JP4461639B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数個のトランジスタを内蔵する半導体装置に係わり、特に、その半導体装置の電極の構造に係わる。
【0002】
【従来の技術】
昨今、電子機器の小型化の流れの中で、発熱の大きな半導体素子を複数個内蔵するパワーモジュールをより小さなサイズで構成した半導体装置が要求されている。
【0003】
以下、図10および図11を参照しながら、既存の半導体装置(パワーモジュール)について説明する。パワーモジュール51は、複数の半導体素子を含み、その底面には伝熱性部材として伝熱性が高いセラミック材を板状に形成した伝熱ベース板52が取り付けられている。
【0004】
伝熱ベース板52の上面には、基板55および基板56が設けられている。基板55は、導体層55aおよび絶縁層55bから構成されており、絶縁層55bが伝熱ベース板52に接合している。一方、基板56は、導体層56aおよび絶縁層56bから構成されており、絶縁層56bが伝熱ベース板52に接合している。そして、導体層55aの上面には複数の半導体素子57が設けられており、導体層56aの上面には複数の半導体素子58が設けられている。ここで、半導体素子57および58は、それぞれMOSFETである。また、各半導体素子57および58の一方の面にはMOSFETのドレインが形成されており、他方の面にはMOSFETのソース及びゲートが形成されている。そして、各半導体素子57のドレインが基板55の導体層55aに接触しており、各半導体素子58のドレインが基板56の導体層56aに接触している。
【0005】
伝熱ベース板52の上面の中央領域には、基板53が設けられている。基板53は、導体層53aおよび絶縁層53bから構成されており、絶縁層53bが伝熱ベース板52に接合されている。そして、ソースドレイン電極54が導体層53aに接続されている。
【0006】
基板55、56、53(および、半導体素子57、58)は、樹脂ケース59により取り囲まれている。なお、樹脂ケース59には、ドレイン電極60、ソース電極61、ゲート電極62、63が取り付けられている。そして、樹脂ケース59は、伝熱ベース板52に固定されている。
【0007】
なお、図10または図11に示すように、ドレイン電極60と基板55の導体層55aとの間、各半導体素子57のソースと基板53の導体層53aとの間、導体層53aと基板56の導体層56aとの間、各半導体素子58のソースとソース電極61との間、各半導体素子57のゲートとゲート電極62との間、および各半導体素子58のゲートとゲート電極63との間は、それぞれワイヤボンディングにより接続されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
上記の構成の半導体装置において、パワーモジュール51の上面領域の大部分を占める基板53、55、56を小さく形成すれば、より小型のパワーモジュールを製作することが可能である。しかし、基板53は、ワイヤボンディングのために必要な領域およびソースドレイン電極54を設けるための領域を確保する必要がある。また、パワーモジュール51の大容量化を図るためには、半導体素子57、58の数を増やす必要があり、それに伴って基板55、56を所定サイズよりも大きく形成する必要がある。したがって、基板53、55、56のサイズを小さく形成することには限界があった。すなわち、パワーモジュール等の半導体装置のサイズを小さくすることは、容易ではなかった。
【0009】
本発明の課題は、複数の半導体素子を備える半導体パワーモジュールのサイズの小型化を図ることである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明では、半導体素子と、上記半導体素子や当該半導体素子に付随される回路が上面に配置される基板と、上記基板を取り囲むように配置されるケースと、上記半導体素子や当該半導体素子に付随する回路の上方において、上記ケースの内周間を架橋するとともに上記ケースに一体的に形成される少なくとも1つの電極と、少なくとも1つの上記電極の底部に上記ケースの内側領域を複数の領域に分割するための仕切り部材とが設けられる。
【0011】
請求項1に記載の発明によれば、上記電極を上記半導体素子や当該半導体素子に付随する回路の上方に架橋することができる。したがって、半導体装置のサイズを小さくできる。また、ケースの内側領域にゲルが注入される場合に、そのゲルの揺動を抑えることができる。これにより、電極と半導体素子とがワイヤで接続される場合に、ワイヤに過度の張力が加わることが回避される。
【0012】
請求項2に記載のように、請求項1に記載の半導体装置において、上記電極には、外部の回路と電気的に接続するための端子が一体的に形成することができる。
【0013】
請求項3に記載のように、請求項1または2に記載の半導体装置において、上記電極は、ワイヤボンディングにより上記半導体素子も接続することができる。
【0014】
請求項4に記載のように、請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置において、上記ケースの内側領域には、ゲルを注入することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。なお、本実施形態の半導体装置は、複数の半導体素子を含むパワーモジュールである。
図1は、本実施形態の半導体装置の中に形成される回路を示す図である。図1に示す回路は、互いに直列に接続される1組のトランジスタQ1およびQ2から構成されている。以下では、トランジスタQ1のドレインをドレインD1、トランジスタQ1のゲートを第1のゲートG1、トランジスタQ2のゲートを第2のゲートG2、トランジスタQ2のソースをソースS2、およびトランジスタQ1とトランジスタQ2との接続点をソースドレインS1D2と呼ぶことにする。なお、トランジスタQ1およびQ2は、それぞれ互いに並列に接続される複数のMOSFETから構成される。
【0016】
上記回路において、トランジスタQ1をオン状態に制御すると共に、トランジスタQ2をオフ状態に制御すれば、主電流は、ドレインD1からトランジスタQ1を介してソースドレインS1D2へ流れる。また、トランジスタQ1をオフ状態に制御すると共に、トランジスタQ2をオン状態に制御すれば、主電流は、ソースドレインS1D2からトランジスタQ2を介してソースS2へ流れる。
【0017】
図2は、実施形態の半導体装置の概略構成を示す図である。半導体装置としてのパワーモジュール1は、複数の半導体素子が設けられている基板4、5、上記複数の半導体素子を取り囲むようにして伝熱ベース板3に固定される樹脂ケース2などから構成される。そして、樹脂ケース2には、ソース電極21が一体的に形成されている。ここで、樹脂ケースに一体的に形成される電極は、しばしば、「インサート電極」と呼ばれることがある。なお、基板4、5の上面に設けられる複数の半導体素子は、適切に接続されることにより図1に示した回路を構成する。また、樹脂ケース2には、不図示のソースドレイン電極、ドレイン電極、ゲート電極が設けられており、それらの電極は、対応する領域に電気的に接続される。さらに、ソース電極21は、後で詳しく説明するが、図1に示すソースS2に電気的に接続される。
【0018】
図3(a) は、パワーモジュール1の内部を上方から見た図である。また、図3(b) は、ソース電極21が無かったと仮定した場合にパワーモジュール1の内部を上方から見た図である。さらに、図4は、図3(a) に示すパワーモジュールのX−X断面図であり、図5は、図3(a) に示すパワーモジュールのY−Y断面図である。
【0019】
伝熱ベース板3は、例えば、熱伝導性のよいセラミック板であり、複数の半導体素子を配置するための基板であると同時に、半導体素子において発生する熱を逃がすための役割を果たす。なお、セラミック板は、例えば、C−Alを組成とするセラミックを利用することができる。また、伝熱ベース板3は、必ずしもセラミックである必要はなく、銅板やアルミ板などの金属板を用いてもよい。
【0020】
伝熱ベース板3の上面には、基板4および基板5が配置されている。基板4および基板5は、それぞれ長方形の板形状であり、互いに隣接するように平行に配置されている。ここで、基板4は、導体層4aおよび導体層4aと伝熱ベース板3とを電気的に絶縁する絶縁層4bから構成されている。一方、基板5は、導体層5aおよび導体層5aと伝熱ベース板3とを電気的に絶縁する絶縁層5bから構成されている。
【0021】
導体層4aの表面には、複数の半導体素子6が配列されている。なお、半導体素子6は、MOSFETが形成された半導体チップであり、そのチップの上面にはMOSFETのソースおよびゲートが形成されており、その底面にはドレインが形成されている。そして、各半導体素子(MOSFET)6のドレインがそれぞれ導体層4aと導通している。同様に、基板5の上面には、複数の半導体素子7のドレインがそれぞれ導体層5aに導通するように配列されている。なお、半導体素子7は、半導体素子6と同じMOSFETである。
