JP4426806B2 - 有機半導体センサー装置 - Google Patents

有機半導体センサー装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4426806B2
JP4426806B2 JP2003334020A JP2003334020A JP4426806B2 JP 4426806 B2 JP4426806 B2 JP 4426806B2 JP 2003334020 A JP2003334020 A JP 2003334020A JP 2003334020 A JP2003334020 A JP 2003334020A JP 4426806 B2 JP4426806 B2 JP 4426806B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic semiconductor
semiconductor layer
sensor
substrate
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2003334020A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004125791A (ja
Inventor
エイ. トーマス ダニエール
ジェイ. デブール ブルーノ
ジェイ. トーマス ピーター
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
STMicroelectronics lnc USA
Original Assignee
STMicroelectronics lnc USA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by STMicroelectronics lnc USA filed Critical STMicroelectronics lnc USA
Publication of JP2004125791A publication Critical patent/JP2004125791A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4426806B2 publication Critical patent/JP4426806B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L1/00Measuring force or stress, in general
    • G01L1/14Measuring force or stress, in general by measuring variations in capacitance or inductance of electrical elements, e.g. by measuring variations of frequency of electrical oscillators
    • G01L1/142Measuring force or stress, in general by measuring variations in capacitance or inductance of electrical elements, e.g. by measuring variations of frequency of electrical oscillators using capacitors
    • G01L1/146Measuring force or stress, in general by measuring variations in capacitance or inductance of electrical elements, e.g. by measuring variations of frequency of electrical oscillators using capacitors for measuring force distributions, e.g. using force arrays
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L1/00Measuring force or stress, in general
    • G01L1/14Measuring force or stress, in general by measuring variations in capacitance or inductance of electrical elements, e.g. by measuring variations of frequency of electrical oscillators
    • G01L1/142Measuring force or stress, in general by measuring variations in capacitance or inductance of electrical elements, e.g. by measuring variations of frequency of electrical oscillators using capacitors
    • G01L1/148Measuring force or stress, in general by measuring variations in capacitance or inductance of electrical elements, e.g. by measuring variations of frequency of electrical oscillators using capacitors using semiconductive material, e.g. silicon
