JP4475052B2 - 酸化物単結晶の製造方法及び装置 - Google Patents
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図13(a)は、酸化ランタン(La2O3)、酸化ガリウム(Ga2O3)、SiO2(二酸化ケイ素)の融液の組成に対する状態図である。
図13(a)において、ランガサイトの初晶領域は、点a1であり、La2O3、Ga2O3、SiO2を含む融液を冷却すると、ランガサイトの結晶ではなく、LS(G)の結晶が最初に析出する(LS(G)とは、ランタン、シリカ、ガリウム系のランガサイトではない結晶である)。このような化合物は包晶系とよばれ、非一致溶融組成の状態図をもつ。
目的とする酸化物結晶の結晶化を行う際に、目的とする酸化物単結晶以外の化合物が最初に析出してしまうため、非一致溶融組成の状態図をもつ包晶系の化合物を製造するのは困難であるという問題があった。
しかし、この方法を使用した場合、ランガサイトの単結晶とは異なる組成の融液を用いるため、ランガサイトの単結晶の結晶化が進むにつれて、融液と結晶の組成のずれが大きくなり、ランガサイト単結晶以外の結晶が析出したり、場合によっては結晶にクラックが発生したりするという問題があった。
しかし、この方法を使用した場合、ルツボ内に無理な温度勾配が生じることにより、結晶化を行っているランガサイトの単結晶に熱歪みが生じ、結晶にクラックが発生するという問題があった。
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的は、結晶成長時に電場や磁場を印加することにより、酸化物単結晶を容易に製造するための酸化物単結晶の製造方法及び装置及びウエハを提供することにある。
前記酸化物単結晶の原料である融液に対し、50(kV/m)以上の直流の電場、又は、実効値が50(kV/m)以上の交流の電場と、79600(A/m)以上の磁場を印加しながら前記酸化物単結晶の結晶化を行う工程を有することを特徴とする酸化物単結晶の製造方法である。
一般的に、融液が凝固する時にどの結晶相が初晶として析出するかは、その系における液相の自由エネルギーと、固相のもつ自由エネルギーの大きさに依存する。この自由エネルギーは、一般に温度、圧力(応力)、電界、磁界の関数として表される。
初晶と目的相の自由エネルギーを逆転させることができれば、非一致溶融組成を有する酸化物単結晶を、一致溶融組成の条件下で結晶化することが可能となり、従来、製造することが難しかった酸化物単結晶を容易に製造することができる。
1つ目の理由は、結晶の成長速度に伴う線形的な関係を有する電荷分配効果(結晶化起電力)を生じさせる結晶中での同符号の電荷と、液体の境界層中での反対符号の電荷の分配によるものである。
2つ目の理由は、平衡状態のイオン組成に依存する温度によって生じるゼーベック係数の効果によるものである。
なお、αs=0.76±0.02(mV/K)であり、αL=−0.4(mV/K)である。また、αi=1.25±0.2(mV・sec/μm)である。
熱起電力によって生ずる固相と液相の境界面での電場(ゼーベック効果)は、LHPG系や上方拡散における不規則な溶融領域の広がりを引き起こすイオン性溶質の移動に大きく影響する。それは、イオン性溶質の固液間分配に大きな効果を与え、通常の冷却過程では1以下である分配係数が、図2に示すように1以上に変化する。
ここで、重要なことは、酸化物融液は通常、分配が境界面の電場によって大きく影響される複数のイオン種を含んでいるが、固液間分配による変化を説明する状態図が存在しない点である。
このように、LiNbO3の結晶成長の条件として、平衡な状態図に示されるような静的な一致溶融組成に代わり、動的な一致溶融組成を利用することが考えられる。
