JP4450752B2 - リソグラフィ処理セルの制御方法、デバイス製造方法、リソグラフィ装置、トラックユニット、リソグラフィ処理セル、およびコンピュータプログラム - Google Patents
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Description
放射線(例えばUVまたはEUV放射線)の投影ビームPBを供給する照明システム(照明装置)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持し、かつ、品目PLに対して正確にパターニング構造の位置決めを行う第一位置決め機構PMに連結を行った第一支持構造(例えばマスクテーブル/ホルダ)MTと、
基板(例えばレジスト塗布したシリコンウェハ)Wを支持し、かつ、品目PLに対して正確に基板の位置決めを行う第二位置決め機構PWに連結を行った第二支持構造(例えばウェハテーブル/ホルダ)WTと、
パターニングデバイスMAによって投影ビームPBに与えられたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、1つあるいはそれ以上のダイから成る)に描像する投影システム(例えば反射性投影レンズ)PLを有する。
ステップモードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは基本的に静止状態に保たれている。そして、投影ビームに与えたパターン全体が1回の作動(すなわち1回の静止露光)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
走査モードにおいては、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期走査する一方、投影ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPLの拡大(縮小)および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の(非走査方向における)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
別のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターニングデバイスを保持し、投影ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルWTを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
次にトラック装置を、それが実行するプロセスを説明することによって述べる。これは図2で図示されている。
Claims (26)
- リソセル装置構成のトラック装置を制御する方法で、前記リソセル装置構成が、基板を露光するように構成されたリソグラフィ露光装置、および露光前に基板を準備し、露光後に基板を現像するように構成されたトラック装置を含み、
前記リソグラフィ露光装置が、露光のために前記トラック装置から準備済みの基板を受け入れるのに使用可能になる時間を予測することと、
前記リソグラフィ露光装置が受け入れるために、基板の準備が間に合うよう、前記トラック装置が基板を準備する速度を調節することとを含み、
前記トラック装置は、準備済の基板を待機させておくバッファを管理し、該バッファに基板が入った場合は前記基板の準備に余分な遅延を生成するよう前記トラック装置が基板を準備する速度をさらに調整する方法。 - 前記トラック装置が基板を準備する速度が、前記トラック装置が準備のために基板を受け入れる時間を遅延させることによって調節される、請求項1に記載の方法。
- 前記予測された時間が、計算されたスケジュールに基づく、請求項1に記載の方法。
- 前記計算されたスケジュールがモデルに基づく、請求項3に記載の方法。
- 前記予測された時間が、統計学的データおよび実験データの少なくとも一方に基づく、請求項1に記載の方法。
- さらに、前記リソグラフィ露光装置が、露光済み基板を前記トラック装置に送出する時間を予測することを含む、請求項1に記載の方法。
- さらに、前記基板の露光を制御する制御装置を含み、前記制御装置が、前記予測された時間を提供する予測ユニットを有する、請求項1に記載の方法。
- さらに、前記トラック装置が基板を準備する速度を制御し、予測時間に応答して前記トラック装置を調節する制御装置を含む、請求項1に記載の方法。
- デバイス製造方法であって、
トラック装置で露光するために基板を準備することと、
関連するリソグラフィ露光装置を使用して、所望のパターンを前記準備済み基板に露光することと、
前記リソグラフィ露光装置が、露光のために前記トラック装置から準備済みの基板を受け入れるのに使用可能になる時間を予測することと、
前記リソグラフィ露光装置が受け入れるために、基板の準備が間に合うよう、前記トラック装置が基板を準備する速度を調節することとを含み、
前記トラック装置は、準備済の基板を待機させておくバッファを管理し、該バッファに基板が入った場合は前記基板の準備に余分な遅延を生成するよう前記トラック装置が基板を準備する速度をさらに調整するデバイス製造方法。 - 前記予測された時間が計算されたスケジュールに基づく、請求項9に記載のデバイス製造方法。
- 前記計算されたスケジュールがモデルに基づく、請求項10に記載のデバイス製造方法。
- 前記予測された時間が、統計学的データおよび実験データの少なくとも一方に基づく、請求項9に記載のデバイス製造方法。
- さらに、前記リソグラフィ露光装置が、露光済み基板を前記トラック装置に送出する時間を予測することを含む、請求項9に記載のデバイス製造方法。
- さらに、前記基板の露光を制御する制御装置を含み、前記制御装置が、前記予測された時間を提供する予測ユニットを有する、請求項9に記載のデバイス製造方法。
- さらに、前記トラック装置が基板を準備する速度を制御し、予測時間に応答して前記トラックを調節する制御装置を含む、請求項9に記載のデバイス製造方法。
- リソセル装置構成であって、
所望のパターンに基板を露光することによって、前記基板を露光するように構成されたリソグラフィ露光装置と、
露光前に基板を準備し、露光後に基板を現像するように構成された関連のトラック装置と、
基板の前記露光を制御し、前記トラック装置が基板を準備する速度を制御するように構成された制御装置とを有し、
前記リソグラフィ露光装置が、露光するために前記トラック装置から準備済み基板を受け取るよう使用可能になる時間を予測するように構成され、前記リソグラフィ露光装置が受け入れるために、基板の準備が間に合うよう、前記トラック速度を調節し、
前記トラック装置は、準備済の基板を待機させておくバッファを管理し、該バッファに基板が入った場合は前記基板の準備に余分な遅延を生成するよう前記トラック装置が基板を準備する速度をさらに調整するように構成されるリソセル装置。 - 前記制御装置によって提供された前記予測時間が、計算されたスケジュールに基づく、請求項16に記載のリソセル装置構成。
- 前記計算されたスケジュールがモデルに基づく、請求項17に記載のリソセル装置構成。
- 前記制御装置によって提供された前記予測時間が、統計学的データおよび実験データの少なくとも一方に基づく、請求項16に記載のリソセル装置構成。
- 前記制御装置がさらに、前記リソグラフィ露光装置が露光済み基板を前記トラック装置に送出する時間を予測するように構成される、請求項16に記載のリソセル装置構成。
- リソセル装置構成の少なくとも一部を制御するような構成である実行可能な命令が自身上に記録された、コンピュータが読み取り可能な記憶媒体を有するコンピュータプログラムであって、前記リソセル装置構成が、露光するために基板を準備し、露光した基板を現像するトラック装置と、基板を露光する関連のリソグラフィ露光装置とを有し、前記実行可能な命令が、
前記リソグラフィ露光装置が、露光のために前記トラック装置から準備済みの基板を受け入れるのに使用可能になる時間を予測することと、
前記リソグラフィ露光装置が受け入れるために、基板の準備が間に合うよう、前記トラック装置が基板を準備する速度を調節することとを含み、
前記トラック装置は、準備済の基板を待機させておくバッファを管理し、該バッファに基板が入った場合は前記基板の準備に余分な遅延を生成するよう前記トラック装置が基板を準備する速度をさらに調整するコンピュータプログラム。 - 前記トラック装置が基板を準備する速度が、前記トラック装置が準備のために基板を受け入れる時間を遅延させることによって調節される、請求項21に記載のコンピュータプログラム。
- 前記予測された時間が、計算されたスケジュールに基づく、請求項21に記載のコンピュータプログラム。
- 前記計算されたスケジュールがモデルに基づく、請求項23に記載のコンピュータプログラム。
- 前記予測された時間が、統計学的データおよび実験データの少なくとも一方に基づく、請求項21に記載のコンピュータプログラム。
- さらに、前記リソグラフィ露光装置が、露光済み基板を前記トラック装置に送出する時間を予測することを含む、請求項21に記載のコンピュータプログラム。
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