JP4470715B2 - 放射線画像変換パネル及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、被写体の放射線画像を形成する際に用いられる放射線画像変換パネルに関する。

従来から、Ｘ線画像のような放射線画像は医療現場において病状の診断に広く用いられている。特に、増感紙−フィルム系による放射線画像は、長い歴史のなかで高感度化と高画質化が図られた結果、高い信頼性と優れたコストパフォーマンスを併せ持った撮像システムとして、いまなお、世界中の医療現場で用いられている。近年では、輝尽性蛍光体パネルを放射線画像変換パネルとして用いたコンピューテッドラジオグラフィー（ＣＲ（computed radiography））も商品化され、高感度化及び画質の改善が日夜続けられている。

上記「輝尽性蛍光体パネル」というのは、被写体を透過した放射線を蓄積して、励起光の照射等により、蓄積した放射線をその線量に応じた強度で輝尽発光するものであり、所定の基板上に輝尽性蛍光体が層状に形成された構成を有している。そのような輝尽性蛍光体パネルの製造方法の一例が特許文献１に開示されている。特許文献１に記載の製造方法では、周知の気相堆積法により所定の基板上に輝尽性蛍光体層を形成して輝尽性蛍光体パネルを製造し、その輝尽性蛍光体パネルを熱処理している（段落番号００３４，００３５参照）。
特開２００３−２７９６９６号公報

ところで、上記輝尽性蛍光体パネルを放射線画像変換パネルとして使用する場合には、輝尽性蛍光体パネルを２枚の樹脂製のフィルム間に挟んで当該各フィルムの側縁部同士を加熱・融着し、当該フィルム間に蛍光体パネルを封止するのが一般的となっている。ここで、適切な温度でフィルムを加熱・融着しないと、輝尽性蛍光体パネルの輝尽性蛍光体層とフィルムとの間に所望の空隙が形成されず（輝尽性蛍光体層とフィルムとが密着して空隙が必要以上に狭まり）、放射線画像に画像ムラや線状ノイズが発生する可能性がある。
本発明の目的は、画像ムラや線状ノイズの発生を防止することができる放射線画像変換パネル及びその製造方法を提供することである。

上記課題を解決するため請求項１に記載の発明の放射線画像変換パネルの製造方法は、
所定の基板上に気相堆積法で輝尽性蛍光体層が形成された蛍光体パネルをハロゲン化溶剤のガス雰囲気下で加熱する加熱工程と、
前記加熱工程の後に、前記蛍光体パネルを２枚の樹脂製のフィルム間に配置し、前記各フィルムの周縁部に対し最低ヒートシール温度が１５０℃以上の熱を加えて前記各フィルムの周縁部同士を加熱・融着するヒートシール工程と、
を備えることを特徴としている。

請求項２に記載の発明は、
請求項１に記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、
前記最低ヒートシール温度が１５０〜１７１℃であることを特徴としている。

請求項３に記載の発明は、
請求項１又は２に記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、
前記ハロゲン化溶剤がハイドロフルオロエーテルであることを特徴としている。

請求項４に記載の発明は、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、
前記ハロゲン化溶剤が、励起光を吸収する色材を含有していることを特徴としている。

請求項５に記載の発明の放射線画像変換パネルは、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法に従って製造されたものである。

請求項１〜４に記載の発明では、ヒートシール工程において最低ヒートシール温度が１５０℃以上の熱を各フィルムの周縁部に加えるため、蛍光体パネルの輝尽性蛍光体層とフィルムとの間に所望の空隙を形成した状態でフィルム間に蛍光体パネルを封止することができる。これにより、輝尽発光量を飛躍的に向上させることができ、ひいては放射線画像における画像ムラや線状ノイズの発生を防止することができる。

以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。ただし、発明の範囲は図示例に限定されない。

図１は放射線画像変換パネル１の断面図である。
図1に示す通り、放射線画像変換パネル１は、所定の基板２上に輝尽性蛍光体層３が形成された蛍光体パネル４を有している。

基板２は短形状を呈している。基板２は、高分子材料，ガラス，金属等で構成されており、特に、セルロースアセテートフィルム，ポリエステルフィルム，ポリエチレンテレフタレート，ポリアミドフィルム，ポリイミドフィルム，トリアセテートフィルム，ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム、石英，ホウ珪酸ガラス，化学的強化ガラス等の板ガラス、又はアルミニウム，鉄，銅，クロム等の金属シート若しくはそれら金属酸化物の被覆層を有する金属シートで構成されているのが好ましい。

