 (en) | 2005-07-12 | 2006-07-07 | Regeneration apparatus and regeneration method for electroless plating |
EP20060014250 EP1744233A1 (en) | 2005-07-12 | 2006-07-10 | Regeneration apparatus and regeneration method for electroless plating |
TW095125167A TWI317388B (en) | 2005-07-12 | 2006-07-11 | Regeneration apparatus and regeneration method for electroless plating |
CN2006101018934A CN1912181B (zh) | 2005-07-12 | 2006-07-12 | 无电镀敷溶液的再生设备和再生方法 |
KR1020060065522A KR100850090B1 (ko) | 2005-07-12 | 2006-07-12 | 무전해 도금용액 재생장치 및 그 방법 |
US12/981,943 US7968149B2 (en) | 2005-07-12 | 2010-12-30 | Regeneration apparatus and regeneration method for electroless plating |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005203266A JP4486559B2 (ja) | 2005-07-12 | 2005-07-12 | 無電解めっき液の再生装置及び再生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007023307A JP2007023307A (ja) | 2007-02-01 |
JP4486559B2 true JP4486559B2 (ja) | 2010-06-23 |
Family
ID=37398311
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005203266A Expired - Fee Related JP4486559B2 (ja) | 2005-07-12 | 2005-07-12 | 無電解めっき液の再生装置及び再生方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7892603B2 (ja) |
EP (1) | EP1744233A1 (ja) |
JP (1) | JP4486559B2 (ja) |
KR (1) | KR100850090B1 (ja) |
CN (1) | CN1912181B (ja) |
TW (1) | TWI317388B (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100068404A1 (en) * | 2008-09-18 | 2010-03-18 | Guardian Industries Corp. | Draw-off coating apparatus for making coating articles, and/or methods of making coated articles using the same |
JP5339235B2 (ja) * | 2010-01-12 | 2013-11-13 | Ckテクニック株式会社 | 小部品の無電解メッキ方法及び無電解メッキ装置 |
DE102010031181A1 (de) * | 2010-07-09 | 2012-01-12 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Abscheiden einer Metallschicht |
KR101155324B1 (ko) * | 2011-08-23 | 2012-06-19 | 박혁진 | 연속식 산화물 소재 합성 장치 |
CN103484927A (zh) * | 2013-10-08 | 2014-01-01 | 昆山纯柏精密五金有限公司 | 一种电镀镍废液的处理方法 |
US10006126B2 (en) | 2014-10-27 | 2018-06-26 | Surface Technology, Inc. | Plating bath solutions |
US10731258B2 (en) | 2014-10-27 | 2020-08-04 | Surface Technology, Inc. | Plating bath solutions |
KR101802200B1 (ko) | 2017-06-14 | 2017-11-29 | 신호시스템(주) | 도금 장비 관리기기 |
CN109019542B (zh) * | 2018-07-01 | 2022-02-25 | 湖北浩元材料科技有限公司 | 废水处理方法及有价物的回收 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5989757A (ja) | 1982-11-12 | 1984-05-24 | Nec Corp | 無電解めつき制御装置 |
JP2769774B2 (ja) | 1993-10-29 | 1998-06-25 | 栃木県 | 無電解ニッケルめっき廃液の再生処理方法とその装置 |
US5609767A (en) * | 1994-05-11 | 1997-03-11 | Eisenmann; Erhard T. | Method for regeneration of electroless nickel plating solution |
IL125249A (en) | 1996-11-14 | 2001-04-30 | Atotech Deutschland Gmbh | Removal of orthophosphite ions from baths for nickel-plating without electricity |
GB9802042D0 (en) | 1998-01-31 | 1998-03-25 | Classic Chemicals Limited | Improvements in electroless nickel plating |
JP3939887B2 (ja) | 2000-01-12 | 2007-07-04 | 株式会社ムラタ | 無電解ニッケルめっき液の再生方法 |
CN1286318A (zh) * | 2000-08-17 | 2001-03-07 | 华南理工大学 | 化学镀镍液的再生处理方法及其处理装置 |
JP2002241952A (ja) | 2001-02-09 | 2002-08-28 | Hiroshi Kawakami | 無電解めっき方法及びその装置 |
US6391177B1 (en) * | 2001-02-20 | 2002-05-21 | David Crotty | High temperature continuous electrodialysis of electroless plating solutions |
-
2005
- 2005-07-12 JP JP2005203266A patent/JP4486559B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-07-07 US US11/483,357 patent/US7892603B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-07-10 EP EP20060014250 patent/EP1744233A1/en not_active Withdrawn
- 2006-07-11 TW TW095125167A patent/TWI317388B/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-07-12 CN CN2006101018934A patent/CN1912181B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2006-07-12 KR KR1020060065522A patent/KR100850090B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2010
- 2010-12-30 US US12/981,943 patent/US7968149B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070023284A1 (en) | 2007-02-01 |
CN1912181B (zh) | 2010-10-20 |
EP1744233A1 (en) | 2007-01-17 |
CN1912181A (zh) | 2007-02-14 |
KR20070008453A (ko) | 2007-01-17 |
TW200710272A (en) | 2007-03-16 |
US20110094410A1 (en) | 2011-04-28 |
US7892603B2 (en) | 2011-02-22 |
KR100850090B1 (ko) | 2008-08-04 |
JP2007023307A (ja) | 2007-02-01 |
US7968149B2 (en) | 2011-06-28 |
TWI317388B (en) | 2009-11-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4486559B2 (ja) | 無電解めっき液の再生装置及び再生方法 | |
CN100511602C (zh) | 基板处理装置 | |
KR101873631B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JP2009206419A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR20160140483A (ko) | 전해액 전달 및 생성 장비 | |
CN110431111B (zh) | 膜分离装置及膜分离方法 | |
JP3788985B2 (ja) | エッチング液の再生方法、エッチング方法およびエッチング装置 | |
KR20130062525A (ko) | 도금액 유지 장치 | |
JP3197053U (ja) | 液補充装置及びこれを備えたクーラント再生装置 | |
JP2004093465A (ja) | 重量測定式スラリ濃度計及び測定方法 | |
JP3067993B2 (ja) | 廃水の生物学的脱リン方法およびその装置 | |
TWI404564B (zh) | 處理氣體流之方法 | |
JP2007142458A (ja) | 処理装置および半導体装置の製造方法 | |
JPH0158270B2 (ja) | ||
CN211367185U (zh) | 一种煤气化炉灰水的处理系统 | |
JP5880079B2 (ja) | 膜分離方法及び装置 | |
JP3696712B2 (ja) | 硫酸第二鉄溶液への再生方法及びそれに用いる再生装置 | |
JPH09206760A (ja) | 廃水中の脱リン方法及びその装置 | |
JP2006316330A (ja) | めっき素材表面活性化硝酸溶液の機能維持方法と装置 | |
JP6290691B2 (ja) | 酸洗液の投入量決定方法 | |
KR200223148Y1 (ko) | 인산염 피막설비용 인산염 청정화장치 | |
JP2018179556A (ja) | 水質監視装置及び水処理システム | |
KR101342960B1 (ko) | 씨비디 박막 제조장치 및 씨비디 박막제조장치에 의하여 제조된 태양전지 | |
JPS62199361A (ja) | スラリ−循環使用方法 | |
JPH089054B2 (ja) | 循環水系における補給水制御装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080117 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20080117 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20080403 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080408 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080602 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080708 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080828 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080924 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20081017 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100326 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4486559 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130402 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140402 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |