JP4455740B2 - 光ファイバ用プリフォームの製造方法 - Google Patents
光ファイバ用プリフォームの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4455740B2 JP4455740B2 JP2000234111A JP2000234111A JP4455740B2 JP 4455740 B2 JP4455740 B2 JP 4455740B2 JP 2000234111 A JP2000234111 A JP 2000234111A JP 2000234111 A JP2000234111 A JP 2000234111A JP 4455740 B2 JP4455740 B2 JP 4455740B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- core
- refractive index
- optical fiber
- preform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ファイバの前駆体である光ファイバ用プリフォーム(以下、単にプリフォームと称する)、特には、気相合成法により製造されるプリフォームの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
プリフォームの製造方法の1つに、VAD法のような気相合成法を用いてコア用スート体をクラッドの一部と同時に形成し、これを脱水・ガラス化した後、必要な長さと径になるように加熱延伸して、外周にクラッドの一部を有するコアロッドを製造し、さらに、このコアロッドの外周に、OVD法などのやはり気相合成法でスートを堆積し、脱水・ガラス化して、必要な厚さのクラッド部を有するプリフォームを製造する方法がある。
【0003】
1,310nm付近にゼロ分散波長λ0を有するシングルモード光ファイバの径方向への理想的な屈折率分布形状は、コア部がクラッド部よりも矩形状に高くなっている。このような理想的な屈折率分布形状を有する光ファイバは、モードフィールド径MFD[μm]、カットオフ波長λc[μm]、ゼロ分散波長λ0[nm]が下記の式を満たす関係にある。
−2≦1,427−(10×MFD×λc+λ0)≦2
なお、ゼロ分散波長は、1,310±5[nm]であることが望ましいとされている。
【0004】
径方向への屈折率分布は、バーナにコア部を形成する原料ガス、例えばSiCl4に屈折率を上昇させる効果のあるGe化合物、例えばGeCl4を添加することによって形成される。しかしながら、このとき堆積されたスート体中のGeまたはGeO2は、堆積や脱水、ガラス化の際に、コア周辺のクラッド部に拡散し、屈折率分布のすそ引きという意図しない屈折率上昇を招く。屈折率分布にすそ引きがあると、得られる光ファイバの分散特性が悪化する。つまり、ゼロ分散波長を所望の数値範囲内に納めた場合、モードフィールド径及びカットオフ波長のいずれかまたは双方が、好ましい値より大きくなる。このように、コア周辺のクラッド部の屈折率上昇は、光ファイバの伝送特性上好ましくない
【0005】
このような屈折率分布のすそ引きを抑制するには、堆積したコア部の外側から熱を加えることで、コア部外周付近の密度を高めGeの拡散を抑制するという手法がある。しかしながらこの方法は、コア部とクラッド部との間に急峻な密度変化を生じるため、ガラス化の際に、この部分に輝点となって観察される微小な気泡を発生し易いという問題がある。
さらに、例えば、特開平9−171120号公報にはクラッド中に拡散したGeO2の効果が記載されており、クラッド中への意図しないGeの拡散が、水素による吸収損失の増大を抑制していることもまた分かっている。つまり、上記の方法によりGeの拡散を抑制すると水素による吸収損失が増大する可能性がある。
【0006】
さらに、信号伝送用の光ファイバをVAD法のような気相合成法によって製造する場合、塩素などによる脱水処理が不可欠である。これは1,385μmという信号波長付近に、OH基による吸収ピークが存在するため、OH基を脱水処理して除去する必要がある。脱水処理に一般的に用いられる塩素は、石英ガラス中で屈折率を上昇させる効果も有している。脱水処理はコア及びクラッドの双方に対して行われるが、OVD法で形成されるスート体の密度は、一般にVAD法で形成されるものよりも高いため、脱水・ガラス化後のガラス中に、脱水処理で使用された塩素は残りにくい。
【0007】
その結果、VAD法で形成されたクラッドと、その外側にOVD法で付加されたクラッドとでは、残存した塩素によるクラッド部の屈折率上昇の度合が異なり、クラッド部の屈折率分布において、外側の方が低くなり段差を生じやすい。この段差は、上記したようにOVD法の方が、クラッド中の残存塩素が少ないために生じる。このような段差があると、得られる光ファイバの伝送特性、特にカットオフ波長が大きくなる結果をもたらし、屈折率分布のすそ引きによる分散特性の悪化を助長することになる。
このような段差を抑制するには、OVD法で形成されたスート体を脱水する際に、より多量のCl2などの脱水ガスを使用するか、より時間をかけて脱水する必要があるが、この場合、得られる特性は比較的良好なものの製造コストが上昇してしまう。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
上記したように、気相合成法によってSiCl4などの原料ガス中にGeなどの屈折率を上昇させる物質のみを添加してスート体を形成し、脱水・ガラス化した後、所望の径に加工してプリフォームを製造した場合、このプリフォームを線引きして得られる光ファイバの伝送特性、特に、ゼロ分散波長、モードフィールド径及びカットオフ波長の値を全て所望の数値範囲内に維持しつつ、コアとクラッドの界面での微小な気泡の発生を抑え、水素による吸収損失の増大が抑制されたプリフォームを得ることは困難であった。
【0009】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、光ファイバとしたときにゼロ分散波長、モードフィールド径及びカットオフ波長の全てが所望の数値範囲内にあり、コアとクラッドの界面での微小な気泡の発生が抑えられ、水素による吸収損失の増大が抑制されたプリフォームの製造方法を提供することを課題としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明のプリフォームの製造方法は、気相合成法によりコアスート体を製造し、該コアスート体を脱水ガス雰囲気中で脱水した後、不活性ガス中で焼成ガラス化し、これを所定の径に加熱延伸して得たコア部材に、クラッド部を付与してなる光ファイバ用プリフォームであって、該コア部材のコア部の外周部に、クラッド部の屈折率よりも1×10-5〜3×10-4だけ低い低屈折率部を設け、該低屈折率部の外径bとコア径aとの比a/bを0.1〜0.25の範囲内とすることを特徴としている。
【0011】
また、他の発明によるプリフォームの製造方法は、上記コアスート体を製造する工程において、フッ素含有ガスを原料ガス、燃焼ガス、助燃ガス及びシール用ガスのいずれかと混合して、先に堆積したコア部の外周部に、フッ素を含むスートを堆積して、脱水・ガラス化後の屈折率がクラッド部の屈折率よりも1×10-5〜3×10-4だけ低い低屈折率部を設け、該低屈折率部の外径bとコア径aとの比a/bを0.1〜0.25の範囲内とすることを特徴としている。
【0012】
上記気相合成法としてVAD法を採用し、コア堆積用バーナと複数のクラッド堆積用バーナを用いてスートを堆積させるに際し、クラッド堆積用バーナのいずれかのバーナに、原料ガス、燃焼ガス、助燃ガス及びシール用ガスのいずれかにフッ素含有ガスを添加して供給するのが好ましい。フッ素は脱水・ガラス化中にコアスート体全体に拡散するため、1本のバーナにおいてフッ素を添加するだけでコア部材全体の屈折率が低下する。また、フッ素含有ガスを添加するバーナはコア堆積用バーナに隣接するクラッド堆積用バーナである方が、フッ素がスート内に残留する効率が高いので好ましい。
添加するフッ素含有ガスは、SiF4、SF6、CF4及びCCl2F2の群から選択して使用し、フッ素含有ガスに含まれるFのモル数が、コアスート体を製造するのに使用される原料ガス中のSiのモル数の1/100〜1/5、好ましくは1/30〜1/5とするのが望ましい。
【0013】
本発明で得られるプリフォームを加熱線引きして得られる光ファイバは、モードフィールド径MFD[μm]、カットオフ波長λc[μm]、ゼロ分散波長λ0[nm]が下記の式を満たす範囲内にあり、
−2≦1,427−(10×MFD×λc+λ0)≦2
1,310±5[nm]にゼロ分散波長を有している。
【0014】
【発明の実施の形態】
図を用いて本発明をさらに詳細に説明する。
図1に示すように本発明で得られるプリフォームは、VAD法でコア部材を形成する際、コア部材のコア部(径a)の外周部に、該コア部材の上にOVD法で形成されるクラッド部の屈折率n0よりも屈折率の低い外径がbで、屈折率がn2の低屈折率部を径方向に形成し、これを加熱焼成してガラス化し、さらに所定の径に加熱延伸してコア部材とし、これにOVD法でクラッド部を付与して製造される。
このような構成とすることによって、すそ引きによる分散特性の悪化を補うことができる。
【0015】
このコア部の外周部に形成された低屈折率部の外径bとコア径aとの比a/bは0.1〜0.25の範囲内とされる。0.1未満では生産効率が著しく低下するので好ましくなく、0.25を超えるとコア部材とこれに付与するクラッド部の界面付近に残留するOH基により、1.385nm付近の吸収ピークが許容できない程度にまで増大するため好ましくない。
このコア部の外周部に形成された低屈折率部とクラッド部との屈折率差(n0−n2)は1×10-5〜3×10-4とされる。屈折率差が1×10-5未満、あるいは3×10-4を超えるとMFD、λc、λ0が、−2≦1,427−(10×MFD×λc+λ0)≦2の式を満たすことができない。
【0016】