基板２の表面２ａ（図１中上面）は滑面であってもよいし、マット面であってもよい。基板２の表面２ａ上には、輝尽性蛍光体層３との接着性を向上させる目的で下引層を設けてもよいし、基板２を透過して輝尽性蛍光体層３に励起光が入射するのを防止する目的で光反射層が設けられていてもよい。

輝尽性蛍光体層３はＣｓＢｒ：Ｅｕ等の公知の輝尽性蛍光体から構成されており、蒸着法，スパッタリング法，ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法，ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）法，イオンプレーティング法等の公知の気相堆積法で形成されている。輝尽性蛍光体層３は１層で構成されていてもよいし、２以上の層で構成されていてもよい。

図２は蛍光体パネル４の拡大断面図であって輝尽性蛍光体層３を巨視的にみた断面図である。
図２に示す通り、輝尽性蛍光体層３は、輝尽性蛍光体から構成された多数の柱状結晶３ａ，３ａ，…が互いに間隔をあけて並んだ柱状構造を有している。各柱状結晶３ａは基板２の表面２ａの法線Ｒに対し所定角度で傾斜している。図２では、輝尽性蛍光体層３は多数の柱状結晶３ａ，３ａ，…からなる１層で構成されているが、当該輝尽性蛍光体層３は多数の柱状結晶３ａ，３ａ，…からなる層が２層以上積層された層状構造を有していてもよく、その層数にかかわらず、総層厚が５０μｍ以上、好ましくは３００〜５００μｍに形成されているのがよい。

上記構成を具備する蛍光体パネル４は、図１に示す通り、輝尽性蛍光体層３上に配置された防湿性の第１の保護フィルム１０と、基板２下に配置された防湿性の第２の保護フィルム２０との間に介在している。

第１の保護フィルム１０は蛍光体パネル４よりやや大きな面積を有しており、蛍光体パネル４の輝尽性蛍光体層３と実質的に接着していない状態でその周縁部が蛍光体パネル４の周縁部より外側に延出している。「第１の保護フィルム１０が輝尽性蛍光体層３と実質的に接着していない状態」とは、第１の保護フィルム１０と輝尽性蛍光体層３とが光学的に一体化していない状態をいい、具体的には、第１の保護フィルム１０と輝尽性蛍光体層３との接触面積が輝尽性蛍光体層３の表面（第１の保護フィルム１０に対向する面）の面積の１０％以下である状態をいう。

他方、第２の保護フィルム２０も蛍光体パネル４よりやや大きな面積を有しており、その周縁部が蛍光体パネル４の周縁部より外側に延出している。

放射線画像変換パネル１では、第１，第２の保護フィルム１０，２０の各周縁部同士が全周にわたって融着されており、第１，第２の保護フィルム１０，２０が蛍光体パネル４を完全に封止した構成を有している。第１，第２の保護フィルム１０，２０は、蛍光体パネル４を封止することにより、蛍光体パネル４への水分の浸入を確実に防止して当該蛍光体パネル４を保護するようになっている。

図１中上部の拡大図に示す通り、第１の保護フィルム１０は、第１の層１１、第２の層１２、第３の層１３の３層を積層した積層構造を有している。

第１の層１１は、空気層１４を介して蛍光体パネル４の輝尽性蛍光体層３と対向する層であり、熱融着性を有する樹脂で構成されている。「熱融着性を有する樹脂」としては、エチレン酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ），キャスティングポリプロピレン（ＣＰＰ），ポリエチレン（ＰＥ）等が挙げられる。

第２の層１２はアルミナ，シリカ等の金属酸化物で構成された層であり、公知の蒸着法により第３の層１３下に蒸着されている。第２の層１２は、第１の保護フィルム１０の防湿性能を強化するものであるが、なくてもよい。

第３の層１３は第２の層１２上に積層されており、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の樹脂で構成されている。