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/403Cells and electrode assemblies
    • G01N27/414Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS
    • G01N27/4145Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS specially adapted for biomolecules, e.g. gate electrode with immobilised receptors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/403Cells and electrode assemblies
    • G01N27/414Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS
    • G01N27/4148Integrated circuits therefor, e.g. fabricated by CMOS processing
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06VIMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V40/00Recognition of biometric, human-related or animal-related patterns in image or video data
    • G06V40/10Human or animal bodies, e.g. vehicle occupants or pedestrians; Body parts, e.g. hands
    • G06V40/12Fingerprints or palmprints
    • G06V40/13Sensors therefor
    • G06V40/1306Sensors therefor non-optical, e.g. ultrasonic or capacitive sensing
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic radiation-sensitive element covered by group H10K30/00
    • H10K39/30Devices controlled by radiation
    • H10K39/32Organic image sensors
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Image Input (AREA)

Description

本発明は、大略、有機半導体物質を使用した装置及び装置の製造方法に関するものであって更に詳細には、検知機能を実施する有機半導体層を具備するセンサー装置に関するものである。
有機ポリマー物質が、可動電荷キャリアを発生する組成を有することが可能であり、有機半導体装置を製造することを可能とすることは公知である。米国特許第4,222,903号は、P型の電気的導電型を選択的に増加させるためにアクセプタードーパントでドープすることが可能なP型伝導型ポリアセチレン膜を開示している。半導体物質は、その多数可動電荷キャリアが「ホール」と呼ばれる正電荷キャリアである場合に「P型」の導電型であると言われる。半導体物質は、その多数可動電荷キャリアが負電荷キャリア即ち「電子」である場合に、「N型」の導電型であると言われる。
主にモノリシックの結晶シリコンである無機半導体物質は容易に製造され、従ってN型及びP型の両方の領域をシリコンチップ内に形成することが可能である。更に、無機半導体物質は有機半導体物質よりも一層高い電荷キャリアの移動度を有している。このような特性は、シリコンチップ内のN型及びP型領域から構成されるMOSFET等の種々の顕微鏡的要素を使用してシリコン半導体チップが高速で高密度の半導体アプリケーションを支配的なものとすることを可能とする。然しながら、有機半導体物質は、製造が比較的簡単であり且つ最終の装置コストがより低いという点においてシリコンと比較し利点を有している。有機半導体物質は、又、シリコンを基礎とした装置と比較してある機能的な優位点を有している。例えば、有機半導体装置はシリコン半導体装置の場合に一般的に使用されるのと同じ硬直的な密封した封止型パッケージを必要とするものではない。何故ならば、有機半導体装置は種々の汚染物に対する露呈からの損傷により影響を受けることはより少ないからである。
然しながら、米国特許第6,252,245号において観察されているように、開発されている制限された数の有機半導体物質はN型である。このことは、有機半導体装置の機能性を制限し且つそれらの実際的な適用例を制限していた。米国特許第6,252,245号において開示されている縮合環テトラカルボキシリックジイミド(fused−ring tetracarboxylic diimide)化合物はNチャンネル及びPチャンネルの両方の有機薄膜トランジスタ(OTFT)を実際的に製造することを可能とする蓋然性を有しており、それから相補的OTFT回路を構成することが可能である。このような又は同様の有機半導体技術を使用して製造される装置は、現在のシリコンを基礎とした半導体装置の高速スイッチング速度及び回路密度を必要とすることのない実際的な適用例を可能とする複雑な回路機能性を組込むことが可能である。