本発明で得られるプリフォームは、VAD法による気相合成法によってコアスート体を製造する際、図2に示すように、コア堆積用バーナ1に隣接するクラッド堆積用バーナ2に供給される原料ガス、燃焼ガス、助燃ガス及びシール用ガスのいずれかのガスにフッ素含有ガスを添加して、コアスートの外周部に、クラッド部の屈折率よりも1×10-5〜3×10-4だけ低い低屈折率部を形成する。さらにこの上に、クラッド堆積用バーナ3でクラッドの一部を形成してもよい。このようにして堆積したコアスート体4を脱水ガス、例えば塩素系ガス雰囲気中で脱水した後、Ar等の不活性ガス雰囲気中で焼成ガラス化し、これを所定の径に加熱延伸してコア部材とし、該コア部材の外周にOVD法による気相合成法によってクラッド部を形成するものである。なお、符号5はターゲット棒である。
【0017】
添加するフッ素含有ガスは、SiF4、SF6、CF4及びCCl2F2の群から選択して使用すればよく、特に好ましくは1分子中のF原子数の多いSiF4、SF6またはCF4である。また、フッ素含有ガスに含まれるFのモル数は、コアスート体を製造するのに使用される原料ガス中のSiのモル数の1/100〜1/5とするのが好ましく、より好ましくは1/30〜1/5である。1/100未満では所望の屈折率の低下が得られず、1/5を超えると所望以上に屈折率が低下してしまうため好ましくない。
【0018】
【実施例】
(実施例1)
VAD法による気相合成法を3本のバーナを用いて行ない、コア堆積用バーナに、原料ガスであるSiCl4を0.11リットル/分、添加剤であるGiCl4を0.01リットル/分、コア堆積用バーナに隣接するクラッド堆積用バーナに原料ガスであるSiCl4を0.40リットル/分、フッ素含有ガスであるSF6を0.10リットル/分、コア堆積用バーナに隣接しないクラッド堆積用バーナに原料ガスであるSiCl4を1.0リットル/分供給して火炎加水分解反応で生じたスートを堆積し、スート堆積体を製造した。このスート堆積体を7%の塩素ガスを含む雰囲気中で4時間脱水し、その後、Heガス中で焼成ガラス化し、さらに加熱延伸して、直径40mm、長さ1,300mmのコア部材を得た。
【0019】
次いで、OVD法による気相合成法を用い、コア部材の外周に所望の厚さのスートを堆積させ、得られたスート堆積体を10%の塩素ガスを含む雰囲気中で20時間かけて脱水・焼成ガラス化し、さらにこれを所望の径、長さに加熱延伸して光ファイバ用プリフォームを得た。
このプリフォームはコア部とクラッド部との間に、クラッド部の屈折率よりも1.0×10-4だけ低い低屈折率部を有し、この低屈折率部の外径bとコア径aとの比a/bは0.2であった。
さらに、このプリフォームを線引して光ファイバを得た。この光ファイバは波長1,310[nm]にゼロ分散波長λ0を有し、MFD9.20[μm]、λc1.27[μm]で上記関係式を満たし、シングルモード光ファイバとして極めて優れた分散特性を有していた。
【0020】
(比較例1)
コア堆積用バーナに隣接するクラッド堆積用バーナにフッ素含有ガスを添加しなかったことを除いて、他は全て実施例1と同じ条件でプリフォーム及び光ファイバを製造した。
得られたプリフォームはクラッド部に1.5×10-4の段差を生じ、このプリフォームを線引きして得た光ファイバは、分散特性が悪く、シングルモード光ファイバとして好ましくないものであった。
【0021】
(比較例2)
コア堆積用バーナに隣接するクラッド堆積用バーナにフッ素含有ガスを添加しなかったことと、OVD法により得られたスート堆積体を脱水・焼成ガラス化する雰囲気を20%の塩素ガスを含むものとしたことを除いて、他は全て実施例1と同じ条件でプリフォーム及び光ファイバを製造した。
得られたプリフォームはコア部とクラッド部に0.1×10-4の低屈折率部を生じ、このプリフォームを線引きして得た光ファイバは、シングルモード光ファイバとして比較的好ましくないものであったが、製造に約1.9倍の塩素量を要した。
【0022】
【発明の効果】
本発明で得られるプリフォームは、コアとクラッド界面での微小な気泡の発生が抑えられ、水素による吸収損失の増大も抑制されたものであり、さらに、これを線引きして得られる光ファイバは、ゼロ分散波長、モードフィールド径及びカットオフ波長が全て所望の範囲内にあり、シングルモード光ファイバとして極めて優れた分散特性を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のプリフォームの径方向の屈折率分布を示す概略図である。
【図2】 VAD法でコア部材を製造する様子を示す概略図である。
【符号の説明】
1. コア堆積用バーナ
2. クラッド堆積用バーナ
3. クラッド堆積用バーナ
4. コアスート体
5. ターゲット棒
a. コア径
b. 低屈折率部の外径
n0 クラッド部の屈折率
n1 コア部の屈折率
n2 低屈折率部の屈折率
Claims (6)
- 気相合成法によりコアスート体を製造し、該コアスート体を脱水ガス雰囲気中で脱水した後、不活性ガス中で焼成ガラス化し、これを所定の径に加熱延伸して得たコア部材に、クラッド部を付与してなる光ファイバ用プリフォームの製造方法であって、該コア部材のコア部の外周部に、クラッド部の屈折率よりも1×10-5〜3×10-4だけ低い低屈折率部を設け、該低屈折率部の外径bとコア径aとの比a/bを0.1〜0.25の範囲内とすることを特徴とする光ファイバ用プリフォームの製造方法。