このように、金属酸化物で構成された第２の層１２を有する第１の保護フィルム１０は、加工性や透明性に優れており、防湿性及び酸素透過性の性質の面で温度や湿度の影響を受けにくい。そのため、当該第１の保護フィルム１０は、環境によらずに安定した画像品質が要求される輝尽性蛍光体利用型の医療用放射線画像変換パネル１に好適である。

なお、第３の層１３上には、第１の層１１と同様の層、第２の層１２と同様の層、第３の層１３と同様の層又は第１の層１１、第３の層１３とは異なる樹脂で構成された層が１層又は２層以上積層されてもよい。

特に、第３の層１３上に、アルミナ，シリカ等の金属酸化物で構成された第２の層１２と同様の層を積層すると、第１の保護フィルム１０は、その第２の層１２に相当する層の積層数に応じた最適な防湿性能を発揮するようになっている。第２の層１２又はこれと同様の層の積層方法としては、公知の方法であればどのような方法でも適用可能であるが、ドライラミネート方式に従う方法を適用するのが作業性の面で好ましい。

図１中下部の拡大図に示す通り、第２の保護フィルム２０は、第１の層２１、第２の層２２、第３の層２３の３層を積層した積層構造を有している。

第１の層２１は空気層２４を介して蛍光体パネル４の基板２と対向している。第１の層２１は上記第１の保護フィルム１０の第１の層１１と同様の樹脂で構成され、その周縁部において第１の保護フィルム１０の第１の層１１と融着している。

第２の層２２は第１の層２１下にラミネートされた層であり、アルミニウムで構成されている。第２の層２２は、第２の保護フィルム２０における防湿性能を向上させるものであるが、なくてもよい。

第３の層２３は第２の層２２下に積層されており、ＰＥＴ等の樹脂で構成されている。

なお、第３の層２３下には、第１の層２１と同様の層、第２の層２２と同様の層、第３の層２３と同様の層又は第１の層１１、第３の層１３とは異なる樹脂で構成された層が１層又は２層以上積層されてもよい。

続いて、放射線画像変換パネル１の製造方法について説明する。

始めに、所定の基板２を準備してその基板２上に周知の気相堆積法で輝尽性蛍光体層３を形成する（以下「輝尽性蛍光体層形成工程」という。）。

例えば、複数存在する周知の気相堆積法のうち、蒸着法で輝尽性蛍光体層３を形成する場合について簡単に説明すると、図２に示す通り、基板２を蒸着装置内の基板ホルダに固定・設置し、当該蒸着装置内を排気して真空状態とする。その後、抵抗加熱法，エレクトロンビーム法等の方法により輝尽性蛍光体を蒸着源として当該輝尽性蛍光体を加熱・蒸発させ、基板２の表面２ａ上に輝尽性蛍光体を所望の厚さになるまで成長させ、輝尽性蛍光体層３を基板２上に形成する。

ここで、蒸着装置内の基板ホルダに固定した基板２の表面２ａの法線Ｒに対し、輝尽性蛍光体の蒸気流の入射角度をθ２とし、形成しようとする柱状結晶３ａの傾斜角度をθ１とすると、経験的に傾斜角度θ１は入射角度θ２の約半分となり、入射角度θ２に応じた傾斜角度θ１で多数の柱状結晶３ａ，３ａ，…が形成される。すなわち、入射角度θ２＝６０°で輝尽性蛍光体の蒸気流を基板２の表面２ａに入射させれば、当該基板２の表面２ａには傾斜角度θ１＝３０°の多数の柱状結晶３ａ，３ａ，…を形成することができる。

基板２の表面２ａに対し輝尽性蛍光体の蒸気流を所定の入射角度で供給する方法としては、蒸着源に対し基板２を傾斜させるように配置する方法や、基板２と蒸着源とを互いに平行に設置して、スリット等により輝尽性蛍光体の蒸気流の斜め成分のみを蒸着面から蒸発させる方法等がある。

輝尽性蛍光体層形成工程の処理を終えたら、蛍光体パネル４を公知の恒温槽の内部に設置して当該恒温槽の内部を有機溶剤ガス雰囲気とし、その雰囲気下で蛍光体パネル４を１００℃以上（好ましくは１００℃以上で１６０℃以下）で所定時間加熱する（以下「加熱工程」という。）。

