JP4457116B2 - 成膜方法 - Google Patents
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Description
2 ガラス基板
3 真空容器
4 スパッタ電極
5 ターゲット
6 マスク
6a 開口部
7 基板保持台
7a 外枠部
7b 基板支持ピン
7c 架け橋部
8 マスク取付板
9 搬送台
10 搬送ローラ
20 上側支持部
21 下側支持部
22 左側支持部
22a 左側爪部
23 右側支持部
23a 右側爪部
C クリアランス
L 爪部長さ
W 基板引っ掛かり幅
M 爪部間距離
Claims (3)
- 基板表面に薄膜を成膜するに際して角形平板状の基板を垂直方向に起立状態に保持する基板保持台を用いた成膜方法であって、前記基板保持台は所定のクリアランスを有して前記基板の幅方向の位置決めをする左側支持部と右側支持部を備え、これら左側支持部と右側支持部には前記基板が倒れないようにする爪部がそれぞれ前記基板の左右端部に重なるように設けられると共に、前記左側支持部と右側支持部のうち一方の支持部が有する爪部の長さが、他方の支持部が有する爪部の長さよりも短く形成され、熱膨張する前の状態の前記基板の左右端部のいずれか一方の端部が前記爪部長さが短い支持部に当接するように片寄せして搬送されると共に、該基板の片寄せ方向が前記基板保持台の搬送する方向と同じであることを特徴とする成膜方法。
- 熱膨張する前の状態の前記基板が片寄せされる前記一方の支持部が有する爪部が、片寄せされた前記基板の前記一方の端部に正面視で左右方向において重なる幅の長さと、熱膨張する前の状態の前記基板が片寄せされない他方の支持部の爪部が、片寄せされない前記基板の他方の端部に正面視で左右方向において重なる幅の長さが同じであることを特徴とする請求項1に記載の成膜方法。
- 前記基板保持台を搬送する際のスピードを変化させることで熱膨張する前の状態の前記基板の片寄せを行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜方法。
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