- 気相合成法によりコアスート体を製造し、該コアスート体を脱水ガス雰囲気中で脱水した後、不活性ガス中で焼成ガラス化し、これを所定の径に加熱延伸して得たコア部材に、クラッド部を付与してなる光ファイバ用プリフォームの製造方法であって、該コアスート体を製造する工程において、フッ素含有ガスを原料ガス、燃焼ガス、助燃ガス及びシール用ガスのいずれかと混合して、先に堆積したコア部の外周部にフッ素を含むスートを堆積して、脱水ガラス化後の屈折率がクラッド部の屈折率よりも1×10-5〜3×10-4だけ低い低屈折率部を設け、該低屈折率部の外径bとコア径aとの比a/bを0.1〜0.25の範囲内とすることを特徴とする光ファイバ用プリフォームの製造方法。
- 気相合成法がVAD法であり、コア堆積用バーナと複数のクラッド堆積用バーナを用いてフッ素を含むスートを堆積させるに際し、クラッド堆積用バーナのいずれかに、原料ガス、燃焼ガス、助燃ガス及びシール用ガスのいずれかにフッ素含有ガスを添加して供給する請求項2に記載の光ファイバ用プリフォームの製造方法。
- フッ素含有ガスを添加するバーナが、コア堆積用バーナに隣接するクラッド堆積用バーナである請求項3に記載の光ファイバ用プリフォームの製造方法。
- フッ素含有ガスが、SiF4、SF6、CF4及びCCl2F2の群から選択されたものである請求項3又は4に記載の光ファイバ用プリフォームの製造方法。
- 添加するフッ素含有ガスに含まれるFのモル数が、コア部材の製造に使用される原料ガス中のSiのモル数の1/100〜1/5である請求項3乃至5のいずれかに記載の光ファイバ用プリフォームの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000234111A JP4455740B2 (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 光ファイバ用プリフォームの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000234111A JP4455740B2 (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 光ファイバ用プリフォームの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002047027A JP2002047027A (ja) | 2002-02-12 |
JP4455740B2 true JP4455740B2 (ja) | 2010-04-21 |
Family
ID=18726530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000234111A Expired - Fee Related JP4455740B2 (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 光ファイバ用プリフォームの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4455740B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004307280A (ja) * | 2003-04-08 | 2004-11-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Oh基による吸収を減少した光ファイバ用ガラス母材及びその製造方法 |
CN1618750B (zh) | 2003-11-11 | 2010-04-28 | 株式会社藤仓 | 多孔二氧化硅预制件的制造方法和多孔二氧化硅预制件 |
WO2007102166A1 (en) * | 2006-03-07 | 2007-09-13 | Sterlite Optical Technologies Ltd. | Optical fiber having desired waveguide parameters and method for producing the same |
JP4690956B2 (ja) * | 2006-07-07 | 2011-06-01 | 古河電気工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造方法 |
JP5478116B2 (ja) | 2009-05-20 | 2014-04-23 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ |
JP5575422B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2014-08-20 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ |
JP2013218247A (ja) | 2012-04-12 | 2013-10-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光ファイバ |