ここで、加熱工程で使用可能な「有機溶剤」について説明する。
当該有機溶剤としてはハロゲン系溶剤を用いるのが好ましい。ハロゲン系溶剤とは、炭化水素化合物において水素原子の少なくとも１つがＦ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロゲンに属する原子で置換された化合物を含む溶剤である。当該ハロゲン系溶剤は構造的には各元素同士の結合が飽和結合だけで構成された化合物であってもよいし、不飽和結合を含む化合物であってもよいし、環状の化合物であってもよいし、鎖状の化合物であってもよいし、化合物中の原子又は分子が水酸基、エーテル基、カルボニル基、カルボキシル基で置換された化合物であってもよい。

当該ハロゲン系溶剤として好ましい化合物としては、
（１）加熱処理に供される点（引火性や爆発性等に関わる消防法的な観点から引火点をもたない等の特性が要求される点）の観点から、引火点をもたない不燃性溶剤を適用するのがよい。この場合、使用しようとするハロゲン系溶剤の種類を考慮せずに加熱温度を任意に設定することができるが、加熱温度を引火点以下の温度で行うのが好ましい。

さらに上記（１）の観点を含めて、
（２）環境適性
（３）生体への有害性
等の観点から、昨今話題にのぼるフロン代替素材が有用であると考えられている。その中でも上記（２），（３）に優れた最新のフロン代替素材である「ＨＦＥ（ハイドロフルオロエーテル）」を当該ハロゲン系溶剤として好適に用いることができる。

ＨＦＥは、炭素、フッ素、水素、１つ以上のエーテル酸素原子からなり、さらに炭素主鎖中に組み込まれた１つ以上のさらなるヘテロ原子、例えば、硫黄又は三価窒素原子を含んでいてもよい。ＨＦＥは直鎖状を呈していてもよいし、枝分かれ状を呈していてもよいし、環状を呈していてもよいし、又はそれらの組み合わせで構成された構造を有していてもよく、例えば、アルキル脂環式であってもよい。ただし、ＨＦＥは不飽和結合を含まないことが好ましい。

具体的なＨＦＥとして、下記一般式（４）によって示される化合物をその一例として用いることができる。

（Ｒ⁴−Ｏ）_a−Ｒ⁵ … （４）

上記一般式（４）中、「ａ」は１〜３の数であり、「Ｒ⁴」及び「Ｒ⁵」はアルキル基及びアリール基からなる群より選択される基であり、互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。「Ｒ⁴」及び「Ｒ⁵」のうち少なくとも１つは、少なくとも１個のフッ素原子と、少なくとも１個の水素原子とを含むものであり、「Ｒ⁴」及び「Ｒ⁵」のいずれか一方又は両方が１個以上の鎖中ヘテロ原子を含んでもよく、ＨＦＥは当該ＨＦＥ中のフッ素原子の総数が水素原子の総数以上であるのが好ましい。「Ｒ⁴」及び「Ｒ⁵」は直鎖状を呈していてもよいし、枝分かれ状を呈していてもよいし、環状を呈してもいてもよく、さらに言えば１個以上の不飽和の炭素−炭素結合を含んでいてもよいが、「Ｒ⁴」及び「Ｒ⁵」が両方とも各元素同士で飽和結合した原子団であるのが好ましい。

このような性質を有するＨＦＥとしては、例えば住友スリーエム株式会社製のノベック（登録商標）ＨＦＥ−７１００，７１００ＤＬ，７２００やダイキン工業株式会社製のＨＦＥ−Ｓ７（商品名）等があり、これら市販のＨＦＥを当該加熱工程で使用可能なハロゲン系溶剤として好適に用いることができる。

なお、上記ハロゲン化溶剤には励起光を吸収する「色材」を含有させてもよい。ハロゲン化溶剤中に色材が含有されることで、加熱工程において当該色材が各柱状結晶３ａの間隙の隅々にまで浸透し、各柱状結晶３ａの間隙に入射した励起光の散乱を防止することができる。

