JP2003300744A - 光ファイバの製造方法及び光ファイバ - Google Patents
光ファイバの製造方法及び光ファイバInfo
- Publication number
- JP2003300744A JP2003300744A JP2002105263A JP2002105263A JP2003300744A JP 2003300744 A JP2003300744 A JP 2003300744A JP 2002105263 A JP2002105263 A JP 2002105263A JP 2002105263 A JP2002105263 A JP 2002105263A JP 2003300744 A JP2003300744 A JP 2003300744A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- glass
- pipe
- starting
- preform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
- G02B6/03694—Multiple layers differing in properties other than the refractive index, e.g. attenuation, diffusion, stress properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
- C03B37/01211—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments by inserting one or more rods or tubes into a tube
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01884—Means for supporting, rotating and translating tubes or rods being formed, e.g. lathes
- C03B37/01892—Deposition substrates, e.g. tubes, mandrels
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02214—Optical fibres with cladding with or without a coating tailored to obtain the desired dispersion, e.g. dispersion shifted, dispersion flattened
- G02B6/02219—Characterised by the wavelength dispersion properties in the silica low loss window around 1550 nm, i.e. S, C, L and U bands from 1460-1675 nm
- G02B6/02252—Negative dispersion fibres at 1550 nm
- G02B6/02261—Dispersion compensating fibres, i.e. for compensating positive dispersion of other fibres
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02214—Optical fibres with cladding with or without a coating tailored to obtain the desired dispersion, e.g. dispersion shifted, dispersion flattened
- G02B6/02219—Characterised by the wavelength dispersion properties in the silica low loss window around 1550 nm, i.e. S, C, L and U bands from 1460-1675 nm
- G02B6/02266—Positive dispersion fibres at 1550 nm
- G02B6/02271—Non-zero dispersion shifted fibres, i.e. having a small positive dispersion at 1550 nm, e.g. ITU-T G.655 dispersion between 1.0 to 10 ps/nm.km for avoiding nonlinear effects
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/02214—Optical fibres with cladding with or without a coating tailored to obtain the desired dispersion, e.g. dispersion shifted, dispersion flattened
- G02B6/0228—Characterised by the wavelength dispersion slope properties around 1550 nm
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
- G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
- G02B6/03638—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 3 layers only
- G02B6/03644—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 3 layers only arranged - + -
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
- G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
- G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
- G02B6/03661—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 4 layers only
- G02B6/03666—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 4 layers only arranged - + - +
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/02—Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
- C03B2201/03—Impurity concentration specified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/07—Impurity concentration specified
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/36—Dispersion modified fibres, e.g. wavelength or polarisation shifted, flattened or compensating fibres (DSF, DFF, DCF)
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＯＨ基がコア部の近傍に侵入することを防止
して伝送損失の増加を抑制することのできる光ファイバ
の製造方法及び光ファイバを提供する。 【解決手段】 本発明の光ファイバの製造方法は、出発
材としての出発パイプ１４の内面にリング部１５を内付
けしてガラスパイプ１６を形成し、中心コア部１１及び
ディプレスト部１２となるべきガラスロッド１３をガラ
スパイプ１６の内側に挿入し、ガラスパイプ１６とガラ
スロッド１３とをコラップスにより一体化してガラス体
１７を形成した後、ガラス体１７の外側にジャケット部
１８を設けてプリフォーム１０ａを形成し、プリフォー
ム１０ａを線引きして光ファイバ１０を製造する光ファ
イバの製造方法であって、出発パイプ１４の肉厚１４ａ
を、４ｍｍ〜８ｍｍに設定する。
して伝送損失の増加を抑制することのできる光ファイバ
の製造方法及び光ファイバを提供する。 【解決手段】 本発明の光ファイバの製造方法は、出発
材としての出発パイプ１４の内面にリング部１５を内付
けしてガラスパイプ１６を形成し、中心コア部１１及び
ディプレスト部１２となるべきガラスロッド１３をガラ
スパイプ１６の内側に挿入し、ガラスパイプ１６とガラ
スロッド１３とをコラップスにより一体化してガラス体
１７を形成した後、ガラス体１７の外側にジャケット部
１８を設けてプリフォーム１０ａを形成し、プリフォー
ム１０ａを線引きして光ファイバ１０を製造する光ファ
イバの製造方法であって、出発パイプ１４の肉厚１４ａ
を、４ｍｍ〜８ｍｍに設定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバの製造
方法及び光ファイバに関し、より詳しくは、出発パイプ
にガラス層を内付けしたガラスパイプの内側に、ガラス
ロッドを挿入してコラップスにより一体化した後、その
外側にジャケット部を設けてプリフォームを形成し、さ