更に、有機半導体技術のある適用例は、実際的な装置を製造するためにP型物質を必要とするに過ぎない場合がある。例えば米国特許第4,222,903号において記載されているポリアセチレンのような物質について何十年もの古い作業が行われて以来、より高い性能のP型物質が当該技術において開示されている。1例として、米国特許第5,981,970号は比較的高い電界効果移動度を有するP型OTFTを製造するためにペンタセンを使用することを開示している。
上述した米国特許第4,222,903号、第5,981,970号、第6,252,245号は引用によって本明細書に取込む。これらの特許は、有機半導体物質の分野において近年において表われた広範な研究成果の代表的な数例に過ぎない。以下の本発明についての説明から明らかになる理由により、センサー装置の構成において有機半導体技術を使用することが望ましいものである。
米国特許第4,222,903号 米国特許第5,981,970号 米国特許第6,252,245号
本発明は、以上の点に鑑みなされたものであって、上述した如き従来技術の欠点を解消し、有機半導体物質を使用して製造したセンサー装置を提供することを主要な目的とする。
本発明に基づくセンサー装置は、有機半導体物質からなる層内に形成した単一のセンサー要素又は複数個のセンサーセルからなるアレイを有することが可能である。該層は、片側に検知表面を有し且つ反対側にコンタクトを有することが可能である。センサー要素によって検知された条件又はアレイ内の複数個のセンサーセルの各々によって検知された条件を決定するために該コンタクトと通信を行う手段が設けられている。
好適な実現例においては、本発明は、センサー要素が空乏領域の寸法と共に変化する容量を有する有機半導体センサー装置を提供するものである。該容量は、センサー要素の検知表面上又はその近くに存在することのあるオブジェクト即ち物体に応答して変化することが可能であり、それにより空乏領域が変調される。
該センサー要素がアレイ内に配列されている多数のこのような要素又はセルのうちの1つである適用例においては、一度に該アレイのうちの1個のセンサーセルを選択し、該選択したセンサーセルの容量値を検知し、且つその容量値をシステムプロセッサへ通信する回路が設けられる。該システムプロセッサは、経時的シーケンスで該アレイのセンサーセルのうちの全てに対する容量値を受取り且つその容量値データを処理して検知すべきオブジェクト(物体)の特性を決定する。この適用例は指紋検知器において使用するのに適している。
好適な製造方法においては、柔軟性のあるポリマー基板上に有機半導体層を形成する。該有機半導体層を支持する基板の上表面上に剥離可能な膜を設ける。該有機半導体層の露出した表面上にコンタクトをパターン形成し、次いで、それを反転させて第二の永久的な基板上に装着させる。次いで、該柔軟性のあるポリマー基板を剥離し且つ廃棄して、有機半導体層の検知表面を露出させたままとする。
別の適用例によれば、有機半導体層の上に反応性界面層を形成することが可能である。該反応性界面層内に包含される化学物質を供給して、反応性界面層の露出した表面と接触するテスト媒体における物質に対して選択的に反応させる。該反応性界面層内の化学反応がその中における電荷における変化を発生し、それをその下側の有機半導体層内のセンサー要素によって検知する。本発明のこの適用例は、例えば血糖センサー等の廉価で使い捨て可能な生化学的センサーとして使用するのに適している。
図1を参照すると、本発明に基づくセンサー要素が大略参照番号10で示されている。センサー要素10は、検知装置における単一のこのような装置として、又はセンサー装置の一部を形成するアレイ内に組込んだこのような多数の要素のうちの1つとしての両方の有用な適用例を有することが可能である。要素10は、負及び/又は正の可動電荷の領域で用意することが可能な例えばペンタセン等の任意の適宜の有機半導体物質を有することが可能な有機半導体層12を包含している。その最も簡単な形態においては、有機半導体層12は、層12がバイアスされていない状態にある場合に、正の多数の可動の静電荷キャリアの一様な分布を与えるために化学的に構成することが可能である。センサー要素10は、いずれかの導電型の多数可動電荷キャリアを有する有機半導体物質から構成することが可能である。図1は、P型の導電型物質の非一様な分布を有する構成を示しており、その場合に、有機半導体層12の上部表面即ち上側表面から下方へ延在する比較的厚い上部部分14は軽い濃度のP型物質を有しており、且つ層12の下部表面即ち下側表面に沿っての比較的薄い下部部分16は、層12の下部表面上のコンタクトの間の導電度を向上させるために高い濃度のP型物質を有している。この非一様なP型構成の形成において、層12は一体的に接着させた2個又はそれ以上の別々に形成した副次的な層からなる複合構造を有することが可能である。
層12は検知表面18を画定する上部表面を有しており、検知表面18は、検知すべき物体又は流体と接触されるか、又は直接的な接触なしで検知されるべき物体と近接状態とされる。センサー要素10の別の実施例においては、検知表面18の上に薄い絶縁膜(不図示)を付加することが可能であり、その場合には、検知動作は上側に存在する薄い絶縁膜を介して行われる。層12の底部表面20に固定される導電性プレートP1及びP2は、夫々の端子22及び24において印加され且つ検知される入力及び出力信号に対するコンタクトとして作用する。ゲート電極Gも導電性プレートP1及びP2の間の底部表面20に固定されている。プレートP1及びP2及びゲート電極Gは適宜の金属、金属合金、又はその他の導電性物質を有することが可能である。銀が適切な金属である。好適にはトランジスタとして実現されるスイッチ26は、ゲート電極Gを電圧供給源28へ選択的に接続させる手段を提供している。層12が正の多数可動電荷キャリアを包含する実現例においては、電圧供給源28は正の電圧供給源である。センサー要素10の種々の適用例の以下の説明から理解されるように、より複雑な構成が本発明によってもくろみられており、その場合に、付加的な層及び導電性、半導体、又は絶縁性物質から形成されるコンポーネント部分を付加することが可能である。
センサー要素10は2つの動作モードを有している。第一動作モードは導通モードであり、その場合に、ゲート電極Gはバイアスされることがなく、スイッチ26はその開放即ちオフ条件にあり、従ってゲート電極Gを電圧供給源28から切断している。このモードにおいては、プレートP1へ印加される入力信号は、層12の底部表面20近くのP型物質を介してゲート電極Gへ、次いで、P型物質を介してプレートP2へ通信させることが可能である。センサー要素10が以下に説明するように二次元アレイにおける多数のこのような要素又はセルのうちの1つである適用例においては、端子22及び24は相互接続されたセルを介して導通経路を与えるために隣接するセンサーセルのプレートへ接続させることが可能である。理解されるように、プレートP1及びP2は接合電界効果トランジスタ(JFET)のドレインコンタクト及びソースコンタクトとしてのみならずコンデンサプレートとしても作用する。JFETは、図1に示したようにゲートがバイアスされていない場合に、通常完全にオンしている。
図2及び3は、2つの動作モードのうちの2番目である検知モードにおいて動作しているセンサー要素10を示している。検知モードにおいては、スイッチ26は閉じた状態即ちオン状態にあり、ゲート電極Gを正の電圧供給源28によりバイアスされ即ち付勢される。ゲート電極G上の正の電圧バイアスは層12内に拡大する空乏領域30を形成し、JFETトランジスタをそのピンチオフ条件に向けて駆動させる。
図2及び3の例においては、検知要素12は検知表面18と接触する場合のあるオブジェクト即ち物体を検知すべく適合されている。検知表面18が図2に示したようにこのような物体によって接触されていない場合には、ゲート電極G上の正の電位は層12内へ上方向へかなりの距離にわたり延在する空乏領域を形成する。プレートP1へ印加される例えば方形波パルス等の入力信号はゲート電極G上方の層12の空乏領域が形成されていない部分を介して容量結合によりプレートP2へ伝播する。プレートP2における出力信号は、センサー要素10において小さな容量条件が存在することを決定するために量子化させることが可能であり、従って、物体が検知表面18と接触していないことを表わす。
図3は物体32がゲート電極G上方の検知表面18と接触している場合の検知モードにおけるセンサー要素を示している。例えば、物体32はバクテリアの単一のセルとすることが可能である。物体32は該物体の下側の層12の領域内に正の電荷を吸引させることによりセンサーセル容量を変調させ、空乏領域30の高さ寸法をゲート電極Gへ向って下方向へ収縮させる。従って、入力パルスがプレートP1へ印加され且つ物体32等の物体が検知表面18と接触している場合には、比較的大きな容量が出力プレートP2において検知される。
図4及び5はセンサーアレイ40の一部を示しており、その場合に、4個のセンサーセルSが該アレイを介して走行する2個の隣接する行及び2個の隣接する列内に示されている。アレイ40は有機半導体層42(図5において断面で示してある)内に構成されており、それは、好適には、層42にわたって一様に分布された軽い濃度のP型の導電型物質によって特性付けられている。上部平坦表面44及び下部平坦面表面46は平行な面として互いに離隔されており、層42の厚さを画定している。基板(不図示)が以下に説明する態様で層12を支持している。有機半導体層42の下部表面即ち下側表面上に導体からなるパターンが設けられている。各センサーセル位置において、導体からなるパターンが2個のコンデンサプレートP1及びP2を画定しており、ゲートラインGLが該プレートの間を垂直に走行している。行ラインセグメントRLが行内のセンサーセルSを相互接続し、従って入力信号を各行へ印加させ且つ該行に沿って通信させ(例えば、左側から右側へ)、次いでアレイ40の右側極限部において検知される。
オプションの特徴として、セルSの行及び列の間においてアレイ40を介して周期的に走行させて接地した表面グリッド48を設けることが可能であり、好適には、有機半導体層42の上部表面44内に選択的に導入させた高度にドープしたP型ラインによって実現することが可能である。指紋センサーとして使用される場合には、以下に説明するように、接地した表面グリッド48は上部表面44における一定の基準電圧を提供し、アレイ40のセンサーセルSの各々の上方の指の皮膚の近接度を量子化する能力を改善する。接地した表面グリッド48は、オプションとして、静電放電(ESD)保護回路(不図示)へ接続させることも可能である。