EP2952485A4 (en) * | 2013-01-29 | 2016-08-31 | Furukawa Electric Co Ltd | PROCESS FOR PRODUCTION OF GLASS BASE AND OPTICAL FIBER |
-
2000
- 2000-08-02 JP JP2000234111A patent/JP4455740B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002047027A (ja) | 2002-02-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8265440B2 (en) | Method for manufacturing an optical fiber preform | |
AU2012203014B2 (en) | Single mode optical fiber | |
US7089765B2 (en) | Method of making a jacketed preform for optical fibers using OVD | |
KR20140043134A (ko) | 낮은 인덱스 트랜치를 갖는 광섬유 프리폼을 제조하는 방법 | |
AU719695B2 (en) | Optical fiber and method of manufacturing the same | |
JP4455740B2 (ja) | 光ファイバ用プリフォームの製造方法 | |
US20200339465A1 (en) | Method for manufacturing optical fiber preform, optical fiber preform, method for manufacturing optical fiber, and optical fiber | |
JP3098828B2 (ja) | 分散シフトファイバ及びその製造方法 | |
EP1518832A1 (en) | Low loss optical fiber and method for fabricating optical fiber preform thereof | |
JP4540923B2 (ja) | 光ファイバの製造方法および光ファイバ母材の製造方法 | |
JP3738510B2 (ja) | 光ファイバ及びその製造方法 | |
JP2003300744A (ja) | 光ファイバの製造方法及び光ファイバ | |
CN1293008C (zh) | 用来生产用于光纤的预成型坯件的基底管和过程 | |
JP2012171802A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JPH07230015A (ja) | 分散シフト型シングルモード光ファイバと分散シフト型シングルモード光ファイバ用母材と分散シフト型シングルモード光ファイバ用母材の製造方法 | |
JPH10206654A (ja) | 光ファイバ及びその製造方法 | |
WO2022181648A1 (ja) | 光ファイバ及び光ファイバ母材の製造方法 | |
JP3137849B2 (ja) | 分散シフト光ファイバ用母材の製法 | |
JP3569910B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
JP2659066B2 (ja) | シングル・モード・光ファイバ用母材の製造方法 | |
JP2024086249A (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び光ファイバの製造方法 | |
KR101287545B1 (ko) | 유효면적이 증가된 분산이동 광섬유용 모재의 제조방법 | |
JP3798190B2 (ja) | デュアルコア形分散シフト光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
JPH0488306A (ja) | 分散シフト光ファイバ | |
JPH0453823B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060615 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090206 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100201 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100204 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130212 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4455740 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160212 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |