JP4444095B2 - 板状体製造装置および板状体製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の実施の形態1に係る板状体製造装置として、板状シリコン製造装置について説明する。図1に示すように、板状シリコン製造装置1では、シリコン融液7を貯留するための坩堝2を備えている。その坩堝2の周囲には、シリコン融液7の温度を維持するための加熱ヒータ3が配設されている。坩堝2は坩堝台6上に載置されて、坩堝昇降用台10によって上下方向に移動される。その坩堝台6の下方には断熱材8が配設されている。坩堝2の上方には、シリコン融液7に浸漬させて板状シリコン20を成長させるための基板12と、その基板12をたとえば矢印31に示すように搬送するための搬送部16が配設されている。基板12は基板固定軸14によって搬送部16と接続されている。
本発明の実施の形態2として、上述した板状シリコン製造装置による板状シリコンの製造方法について説明する。まず、板状シリコンの比抵抗が所望の濃度になるようにボロンの濃度を調整したシリコンの塊が、高純度黒鉛製の坩堝2に一杯になるまで充填される。次に、チャンバー内の真空引きを行ない、チャンバー内が所定の圧力にまで減圧される。その後、チャンバー内にアルゴン(Ar)ガスが導入され、以後、たとえば流量10L/minでチャンバーの上部からアルゴンガスを常時供給する状態とされる。このようにアルゴンガスを常時供給しつづけるのは、酸素を排除して清浄なシリコン湯面(シリコン融液の液面)を得るためである。
Claims (7)
- 所定の融液に所定の基板を浸漬することによって、基板上に板状体を成長させるための板状体製造装置であって、
基板を浸漬するための開口部を有し、前記融液を貯留する坩堝と、
前記坩堝の側面に配設された複数の第1加熱部と、
前記坩堝の前記開口部の開口端面の直上に配設された複数の第2加熱部と、
複数の前記第1加熱部および前記第2加熱部のそれぞれの温度を制御するための制御部と
を備えた、板状体製造装置。 - 前記坩堝の前記開口部の平面形状は矩形であり、
矩形の各辺に対応する前記開口端面のそれぞれに対して、少なくとも1つの前記第2加熱部が配設された、請求項1記載の板状体製造装置。 - 前記坩堝の前記開口部の平面形状は長方形であり、
長方形の長辺に対応する前記開口端面には、短辺に対応する前記開口端面よりも多くの前記第2加熱部が配設された、請求項2記載の板状体製造装置。 - 前記坩堝の前記開口部の平面形状は円形であり、
複数の前記第2加熱部のそれぞれは、円周方向に等間隔に配設された、請求項1記載の板状体製造装置。 - 所定の前記基板を前記融液に浸漬しながら移動させるための搬送部を備えた、請求項1〜4のいずれかに記載の板状体製造装置。
- 所定の融液に所定の基板を浸漬することによって、基板上に板状体を成長させるための板状体の製造方法であって、
所定の融液を貯留する坩堝として、坩堝の側面に複数の第1加熱部を配設し、坩堝の開口部の開口端面の直上に複数の第2加熱部を配設した坩堝を用い、あらかじめ、所定の基板に板状体を形成して板厚分布を測定し、測定された前記板厚分布に基づいて板状体の板厚が所定の板厚の範囲内に入るように、複数の前記第1加熱部および前記第2加熱部の温度をそれぞれを制御する工程を備えた、板状体の製造方法。 - 所定の前記基板を前記融液に浸漬させながら移動させる、請求項6記載の板状体の製造方法。
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