図6は4個の行及び4個の列内に配列された16個のセンサーセルS11乃至S44を具備するセンサーアレイ60を示している。列選択トランジスタQ1,Q2,Q3,Q4が制御ユニット62の制御下で一度に1個の列づつ列を選択的に付勢する。入力パルス発生器64が行の各々へ周期的にパルス信号(例えば、方形波パルス)を送る。制御ユニット62からパルス発生器64へのライン68が行へ印加されるパルスのタイミングを制御する。行選択トランジスタT1,T2,T3,T4が一度に1つの行を制御ユニット62内の検知回路と選択的に相互接続させ、従って発生器64からの入力パルスは一度に1つの行を介してのみ伝播する。従って、前述したようにセンサーアレイ上方で検知される物体を表わす容量値を決定するために単一のセンサーセルをアドレスすることが可能である。検知された容量のデジタル値を制御ユニット62から適宜のI/Oバスを介してシステムプロセッサ(不図示)へ送信することが可能である。
列選択トランジスタQ1,Q2,Q3,又はQ4のうちの1つがターンオンされると、電圧供給源V+からの電圧がその選択された列へ印加される。抵抗とすることが可能な負荷要素Rがその選択された列を電圧供給源V+の正の電位近くの電圧に維持させる。該負荷要素は共通接地接続66を有しており、選択されなかった列を接地へ放電させる。従って、図6のアレイ60における図4のセンサーセル実現例を使用して、選択された列の各セルにおけるJFETは印加された電圧V+によってピンチオフに向かって駆動され、一方選択されなかった列の各セルにおけるJFETはその通常完全にオンしている状態に維持される。
図7は図6のアレイの拡大したものを示している。図7において、M個の行とN個の列とが設けられており、センサーセルS11乃至SMNからなる矩形状のアレイ70を与えている。M=Nである場合には、そのアレイは正方形である。例えば、指紋検知器において、矩形状又は正方形の配置において非常に多数のセンサーセルを使用する場合がある。典型的な指紋センサーアレイは、例えば、256×256個のセルを有する場合がある。各セルは各側部が20ミクロンと100ミクロンとの間の大きさの正方形の面積を占有する場合がある。
制御ユニット72はアレイ70の動作及び入力パルス信号をアレイ70の行へ周期的に印加されるパルス発生器74を制御する。列選択回路76は電圧供給源V+からの高電圧電位を一度にアレイ70の1つの選択した列へ印加し、制御ユニット72の制御下において列を介してシーケンス動作する。行選択回路78は選択した行及び列に対応するセンサーセルの容量を検知するために一度に1つの行を選択する。負荷要素80がアレイ70の底部に設けられており、図6に関連して上述したように、一度に1つの選択した列のみが高電圧電位V+へ充電されることを確保する。
図7に基づいて実現された256×256のセル指紋センサー検知器において、制御ユニット72を夫々の選択回路76,78へ接続させるバス82及びバス84におけるライン数を減少させるために、列選択回路76及び行選択回路78内にアドレスデコーダー回路(不図示)を包含させることが望ましい。特に、各バス82及び84における8本のアドレスラインは、256×256個のセルからなるアレイ内の65,536個のセルのうちの特定のセルの列及び行のアドレスをエンコードすることが可能である。アレイ70の選択したセルからの可変容量信号がライン86上を行選択回路78を介して制御ユニット72へ通信される。制御ユニット72はライン86上の信号を受取る検知及び増幅回路(不図示)を包含することが可能である。選択されたセルの検知された可変容量に対応する増幅された出力は、アナログ・デジタル変換器(不図示)によってデジタル出力へ変換させることが可能であり、次いで、更なる処理及び画像発生のために入力/出力バス88を介してシステムプロセッサ(不図示)ヘ送信することが可能である。このような増幅、A/D変換、及び信号送信技術は指紋検知器技術において公知である。
図8及び9はアレイ内の多数のセルを有する指紋検知器における単一のセンサー要素又はセル90の動作を示している。センサーセル90は上述した図1−3のセンサー要素10に対応することが可能であり、且つ図4及び7のアレイ40及び70と同様のアレイにおいて動作することが可能である。指92の一部がセル90の上方に示されている。図8及び9の両方において、ゲートGは正の電圧で付勢されて、下部表面20からゲートGの上方へ延在する有機半導体層12内に空乏領域30を発生させる。図8において、指紋の他に94はセンサーセル90の上方に表われており、従って空乏領域30の上方に画定されるJFETチャンネル98は比較的に幅狭である。図9において、指紋の山96がセンサーセル90の上方で検知表面18と接触しており、空乏領域30を変調させて空乏領域と上部表面18との間に比較的幅広のJFETチャンネル98を与えている。この空乏領域の変調の程度は、プレートP1へパルスを印加させ且つプレートP2において該パルスの送信を検知することによって検知することが可能であり、JFETチャンネルの容量を決定することが可能である。比較的幅広の高い寸法を有するチャンネルは比較的幅狭の高さの寸法を有するチャンネルよりもより大きな容量を示すものである。図7に示したセンサーアレイの単一の列のみが一度に付勢されるので、1つの行に沿っての入力パルスの通信は単一の選択したセンサーセルにおける容量条件の関数である出力を与える。
図10はセンサー装置100の1つの実現例を示しており、その場合に、有機半導体層102が基板104の上に設けられており、コンパニオンのシリコンチップ106が有機半導体層102から横方向に離隔して設けられている。有機半導体層102の周辺端部を基板104へ固定するために支持フレーム108が使用されており、それは図4及び5を参照して上述したオプションとしての接地した表面グリッドに対する接続を包含することが可能である。基板104は有機半導体層102をコンパニオンシリコンチップ106と、及びシステムプロセッサ(不図示)へI/O信号を通信するために基板104の周辺部におけるコンタクト110と相互接続するための相互接続回路(不図示)を包含している。このような相互接続技術はパッケージング及びPSボード技術において公知である。コンパニオンシリコンチップ106は複雑な制御機能を実施し且つ例えば図7の256×256のセルアレイ等の複数個のセンサーセルからなるアレイを包含する有機半導体層102と通信を行う。図10の構成は保護ハウジング(不図示)内にパッケージさせることが可能であり、該保護ハウジングは、有機半導体層102の上部表面即ち上側表面がその検知機能を実施しながらシリコンチップ106を損傷から保護する。
図11乃至15は上述したように有機半導体層内に形成した複数個のセンサーセルからなるアレイを具備するセンサー装置を製造するステップからなるシーケンスを示している。図11において、使い捨て可能で柔軟性のあるポリマー基板120に剥離可能な上部表面膜122を設ける。次に、図12に示したように、該剥離可能な膜122の上に有機半導体層124を形成し、該層124は該剥離可能な膜と接触する主表面及び該剥離可能な膜と反対側の露出された主表面を具備している。層124は、好適には、20乃至25ミクロンの厚さである。剥離可能な膜122は有機半導体層124に対するよりも使い捨て可能な基板120に対してより強く接着する。次に、図13に示したように、有機半導体層124の上に金属導体126からなるパターンを形成する。このことは、従来のホトリソグラフィ技術又はその他の適宜のコーティング及び印刷技術を使用して達成することが可能である。次に、図14に示したように、相互接続回路を具備する永久基板128を設け、それは有機半導体層導体126と接触するための上部表面コンタクト130、及びコンパニオンシリコンチップ又は外部システムプロセッサ(不図示)と相互接続させるために使用することが可能な金属相互接続ライン132を包含している。図14において、図13の構成を反転させ且つ永久基板128の上に装着させ、従って有機半導体層124の金属パターン126の導体が永久基板128の上部表面上のコンタクト130によって接触される。図15に示したように、図13の構成を反転させ且つ永久基板128の上に装着させた後に、接着させた剥離可能な膜122を具備する使い捨て可能な基板120を有機半導体層124から剥離させてその検知表面134を露出させる。次いで、この構成を封止させるか又はパッケージ化させて最終的なセンサー装置を形成し、検知表面134を露出させたままとする。
図16は図10の装置100の変形例における装置140を示しており、その場合に、シリコンチップは有機半導体層の下側に収納されている。図16において、有機半導体層142は上部基板144上に装着されており、該上部基板はコンパニオンシリコンチップ148を包含する内部凹所を包含する環状支持体146上に装着されている。これらの要素は例えばPCボード等の下部基板150上に装着される。上部及び下部基板144及び150は従来の相互接続回路(不図示)を包含している。導体152は上部基板144を下部基板150と相互接続させるために環状支持体146の内側側壁に沿って配設させることが可能である。システムプロセッサ(不図示)との通信は、下部基板150の周辺部におけるコンタクト154を介して行うことが可能である。
図10の実施例におけるように、図16の実施例のコンパニオンシリコンチップ148は有機半導体層142内に設けられているセンサーアレイへ及びそれから信号を通信させるためのアドレス用、制御及び検知用の回路の全てを包含することが可能である。例えば、図7に示した列選択回路、行選択回路、負荷要素、入力パルス発生器、制御ユニットを図10又は16のいずれかの実施例におけるシリコンチップ内に包含させることが可能である。このことは上述した機能を実施することが可能なコンパニオンシリコンチップに対して必要な面積よりも面積がより大きな有機半導体層を製造する製造プロセスを簡単化させる。センサーアレイ全体がシリコン内において製造される従来のシリコンを基礎とした指紋検知器と比較して、センサーアレイを包含する比較的大きな有機半導体層を具備するコンパニオンチップとして小型のシリコンチップを使用することはかなりのコストの節約を達成する。更に、有機半導体層は、従来の指紋検知器において使用される比較的脆性のシリコンチップよりもより耐久性がある。理解されるように、図10及び16の装置は、損傷された場合に有機半導体層102及び142を置換することによって修復することが可能であり、より高価なコンパニオンシリコンチップを継続して使用することを可能とする。
図17は本発明の更に別の変形実施例を示しており、その場合には、センサー装置は大略参照番号160で示してある。図17において、2個の有機半導体層162及び164が互いに積層して設けられており、それらの間に電気的通信状態を与えている。前述したようなセンサーセルアレイが上部層162内に設けられている。該上部層のすぐ下側に下部層164が設けられており、それは前述したコンパニオンシリコンチップのタイミング、制御、検知及びプロセッサ論理の全てを実施している。従って、より複雑な有機半導体層の製造が図17の実施例の場合に必要とされ、且つ有機半導体層164内に負(N型)及び正(P型)の両方の電荷キャリアの領域を選択的に形成することが可能である進化した処理技術を必要とする。更に、金属相互接続導体を上部層162の下部表面上及び下部層164の上部表面及び下部表面の両方の上に設けることが可能である。下部層164の金属相互接続導体は基板166の表面上のコンタクトと相互接続させることが可能であり、基板166は、更に、その周辺部においてシステムI/Oコンタクト168を提供している。フレーム170は有機半導体層162及び164を基板166へ固定させる。