使用する色材は輝尽性蛍光体の種類によって決定するのがよい。放射線画像変換パネル１には、通常、波長４００〜９００ｎｍの励起光により波長３００〜５００ｎｍの輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が用いられるため、色材としては、青色〜緑色の有機系色材又は無機系色材を用いるのがよい。

青色〜緑色の有機系色材としては、Ｎｅｏｚａｐｏｎ Ｂｌａｕ ８０７（ＢＡＳＦ社製）、ザボンファーストブルー３Ｇ（ヘキスト社製）、エストロールブリルブルーＮ−３ＲＬ（住友化学（株）製）、スミアクリルブルーＮ−３ＲＬ（住友化学（株）製）、Ｄ＆ＣブルーＮｏ．１（ナショナル・アニリン社製）、スピリットブルー（保土谷化学（株）社製）、オイルブルーＮｏ．６０３（オリエント（株）製）、キトンブルーＡ（チバ・ガイギー社製）、アイゼンカチロンブルーＧＬＨ（保土ヶ谷化学（株）製）、レイクブルーＡＦＨ（協和産業製）、プリモシアニン６ＧＸ（稲畑産業（株）製）、ブリルアシッドグリーン６ＢＨ（保土谷化学（株）製）、シアニンブルーＢＮＲＳ（東洋インキ（株）製）、ライオノルブルーＳＬ（東洋インキ（株）製）等が挙げられる。他方、青色〜緑色の無機系色材としては群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化クロム、ＴｉＯ_２−ＺｎＯ−ＣｏＯ−ＮｉＯ系顔料等が挙げられる。

上記ハロゲン化溶剤には、色材以外にも、高光吸収の物質、高光反射の物質等の充填材を含有させてもよい。高光吸収の物質、高光反射の物質等の充填材を各柱状結晶３ａの間隙に充填すれば、輝尽性蛍光体層３に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散の低減に有効である。

加熱工程の処理を終えたら、蛍光体パネル４をそのまま恒温槽の内部に所定時間放置して、蛍光体パネル４が所定温度に下降するまで蛍光体パネル４を冷却する（以下「放置冷却工程」という。）。例えば、蛍光体パネル４を恒温槽の内部に１時間以上放置して蛍光体パネル４が５０℃近傍に下降するまで蛍光体パネル４を冷却する。

放置冷却工程の処理を終えたら、蛍光体パネル４を恒温槽から取り出し、取り出した蛍光体パネル４を２枚の第１，第２の保護フィルム１０，２０間に配置する。このとき、第１の保護フィルム１０の第１の層１１と第２の保護フィルム２０の第１の層２１とを対向させる。そしてこの状態において、第１，第２の保護フィルム１０，２０の各周縁部をインパルスシーラで加熱・融着（ヒートシール）し、蛍光体パネル４を第１，第２の保護フィルム１０，２０間に封止する（以下「ヒートシール工程」という。）。そして上記の通り、輝尽性蛍光体層形成工程から封止工程までの各処理をおこなうことで、放射線画像変換パネル１を製造することができる

ここで、ヒートシール工程の処理では、最低ヒートシール温度が１５０℃以上の熱を、インパルスシーラから第１，第２の保護フィルム１０，２０の各周縁部に加える。

「最低ヒートシール温度」とは、第１，第２の保護フィルム１０，２０の各周縁部に対しインパルスシーラから０．２ＭＰａの押圧力を１．０秒間加えながら第１，第２の保護フィルム１０，２０の周縁部同士を加熱・融着した場合に、ベースヤラレ（過熱による第１，第２の保護フィルム１０，２０の熱収縮・焦げ）なくシール可能な温度における最大ヒートシール接着力を「Ｆｍａｘ」と、任意の温度におけるヒートシール接着力を「Ｆｈ」としたとき、下記式（５）の条件を満たす最低の加熱温度をいう。
Ｆｈ／Ｆｍａｘ≧０．７５ … （５）

「Ｆｍａｘ」，「Ｆｈ」を規定する「ヒートシール接着力」とは、ヒートシール直後の第１，第２の保護フィルム１０，２０を温度２３℃，相対湿度５０％の温湿環境下に２時間放置した後に測定した接着力であり、その接着力の測定には市販のプッシュプルゲージを用いることができる。