らに線引きして光ファイバを製造する光ファイバの製造
方法及び光ファイバに関する。
方法及び光ファイバに関し、より詳しくは、出発パイプ
にガラス層を内付けしたガラスパイプの内側に、ガラス
ロッドを挿入してコラップスにより一体化した後、その
外側にジャケット部を設けてプリフォームを形成し、さ
らに線引きして光ファイバを製造する光ファイバの製造
方法及び光ファイバに関する。
【０００２】
【従来の技術】図４に示すような光ファイバ１００を作
製する従来の製造方法について説明する。図４（ａ）
は、従来の光ファイバ１００の断面を示す図であり、図
４（ｂ）は、光ファイバ１００の屈折率分布を示す図で
ある。まず、出発材である出発パイプ１０１の内面にＭ
ＣＶＤ法（Modified Chemical Vapor Deposition M
ethod、内付けCVD法）によりガラス微粒子を堆積させて
リング部１０２を形成する。次に、リング部１０２の内
側に、コア部１０３とディプレスト部１０４を備えたガ
ラスロッド１０５を挿入して、ロッドインコラップスに
より一体化してガラス体１０６を作製する。そして、ガ
ラス体１０６の外側にジャケット部１０７をすす付けし
た後、透明化処理を施してプリフォーム１００ａを作製
する。その後プリフォーム１００ａを加熱しながら線引
きして光ファイバ１００を製造する。
製する従来の製造方法について説明する。図４（ａ）
は、従来の光ファイバ１００の断面を示す図であり、図
４（ｂ）は、光ファイバ１００の屈折率分布を示す図で
ある。まず、出発材である出発パイプ１０１の内面にＭ
ＣＶＤ法（Modified Chemical Vapor Deposition M
ethod、内付けCVD法）によりガラス微粒子を堆積させて
リング部１０２を形成する。次に、リング部１０２の内
側に、コア部１０３とディプレスト部１０４を備えたガ
ラスロッド１０５を挿入して、ロッドインコラップスに
より一体化してガラス体１０６を作製する。そして、ガ
ラス体１０６の外側にジャケット部１０７をすす付けし
た後、透明化処理を施してプリフォーム１００ａを作製
する。その後プリフォーム１００ａを加熱しながら線引
きして光ファイバ１００を製造する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来の製造方法では、肉厚１０１ａが２ｍｍ〜３ｍｍであ
る出発パイプ１０１を用いて、ＭＣＶＤ法によりリング
部１０２を形成している。ＭＣＶＤ法を行う際には、酸
水素火炎を用いて出発パイプ１０１を加熱している。ま
た、ロッドインコラップス、ジャケット部１０７のすす
付けの工程でも、酸水素火炎を用いて出発パイプ１０１
を加熱している。そのため、出発パイプ１０１の表面に
酸水素火炎に含まれるＯＨ基が侵入してしまう。このＯ
Ｈ基がコア部１０３の近傍まで侵入することがあり、プ
リフォーム１００ａを光ファイバ１００とした際にＯＨ
基に光が吸収されて伝送損失が増加してしまうという状
況を招いていた。
来の製造方法では、肉厚１０１ａが２ｍｍ〜３ｍｍであ
る出発パイプ１０１を用いて、ＭＣＶＤ法によりリング
部１０２を形成している。ＭＣＶＤ法を行う際には、酸
水素火炎を用いて出発パイプ１０１を加熱している。ま
た、ロッドインコラップス、ジャケット部１０７のすす
付けの工程でも、酸水素火炎を用いて出発パイプ１０１
を加熱している。そのため、出発パイプ１０１の表面に
酸水素火炎に含まれるＯＨ基が侵入してしまう。このＯ
Ｈ基がコア部１０３の近傍まで侵入することがあり、プ
リフォーム１００ａを光ファイバ１００とした際にＯＨ
基に光が吸収されて伝送損失が増加してしまうという状
況を招いていた。
【０００４】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであり、ＯＨ基がコア部の近傍に侵入するこ
とを防止して伝送損失の増加を抑制することのできる光
ファイバの製造方法及び光ファイバを提供することを目
的とする。
されたものであり、ＯＨ基がコア部の近傍に侵入するこ
とを防止して伝送損失の増加を抑制することのできる光
ファイバの製造方法及び光ファイバを提供することを目
的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ＯＨ基がコア
部の近傍まで侵入する一因が、出発パイプの肉厚、もし
くはガラスロッドと出発パイプの断面積比にあることを
見出した。
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ＯＨ基がコア
部の近傍まで侵入する一因が、出発パイプの肉厚、もし
くはガラスロッドと出発パイプの断面積比にあることを
見出した。
【０００６】上記目的を達成するための本発明に係る光
ファイバの製造方法は、出発材としての出発パイプの内
面にガラス層を内付けしてガラスパイプを形成し、中心
コア部及びクラッド部の一部となるべきガラスロッドを
ガラスパイプの内側に挿入し、ガラスパイプとガラスロ
ッドとをコラップスにより一体化してガラス体を形成し
た後、ガラス体の外側にジャケット部を設けてプリフォ
ームを形成し、プリフォームを線引きして光ファイバを
製造する光ファイバの製造方法であって、出発パイプの
肉厚を、４ｍｍ〜８ｍｍに設定することを特徴とする。
ファイバの製造方法は、出発材としての出発パイプの内
面にガラス層を内付けしてガラスパイプを形成し、中心
コア部及びクラッド部の一部となるべきガラスロッドを
ガラスパイプの内側に挿入し、ガラスパイプとガラスロ
ッドとをコラップスにより一体化してガラス体を形成し
た後、ガラス体の外側にジャケット部を設けてプリフォ
ームを形成し、プリフォームを線引きして光ファイバを
製造する光ファイバの製造方法であって、出発パイプの
肉厚を、４ｍｍ〜８ｍｍに設定することを特徴とする。
【０００７】このように構成された光ファイバの製造方
法においては、出発パイプの肉厚を従来の薄い（２ｍｍ
〜３ｍｍ）ものから４ｍｍ〜８ｍｍの範囲に設定してい
る。これにより、ＯＨ基が侵入する出発ガラスの表面か
らコア部までの距離を大きく設けることができる。した
がって、侵入したＯＨ基がコア部の近傍まで達するのを
効果的に防止して、ＯＨ基による伝送損失の増加を抑制
することができる。なお、出発パイプの肉厚が４ｍｍ未
満であるとＯＨ基がコア部の近傍まで達してしまうと推
定できる。また、出発パイプの肉厚が８ｍｍを超える
と、ガラスパイプ内にガラスロッドをコラップスするこ
とが困難になる。
法においては、出発パイプの肉厚を従来の薄い（２ｍｍ
〜３ｍｍ）ものから４ｍｍ〜８ｍｍの範囲に設定してい
る。これにより、ＯＨ基が侵入する出発ガラスの表面か
らコア部までの距離を大きく設けることができる。した
がって、侵入したＯＨ基がコア部の近傍まで達するのを
効果的に防止して、ＯＨ基による伝送損失の増加を抑制
することができる。なお、出発パイプの肉厚が４ｍｍ未
満であるとＯＨ基がコア部の近傍まで達してしまうと推
定できる。また、出発パイプの肉厚が８ｍｍを超える
と、ガラスパイプ内にガラスロッドをコラップスするこ
とが困難になる。
【０００８】また、上記目的を達成するための本発明に
係る光ファイバの製造方法は、出発材としての出発パイ
プの内面にガラス層を内付けしてガラスパイプを形成
し、中心コア部及びクラッド部の一部となるべきガラス
ロッドをガラスパイプの内側に挿入し、ガラスパイプと
ガラスロッドとをコラップスにより一体化してガラス体
を形成した後、ガラス体の外側にジャケット部を設けて
プリフォームを形成し、プリフォームを線引きして光フ
ァイバを製造する光ファイバの製造方法であって、ガラ
スロッドの断面積Ｓ１と出発パイプの断面積Ｓ２の比Ｓ
１／Ｓ２を、０．０３〜０．３０に設定することを特徴
とする。
係る光ファイバの製造方法は、出発材としての出発パイ
プの内面にガラス層を内付けしてガラスパイプを形成
し、中心コア部及びクラッド部の一部となるべきガラス
ロッドをガラスパイプの内側に挿入し、ガラスパイプと
ガラスロッドとをコラップスにより一体化してガラス体
を形成した後、ガラス体の外側にジャケット部を設けて
プリフォームを形成し、プリフォームを線引きして光フ
ァイバを製造する光ファイバの製造方法であって、ガラ
スロッドの断面積Ｓ１と出発パイプの断面積Ｓ２の比Ｓ
１／Ｓ２を、０．０３〜０．３０に設定することを特徴
とする。
【０００９】このように構成された光ファイバの製造方
法においては、ガラスロッドの断面積Ｓ１に対する出発
パイプの断面積Ｓ２の比Ｓ１／Ｓ２を、従来に比べて大
きい０．０３〜０．３０に設定している。これにより、
ＯＨ基が侵入する出発ガラスの表面からコア部までの距
離を大きく設けることができる。したがって、侵入した
ＯＨ基がコア部近傍まで達するのを防止して、ＯＨ基に
よる伝送損失の増加を抑制することができる。なお、Ｓ
１／Ｓ２が０．０３未満であるとガラスパイプ内にガラ
スロッドをコラップスすることが困難になる。また、Ｓ
１／Ｓ２が０．３０を超えると、ＯＨ基がコア部の近傍
まで達してしまうと推定できる。
法においては、ガラスロッドの断面積Ｓ１に対する出発
パイプの断面積Ｓ２の比Ｓ１／Ｓ２を、従来に比べて大
きい０．０３〜０．３０に設定している。これにより、
ＯＨ基が侵入する出発ガラスの表面からコア部までの距
離を大きく設けることができる。したがって、侵入した
ＯＨ基がコア部近傍まで達するのを防止して、ＯＨ基に
よる伝送損失の増加を抑制することができる。なお、Ｓ
１／Ｓ２が０．０３未満であるとガラスパイプ内にガラ
スロッドをコラップスすることが困難になる。また、Ｓ
１／Ｓ２が０．３０を超えると、ＯＨ基がコア部の近傍
まで達してしまうと推定できる。
【００１０】また、本発明に係る光ファイバの製造方法
は、ジャケット部の軟化点温度が、純シリカの軟化点温
度よりも低いことが望ましい。このような構成の光ファ
