JP4473066B2 - オートフォーカス装置 - Google Patents
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Description
この精度を左右する原因の1つに散乱光の問題がある。この散乱光とはスペックル現象による干渉縞や、物体面に付けられたキズ、極端な凹凸(突起)などによって生じる部分的な高輝度反射光をいい、この散乱光が発生するとオートフォーカス測定時に全体の測定光の分布が影響を受けてしまい正確な測定が損なわれてしまう。上記したスペックル現象は周知のように、表面形状が不規則な物体の各点から散乱される反射光が互いにランダムな位相関係で、幾つも重なり合った結果生じる干渉縞と考えられていて、その不安定な発生状態がオートフォーカス精度を左右する原因となっている。しかもこのスペックルはレーザを光源として使用する限り、レーザ光自身が持つ光の性質や測定する物体の表面粗さ程度とその角度、測定装置に加えられる各種の振動などによってどうしても発生してしまう。従ってこのような散乱光の発生を抑えるための工夫、或いは発生してしまった散乱光を抑制し浄化するための手段を設置することが、オートフォーカス精度を向上することになる。
このような散乱光に対してこれまでは、観察する物体表面からの反射光を途中で加工するようにした散乱光浄化手段を新たに設置して対応するようにしているものが多い。例えば物体表面からの反射光をビデオ情報として取り出し、それをデジタル化して記憶し、そのデジタル画像の中から最大輝点となる位置を求めてその位置を、物体表面が存在する位置として認識するようにしたものがある(特許文献1)。また物体表面からの反射光を2つに分割して取りだし、それぞれを別個の検出器で検出できるよう2つの光学系を形成し、両者を比較するようにしたものも知られている(特許文献2)。しかしいずれも複雑な手段や特別の光学系を別途設置しなければならず、装置全体が大型化して高価となってしまっていた。
請求項2の発明によるものは、請求項1記載のオートフォーカス装置において大サイズ孔を複数配置した大サイズ孔フイルタと、小サイズ孔を複数配置した小サイズ孔フイルタを、孔同士が重ね合うよう対にして配置し、両孔を通過した光束が物体側に向かうようにした多孔フイルタとしたことを特徴とする。
請求項3の発明によるものは、請求項1記載のオートフォーカス装置において対物レンズの焦点距離に応じて孔のサイズ、配列ピッチを変えた多孔フイルタとしたことを特徴とする。
((a+c)−(b+d))/(a+b+c+d)・・・・・・・1式
の除算を実施する。測定光束13は前記のように受光部8Pの中心部に投影されているから除算の結果は「0」となり、この「0」を出力して図1の駆動制御部12に送り出す。しかし駆動制御部12は「0」信号のため動作せず、対物レンズ5は静止したままで移動しない。それによって対物レンズ5の焦点位置と測定する物体6の表面位置は一致していて、両者間の距離は「0」と認識される。
図2Dはこの演算部11からの出力状態を説明するもので、横軸は光学系対物レンズ5のZ方向の位置を表し、縦軸は演算部11の出力電圧を示している。受光部8Pでの投影状態が図2Aのような状態にあれば、演算部11の演算結果は「0」であるから横軸と縦軸の交点位置14が出力電圧となり、その結果、駆動制御部12は動作しないままとなる。物体6の観察面位置に対して対物レンズ5の焦点位置が何等かの理由によって図1の6aのように光軸方向光源側に位置して焦点誤差を生じているとき、受光部8Pに投影される反射光束はシリンドリカルレンズ9の作用によって図2Bの様な右肩上がりの斜体15となる。そのため受光部8Pを構成するフォトダイオードからの出力は(a+c)<(b+d)となる。従って演算部11が実施する1式の演算結果はマイナスとなり、図2D上で縦軸を中心として左側での判定となる。仮に1式の結果を−4vとしたとき、その時の対物レンズ5位置16を測定すると横軸のように−0.4mmが得られる。そのため図上、交点14位置とレンズ位置16間のずれが図1の物体6観察面位置と対物レンズの焦点位置6aのずれとなる。
こうして得られた−4vの信号が演算部11から駆動制御部12に伝えられると、駆動制御部12は観察面位置が−0.4mm離れていると判断し、対物レンズ5を光軸上で光源側に移動させていく。この移動に伴って受光部8Pで受ける光束は次第に図2Aの光束13状態に近づき、位置16が交点位置14方向に徐々に近づいていく。そして最終的には図2Aの基本測定光束13状態となって駆動制御部12からの信号も停止する。
以上のように対物レンズ5の焦点位置と物体6表面の位置関係は、図2Dの様に位置16、交点14、位置18を結ぶライン19によって決定され、このライン19上で対物レンズ5を光軸方向に移動させることになる。対物レンズ5をこのライン19に沿って正確に移動させるためには物体表面からの反射光束が受光部8P上に測定光として投影されたとき、光束13、15、17のそれぞれを明瞭に区別し識別できることが重要となる。
このように散乱光の内、特にスペックルの問題はレーザ光源のスポットを絞って光触針部となる照射面積(フォーカスポイント)を小さくすればするほど発生しやすくなり、また対物レンズの焦点位置を物体表面に近づけてピント精度を高めれば高めるほどスペックルが発生しやすくなるというやっかいな状態にある。傷などによって発生する散乱光の対策は比較的一義的に対処できるので、以下はこのスペックル対策を中心として説明していく。
以上の説明は受光部8P上に測定光束13が投影された状態を示しているが、CCD8Cを設置したときもスペックル20は同じように発生する。そのため受光部8C上で図3B〜Eの光束13a〜13dの様な変化を繰り返したり、或いは一部が欠けた状態や光束の境目がぼやけた不鮮明な反射光となる。これを表示部10で確認すれば像自身が安定せず不鮮明なものとなる。従って受光部8C、8Pのいずれを光学系中に設置する場合も、この発生したスペックルを抑制し浄化することが重要となる。尚、前記の受光部8P、8Cを切り替える手段は特に図上では示していないが、機械的な方法や光学的な方法などを採用することが出来る。
図4Bは多孔フイルタ21の平面図で、この例では3×3個の孔22がピッチp1、p2で格子状に配列されている。この配列は図のような格子状だけでなく同心円状や、例えば60度の角度を持った格子状、或いは点対称など、何等かの規則性を持っていれば任意のものを選択することが出来る。このような多孔フイルタ21を光学系1中に設置すると、レンズ3による平行光束の照射を受けるが、図Bではこのレンズ3による照射域を3aとして表している。照射域3a中の各孔22を通過した光束が対物レンズ5によってその 焦点位置近傍に設置された物体6を照明すると、つまり物体6表面が多孔フイルタ21の孔22配列に基づく分散した照明を受けると、その照明光によって反射光が生じる。実際には多孔フイルタ21を通過した光束によって回折現象の回折パターンが生じ、その各回折パターンが対物レンズ5によって物体表面上に結ばれ多点状に分散照明される。この照明によって多点に分散された反射光が発生し、それが測定光として受光部8に向かう。このとき物体表面にスペックルが発生していれば、そのスペックルも反射光の一部として共に受光部8に向かって測定光となる。
従って物体表面はこの回折パターンPTを形成する各照明光23A〜25B・・・によって分散照明されることになる。各照明光の明るさは、図5Bに示したように0次光23による照明光23Aが最も高く、+1次光24aと−1次光24bによる照明光24A、24Bは同じ明るさではあるが0次光よりは低く、±2次光25a、25bによる照明光25A、25Bは1次光よりも更に低くなる。これをグラフとして表したものが図5Bの26である。
このような各照明光23A〜25B・・・が物体6を照明すると、その反射光は前記した光学系を経て受光部8に向かう。このとき反射光と物体表面の粗さ程度などの条件によってはスペックルが発生する。そのスペックルの内容は様々のものになると考えられる。例えば図6Aに示したように0次光23によって得られた照明光23Aで照明された物体6からの反射光が、図3Aのように焦点誤差もスペックルも発生していない基本光束13に相当する光束13aであったとしても、図6Bのように+1次光24aによる照明光24Aで照明された物体6からの反射光は、図3Bに示したようなスペックル20−1を含んだ光束になってしまう事も考えられる。同様に図6Cのように−1次光24bによって得られた照明光24Bで照明された物体6からの反射光が図3Cに示したようなスペックル20−2を含んだ光束になってしまうことも考えられる。また図5Cには示していないが3次光や4次光による照明光束にもそれぞれ独自の、または他の照明光と同じようなスペックルが発生する可能性がある。従って各照明光23A〜25B・・・で照明された物体6からの反射光は、図6Dの23AR〜25BR・・・の様に個々に変化したものになると考えられる。しかしながら1つ1つの反射光がスペックルによってどのような形に変化したとしても、全体としては全てが受光部に向かって測定光となる。
この検出された信号は演算部11に送り出されて物体表面位置に対する対物レンズ焦点位置を算出するから、対物レンズの焦点位置は回折パターンPTによって形成される照明光の数によって算出されることになる。つまりこれまでは受光部8に投影された1つの反射光を全測定光、例えば13として検出し、その1つだけの検出信号で対物レンズの焦点位置を判定するようにしていた。そのため測定光13中にスペックルが少しでも発生すれば、図3のように判定精度に大きな影響が生じていた。
しかし本発明では回折現象を利用して回折パターンPTを発生させ、これで物体を照明し多点状に分散した照明光23A〜25B・・・を発生させ、その反射光を受光部8Pに投影して多点状の分散測定光を得るようにした。それによって対物レンズの焦点位置は分散測定光全体で求められるようになり、1つ1つの測定光中にスペックルが発生したとしても、それは1つの測定光のバランスが変化するだけとなる。従って多点に分散した測定光の検出に変化の生じることが少なくなり、あたかもスペックルが抑制され浄化されたかのようになる。これで図6で説明したような様々のスペックルが物体表面上で発生したとしても、全フォトダイオードa〜dを同じ環境の基で作用させることが出来る。