以上の実施形態では、ヒートシール工程の処理において最低ヒートシール温度が１５０℃以上の熱をインパルスシーラから第１，第２の保護フィルム１０，２０の各周縁部に加えるため、蛍光体パネル４の輝尽性蛍光体層３と第１の保護フィルム１０との間に所望の空気層１４（空隙）を形成した状態で第１，第２のフィルム１０，２０間に蛍光体パネル４を封止することができる。これにより、放射線画像変換パネル１の輝尽発光量を飛躍的に向上させることができ、ひいては放射線画像における画像ムラや線状ノイズの発生を防止することができる（下記実施例参照）。

本実施例では、放射線画像変換パネルを想定した複数種類の試料を作製し、それら各試料における画質（画像ムラ，線状ノイズの有無）を評価した。

（１）試料の作製
（１．１）蛍光体パネルの作製
基板として大きさが１０ｃｍ×１０ｃｍで厚さが５００μｍの透明結晶化ガラスを準備し、基板の一方の面に光反射層を形成した。光反射層の形成は、周知の蒸着装置を用いて酸化チタン（フルウチ化学社製）と酸化ジルコニウム（フルウチ化学社製）とを基板上に蒸着することでおこなった。当該光反射層は波長４００ｎｍの光に対する反射率が８５％、波長６６０ｎｍの光に対する反射率が２０％となるように膜厚を調整した。

その後、基板の光反射層上にＣｓＢｒ：Ｅｕからなる輝尽性蛍光体を蒸着し、基板の光反射層上に輝尽性蛍光体層を形成した。具体的には、始めに、基板の光反射層を形成した面を蒸着装置の蒸着源に向けた状態で蒸着装置内の真空チャンバー内に基板を固定して真空チャンバー内を２４０℃に加温し、その状態で真空チャンバー内に窒素ガスを導入して真空チャンバー内を真空度０．１Ｐａとした。このとき、蒸着源と基板との距離を６０ｃｍとした。

その後、基板の光反射層を形成した面の法線方向に対して３０°の角度で輝尽性蛍光体の蒸気が入射するように、蒸着源と基板との間にアルミニウム製のスリットを配置した。その後、基板を面方向に搬送しながら蒸着をおこない、５００μｍ厚の柱状構造を有する輝尽性蛍光体層を基板の光反射層上に形成し、蛍光体パネルを製造した（輝尽性蛍光体層形成工程）。

（１．２）試料１の作製
上記（１．１）で作製した蛍光体パネルを公知の恒温槽に設置してＨＦＥ（住友スリーエム（株）製ノベックＨＦＥ−７１００（C₄F₉OCH₃））ガス雰囲気下で１４０℃で１時間加熱し（加熱工程）、その蛍光体パネルをそのまま恒温槽の内部に１時間程度放置して冷却した（放置冷却工程）。

加熱工程，放置冷却工程とは別に、膜厚４０μｍのポリプロピレンフィルム（東セロ（株）製ポリプロピレンフィルムＲＸＣ３６）と、アルミナを蒸着した膜厚１２μｍのＰＥＴフィルム（ＶＭＰＥＴ１２、東洋メタライジング社製）とを、２液反応型のウレタン系接着材を使用してドライラミネーション方式で貼り合わせて保護フィルムを作製した。

加熱工程，放置冷却工程の各処理を終えて２枚の保護フィルムを作製したら、各保護フィルムのポリプロピレンフィルム（シーラント層）同士を対向させた状態で保護フィルム間に加熱済みの蛍光体パネルを配置し、それらを真空チャンバー内に設置した。その後、真空チャンバー内の圧力を２００Ｐａまで減圧しながら、真空チャンバー内にヘリウムガスを流入して真空チャンバー内をガス置換し、その後、真空チャンバー内の気圧を７０００Ｐａに再調節した。

この減圧下において、最低ヒートシール温度が１４０℃の熱をインパルスシーラ（ヒータの幅が８ｍｍのもの）から各保護フィルムの周縁部に加えて当該周縁部同士を互いに加熱・融着し、蛍光体パネルを２枚の保護フィルム間に封止した（ヒートシール工程）。そしてこれを「試料１」とした。（当該試料１の作製における加熱工程，ヒートシール工程の条件等は下記表１にも示した。）