イバの製造方法によれば、プリフォームを線引きする際
の加熱温度を下げることができるので、レーリー散乱に
よる伝送損失の増加を抑制することができる。
は、ジャケット部の軟化点温度が、純シリカの軟化点温
度よりも低いことが望ましい。このような構成の光ファ
イバの製造方法によれば、プリフォームを線引きする際
の加熱温度を下げることができるので、レーリー散乱に
よる伝送損失の増加を抑制することができる。
【００１１】また、本発明に係る光ファイバの製造方法
は、ジャケット部が、０．１mol％〜１．０mol％の濃度
の塩素を添加したシリカガラスであることが望ましい。
このような構成の光ファイバの製造方法によれば、塩素
濃度の下限値である０．１mol％を設定することによ
り、レーリー散乱係数であるA値を２．０μｍ4ｄＢ／ｋ
ｍ以下にして、散乱を低減することができる。また、上
限値である１．０mol％を設定することにより、塩素の
過剰添加によるファイバの強度低下を防いで、線引き中
に発生する光ファイバの破断頻度を減らすことができ
る。
は、ジャケット部が、０．１mol％〜１．０mol％の濃度
の塩素を添加したシリカガラスであることが望ましい。
このような構成の光ファイバの製造方法によれば、塩素
濃度の下限値である０．１mol％を設定することによ
り、レーリー散乱係数であるA値を２．０μｍ4ｄＢ／ｋ
ｍ以下にして、散乱を低減することができる。また、上
限値である１．０mol％を設定することにより、塩素の
過剰添加によるファイバの強度低下を防いで、線引き中
に発生する光ファイバの破断頻度を減らすことができ
る。
【００１２】また、本発明に係る光ファイバの製造方法
は、ジャケット部が、０．１mol％〜１．０mol％の濃度
のフッ素を添加したシリカガラスであることが望まし
い。このような構成の光ファイバの製造方法によれば、
フッ素濃度の下限値である０．１mol％を設定すること
により、レーリー散乱係数であるA値を２．０μｍ4ｄＢ
／ｋｍ以下にして、散乱を低減することができる。ま
た、上限値である１．０mol％を設定することにより、
塩素の過剰添加によるファイバの強度低下を防いで、線
引き中に発生する光ファイバの破断頻度を減らすことが
できる。
は、ジャケット部が、０．１mol％〜１．０mol％の濃度
のフッ素を添加したシリカガラスであることが望まし
い。このような構成の光ファイバの製造方法によれば、
フッ素濃度の下限値である０．１mol％を設定すること
により、レーリー散乱係数であるA値を２．０μｍ4ｄＢ
／ｋｍ以下にして、散乱を低減することができる。ま
た、上限値である１．０mol％を設定することにより、
塩素の過剰添加によるファイバの強度低下を防いで、線
引き中に発生する光ファイバの破断頻度を減らすことが
できる。
【００１３】また、本発明に係る光ファイバの製造方法
は、線引き時の線引き張力が、６０ｇ〜３５０ｇである
ことが望ましい。このような構成の光ファイバの製造方
法によれば、線引き張力の下限値である６０ｇを設定す
ることにより、レーリー散乱係数であるA値を２．０μ
ｍ4ｄＢ／ｋｍ以下にして散乱を低減することができ
る。また、上限値である３５０ｇを設定することによ
り、線引き張力が大きくなりすぎて線引き中に光ファイ
バの破断を引き起こすことを防止することができる。
は、線引き時の線引き張力が、６０ｇ〜３５０ｇである
ことが望ましい。このような構成の光ファイバの製造方
法によれば、線引き張力の下限値である６０ｇを設定す
ることにより、レーリー散乱係数であるA値を２．０μ
ｍ4ｄＢ／ｋｍ以下にして散乱を低減することができ
る。また、上限値である３５０ｇを設定することによ
り、線引き張力が大きくなりすぎて線引き中に光ファイ
バの破断を引き起こすことを防止することができる。
【００１４】また、本発明に係る光ファイバの製造方法
は、線引き時のプリフォームの被加熱部分の温度が、１
６００℃〜２２００℃であることが望ましい。このよう
な構成の光ファイバの製造方法によれば、線引き時のプ
リフォーム温度の上限値である２２００℃を設定するこ
とにより、レーリー散乱係数であるA値を２．０μｍ4ｄ
Ｂ／ｋｍ以下にして散乱を低減することができる。ま
た、下限値である１６００℃を設定することにより、プ
リフォームが軟化するための充分な温度が得られるた
め、線引きにより生じる破断を防止することができる。
は、線引き時のプリフォームの被加熱部分の温度が、１
６００℃〜２２００℃であることが望ましい。このよう
な構成の光ファイバの製造方法によれば、線引き時のプ
リフォーム温度の上限値である２２００℃を設定するこ
とにより、レーリー散乱係数であるA値を２．０μｍ4ｄ
Ｂ／ｋｍ以下にして散乱を低減することができる。ま
た、下限値である１６００℃を設定することにより、プ
リフォームが軟化するための充分な温度が得られるた
め、線引きにより生じる破断を防止することができる。
【００１５】また、上記目的を達成するための本発明に
係る光ファイバは、本発明に係る上記の光ファイバの製
造方法により製造されたことを特徴としている。このよ
うに製造された光ファイバにおいては、出発パイプの肉
厚を従来の薄い（２ｍｍ〜３ｍｍ）ものから４ｍｍ〜８
ｍｍの範囲に設定するか、あるいはガラスロッドの断面
積に対する出発パイプの断面積の比を、従来より大きい
０．０３〜０．３０に設定している。これにより、ＯＨ
基が侵入する出発ガラスの表面からコア部までの距離を
大きく設けることができる。したがって、侵入したＯＨ
基がコア部近傍まで達するのを防止して、ＯＨ基による
伝送損失の増加を抑制することができる。
係る光ファイバは、本発明に係る上記の光ファイバの製
造方法により製造されたことを特徴としている。このよ
うに製造された光ファイバにおいては、出発パイプの肉
厚を従来の薄い（２ｍｍ〜３ｍｍ）ものから４ｍｍ〜８
ｍｍの範囲に設定するか、あるいはガラスロッドの断面
積に対する出発パイプの断面積の比を、従来より大きい
０．０３〜０．３０に設定している。これにより、ＯＨ
基が侵入する出発ガラスの表面からコア部までの距離を
大きく設けることができる。したがって、侵入したＯＨ
基がコア部近傍まで達するのを防止して、ＯＨ基による
伝送損失の増加を抑制することができる。
【００１６】また、本発明に係る光ファイバは、波長
１．５５μｍにおける分散値が（−２００）ps／km／nm
〜（＋４）ps／km／nmであることが望ましい。このよう
な構成の光ファイバによれば、波長１．５５μｍにおけ
る分散値の下限値である（−２００）ps／km／nmを設定
することにより、光ファイバの曲げ損失を所望の値より
も低く抑えることができる。また、上限値である（＋
４）ps／km／nmを設定することにより、所望の分散補償
量を達成することができる。
１．５５μｍにおける分散値が（−２００）ps／km／nm
〜（＋４）ps／km／nmであることが望ましい。このよう
な構成の光ファイバによれば、波長１．５５μｍにおけ
る分散値の下限値である（−２００）ps／km／nmを設定
することにより、光ファイバの曲げ損失を所望の値より
も低く抑えることができる。また、上限値である（＋
４）ps／km／nmを設定することにより、所望の分散補償
量を達成することができる。
【００１７】また、本発明に係る光ファイバは、波長
１．５５μｍにおける分散スロープが（−２）ps／km／
nm2〜（＋０．０２）ps／km／nm2であることが望まし
い。このような構成の光ファイバによれば、分散スロー
プの範囲を制限することにより、様々な分散スロープ及
び分散値を有する既存の伝送路の分散を５０％以上で高
補償することができる。
１．５５μｍにおける分散スロープが（−２）ps／km／
nm2〜（＋０．０２）ps／km／nm2であることが望まし
い。このような構成の光ファイバによれば、分散スロー
プの範囲を制限することにより、様々な分散スロープ及
び分散値を有する既存の伝送路の分散を５０％以上で高
補償することができる。
【００１８】また、本発明に係る光ファイバは、波長
１．５５μｍにおける伝送損失が、０．２ｄB／km〜
０．５ｄB／kmであることが望ましい。このような構成
の光ファイバによれば、伝送損失を低く制限することに
より、分散補償量を大きくすることができることにな
る。
１．５５μｍにおける伝送損失が、０．２ｄB／km〜
０．５ｄB／kmであることが望ましい。このような構成
の光ファイバによれば、伝送損失を低く制限することに
より、分散補償量を大きくすることができることにな
る。
【００１９】また、本発明に係る光ファイバは、波長
１．３８μｍにおけるOH基による伝送損失の増加量が、
０．４ｄB／km以下であることが望ましい。このような
構成の光ファイバによれば、OH基による伝送損失の増加
を低く抑えることにより、波長１．５３μｍ〜１．５７
μｍのCバンド及び波長１．５７μｍ〜１．６２μｍのL
バンドのみならず、波長１．４０μｍ〜１．４８μｍの
Ｅバンドや波長１．４８μｍ〜１．５３μｍのＳバンド
等の短波長帯を利用することができるようになる。
１．３８μｍにおけるOH基による伝送損失の増加量が、
０．４ｄB／km以下であることが望ましい。このような
構成の光ファイバによれば、OH基による伝送損失の増加
を低く抑えることにより、波長１．５３μｍ〜１．５７
μｍのCバンド及び波長１．５７μｍ〜１．６２μｍのL
バンドのみならず、波長１．４０μｍ〜１．４８μｍの
Ｅバンドや波長１．４８μｍ〜１．５３μｍのＳバンド
等の短波長帯を利用することができるようになる。
【００２０】また、本発明に係る光ファイバは、ガラス
ロッドからなる断面積Ｓ３と出発パイプからなる断面積
Ｓ４の比Ｓ３／Ｓ４が、０．０３〜０．３０であること
が望ましい。このような構成の光ファイバは、上述した
光ファイバの製造方法によって光ファイバを製造した場
合に得ることができる。
ロッドからなる断面積Ｓ３と出発パイプからなる断面積
Ｓ４の比Ｓ３／Ｓ４が、０．０３〜０．３０であること
が望ましい。このような構成の光ファイバは、上述した
光ファイバの製造方法によって光ファイバを製造した場
合に得ることができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光ファイバの
製造方法及び光ファイバの実施形態を図１及び図２に基
づいて説明する。図１は、本実施形態の光ファイバ及び
光ファイバのプリフォームを示す図であり、図１（ａ）
は、プリフォーム（または光ファイバ）の断面図、図１
（ｂ）は、光ファイバの屈折率分布を示す図である。ま
た、図２は、図１に示した実施形態の変形例を示す図で
ある。
製造方法及び光ファイバの実施形態を図１及び図２に基
づいて説明する。図１は、本実施形態の光ファイバ及び
光ファイバのプリフォームを示す図であり、図１（ａ）
は、プリフォーム（または光ファイバ）の断面図、図１
（ｂ）は、光ファイバの屈折率分布を示す図である。ま
た、図２は、図１に示した実施形態の変形例を示す図で
ある。
【００２２】図１に示すように、本実施形態の光ファイ
バ１０のプリフォーム１０ａは、中心に屈折率が高い中
心コア部１１を有し、その周囲には屈折率の低い第１ク
ラッド部であるディプレスト部１２を有している。ディ
プレスト部１２の外側には、純シリカに比べて屈折率が
やや高い第２クラッド部であるリング部１５が形成され
ている。さらに、リング部１５の周囲には第３クラッド
部を構成する出発パイプ１４及びジャケット部１８が設
けられている。このプリフォーム１０ａを線引きするこ
とにより、光ファイバ１０が得られる。
バ１０のプリフォーム１０ａは、中心に屈折率が高い中
心コア部１１を有し、その周囲には屈折率の低い第１ク
ラッド部であるディプレスト部１２を有している。ディ
プレスト部１２の外側には、純シリカに比べて屈折率が
やや高い第２クラッド部であるリング部１５が形成され
ている。さらに、リング部１５の周囲には第３クラッド
部を構成する出発パイプ１４及びジャケット部１８が設
けられている。このプリフォーム１０ａを線引きするこ
とにより、光ファイバ１０が得られる。
【００２３】本発明者は、光ファイバ１０を製造する際
にＯＨ基が中心コア部１１の近傍に侵入することを防ぐ
ために、鋭意研究を重ねた結果、光ファイバ１０の伝送
損失を許容範囲である０．５ｄB／ｋｍ以下に抑えるた
めには、出発パイプ１４の肉厚１４ａを４ｍｍ〜８ｍｍ
に設定すれば良いことを見出した。また、中心コア部１
１とディプレスト部１２の断面積の和Ｓ１と出発パイプ
１４の断面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２を、０．０３〜０．
３０に設定すれば良いことを見出した。
にＯＨ基が中心コア部１１の近傍に侵入することを防ぐ
ために、鋭意研究を重ねた結果、光ファイバ１０の伝送
損失を許容範囲である０．５ｄB／ｋｍ以下に抑えるた
めには、出発パイプ１４の肉厚１４ａを４ｍｍ〜８ｍｍ
に設定すれば良いことを見出した。また、中心コア部１
１とディプレスト部１２の断面積の和Ｓ１と出発パイプ
１４の断面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２を、０．０３〜０．
３０に設定すれば良いことを見出した。
【００２４】図１に示す光ファイバ１０の製造方法につ
いて説明する。まず、出発材である石英ガラス製の出発
パイプ１４の内面に、ＭＣＶＤ法でリング部１５となる
べきガラス層を内付けし、これをガラスパイプ１６とす
る。より詳しくＭＣＶＤ法について述べると、出発パイ
プ１４の内側に原料ガスを供給しながら、出発パイプ１
４を回転させつつ酸水素バーナにより出発パイプ１４を
外側から加熱して、原料ガスからガラス微粒子を生成
し、これを出発パイプ１４の内側に堆積させる。このと
き、酸水素バーナを出発パイプ１４の長手方向に往復移
動させることにより、複数層のガラス層を内付けしてリ
ング部１５を形成する。なお、本実施形態では、出発パ
イプ１４として、肉厚１４ａが４ｍｍ〜８ｍｍの石英パ
イプを用いる。この出発パイプ１４の肉厚１４ａは、上
述した従来の出発パイプ１０１の肉厚１０１ａ（２ｍｍ
〜３ｍｍ）より厚い。また、リング部１５を内付けする
ために出発パイプ１４内に供給する原料ガスとして、例
えば四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4）及び四塩化ゲルマニウ
ム（ＧｅＣｌ4）を用いる。
いて説明する。まず、出発材である石英ガラス製の出発
パイプ１４の内面に、ＭＣＶＤ法でリング部１５となる
べきガラス層を内付けし、これをガラスパイプ１６とす
る。より詳しくＭＣＶＤ法について述べると、出発パイ
プ１４の内側に原料ガスを供給しながら、出発パイプ１
４を回転させつつ酸水素バーナにより出発パイプ１４を
外側から加熱して、原料ガスからガラス微粒子を生成
し、これを出発パイプ１４の内側に堆積させる。このと
き、酸水素バーナを出発パイプ１４の長手方向に往復移
動させることにより、複数層のガラス層を内付けしてリ
ング部１５を形成する。なお、本実施形態では、出発パ
イプ１４として、肉厚１４ａが４ｍｍ〜８ｍｍの石英パ
イプを用いる。この出発パイプ１４の肉厚１４ａは、上
述した従来の出発パイプ１０１の肉厚１０１ａ（２ｍｍ
〜３ｍｍ）より厚い。また、リング部１５を内付けする
ために出発パイプ１４内に供給する原料ガスとして、例
えば四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4）及び四塩化ゲルマニウ
ム（ＧｅＣｌ4）を用いる。
【００２５】続いて、中心コア部１１及びディプレスト
部１２を有するガラスロッド１３をガラスパイプ１６の
内側に挿入し、ロッドインコラップスにより一体化して
ガラス体１７を形成する。より詳しくロッドインコラッ
プスについて述べると、ガラスロッド１３をガラスパイ
プ１６の内側に挿入した状態で、ガラスロッド１３とガ
ラスパイプ１６とを一体に回転させつつ、酸水素バーナ
によってガラスパイプ１６を外側から加熱する。これに
より、少なくともガラスパイプ１６が表面張力により収
縮して、ガラスロッド１３がガラスパイプ１６の内側に
ほぼ隙間なく固定される。ガラスロッド１３としては、
例えばゲルマニウム（Ｇｅ）を添加したシリカ（ＳｉＯ
2）からなる比屈折率差の極大値が（＋１．６）％の中
心コア部１１と、フッ素（Ｆ）を添加したＳｉＯ2から
成る比屈折率差の極小値が（−０．５）％のディプレス
ト部１２を有する外径８ｍｍのものを用いる。なお、こ
こでいう比屈折率差とは、純シリカの屈折率に対する中
心コア部１１やディプレスト部１２等の屈折率の差を表
すものである。このとき、中心コア部１１とディプレス
ト部１２からなるガラスロッド１３の断面積Ｓ１と、出
発パイプ１４の断面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２を、０．０
３〜０．３０に設定する。
部１２を有するガラスロッド１３をガラスパイプ１６の
内側に挿入し、ロッドインコラップスにより一体化して
ガラス体１７を形成する。より詳しくロッドインコラッ
プスについて述べると、ガラスロッド１３をガラスパイ
プ１６の内側に挿入した状態で、ガラスロッド１３とガ
ラスパイプ１６とを一体に回転させつつ、酸水素バーナ
によってガラスパイプ１６を外側から加熱する。これに
より、少なくともガラスパイプ１６が表面張力により収
縮して、ガラスロッド１３がガラスパイプ１６の内側に
ほぼ隙間なく固定される。ガラスロッド１３としては、
例えばゲルマニウム（Ｇｅ）を添加したシリカ（ＳｉＯ
2）からなる比屈折率差の極大値が（＋１．６）％の中
心コア部１１と、フッ素（Ｆ）を添加したＳｉＯ2から
成る比屈折率差の極小値が（−０．５）％のディプレス
ト部１２を有する外径８ｍｍのものを用いる。なお、こ
こでいう比屈折率差とは、純シリカの屈折率に対する中
心コア部１１やディプレスト部１２等の屈折率の差を表
すものである。このとき、中心コア部１１とディプレス
ト部１２からなるガラスロッド１３の断面積Ｓ１と、出
発パイプ１４の断面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２を、０．０
３〜０．３０に設定する。
【００２６】続いて、ガラス体１７の外側にジャケット
部１８を設けてプリフォーム１０ａを形成する。ジャケ
ット部１８は、例えば多重管バーナを用いて四塩化ケイ
素を含む原料ガスと酸水素ガスを燃焼させて、これによ
り生成するガラス微粒子をガラス体１７の外側に堆積さ
せる（すす付けと呼ぶ）ことによって得られる。このと
き、ジャケット部１８としては、軟化点温度が純シリカ
の軟化点温度よりも低いものを使用するのが望ましい。
また、ジャケット部１８として、０．１mol％〜１．０m
ol％の濃度の塩素を添加したシリカガラスを使用するの
が望ましい。あるいは、ジャケット部１８として、０．
１mol％〜１．０mol％の濃度のフッ素を添加したシリカ
ガラスを用いるようにしても良い。
部１８を設けてプリフォーム１０ａを形成する。ジャケ
ット部１８は、例えば多重管バーナを用いて四塩化ケイ
素を含む原料ガスと酸水素ガスを燃焼させて、これによ
り生成するガラス微粒子をガラス体１７の外側に堆積さ
せる（すす付けと呼ぶ）ことによって得られる。このと
き、ジャケット部１８としては、軟化点温度が純シリカ
の軟化点温度よりも低いものを使用するのが望ましい。
また、ジャケット部１８として、０．１mol％〜１．０m
ol％の濃度の塩素を添加したシリカガラスを使用するの
が望ましい。あるいは、ジャケット部１８として、０．
１mol％〜１．０mol％の濃度のフッ素を添加したシリカ
ガラスを用いるようにしても良い。
【００２７】そして、プリフォーム１０ａを１６００℃
〜２２００℃に加熱して線引きし光ファイバ１０を製造