【0022】
樹脂ケース2は、伝熱ベース板3に取り付けられたときに基板4および基板5(半導体素子6、7を含む)を取り囲む部材であり、底部2aおよび枠部2cから構成されている。底部2aは、伝熱ベース板3と接触する部分である。また、底部2aの中央領域には、伝熱ベース板3の表面に基板4及び基板5を配置するための領域よりもやや大きいサイズの穴が形成されている。枠部2cは、底部2aの外周領域に沿ってその底部2aに対して垂直方向に伸びるように形成されている。すなわち、枠部2cは、樹脂ケース2が伝熱ベース板3に取り付けられたときにその伝熱ベース板3の外周に位置することになる。
【0023】
底部2aの上面であって基板4に隣接する位置にはドレイン電極8が配置されており、底部2aの上面であって基板5に隣接する位置にはソースドレイン電極9が配置されている。なお、ドレイン電極8およびソースドレイン電極9は、それぞれ基板4および基板5の短辺方向の縁の長さと同等の長さの銅板である。
【0024】
底部2aの上面であって基板4の長手方向に沿った位置に、第1のゲート電極10が配置されている。また、底部2aの上面であって基板5の長手方向に沿った位置に、第2のゲート電極11が配置されている。第1のゲート電極10および第2のゲート電極11は、基板4および基板5の長手方向の縁の長さと同等の長さの銅板である。
【0025】
主電流用電極の1つであるソース電極21は、例えば、銅板であり、樹脂ケース2に一体的に形成されている。具体的には、ソース電極21は、その両端の先端部が枠部2cに埋め込まれるようにして樹脂ケース2に固定されている。このとき、ソース電極21は、図5に示すように、樹脂ケース2が伝熱ベース板3に取り付けられたときに、伝熱ベース板3の上面に設けられている回路部品(基板4、5、半導体素子6、7等)の高さよりも高い位置に配置されるように樹脂ケース2に取り付けられている。したがって、ソース電極21は、伝熱ベース板3の上面に設けられている回路部品(基板4、5、半導体素子6、7等)の上を架橋または跨ぐことになる。換言すれば、ソース電極21の直下の領域に、回路を配置することができる。ここで、「回路」とは、半導体素子またはその半導体素子に接続する配線パターンを含み、配線パターンは、導体層4a、5aを含む。この結果、伝熱ベース板3の上面の樹脂ケース2に囲まれた領域を有効に利用することができる。
【0026】
また、ソース電極21は、樹脂ケース2を伝熱ベース板3に固定したとき、即ち樹脂ケース2が半導体素子6、7に対して予め決められた位置に固定されたときに、そのソース電極21が半導体素子6、7に対して適切な位置に配置されるように、樹脂ケース2に取り付けられている。適切な位置とは、例えば、ソース電極21が各半導体素子7のソース領域に近接するような位置、またはソース電極21と各半導体素子7との距離が均等になるような位置である。
【0027】
さらに、ソース電極21は、樹脂ケース2に一体的に形成されているので、ネジ等を用いて樹脂ケース2に固定する必要がない。このため、この構成は、パワーモジュール1の低コスト化および軽量化に寄与する。
各半導体領域と各電極との間の電気的な接続は、以下の通りである。即ち、ドレイン電極8と基板4の導体層4aとの間、各半導体素子6のソースと基板5の導体層5aとの間、その導体層5aとソースドレイン電極9との間、各半導体素子6のゲートと第1のゲート電極10との間、および各半導体素子7のゲートと第2のゲート電極11との間が、それぞれボンディングワイヤ12により接続される。さらに、各半導体素子7のソースとソース電極21との間がボンディングワイヤ22により接続される。
【0028】
ドレイン電極8は、パワーモジュール1のドレインD1と外部の回路(電源または負荷など)とを接続するための端子である不図示のドレイン端子に接続される。同様に、ソースドレイン電極9は、パワーモジュール1のソースドレインS1D2と外部の回路とを接続するための端子である不図示のソースドレイン端子に接続される。さらに、ソース電極21は、パワーモジュール1のソースS2と外部の回路とを接続するための端子である不図示のソース端子に接続される。一方、第1のゲート電極10は、各半導体素子6を制御するためのゲート信号を受信する不図示の第1のゲート端子に接続されており、第2のゲート電極11は、各半導体素子7を制御するためのゲート信号を受信する不図示の第2のゲート端子に接続されている。