図18は本発明の更に別の実施例180を示しており、その場合に、図17の実施例160を修正して上部有機半導体層184の上部表面上に反応性界面層182が設けられている。この場合には、例えば図6の16個のセルからなるセンサーアレイ等の複数個のセンサーを上部有機半導体層184内に形成し且つ図6に示したものと同様の制御ユニット及び選択トランジスタによって選択的にアクセスすることが可能である。一方、上部層184内に単一センサーセルを設けることが可能である。層184内のセンサーセル又はセンサーアレイと相互作用を行う制御ユニット及び関連する機能は、下部有機半導体層186内に設けることが可能である。下部有機半導体層186の底部上の導体は基板188上のコンタクトと通信を行う。反応性界面層182はそれと接触してテスト媒体(気体又は液体)に対して露出させることが可能な上部表面190を有している。基板188は基板188の周辺部におけるコンタクト192を介して外部システムプロセッサ(不図示)と通信を行う。
反応性界面層182は複数個の領域を包含することが可能なポリマーを有しており、各領域は上部有機半導体層184におけるアレイ内の対応するセンサーセルの上方に位置されている。反応性界面層182における各領域は層182のポリマー内に包含される特定の化学物質を包含しており、その特定の化学物質は反応性界面層182の上部表面190と接触するテスト媒体内の物質に対して選択的に反応性を有している。例えば、反応性界面層182の選択した領域内に異なる酵素を設けることが可能である。動作において、各酵素はテスト媒体内の特定の物質との反応に対して触媒作用を行う。この反応が発生すると、反応性界面層182の孤立された領域における電荷電位における変化が発生し、それは反応性界面層のその特定の領域のすぐ下側のセンサーセルによって容量的に検知することが可能である。このように、種々の特定の物質の存在をテスト媒体において検知することが可能である。
一方、上部有機半導体層内に単一センサーセルが設けられている場合には、例えばグルコースオキシダーゼ等の単一の酵素を反応性界面層182内に設けることが可能である。該酵素がテスト媒体中の例えばグルコース等の特定の物質と反応すると、反応性界面層における電荷変化がセンサーセルによって検知される。この実施例は単一テスト手順の後に廃棄することが可能な例えば血糖センサー等の有用な生化学的センサー装置を提供するものである。
以上、本発明の具体的実施の態様について詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ制限されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱することなしに種々の変形が可能であることは勿論である。
本発明に基づく有機半導体物質からなる層内に形成されたセンサー要素の概略断面図。 検知要素がその検知表面と接触している物体の欠如を検知する図1と同様なセンサー要素の概略断面図。 センサー要素の検知表面と接触している物体がそれに対するセンサー要素の応答を示している図2と同様の概略断面図。 行及び列の形態に配列させたセンサーセルからなるより大きなアレイにおける4個のセンサー要素即ちセルの概略底部平面図。 図4における5−5線に沿って取った図4の装置の一部の概略断面図。 本発明の1実施例に基づく16個のセルからなるセンサーアレイを示した概略ブロック図。 本発明の別の実施例に基づくセンサー装置のM個の行とN個の列のセンサーセルからなるアレイを示した概略ブロック図。 指紋の谷がセンサーセルの上方にある状態の人の指の一部が装置の上部表面と接触している状態を示した図7のアレイのセンサーセルの概略断面図。 指紋の山がセンサーセル上方の装置の上部表面と接触している状態の図8と同様の概略断面図。 検知機能を実施するための有機半導体層及び下側に存在する基板により与えられる相互接続回路を介して制御及び通信機能を実施するためのコンパニオンシリコンチップを具備する指紋センサー装置を示した概略断面図。 有機半導体層内に形成されるセンサーセルからなるアレイを有することが可能なセンサー装置の製造における1つの段階における構成を示した概略断面図。 有機半導体層内に形成されるセンサーセルからなるアレイを有することが可能なセンサー装置の製造における1つの段階における構成を示した概略断面図。 有機半導体層内に形成されるセンサーセルからなるアレイを有することが可能なセンサー装置の製造における1つの段階における構成を示した概略断面図。 有機半導体層内に形成されるセンサーセルからなるアレイを有することが可能なセンサー装置の製造における1つの段階における構成を示した概略断面図。 有機半導体層内に形成されるセンサーセルからなるアレイを有することが可能なセンサー装置の製造における1つの段階における構成を示した概略断面図。 コンパニオンシリコンチップが有機半導体層の下側に装着されている場合の図10の装置と同様の指紋センサー装置を示した概略断面図。 コンパニオンシリコンチップを上部有機半導体層下側に設けた第二の有機半導体層で置換させた図16の装置と機能的に同様の指紋センサー装置を示した概略断面図。 その表面と接触する化学物質を検知するための上部反応性界面層を包含するセンサー装置の別の実施例を示した概略断面図。
符号の説明
10 センサー要素
12 有機半導体層
14 比較的厚い上部部分
18 検知表面
20 底部表面
22,24端子
26 スイッチ
28 電圧供給源
P1,P2 導電性プレート
G ゲート電極

Claims (20)

  1. センサーにおいて、
    検知表面を具備しており、前記検知表面下側の領域にわたって分布されている第一導電型の多数可動電荷キャリアを有している物質からなる有機半導体層、