する。このとき、線引き張力を、６０〜３５０ｇの範囲
に設定するのが望ましい。このように設定した条件によ
り線引きを行うことにより、レーリー散乱係数であるA
値を２．０μｍ4ｄＢ／ｋｍ以下にして、レーリー散乱
による伝送損失の増加を抑えることができる。
〜２２００℃に加熱して線引きし光ファイバ１０を製造
する。このとき、線引き張力を、６０〜３５０ｇの範囲
に設定するのが望ましい。このように設定した条件によ
り線引きを行うことにより、レーリー散乱係数であるA
値を２．０μｍ4ｄＢ／ｋｍ以下にして、レーリー散乱
による伝送損失の増加を抑えることができる。
【００２８】上述した光ファイバの製造方法及び光ファ
イバ１０によれば、出発パイプ１４の肉厚１４ａを４ｍ
ｍ〜８ｍｍに設定するか、もしくはガラスロッド１３の
断面積Ｓ１と、出発パイプ１４の断面積Ｓ２との比Ｓ１
／Ｓ２を、０．０３〜０．３０に設定するため、中心コ
ア部１１から出発パイプ１４の表面までの距離を従来と
比べて大きく設けることができる。したがって、ＭＣＶ
Ｄ法によりガラスパイプ１６を形成する際と、ロッドイ
ンコラップスによりガラス体１７を形成する際と、すす
付けによりジャケット部１８を形成する際に、出発パイ
プ１４の表面から侵入するＯＨ基が中心コア部１１の近
傍まで侵入するのを防止できる。よって、ＯＨ基による
伝送損失の増加を抑制することができる。
イバ１０によれば、出発パイプ１４の肉厚１４ａを４ｍ
ｍ〜８ｍｍに設定するか、もしくはガラスロッド１３の
断面積Ｓ１と、出発パイプ１４の断面積Ｓ２との比Ｓ１
／Ｓ２を、０．０３〜０．３０に設定するため、中心コ
ア部１１から出発パイプ１４の表面までの距離を従来と
比べて大きく設けることができる。したがって、ＭＣＶ
Ｄ法によりガラスパイプ１６を形成する際と、ロッドイ
ンコラップスによりガラス体１７を形成する際と、すす
付けによりジャケット部１８を形成する際に、出発パイ
プ１４の表面から侵入するＯＨ基が中心コア部１１の近
傍まで侵入するのを防止できる。よって、ＯＨ基による
伝送損失の増加を抑制することができる。
【００２９】なお、上述した光ファイバ１０は、ＯＨ基
による伝送損失の増加を抑制することができるので、波
長１．５５μｍにおける分散値を（−２００）ps／km／
nm〜（＋４）ps／km／nmとすることが容易である。ま
た、波長１．５５μｍにおける分散スロープを（−２）
ps／km／nm2〜（＋０．０２）ps／km／nm2とすることが
容易である。また、波長１．５５μｍにおける伝送損失
α１を、０．２≦α１≦０．５ｄB／kmとすることが容
易である。また、波長１．３８μｍにおけるOH基による
伝送損失の増加量Δα２を、０．４ｄB／km以下とする
ことが容易である。これにより、光ファイバ１０をノン
ゼロ分散シフトファイバ（ＮＺ−ＤＳＦ）の分散を補償
する分散補償用光ファイバ（ＤＣＦ）として使用するこ
とができる。
による伝送損失の増加を抑制することができるので、波
長１．５５μｍにおける分散値を（−２００）ps／km／
nm〜（＋４）ps／km／nmとすることが容易である。ま
た、波長１．５５μｍにおける分散スロープを（−２）
ps／km／nm2〜（＋０．０２）ps／km／nm2とすることが
容易である。また、波長１．５５μｍにおける伝送損失
α１を、０．２≦α１≦０．５ｄB／kmとすることが容
易である。また、波長１．３８μｍにおけるOH基による
伝送損失の増加量Δα２を、０．４ｄB／km以下とする
ことが容易である。これにより、光ファイバ１０をノン
ゼロ分散シフトファイバ（ＮＺ−ＤＳＦ）の分散を補償
する分散補償用光ファイバ（ＤＣＦ）として使用するこ
とができる。
【００３０】また、光ファイバ１０は、線引き前のプリ
フォーム時にガラスロッド１３であった中心コア部１１
及びディプレスト部１２の断面積の和Ｓ３と、線引き前
のプリフォーム時に出発パイプ１４であった部分の断面
積Ｓ４の比Ｓ３／Ｓ４が、０．０３〜０．３０であるこ
とが望ましい。プリフォーム時のガラスロッド１３から
なる断面積Ｓ３は、例えばＲＮＦＰ法による屈折率分布
の測定や、ＥＰＭＡ分析によるゲルマニウムの径方向分
布測定等によって特定することが可能である。また、プ
リフォーム時の出発パイプ１４からなる断面積Ｓ４は、
光ファイバ１０の断面をエッチング処理することによっ
て、出発パイプ１４とジャケット部１８との界面を段差
として観察できるので、特定が可能である。
フォーム時にガラスロッド１３であった中心コア部１１
及びディプレスト部１２の断面積の和Ｓ３と、線引き前
のプリフォーム時に出発パイプ１４であった部分の断面
積Ｓ４の比Ｓ３／Ｓ４が、０．０３〜０．３０であるこ
とが望ましい。プリフォーム時のガラスロッド１３から
なる断面積Ｓ３は、例えばＲＮＦＰ法による屈折率分布
の測定や、ＥＰＭＡ分析によるゲルマニウムの径方向分
布測定等によって特定することが可能である。また、プ
リフォーム時の出発パイプ１４からなる断面積Ｓ４は、
光ファイバ１０の断面をエッチング処理することによっ
て、出発パイプ１４とジャケット部１８との界面を段差
として観察できるので、特定が可能である。
【００３１】また、図２に示すように、本発明の光ファ
イバの製造方法及び光ファイバは、４重クラッドの構造
を有する光ファイバ、及びこの光ファイバを製造する場
合にも適用できる。図２に示す光ファイバ２０を製造す
る方法について述べる。まず、出発パイプ２４の内面
に、ＭＣＶＤ法で第２ディプレスト部２５となるべきガ
ラス層と、リング部２６となるべきガラス層を内付け
し、これをガラスパイプ２７とする。ここで、出発パイ
プ２４は、上述した出発パイプ１４と同様に、肉厚２４
ａが４ｍｍ〜８ｍｍである。次に、中心コア部２１及び
第１ディプレスト部２２を有するガラスロッド２３をガ
ラスパイプ２７の内側に挿入し、ロッドインコラップス
により一体化してガラス体２８を形成する。続いて、ガ
ラス体２８の外側にジャケット部２９を設けてプリフォ
ーム２０ａを形成する。このプリフォーム２０ａを線引
きすることにより、光ファイバ２０が得られる。
イバの製造方法及び光ファイバは、４重クラッドの構造
を有する光ファイバ、及びこの光ファイバを製造する場
合にも適用できる。図２に示す光ファイバ２０を製造す
る方法について述べる。まず、出発パイプ２４の内面
に、ＭＣＶＤ法で第２ディプレスト部２５となるべきガ
ラス層と、リング部２６となるべきガラス層を内付け
し、これをガラスパイプ２７とする。ここで、出発パイ
プ２４は、上述した出発パイプ１４と同様に、肉厚２４
ａが４ｍｍ〜８ｍｍである。次に、中心コア部２１及び
第１ディプレスト部２２を有するガラスロッド２３をガ
ラスパイプ２７の内側に挿入し、ロッドインコラップス
により一体化してガラス体２８を形成する。続いて、ガ
ラス体２８の外側にジャケット部２９を設けてプリフォ
ーム２０ａを形成する。このプリフォーム２０ａを線引
きすることにより、光ファイバ２０が得られる。
【００３２】このとき、ガラスロッド２３の断面積は、
上述した断面積Ｓ１に対応し、出発パイプ２４の断面積
は、上述した断面積Ｓ２に対応するように構成される。
したがって、中心コア部２１から出発パイプ２４の表面
までの距離を従来と比べて大きく設けることができる。
上述した断面積Ｓ１に対応し、出発パイプ２４の断面積
は、上述した断面積Ｓ２に対応するように構成される。
したがって、中心コア部２１から出発パイプ２４の表面
までの距離を従来と比べて大きく設けることができる。
【００３３】（第１実施例）次に、本発明に係る光ファ
イバの製造方法及び光ファイバについて第１実施例を説
明する。図１に示す出発パイプ１４の肉厚を、２ｍｍ〜
８ｍｍの範囲で１ｍｍ毎に設定し、上記実施形態に基づ
いて７種類の光ファイバを製造した。それらの光ファイ
バについて、１．５５μｍにおける伝送損失を測定し、
比較評価した。
イバの製造方法及び光ファイバについて第１実施例を説
明する。図１に示す出発パイプ１４の肉厚を、２ｍｍ〜
８ｍｍの範囲で１ｍｍ毎に設定し、上記実施形態に基づ
いて７種類の光ファイバを製造した。それらの光ファイ
バについて、１．５５μｍにおける伝送損失を測定し、
比較評価した。
【００３４】第１実施例の光ファイバの製造方法につい
て述べる。まず、ＭＣＶＤ法を用いて、出発パイプ１４
の内面にガラス層であるリング部１５を内付けしてガラ
スパイプ１６を形成した。このとき、出発パイプ１４と
して、内径が２８ｍｍで、肉厚が２ｍｍ〜８ｍｍの石英
ガラス製のパイプを用いた。すなわち、出発パイプ１４
の外径は、肉厚の増加に伴って３０ｍｍ〜３６ｍｍとな
っている。これらの出発パイプ１４にリング部１５を内
付けするために供給するガスは、四塩化ケイ素、四塩化
ゲルマニウム、酸素を用いた。これらのガスの供給量
は、ＳｉＣｌ4を２００sccm（standard cm3／min）、
ＧｅＣｌ4を４５sccm、Ｏ2を２５００sccmとした。出発
パイプ１４を加熱する酸水素炎の加熱温度は１６００℃
に設定して、ガラス微粒子を１０層積層させた。これに
より、比屈折率差の極大値が（＋０．３）％であるリン
グ部１５を形成した。
て述べる。まず、ＭＣＶＤ法を用いて、出発パイプ１４
の内面にガラス層であるリング部１５を内付けしてガラ
スパイプ１６を形成した。このとき、出発パイプ１４と
して、内径が２８ｍｍで、肉厚が２ｍｍ〜８ｍｍの石英
ガラス製のパイプを用いた。すなわち、出発パイプ１４
の外径は、肉厚の増加に伴って３０ｍｍ〜３６ｍｍとな
っている。これらの出発パイプ１４にリング部１５を内
付けするために供給するガスは、四塩化ケイ素、四塩化
ゲルマニウム、酸素を用いた。これらのガスの供給量
は、ＳｉＣｌ4を２００sccm（standard cm3／min）、
ＧｅＣｌ4を４５sccm、Ｏ2を２５００sccmとした。出発
パイプ１４を加熱する酸水素炎の加熱温度は１６００℃
に設定して、ガラス微粒子を１０層積層させた。これに