【0029】
図3〜図5に示したパワーモジュール1と、図1に示した回路との対応関係は以下の通りである。すなわち、半導体素子6に形成されたMOSFETはトランジスタQ1に相当し、半導体素子7に形成されたMOSFETはトランジスタQ2に相当する。また、ドレインD1はパワーモジュール1のドレイン電極8(又は、不図示のドレイン端子)に対応し、ソースS2はソース電極21(又は、不図示のソース端子)に対応し、ソースドレインS1D2はソースドレイン電極9(又は、不図示のソースドレイン端子)に対応する。さらに、ゲートG1はパワーモジュール1の第1のゲート電極10(または、不図示の第1のゲート端子)に対応し、ゲートG2は第2のゲート電極11(または、不図示の第2のゲート端子)に対応する。
【0030】
上記パワーモジュール1は、例えば以下のようにして使用される。すなわち、ドレインD1及びソースS2は、それぞれ直流電源の正極および負極に接続される。また、ゲートG1及びゲートG2は、それぞれ対応するゲート信号を生成する制御回路に接続される。さらに、ソースドレインS1D2には、このパワーモジュール1を介して電力を供給すべき負荷が接続される。そして、ゲートG1に対して所定の制御電圧を印加すると、トランジスタQ1がオン状態(ドレインD1とソースドレインS1D2とが導通)になる。一方、ゲートG2に対して所定の制御電圧を印加すると、トランジスタQ2がオン状態(ソースドレインS1D2とソースS2とが導通)になる。したがって、ゲートG1およびゲートG2に対して交互に所定の制御電圧を印加することにより、トランジスタQ1およびQ2が交互にオン状態になり、この結果、ソースドレインS1D2から負荷に対して制御電圧に応じた交流電圧が供給されることになる。
【0031】
なお、半導体素子6、7は、オン状態に制御されると、大電流が流れるので、発熱する。このとき、半導体素子6、7により生じた熱は、基板4、5から伝熱ベース板3に伝わり、パワーモジュール1の外部に放熱される。
図6は、本発明の他の実施形態の半導体装置の斜視図である。この実施例の半導体装置の基本構造は、図2〜図5に示した半導体装置と同じである。ただし、図6に示す半導体装置では、架橋電極31および外部端子32が1つの金属部材により一体的に形成されている。架橋電極31は、半導体素子の主電流を流すための主電流用電極であり、例えば、ソース電極である。また、外部端子32は、この半導体装置内に形成されている回路(半導体素子を含む)と、この半導体装置の外部に設けられている回路(電源、負荷を含む)とを接続するための端子であり、例えば、ソース端子である。従って、この半導体装置では、主電流用電極としての架橋電極と対応する外部端子とを電気的に接続する作業が不要であり、半導体装置の組立て工程が簡単になる。なお、この半導体装置を外部の回路に接続するためには、たとえば、バスバー等を直接的に外部端子32に接続すればよい。
【0032】
架橋電極31と対応する半導体領域との間は、基本的には、図6に示すようにボンディングワイヤにより接続される。具体的には、まず、架橋電極31を含む金属部材が一体的に形成されている樹脂ケース2が上述の伝熱ベース板に取り付けられる。その後、架橋電極31と対応する半導体領域との間がボンディングワイヤにより接続される。
【0033】
しかし、作業スペースの関係上、ボンディングワイヤを接続することが困難な場合は、架橋電極31と対応する半導体領域とを直接的に接続するのではなく、図7に示すように、ランド等の金属接触面を介して接続するようにしてもよい。すなわち、例えば、伝熱ベース板3の上面に絶縁層41を設け、その絶縁層41の表面にランド42を形成する。このとき、ランド42は、樹脂ケース2が伝熱ベース板3に取り付けられたときに、架橋電極31とランド42とが重なるような位置に設けられる。また、ランド42は、樹脂ケース2が伝熱ベース板3に取り付けられる前に架橋電極31に対応する半導体領域とボンディングワイヤにより接続される。そして、樹脂ケース2が伝熱ベース板3に取り付けられる際に、架橋電極31は、直接的にランド42に圧接されるか、或いは導電性接着剤等を利用してランド42に電気的に接続される。なお、この場合、架橋電極31は、必ずしも伝熱ベース板3の上面に設けられている回路部品(基板4、5、半導体素子6、7等)の高さよりも高い位置に配置される必要はない。