液相中でのj番目のイオン種の化学ポテンシャルをηj L、固相中でのj番目のイオン種の化学ポテンシャルをηj Sとすると、それらは以下の式(2)、(3)のように表される。]
また、Eβは電界であり、Hβは、磁界である。また、Σβはβ相に加えられる応力である。
また、εβは誘電率であり、mβは透磁率である。また、cβはβ相における弾性定数である。
式(2)、(3)からわかるように、液相や固相における化学ポテンシャルは、印加される電場や磁場によって変化し、それに伴って相の安定関係は変化する。
ここで、推進力ΔGtotalを構成要素ごとに分離することにより、以下の式(4)で定義される結合方程式を導入する。
それぞれの項目の大きさは、結晶の成長方法と、結晶化の工程に依存する。式(4)は、電場によって以下の式(5)のように変形される。
結晶ダイナミックスの全体的な効果について完全に解明するためには、それぞれの項目の効果を研究する必要がある。しかし、そのような研究は、原子的なスケールでの分析において必要とされると思われる。
一致溶融状態では、液相と固相の間でのj番目のイオン種の化学ポテンシャルが等しくなる必要がある。つまり、以下の式(6)に示すように、式(2)と式(3)とが等しくなる必要がある。
一致溶融組成となるためには、Cj S/Cj Lが1となることが必要であり、ESとELは、以下の式(11a)、(11b)のように計算される。
次に、La2O3−Ga2O3−SiO2からなる系において、外部電場を実験的に求め、状態図を変化させる方法について説明する。
ルツボ2は、白金(Pt)−ロジウム(Rh)により形成されており、ルツボ2内には、生成する結晶の原料となる融液5が充填されている。また、ルツボ2は、電流源3に接続されており、電流源3から電流を供給することにより、ヒーターとしても機能するようになっている。
直流電流によって溶質中のイオンが移動するのを防止するために、電源6によりルツボ2に対して500Hzの周波数の電圧を印加した。
原料をルツボ2内で完全に溶融させた後、10分間経過すると、初晶が析出するまで融液5の温度は徐々に下降した。
初晶の析出を確認するために、この工程を3回繰り返し行った。初晶が析出する過程を電極4aに形成した観測孔7から顕微鏡8により観測した。
ルツボ2内の融液5に対して、電源6を用いて約500(V/cm)の電場を印加した。
電場を印加すると、La成分に富む融液のいくつかにおいて初晶相がLa14GaXSi9−XO39−X/2からLa2GaO3に変化し、それに伴い、ランガサイトの初晶域がランガサイトの化学量論組成に近づき、ランガサイトの初晶が析出するのが促進されることがわかる。
このように、所定の電場を印加することにより、ランガサイト(LGS)の結晶化を容易に行うことが可能となる。
図1は、第1の実施形態による酸化物単結晶製造装置10aの構造を示す断面図である。本実施形態の酸化物単結晶製造装置10aは、チョクラルスキー法により酸化物単結晶を製造する装置である。
本実施形態による酸化物単結晶の製造装置10aは、ルツボ2a、アフターヒーター11、引き上げ軸12、ワークコイル13、ソレノイドコイル鉄心14a及び14b、ソレノイドコイル15a及び15b、直流電源16aにより構成される。
アフターヒーター11は、ルツボ2aと対向する位置に配置され、ルツボ2aの上方から融液5を加熱する。アフターヒーター11は、白金(Pt)又はイリジウム(Ir)により形成される。
アフターヒーター11には、引き上げ軸12が軸の周りに回転可能なように設置される。引き上げ軸12の先端には、ランガサイト単結晶17の種結晶が取り付けられる。
本実施形態では、引き上げ軸12の回転数を5〜30回転、引き上げ軸12の引き上げ速度を0.5〜3(mm/hr)とし、直径が4インチのランガサイトの単結晶17を製造した。
また、ランガサイトの引き上げ方位は、SAW(Surface Acoustic Wave)フィルタ用の基板として有用なY54方位とした。