より、比屈折率差の極大値が（＋０．３）％であるリン
グ部１５を形成した。
【００３５】続いて、中心コア部１１及び第１クラッド
部であるディプレスト部１２を有するガラスロッド１３
をガラスパイプ１６の内面に挿入し、コラップスにより
一体化してガラス体１７を形成した。中心コア部１１
は、ゲルマニウムを添加したシリカからなり、純シリカ
に対する比屈折率差の極大値が（＋１．６）％である。
ディプレスト部１２は、フッ素を添加したシリカからな
り、純シリカに対する比屈折率差の極小値が（−０．
５）％である。ガラスロッド１３の外径は、８ｍｍであ
る。
部であるディプレスト部１２を有するガラスロッド１３
をガラスパイプ１６の内面に挿入し、コラップスにより
一体化してガラス体１７を形成した。中心コア部１１
は、ゲルマニウムを添加したシリカからなり、純シリカ
に対する比屈折率差の極大値が（＋１．６）％である。
ディプレスト部１２は、フッ素を添加したシリカからな
り、純シリカに対する比屈折率差の極小値が（−０．
５）％である。ガラスロッド１３の外径は、８ｍｍであ
る。
【００３６】続いて、ガラス体１７の外側に、酸水素炎
多重管バーナを用いて外径が４６ｍｍとなるようにジャ
ケット部１８をすす付けしてプリフォーム１０ａを形成
した。それらのプリフォーム１０ａを１８００℃に加熱
して線引きし、さらに紫外線硬化樹脂を被覆すること
で、外径１８５ｍｍの光ファイバ１０を製造した。この
とき、線引き張力を２００ｇに設定した。
多重管バーナを用いて外径が４６ｍｍとなるようにジャ
ケット部１８をすす付けしてプリフォーム１０ａを形成
した。それらのプリフォーム１０ａを１８００℃に加熱
して線引きし、さらに紫外線硬化樹脂を被覆すること
で、外径１８５ｍｍの光ファイバ１０を製造した。この
とき、線引き張力を２００ｇに設定した。
【００３７】上記の方法により製造した７種類の光ファ
イバについて、波長１．５５μｍにおける伝送損失を測
定した。この測定結果を図３に示す。
イバについて、波長１．５５μｍにおける伝送損失を測
定した。この測定結果を図３に示す。
【００３８】図３に示したように、出発パイプの肉厚が
２ｍｍ、３ｍｍの光ファイバは、その伝送損失が許容範
囲の０．５ｄB／ｋｍを超えてしまった。これに対し
て、出発パイプの肉厚が４ｍｍ、５ｍｍ、６ｍｍ、７ｍ
ｍ、８ｍｍの光ファイバは、その伝送損失が許容範囲の
０．５ｄB／ｋｍ以下となった。
２ｍｍ、３ｍｍの光ファイバは、その伝送損失が許容範
囲の０．５ｄB／ｋｍを超えてしまった。これに対し
て、出発パイプの肉厚が４ｍｍ、５ｍｍ、６ｍｍ、７ｍ
ｍ、８ｍｍの光ファイバは、その伝送損失が許容範囲の
０．５ｄB／ｋｍ以下となった。
【００３９】以上の結果から、出発パイプの肉厚を４ｍ
ｍ〜８ｍｍに設定することにより、光ファイバの伝送損
失を許容値に抑えることができることが判った。 （第２実施例）次に、本発明に係る光ファイバの製造方
法及び光ファイバについて第２実施例を説明する。上述
したガラスロッド１３の断面積Ｓ１と、出発パイプ１４
の断面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２を変動させて、３種類の
光ファイバ（光ファイバＡ，Ｂ，Ｃ）を製造した。それ
らの光ファイバについて、１．５５μｍにおける伝送損
失を測定し、比較評価した。
ｍ〜８ｍｍに設定することにより、光ファイバの伝送損
失を許容値に抑えることができることが判った。 （第２実施例）次に、本発明に係る光ファイバの製造方
法及び光ファイバについて第２実施例を説明する。上述
したガラスロッド１３の断面積Ｓ１と、出発パイプ１４
の断面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２を変動させて、３種類の
光ファイバ（光ファイバＡ，Ｂ，Ｃ）を製造した。それ
らの光ファイバについて、１．５５μｍにおける伝送損
失を測定し、比較評価した。
【００４０】第２実施例の光ファイバの製造方法は、上
記第１実施例とほぼ同様であり、異なる外径のガラスロ
ッド１３と異なる外径及び厚さの出発パイプ１４を用い
て、断面積比Ｓ１／Ｓ２を変動させた点のみが異なった
条件であった。
記第１実施例とほぼ同様であり、異なる外径のガラスロ
ッド１３と異なる外径及び厚さの出発パイプ１４を用い
て、断面積比Ｓ１／Ｓ２を変動させた点のみが異なった
条件であった。
【００４１】光ファイバＡは、プリフォーム時のガラス
ロッドの外径が８．０ｍｍであり、出発パイプの外径は
３４．０ｍｍ、出発パイプの厚さは６．５ｍｍであっ
た。すなわち、ガラスロッドの断面積Ｓ１と、出発パイ
プの断面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２は、０．０９であっ
た。この光ファイバＡの１．５５μｍにおける伝送損失
は、０．３１ｄＢ／ｋｍであった。光ファイバＢは、プ
リフォーム時のガラスロッドの外径が１０．０ｍｍであ
り、出発パイプの外径は３４．０ｍｍ、出発パイプの厚
さは４．０ｍｍであった。すなわち、断面積比Ｓ１／Ｓ
２は、０．２１であった。この光ファイバＢの１．５５
μｍにおける伝送損失は、０．３０ｄＢ／ｋｍであっ
た。光ファイバＣは、プリフォーム時のガラスロッドの
外径が１０．０ｍｍであり、出発パイプの外径は２５．
０ｍｍ、出発パイプの厚さは５．０ｍｍであった。すな
わち、断面積比Ｓ１／Ｓ２は、０．２５であった。この
光ファイバＣの１．５５μｍにおける伝送損失は、０．
３０ｄＢ／ｋｍであった。
ロッドの外径が８．０ｍｍであり、出発パイプの外径は
３４．０ｍｍ、出発パイプの厚さは６．５ｍｍであっ
た。すなわち、ガラスロッドの断面積Ｓ１と、出発パイ
プの断面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２は、０．０９であっ
た。この光ファイバＡの１．５５μｍにおける伝送損失
は、０．３１ｄＢ／ｋｍであった。光ファイバＢは、プ
リフォーム時のガラスロッドの外径が１０．０ｍｍであ
り、出発パイプの外径は３４．０ｍｍ、出発パイプの厚
さは４．０ｍｍであった。すなわち、断面積比Ｓ１／Ｓ
２は、０．２１であった。この光ファイバＢの１．５５
μｍにおける伝送損失は、０．３０ｄＢ／ｋｍであっ
た。光ファイバＣは、プリフォーム時のガラスロッドの
外径が１０．０ｍｍであり、出発パイプの外径は２５．
０ｍｍ、出発パイプの厚さは５．０ｍｍであった。すな
わち、断面積比Ｓ１／Ｓ２は、０．２５であった。この
光ファイバＣの１．５５μｍにおける伝送損失は、０．
３０ｄＢ／ｋｍであった。
【００４２】以上の結果から、光ファイバＡ，Ｂ，Ｃ
は、伝送損失が許容範囲の０．５ｄB／ｋｍ以下であっ
たので、ガラスロッドの断面積Ｓ１と、出発パイプの断
面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２が０．０３〜０．３０である
場合には、光ファイバの伝送損失を許容値に抑えること
ができることが判った。
は、伝送損失が許容範囲の０．５ｄB／ｋｍ以下であっ
たので、ガラスロッドの断面積Ｓ１と、出発パイプの断
面積Ｓ２との比Ｓ１／Ｓ２が０．０３〜０．３０である
場合には、光ファイバの伝送損失を許容値に抑えること
ができることが判った。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光フ
ァイバの製造方法及び光ファイバによれば、出発パイプ
の肉厚を４ｍｍ〜８ｍｍに設定することで、出発ガラス
の表面から侵入したＯＨ基がコア部の近傍まで達するの
を効果的に防止して、ＯＨ基による伝送損失の増加を抑
制することができる。また、ガラスロッドと出発パイプ
との断面積の比を０．０３〜０．３０に設定すること
で、出発ガラスの表面から侵入したＯＨ基がコア部の近
傍まで達するのを効果的に防止して、ＯＨ基による伝送
損失の増加を抑制することができる。
ァイバの製造方法及び光ファイバによれば、出発パイプ
の肉厚を４ｍｍ〜８ｍｍに設定することで、出発ガラス
の表面から侵入したＯＨ基がコア部の近傍まで達するの
を効果的に防止して、ＯＨ基による伝送損失の増加を抑
制することができる。また、ガラスロッドと出発パイプ
との断面積の比を０．０３〜０．３０に設定すること
で、出発ガラスの表面から侵入したＯＨ基がコア部の近
傍まで達するのを効果的に防止して、ＯＨ基による伝送
損失の増加を抑制することができる。
【図１】本発明に係る光ファイバの製造方法により得ら
れるプリフォーム及び光ファイバの実施形態を示す図で
あり、図１（ａ）は、プリフォーム（または光ファイ
バ）の断面図、図１（ｂ）は、光ファイバの屈折率分布
を示す図である。
れるプリフォーム及び光ファイバの実施形態を示す図で
あり、図１（ａ）は、プリフォーム（または光ファイ
バ）の断面図、図１（ｂ）は、光ファイバの屈折率分布
を示す図である。
【図２】図１に示した実施形態の変形例を示す図であ
る。
る。
【図３】出発パイプの肉厚と波長１．５５μｍにおける
伝送損失との関係を示すグラフである。
伝送損失との関係を示すグラフである。
【図４】従来の光ファイバの製造方法により得られるプ
リフォーム及び光ファイバを示す図であり、図３（ａ）
は、プリフォーム（または光ファイバ）の断面図、図３
（ｂ）は、光ファイバの屈折率分布を示す図である。
リフォーム及び光ファイバを示す図であり、図３（ａ）
は、プリフォーム（または光ファイバ）の断面図、図３
（ｂ）は、光ファイバの屈折率分布を示す図である。
１０ 光ファイバ
１０ａ プリフォーム
１１ 中心コア部
１２ ディプレスト部（第１クラッド部）
１３ ガラスロッド
１４ 出発パイプ
１５ リング部（ガラス層）
１６ ガラスパイプ
１７ ガラス体
１８ ジャケット部
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 平野 正晃