（１．３）試料２，４，５の作製
上記（１．２）の内容中、加熱工程，ヒートシール工程の各処理の条件（保護フィルムのシーラント層の種類を含む。）を下記表１の通りに変え、それ以外は上記（１．２）と同様にして「試料２，４，５」を作製した。ただし、試料４，５の作製では、加熱工程の処理においてＨＦＥ中に色材（ＢＡＳＦ社製Neozapon Blau 807）を含有させた（色材の含有率は０．０３重量％とした。）。

（１．４）試料３の作製
上記（１．１）で作製した蛍光体パネルを公知の恒温槽に設置して窒素雰囲気下で１００℃で１時間加熱した。その後、上記（１．２）の内容中、加熱工程，ヒートシール工程の各処理の条件（保護フィルムのシーラント層の種類を含む。）を下記表１の通りに変え、それ以外は上記（１．２）と同様にして「試料３」を作製した。ただし、試料３の作製では、加熱工程の処理においてＨＦＥ中に色材（ＢＡＳＦ社製Neozapon Blau 807）を含有させた（色材の含有率は０．０３重量％とした。）。

（２）画質（画像ムラ，線状ノイズの有無）の評価
管電圧８０ｋＶｐのＸ線を各試料の裏面（輝尽性蛍光体層が形成されていない面）から照射した。その後、半導体レーザを各試料の表面（輝尽性蛍光体層が形成された面）上で走査して当該輝尽性蛍光体層を励起させ、当該輝尽性蛍光体層から放射される輝尽発光の光量（光強度）を試料ごとに受光器（分光感度Ｓ−５の光電子像倍管）で受光して電気信号に変換した。その後、変換後の電気信号に基づく画像を２倍に拡大した状態で周知のプリンタからプリントアウトし、そのプリントアウト後の画像を目視により観察して画質（画像ムラ，線状ノイズの有無）を評価した。

上記した画質の評価は、各試料に対して、製造直後（初期）と、製造後温度４０℃，相対湿度９０％の温湿環境下に１４日間保持した後と、の合計２回おこなった。画質の評価で各試料を上記温湿環境下に１４日間保持したのは、各試料の経時的な劣化（湿度による変動）を短期間で評価しようとしたからである。評価結果を下記表１に示す。ただし、表１中、「◎」，「○」，「△」の評価基準は下記の基準に従っている。
◎…画像ムラ，線状ノイズが全くない
○…画像の１，２箇所で淡い画像ムラ，線状ノイズが認められる
△…画像の３，４箇所で淡い画像ムラ，線状ノイズが認められる

表１に示す通り、最低ヒートシール温度が１５０℃以上の熱を各保護フィルムの周縁部に加えた試料２〜５では画質の評価結果が良好であり、最低ヒートシール温度が１５０℃以上の熱を各保護フィルムの周縁部に加えて保護フィルム同士を加熱・融着することが有用であることがわかる。

放射線画像変換パネルの断面図である。 蛍光体パネルの拡大断面図である。

符号の説明

１ 放射線画像変換パネル
２ 基板
３ 輝尽性蛍光体層
４ 蛍光体パネル
１０ 第１の保護フィルム
２０ 第２の保護フィルム

Claims (5)

1. 所定の基板上に気相堆積法で輝尽性蛍光体層が形成された蛍光体パネルをハロゲン化溶剤のガス雰囲気下で加熱する加熱工程と、
   前記加熱工程の後に、前記蛍光体パネルを２枚の樹脂製のフィルム間に配置し、前記各フィルムの周縁部に対し最低ヒートシール温度が１５０℃以上の熱を加えて前記各フィルムの周縁部同士を加熱・融着するヒートシール工程と、
   を備える放射線画像変換パネルの製造方法。
2. 請求項１に記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、
   前記最低ヒートシール温度が１５０〜１７１℃であることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
3. 請求項１又は２に記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、
   前記ハロゲン化溶剤がハイドロフルオロエーテルであることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法において、
   前記ハロゲン化溶剤が、励起光を吸収する色材を含有していることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法に従って製造された放射線画像変換パネル。

Images