ソレノイドコイル15aの中には、ソレノイドコイル鉄心14aが設置される。ソレノイドコイル15aに直流電流を流すことにより、ソレノイドコイル鉄心14aに磁場が発生する。
なお、本実施形態において、ソレノイドコイル15a、15bにより、ソレノイド鉄心14a、14bに発生させる磁場は、同一方向であり、融液5の液面に照射されるようにした。ここで、結晶化が進むにつれて融液5の液面が徐々に下降するので、ソレノイド鉄心14a、14bとソレノイド15a、15bの位置を、融液5の液面の位置に一致するように移動させるようにしてもよい。
なお、本実施形態による酸化物単結晶製造装置10aにおいて、各部x1〜x7の寸法として、次の値を用いた。すなわち、x1=180(mm)、x2=180(mm)、x3=180(mm)、x4=150(mm)、x5=250(mm)、x6=280(mm)、x7=80(mm)とした。
図5における「最大電界」は、ルツボ2aとアフターヒーター11の間に印加した電圧によって生じる電界の最大値とした。印加する電圧を4000(V)とした場合、「最大電界」は、アフターヒーター11のつば部と、ルツボ2aの端部の間で電界が最大となり、約50(kV/m)となった。また、図5における「磁界強度」は、ソレノイドコイル鉄心14aからソレノイドコイル鉄心14bの方向に50(mm)離れた位置の磁界の値とした。
図5における「結晶状態」のデータにおいて、「良好」とは、結晶状態が良好であり、欠陥が存在しなかった場合を示している。一方、「二次相」とは、ランガサイトの単結晶17の中にランガサイト以外の結晶が析出してしまいウエハとして欠陥がある場合を示している。
一方、ランガサイトの単結晶17の結晶生成時に、電場を印加しなくても、ルツボ2a内の融液5に238800(A/m)以上の強度の磁場を印加した場合には、結晶状態が良好なランガサイトの単結晶17が得られることがわかる。なお、1(Oe)=79.6(A/m)である。
また、ランガサイトの単結晶17の結晶生成時に、電場と磁場の両方をルツボ2a内の融液5に印加する場合には、電場の強度として50(kv/m)以上、磁場の強度として79600(A/m)以上の条件としたときに、結晶状態が良好なランガサイトの単結晶17が得られることがわかる。
ランガサイトの単結晶17のウエハ18は、圧電デバイスやSAWデバイスなどに使用されるが、特に、SAWデバイスとして使用する場合には、「音速ばらつき」の値が100ppm以下であることが望ましい。
図7は、第2の実施形態による酸化物単結晶製造装置10bの構造を示す断面図である。
第1の実施形態とは、チョクラルスキー法を使用して酸化物の単結晶17を製造する点で同じである。
しかし、第1の実施形態では、ルツボ2aとアフターヒーター11の間に直流電源16aを用いて電場を印加していたのに対し、第2の実施形態では、ルツボ2aとアフターヒーター11の間に交流電源16bを用いて電場を印加している点において相違する。
図8の「結晶状態」、「音速ばらつき」のデータの意味は、図5と同じであるので説明を省略する。
一方、ランガサイトの単結晶17の結晶生成時に、電場を印加しなくても、ルツボ2a内の融液5に238800(A/m)以上の強度の磁場を印加した場合には、結晶状態が良好なランガサイトの単結晶17が得られることがわかる。
また、ランガサイトの単結晶17の結晶生成時に、電場と磁場の両方をルツボ2a内の融液5に印加する場合には、交流の電場の実効値が50(kv/m)以上、磁場の強度が79600(A/m)以上としたときに、結晶状態が良好なランガサイトの単結晶17が得られることがわかる。
図9は、第3の実施形態による酸化物単結晶製造装置10cの構造を示す断面図である。本実施形態の酸化物単結晶製造装置10cは、ブリッジマン法により酸化物単結晶を製造する装置である。