これに対し図Bは、図2Bと同じように物体6表面に対して対物レンズ5の焦点位置が図1の6aのように光源2側に位置していて、焦点誤差を起こしているときの受光部8P上に投影された回折パターンの反射光PT15Rを示しており、回折パターンPTの反射光が、シリンドリカルレンズ9の作用を受けて右肩上がりの斜体となっている。この様な斜体PT15Rパターンを受光部8Pが検出すると、演算部11は(a+c)<(b+d)と判定して駆動制御部12に指令を出し、対物レンズ5を移動してその位置を補正する。図8Cは対物レンズ5の焦点位置が図1の6bの様に光源2から遠ざかる側に位置していて、焦点誤差を起こしているときの受光部8P上に投影された回折パターンPTの反射光PT17Rを示しており、図2Cと同じように回折パターンPTがシリンドリカルレンズ9によって左肩上がりの斜体になっている。受光部8Pがこのような左肩上がりの斜体パターンPT17Rを検出すると、演算部11は(a+c)>(b+d)と判定して駆動制御部12から対物レンズ5に移動指令を出し、その位置を補正する。
このように回折パターンによる多点状の分散照明光を物体上に結像させることによって、受光部8Pはその分散反射光を測定光として確実に検出するので、演算部11は反射光を光束PT13R、PT15R、PT17Rとして明瞭に区別し識別することができる。
このように多孔フイルタ21の孔22サイズと配列ピッチは照明光の生成と測定光の検出結果に重要な役割を持つので、対物レンズの焦点距離により変化させることが望ましい。
図11Aではビームスプリッタ4や対物レンズ5は省略してあるが、小サイズ孔フイルタ21からの0次光23、+と−の1次光24a、bと+と−の2次光25a、b・・・が発生している状態を示している。
図11Bは大サイズ孔フイルタ21L側から物体6方向を見たときの例を拡大して示したもので、大サイズ孔22Lの内部に小サイズ孔22を幾つか見ることが出来る。この小サイズ孔22を通過したそれぞれの光束が回折現象を起こし、前記した太め状回折パターンを発生して物体6を照明する。
このように2種の孔サイズを持った多孔フイルタ21、21Lを光学系1中に設置すれば、まず大サイズ孔22Lで光束3bが部分的にカットされて制限され、孔22Lを通過した光束だけが小サイズ孔22に向かう。そして小サイズ孔22を通過することで再度分散化されて物体上を照明する光となる。それによって物体上で、或いは受光部8P上で大サイズ孔22Lと小サイズ孔22の機能が発揮され、小サイズ孔22同志が接近しすぎて連続した1つの大きな反射光、或いは測定光となるのを防止することが出来る。また両多孔フイルタ21、21Lはその孔サイズを種々変換したものを複数種用意しておき、それを光学系1中に選択して設置することによって、例えば対物レンズ5の焦点距離によってそれらを使い分けることができ、最適の照明光を求めることが出来る。同様に図11Aに示した両多孔フイルタ21、21L間のスペースWを加減することで照明光などの調整を行うことが出来る。
上記した多孔フイルタ21の光学系1中に着脱する機構や、スペースWを加減する機構は、ここでは開示しないが任意の公知手段を採用することが出来る。また大サイズ孔フイルタ21Lの孔22Lの大きさを1〜1.5mm、小サイズ孔フイルタ21の孔22の大きさを0.3〜0.5mmとし、両フイルタ間のスペースを0〜1mmとして光学系中に設置し、物体6を照明したとき良好な結果が得られた。
Claims (3)
- 半導体レーザ光源と、この光源からの光束を受けて平行光束とするレンズと、このレンズからの平行光束を受けて物体の表面位置近傍に焦点を結ぶ対物レンズと、レンズと対物レンズ間の平行光束中に設置され、対物レンズが照明した物体からの反射光を受けて多分割フォトダイオードで構成した受光部側に反射するビームスプリッタと、このビームスプリッタからの反射光束をシリンドリカルレンズを介して受け、前記受光部に測定光として投影する結像レンズと、で測定光学系を構成し、受光部に投影された測定光の形状に応じて対物レンズを光軸方向に上下動し、物体表面位置に対する対物レンズの焦点位置を求めるようにしたオートフォーカス装置において、レンズとビームスプリッタ間の平行光束中に複数の孔を規則性を持って配置した多孔フイルタを設置し、この多孔フイルタを通過し回折現象で分散された夫々の光束を、対物レンズでその焦点位置近傍に設置される物体表面上に多点状にして結像し、その結像位置からの多点状反射光を受光部に向かわせ、この多点状反射光の集合を1つの測定光束として対物レンズの焦点位置を求めるようにしたことを特徴とするオートフォーカス装置。
- 大サイズ孔を複数配置した大サイズ孔フイルタと、小サイズ孔を複数配置した小サイズ 孔フイルタを、孔同士が重ね合うよう対にして配置し、両孔を通過した光束が物体側に向 かうようにした多孔フイルタとしたことを特徴とする請求項1記載のオートフォーカス装置。
- 対物レンズの焦点距離に応じて孔のサイズ、配列ピッチを変えた多孔フイルタとしたことを特徴とする請求項1記載のオートフォーカス装置。
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