神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電
気工業株式会社横浜製作所内
Ｆターム(参考） 2H050 AB05 AB05Z AB10 AB10Z
AC14 AC15
4G021 BA02 BA04 HA01 HA05
Claims (13)
- 【請求項１】 出発材としての出発パイプの内面にガラ
ス層を内付けしてガラスパイプを形成し、中心コア部及
びクラッド部の一部となるべきガラスロッドを前記ガラ
スパイプの内側に挿入し、前記ガラスパイプと前記ガラ
スロッドとをコラップスにより一体化してガラス体を形
成した後、該ガラス体の外側にジャケット部を設けてプ
リフォームを形成し、該プリフォームを線引きして光フ
ァイバを製造する光ファイバの製造方法であって、 前記出発パイプの肉厚を、４ｍｍ〜８ｍｍに設定するこ
とを特徴とする光ファイバの製造方法。 - 【請求項２】 出発材としての出発パイプの内面にガラ
ス層を内付けしてガラスパイプを形成し、中心コア部及
びクラッド部の一部となるべきガラスロッドを前記ガラ
スパイプの内側に挿入し、前記ガラスパイプと前記ガラ
スロッドとをコラップスにより一体化してガラス体を形
成した後、該ガラス体の外側にジャケット部を設けてプ
リフォームを形成し、該プリフォームを線引きして光フ
ァイバを製造する光ファイバの製造方法であって、 前記ガラスロッドの断面積Ｓ１と前記出発パイプの断面
積Ｓ２の比Ｓ１／Ｓ２を、０．０３〜０．３０に設定す
ることを特徴とする光ファイバの製造方法。 - 【請求項３】 前記ジャケット部の軟化点温度が、純シ
リカの軟化点温度よりも低いことを特徴とする請求項１
または２に記載の光ファイバの製造方法。 - 【請求項４】 前記ジャケット部が、０．１mol％〜
１．０mol％の濃度の塩素を添加したシリカガラスであ
ることを特徴とする請求項３に記載の光ファイバの製造
方法。 - 【請求項５】 前記ジャケット部が、０．１mol％〜
１．０mol％の濃度のフッ素を添加したシリカガラスで
あることを特徴とする請求項３に記載の光ファイバの製
造方法。 - 【請求項６】 前記線引き時の線引き張力が、６０ｇ〜
３５０ｇであることを特徴とする請求項1または２に記
載の光ファイバの製造方法。 - 【請求項７】 前記線引き時のプリフォームの被加熱部
分の温度が、１６００℃〜２２００℃であることを特徴
とする請求項1または２に記載の光ファイバの製造方
法。 - 【請求項８】 請求項１〜７のいずれか１項に記載の光
ファイバの製造方法により製造されたことを特徴とする
光ファイバ。 - 【請求項９】 波長１．５５μｍにおける分散値が（−
２００）ps／km／nm〜（＋４）ps／km／nmであることを
特徴とする請求項８に記載の光ファイバ。 - 【請求項１０】 波長１．５５μｍにおける分散スロー
プが（−２）ps／km／nm2〜（＋０．０２）ps／km／nm2
であることを特徴とする請求項８に記載の光ファイバ。 - 【請求項１１】 波長１．５５μｍにおける伝送損失
が、０．２ｄB／km〜０．５ｄB／kmであることを特徴と
する請求項８に記載の光ファイバ。 - 【請求項１２】 波長１．３８μｍにおけるOH基による
伝送損失の増加量が、０．４ｄB／km以下であることを
特徴とする請求項８に記載の光ファイバ。 - 【請求項１３】 前記ガラスロッドからなる断面積Ｓ３
と前記出発パイプからなる断面積Ｓ４の比Ｓ３／Ｓ４
が、０．０３〜０．３０であることを特徴とする請求項
８に記載の光ファイバ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002105263A JP2003300744A (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | 光ファイバの製造方法及び光ファイバ |
| PCT/JP2003/004267 WO2003084889A1 (fr) | 2002-04-08 | 2003-04-03 | Procede de fabrication d'une fibre optique et fibre optique ainsi obtenue |
| US10/479,852 US7010203B2 (en) | 2002-04-08 | 2003-04-03 | Optical fiber manufacturing method and optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002105263A JP2003300744A (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | 光ファイバの製造方法及び光ファイバ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003300744A true JP2003300744A (ja) | 2003-10-21 |
Family
ID=28786375
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002105263A Pending JP2003300744A (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | 光ファイバの製造方法及び光ファイバ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7010203B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003300744A (ja) |
| WO (1) | WO2003084889A1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012128250A1 (ja) * | 2011-03-23 | 2012-09-27 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ、光ファイバコードおよび光ファイバケーブル |
| WO2012121824A3 (en) * | 2011-03-04 | 2012-11-08 | Baker Hughes Incorporated | Fiber optic sealing apparatus |
| WO2012112532A3 (en) * | 2011-02-14 | 2012-11-15 | Adc Telecommunications, Inc. | Fiber optic cable with electrical conductors |
| JP2014219474A (ja) * | 2013-05-02 | 2014-11-20 | 日立金属株式会社 | 光ファイバ |
| US9316802B2 (en) | 2012-08-24 | 2016-04-19 | Commscope Technologies Llc | Optical fiber cable having reinforcing layer of tape heat-bonded to jacket |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8050964B2 (en) * | 1999-05-06 | 2011-11-01 | Etagz, Inc. | Computer-readable medium product label apparatus and method |
| EP1496023A4 (en) * | 2002-04-16 | 2011-06-22 | Sumitomo Electric Industries | METHOD FOR PRODUCING A LIGHT GUIDANCE FIBER FORM, METHOD FOR PRODUCING A LIGHT GUIDELINE AND LIGHT FIBER |
| US20070003198A1 (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-04 | Lance Gibson | Low loss optical fiber designs and methods for their manufacture |
| US9658395B2 (en) | 2014-10-21 | 2017-05-23 | Ofs Fitel, Llc | Low loss optical fiber and method of making the same |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62167235A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用母材の製造方法 |
| JPH09127354A (ja) * | 1995-08-31 | 1997-05-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 分散補償ファイバ |
| JP2001031438A (ja) * | 1999-06-18 | 2001-02-06 | Lucent Technol Inc | シリカベースの光ファイバの製造方法 |
| JP2001337245A (ja) * | 2000-05-29 | 2001-12-07 | Fujikura Ltd | 分散補償光ファイバ |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4345180B2 (ja) * | 2000-03-10 | 2009-10-14 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ母材製造方法、光ファイバ母材および光ファイバ製造方法 |