本実施形態による酸化物単結晶の製造装置10cは、ルツボ2b、電極21、発熱体22、ソレノイドコイル鉄心14a及び14b、ソレノイドコイル15a及び15b、直流電源16aにより構成される。
なお、本実施形態では、ルツボ2bとしてPt−Rhの合金からなる容器を使用した。
また、本実施形態では、ランガサイト単結晶の成長速度を0.5〜3(mm/hr)とし、直径が4インチのランガサイト単結晶を製造した。また、ランガサイトの方位として、SAWフィルタ用の基板として有用なY54方位とした。
ソレノイドコイル15aの中には、ソレノイドコイル鉄心14aが設置される。ソレノイドコイル15aに直流電流を流すことにより、ソレノイドコイル鉄心14a内に磁場を発生させる。
なお、本実施形態において、ソレノイドコイル鉄心14a、14bに発生させる磁場は、同一方向であり、融液5と酸化物結晶17の境界面に照射されるようにした。ここで、結晶化が進むにつれて融液5の液面が徐々に下降するので、ソレノイド鉄心14a、14bとソレノイド15a、15bの位置を、融液5の液面の位置に一致するように移動させるようにしてもよい。
なお、本実施形態による酸化物単結晶製造装置10cにおいて、各部x8〜x12の寸法として、次の値を用いた。すなわち、x8=100(mm)、x9=120(mm)、x10=150(mm)、x11=280(mm)、x12=80(mm)とした。
図10における「最大電界」は、ルツボ2bと電極21の間に印加した電圧によって生じる電界の最大値とした。電圧を4000(V)とした場合、「最大電界」は、電極21と、ルツボ2bの端部の間の電界が最大となり、約50(kV/m)となった。また、図10における「磁界強度」は、ソレノイドコイル鉄心14aからソレノイドコイル鉄心14bの方向に50(mm)離れた位置の磁界の値とした。
「結晶状態」のデータにおいて、「良好」とは、結晶状態が良好であり、欠陥が存在しなかった場合を示している。一方、「クラック」とは、ランガサイトの単結晶17を製造する際にひび割れが生じてしまい、ウエハとして利用することができない場合を示している。
一方、ランガサイトの単結晶17の結晶生成時に、電場を印加しなくても、ルツボ2a内の融液5に238800(A/m)以上の強度の磁場を印加した場合には、結晶状態が良好なランガサイトの単結晶17が得られることがわかる。
また、ランガサイトの単結晶17の結晶生成時に、電場と磁場の両方をルツボ2a内の融液5に印加する場合には、電場の強度として50(kv/m)以上、磁場の強度として79600(A/m)以上の条件としたときに、結晶状態が良好なランガサイトの単結晶17が得られることがわかる。
図10の「音速ばらつき」のデータの意味は、図5と同じであるので説明を省略する。
図11は、第4の実施形態による酸化物単結晶製造装置10dの構造を示す断面図である。
第3の実施形態とは、ブリッジマン法を使用して、酸化物単結晶17の生成を行う点で同じである。しかし、第3の実施形態では、ルツボ2bと電極21の間に直流電源16aを用いて電場を印加していたのに対し、第4の実施形態では、ルツボ2bと電極21の間に交流電源16bを用いて電場を印加している点において相違する。
図12の「結晶状態」、「音速ばらつき」のデータの意味は、図5と同じであるので説明を省略する。
一方、ランガサイトの単結晶17の結晶生成時に、電場を印加しなくても、ルツボ2b内の融液5に238800(A/m)以上の強度の磁場を印加した場合には、結晶状態が良好なランガサイトの単結晶17が得られることがわかる。
また、ランガサイトの単結晶17の結晶生成時に、電場と磁場の両方をルツボ2b内の融液5に印加する場合には、交流の電場の実効値が50(kv/m)以上、磁場の強度が79600(A/m)以上としたときに、結晶状態が良好なランガサイトの単結晶17が得られることがわかる。