【0034】
図8は、さらに他の実施形態の半導体装置の斜視図である。ここでは、半導体素子6、7が搭載された伝熱ベース板3に樹脂ケース2が取り付けられる前の状態が描かれている。この実施形態では、架橋電極31の下部に、仕切り部材(フィン)33が形成されている。仕切り部材33は、樹脂ケース2と同じ材質であってもよいし、他の材質で形成してもよい。或いは、架橋電極自体の形状を、図8に示す架橋電極31に仕切り部材33を取り付けたのと同様の形状に加工するようにしてもよい。ただし、この場合は、隣接する部品との間の絶縁性を確保できるようにする必要がある。また、仕切り部材33は、樹脂ケース2と一体的に形成される。そして、樹脂ケース2が伝熱ベース板3に固定されると、仕切り部材33は、図9に示すように、伝熱ベース板3の表面領域を2つの領域に分割する。
【0035】
仕切り部材33は、ゲル揺動によるボンディングワイヤの断線等を回避する役割を果たす。すなわち、樹脂ケース2の内側領域には、半導体装置を組立てる際の最終工程において、半導体素子6、7を保護するためにゲルが注入される。このとき、何らかの原因でゲルが揺動すると、ワイヤに張力が加わり、断線の危険がある。しかし、図8に示す半導体装置では、仕切り部材33によりゲルの揺動が抑えられるので、そのような断線が生じる可能性は低くなる。
【0036】
上記図1〜図9を参照しながら説明した本実施形態の半導体装置は、以下の効果を有する。
(1)ソース電極21の下方に回路を形成できるので、そのソース電極21を所望の位置に配置しながら、パワーモジュール1の小型化が実現される。
(2)パワーモジュール1のサイズが小さくなり、その内部の電流経路が短縮されるので、装置内部のインダクタンスが低減し、内部サージが低減する。この結果、より大きな容量に対応するパワーモジュールを構成できる。
(3)ソース電極21が樹脂ケース2に一体的に形成されているので、樹脂ケース2を伝熱ベース板3に取り付けることにより、ソース電極21が対応する半導体素子の近くに配置されることになる。よって、半導体装置の組立作業が簡単になる。
(4)架橋電極31および外部端子32が一体的に形成されているので、所望の位置に外部端子を設けることができるようになり、半導体素子と外部端子との間の距離を短くできる。また、半導体装置の組立作業の手間が少なくなる。
(5)仕切り部材を設けるようにすれば、ゲル揺動によるボンディングワイヤ断線が生じにくくなる。
(6)ケースを基板に取り付ける前にすべてのワイヤボンディング作業を終了させておくことができるので、組立作業がより簡単になる。
【0037】
なお、本発明の半導体装置は、上述の実施例に示した形態に限定されるものではなく、例えば、次のような構成であってもよい。
(a)半導体素子は、一方の面にMOSFETのドレインを形成し、他方の面にソース及びゲートを形成した構成に限定されるものではない。例えば、半導体チップの一方の面にドレイン、ソースおよびゲートを形成し、各半導体領域と対応する電極との間をそれぞれワイヤで接続する構成としてもよい。この場合、基板4、5は絶縁層のみから成る構成とすることができる。
(b)並列に接続する半導体素子の個数は、所要の電力容量に応じて選択してもよい。
(c)半導体装置は、1組のスイッチング素子から構成される回路モジュールに限らず、より多くのスイッチング素子から構成される回路モジュールであってもよい。
(d)伝熱ベース板3の上方にソース電極21を配置した構成に限らず、他の主電流用電極(ドレイン電極、ソースドレイン電極)を半導体素子の上方に配置した構成であってもよい。この場合、各電極のレイアウトに応じて、半導体装置内部の配線を選択することができる。
(e)伝熱ベース板3の上方にソース電極21のみを配置した構成に限らず、ソース電極、ドレイン電極、およびソースドレイン電極の中の2以上の電極を半導体素子の上方に配置した構成としてもよい。この場合、さらに半導体装置のサイズを小さくできる。
(f)半導体素子は、MOSFETに限らず、例えばバイポーラトランジスタ若しくはサイリスタなどであってもよい。この場合、回路仕様に応じた半導体素子を用いて半導体装置を構成することができる。また、半導体装置が複数種類の半導体素子を備える構成であってもよい。