| AU783168B2 (en) * | 2000-06-23 | 2005-09-29 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber, optical transmission line and dispersion compensating module |
| JP2002082251A (ja) | 2000-06-23 | 2002-03-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ、光伝送路および分散補償モジュール |
-
2002
- 2002-04-08 JP JP2002105263A patent/JP2003300744A/ja active Pending
-
2003
- 2003-04-03 US US10/479,852 patent/US7010203B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-04-03 WO PCT/JP2003/004267 patent/WO2003084889A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62167235A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用母材の製造方法 |
| JPH09127354A (ja) * | 1995-08-31 | 1997-05-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 分散補償ファイバ |
| JP2001031438A (ja) * | 1999-06-18 | 2001-02-06 | Lucent Technol Inc | シリカベースの光ファイバの製造方法 |
| JP2001337245A (ja) * | 2000-05-29 | 2001-12-07 | Fujikura Ltd | 分散補償光ファイバ |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012112532A3 (en) * | 2011-02-14 | 2012-11-15 | Adc Telecommunications, Inc. | Fiber optic cable with electrical conductors |
| US9739966B2 (en) | 2011-02-14 | 2017-08-22 | Commscope Technologies Llc | Fiber optic cable with electrical conductors |
| WO2012121824A3 (en) * | 2011-03-04 | 2012-11-08 | Baker Hughes Incorporated | Fiber optic sealing apparatus |
| WO2012128250A1 (ja) * | 2011-03-23 | 2012-09-27 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ、光ファイバコードおよび光ファイバケーブル |
| JP2012212115A (ja) * | 2011-03-23 | 2012-11-01 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ、光ファイバコードおよび光ファイバケーブル |
| US8724954B2 (en) | 2011-03-23 | 2014-05-13 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber, optical fiber cord, and optical fiber cable |
| US9316802B2 (en) | 2012-08-24 | 2016-04-19 | Commscope Technologies Llc | Optical fiber cable having reinforcing layer of tape heat-bonded to jacket |
| JP2014219474A (ja) * | 2013-05-02 | 2014-11-20 | 日立金属株式会社 | 光ファイバ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US7010203B2 (en) | 2006-03-07 |
| US20040170365A1 (en) | 2004-09-02 |
| WO2003084889A1 (fr) | 2003-10-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8265439B2 (en) | Optical fiber preform | |
| US6263706B1 (en) | Method of controlling fluorine doping in soot preforms | |
| CN100403070C (zh) | 光纤、光纤预制棒及制造光纤预制棒的方法 | |
| US7089765B2 (en) | Method of making a jacketed preform for optical fibers using OVD | |
| US6422042B1 (en) | Rit method of making optical fiber having depressed index core region | |
| US7376316B2 (en) | Manufacturing method of optical fiber preform, manufacturing method of optical fiber, and optical fiber | |
| US9873629B2 (en) | Methods for producing optical fiber preforms with low index trenches | |
| EP0915064B1 (en) | Method of making segmented core optical waveguide preforms | |
| JP5590617B2 (ja) | コアから離隔した位置に低屈折率部を有する光ファイバ用母材の製造方法 | |
| WO2013021759A1 (ja) | 光ファイバ母材および光ファイバの製造方法 | |
| US9382149B2 (en) | Methods for producing a semifinished part for the manufacture of an optical fiber which is optimized in terms of bending | |
| EP3041801A2 (en) | Method of making updoped cladding by using silicon tertrachloride as the dopant | |
| AU1173199A (en) | Method of manufacturing optical fiber base material | |
| EP0718244B1 (en) | Method of making optical fiber having depressed index core region | |
| JP2003300744A (ja) | 光ファイバの製造方法及び光ファイバ | |
| US6904213B2 (en) | Step index optical fiber with doped cladding and core, a preform, and a method of fabricating such a fiber | |
| JP2002047027A (ja) | 光ファイバ用プリフォーム及びシングルモード光ファイバ | |
| WO2001072648A1 (en) | Substrate tube and process for producing a preform for an optical fiber | |
| KR100591085B1 (ko) | 싱글모드 광섬유용 모재의 제조 방법 | |
| JP7508233B2 (ja) | 光ファイバならびに光ファイバおよび光ファイバ母材の製造方法 | |
| US20240360024A1 (en) | Cleaning step to remove metals or metal oxides from porous glass body | |
| KR100800813B1 (ko) | 광섬유 모재의 제조 방법, 이 방법에 의해 제조된 광섬유모재 및 광섬유 | |
| JP4419339B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JP2003238181A (ja) | 光ファイバ及び光ファイバの製造方法 | |
| JP2005247634A (ja) | 光ファイバ用プリフォーム及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050126 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080409 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080730 |