なお、上述した第1〜第4の実施形態による酸化物単結晶の製造方法では、電場を融液の液面と垂直な方向に印加し、磁場を融液の液面と水平な方向に印加する場合について説明したがこれに限定されるものではなく、任意の方向から電場や磁場を印加してもかまわない。
また、第1及び第2の実施形態では、チョクラルスキー法により酸化物単結晶を製造する場合について説明し、第3及び第4の実施形態では、ブリッジマン法により酸化物単結晶を製造する場合について説明したが、これらの方法に限定されるものではない。
2、2a、2b・・・ルツボ
3・・・電流源
4a、4b・・・電極
5・・・融液
6・・・電源
7・・・観測孔
8・・・顕微鏡
10a〜10d・・・酸化物単結晶製造装置
11・・・アフターヒーター
12・・・引き上げ軸
13・・・ワークコイル
14a、14b・・・ソレノイドコイル鉄心
15a、15b・・・ソレノイドコイル
16a・・・直流電源
16b・・・交流電源
17・・・単結晶
18・・・ウエハ
19・・・表面弾性波フィルタ
20・・・電極構造
21・・・電極
22・・・発熱体
Claims (6)
- 非一致溶融組成を有する酸化物単結晶の製造方法において、
前記酸化物単結晶の原料である融液に対し、100(kV/m)以上の直流の電場、又は、実効値が100(kV/m)以上の交流の電場を印加しながら前記酸化物単結晶の結晶化を行う工程を有することを特徴とする酸化物単結晶の製造方法。 - 非一致溶融組成を有する酸化物単結晶の製造方法において、
前記酸化物単結晶の原料である融液に対し、50(kV/m)以上の直流の電場、又は、実効値が50(kV/m)以上の交流の電場と、79600(A/m)以上の磁場を印加しながら前記酸化物単結晶の結晶化を行う工程を有することを特徴とする酸化物単結晶の製造方法。 - 前記酸化物結晶の結晶化において、チョクラルスキー法又はブリッジマン法を使用することを特徴とする請求項1又は2に記載の酸化物単結晶の製造方法。
- 前記酸化物結晶が、ガリウム、シリコン、ニオブ、タンタル、カルシウム、ゲルマニウム、ストロンチウム、希土類金属元素の少なくとも1種以上を含むランガサイト型の結晶構造を有する酸化物結晶であることを特徴とする請求項1から3のいずれかの項に記載の酸化物単結晶の製造方法。
- 酸化物単結晶の原料を内部に保持する金属製のルツボと、
前記ルツボ内に保持される前記酸化物単結晶の原料を融解させる発熱手段と、
種結晶を利用して、前記発熱手段により融解された前記酸化物単結晶の原料の融液から前記酸化物単結晶を引き上げる引き上げ手段と、
前記ルツボに対向して配置される金属製の電極と、
一方の端子が前記ルツボに接続され、他方の端子が前記電極に接続され、前記発熱手段により融解される前記酸化物単結晶の原料の融液に100(kV/m)以上の直流の電場、又は、実効値が100(kV/m)以上の交流の電場を印加する電場印加手段と、
を有することを特徴とする酸化物単結晶の製造装置。 - 酸化物単結晶の原料を内部に保持する金属製のルツボと、
前記ルツボ内に保持される前記酸化物単結晶の原料を融解させる発熱手段と、
種結晶を利用して、前記発熱手段により融解された前記酸化物単結晶の原料の融液から前記酸化物単結晶を引き上げる引き上げ手段と、
前記ルツボに対向して配置される金属製の電極と、
一方の端子が前記ルツボに接続され、他方の端子が前記電極に接続され、前記発熱手段により融解される前記酸化物単結晶の原料の融液に50(kV/m)以上の直流の電場、又は、実効値が50(kV/m)以上の交流の電場を印加する電場印加手段と、
前記発熱手段により融解される前記酸化物単結晶の原料の融液に79600(A/m)以上の磁場を印加する磁場印加手段と、
を有することを特徴とする酸化物単結晶の製造装置。
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