(g)半導体装置内の各部品間をワイヤボンディングにより接続する構成に限らず、半田を利用してワイヤを接続する構成、金属板を接合して接続する構成などの他の構成であってもよい。
(h)伝熱性部材としての伝熱ベース板3は、C−Al以外のセラミックを組成とする材質であってもよい。また、セラミックを組成とした材質に限らず、他の熱伝導性の高い材質であってもよい。例えば、熱伝導性の高い材質として銅やアルミなどの金属材が挙げられる。
(i)伝熱性部材は板状の形状に限らなくともよい。例えば、伝熱性部材は、半導体装置から見て外方向に伸びるフィンを備えた形状であってもよい。
(j)半導体装置は、伝熱性部材を備えた構成に限らず、伝熱性部材を備えることなく樹脂ケースに半導体素子を接合した構成であってもよい。この構成は半導体素子の発熱量が少ない場合に適用可能であり、より少ない手間、コストで半導体素子を製作できる。
(k)各電極の材質は銅に限定されるものではない。
(l)樹脂ケースの代わりに金属製のケースを用いてもよい。この場合、各電極は、例えば、絶縁部材を介してその金属製のケースに取り付けるようにしてもよい。
(m)架橋電極は、直線形状である必要はなく、任意の形状でよい。例えば、架橋電極と半導体素子との間のワイヤの距離が最短になるように架橋電極の形状を決めてもよい。
(n)架橋電極は、1つである必要はなく、1つの半導体装置に対して複数の架橋電極を設けるようにしてもよい。
(o)樹脂ケースは、伝熱ベース板に固定する代わりに、基板に固定するようにしてもよい。
(p)半導体素子は、一列または複数列に配列される必要はない。例えば、各電極の形態に応じて、電極と半導体素子との間のワイヤ距離が最短になるように半導体素子の配置を決めるようにしてもよい。
【0038】
【発明の効果】
本発明によれば、主電流用電極の下方に回路を設けることができるので、半導体パワーモジュールの小型化に寄与する。また、主電流用電極がケースに一体的に形成されているので、半導体装置の組立作業が簡単になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態の半導体装置の中に形成される回路を示す図である。
【図2】実施形態の半導体装置の概略構成を示す図である。
【図3】 (a) は、パワーモジュールの内部を上方から見た図、(b) は、ソース電極が無かったと仮定した場合にパワーモジュールの内部を上方から見た図である。
【図4】図3(a) に示す半導体装置のX−X断面図である。
【図5】図3(a) に示す半導体装置のY−Y断面図である。
【図6】本発明の他の実施形態の半導体装置の斜視図である。
【図7】架橋電極と対応する半導体領域とを接続する方法の例を示す図である。
【図8】本発明のさらに他の実施形態の半導体装置の斜視図である。
【図9】図8に示す半導体装置の断面図である。
【図10】既存の半導体装置の内部を上方から見た図である。
【図11】図10に示す半導体装置のB−B断面図である。
【符号の説明】
1 パワーモジュール
2 樹脂ケース
2a 底部
2c 枠部
3 伝熱ベース板
4、5 基板
6、7 半導体素子
21 ソース電極
22 ボンディングワイヤ
31 架橋電極
32 外部端子
33 仕切り部材
42 ランド(金属接触面)
Claims (4)
- 半導体素子と、
上記半導体素子や当該半導体素子に付随される回路が上面に配置される基板と、
上記基板を取り囲むように配置されるケースと、
上記半導体素子や当該半導体素子に付随する回路の上方において、上記ケースの内周間を架橋するとともに上記ケースに一体的に形成される少なくとも1つの電極と、
少なくとも1つの上記電極の底部に上記ケースの内側領域を複数の領域に分割するための仕切り部材と、
を有することを特徴とすることを特徴とする半導体装置。 - 上記電極には、外部の回路と電気的に接続するための端子が一体的に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 上記電極がワイヤボンディングにより上記半導体素子に接続されることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 上記ケースの内側領域には、ゲルが注入されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体装置。
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