    前記検知表面から離隔されている第一導電性プレート、
    前記検知表面から離隔されており且つ前記第一導電性プレートから離隔されている第二導電性プレート、
    前記第一導電性プレートと第二導電性プレートとの間に介在されているゲート電極、
    を有しており、前記ゲート電極が前記ゲート電極に印加される電圧バイアスに応答して前記検知表面下側の前記有機半導体層内に空乏領域を導入し、前記空乏領域の寸法は前記検知表面に近接した物体の存在に応答して変化し、前記寸法における変化は前記検知表面下側の前記有機半導体層を介して通信される信号を検知することにより検知可能であ且つ
    前記有機半導体層がP型の導電型物質の非一様な分布を有しており、前記層は前記検知表面から下方へ延在する軽い濃度のP型物質を有する比較的厚い上部部分と、前記比較的厚い上部部分から前記検知表面と反対側の前記層の下側表面へ下方へ延在する重い濃度のP型物質を有する比較的薄い下部部分とを包含している、
    ことを特徴とするセンサー。
  2. 請求項1において、前記第一導電型がバイアスされていない状態において正の多数可動電荷キャリアの一様な分布により特性付けられるP型であることを特徴とするセンサー。
  3. センサーにおいて、
    検知表面を具備しており、前記検知表面下側の領域にわたって分布されている第一導電型の多数可動電荷キャリアを有している物質からなる有機半導体層、
    前記検知表面とは反対側の前記有機半導体層の底部表面上に設けられている第一導電性プレート、
    前記底部表面上に設けられており且つ前記第一導電性プレートから離隔されている第二導電性プレート、
    前記第一導電性プレートと第二導電性プレートとの間に介在されており且つ前記底部表面上に設けられているゲート電極、
    を有しており、前記ゲート電極が前記ゲート電極に印加される電圧バイアスに応答して前記検知表面下側の前記有機半導体層内に空乏領域を導入し、前記空乏領域の寸法は前記検知表面に近接した物体の存在に応答して変化し、前記寸法における変化は前記検知表面下側の前記有機半導体層を介して通信される信号を検知することにより検知可能である、
    ことを特徴とするセンサー。
  4. 有機半導体装置において、
    その層の厚さを画定する平行な面に離隔されている上部及び下部の平坦な表面を有する有機半導体層、
    行及び列の形態に配列されたセンサーセルからなるアレイを画定する前記下部表面上の導体パターン、
    を有しており、各セル位置における前記導体は第一及び第二プレートと前記プレート間のゲートとを包含しており、各セルのゲートは1つの選択された列の全てのゲートへ印加される電圧バイアスに応答して前記有機半導体層内に空乏領域を導入し、前記空乏領域は前記下部表面から上方へ延在し、前記平行な面に対して垂直な方向における前記空乏領域の寸法は前記上部表面に隣接する物体の存在に応答して変化し、前記寸法の変化の程度は前記層の前記上部表面下側の前記有機半導体層を介して通信される信号を検知することによって検知可能であり、前記信号は1つの選択された行のセルを介して通信され、前記選択された列及び選択された行に対応する前記アレイの1個のセルのみが一度に選択される、ことを特徴とする有機半導体装置。
  5. 請求項4において、前記有機半導体層が、前記層がバイアスされていない状態にある場合に、各センサーセルのプレート上方の正の多数可動電荷キャリアの一様な分布によって特性付けられるP型の導電型物質を有していることを特徴とする有機半導体装置。
  6. 請求項4において、更に、
    制御ユニット、
    前記選択された列のセルのゲート上方に空乏領域を導入させるために前記選択された列のセルのみを電圧供給源へ接続させるために前記制御ユニットに応答して動作する列選択回路、
    前記選択された行を介して通信される信号を検知するために選択された行のみを前記制御ユニットへ接続させるために前記制御ユニットに応答して動作する行選択回路、
    を有していることを特徴とする有機半導体装置。
  7. 請求項6において、更に、
    前記行へ接続されており、選択された行を介して通信される信号を発生するために前記制御ユニットの制御下で動作するパルス発生器、
    列を接地接続へ接続して選択されなかった列のセルのゲートを接地へ放電させ、一方選択された列のセルのゲートを電圧供給源によって付勢させる各列に対しての負荷要素、
    を有していることを特徴とする有機半導体装置。
  8. 指紋検知器において、
    内部にセンサーセルからなるアレイが形成されており、上部検知表面を具備すると共に下部表面上に導体を具備している有機半導体層、
    前記有機半導体層がその上に設けられておりコンタクトが設けられた上部表面を具備している基板、
    前記有機半導体層に近接して支持されており且つそれと電気的通信状態にあるシリコン半導体チップ、
    を有しており、前記基板の前記上部表面上の選択したコンタクトが前記有機半導体層の前記下部表面上の導体と接続していることを特徴とする指紋検知器。
  9. 請求項8において、前記有機半導体層が前記検知表面において内部に配設されている接地されたグリッドを包含していることを特徴とする指紋検知器。
  10. 請求項9において、更に、前記有機半導体層を前記基板へ固定し且つ前記グリッドに対しての接続を与えるために前記有機半導体層の周辺端部におけるフレームを有していることを特徴とする指紋検知器。
  11. 請求項8において、前記シリコン半導体チップが前記基板の前記上部表面上に装着されていることを特徴とする指紋検知器。
  12. 請求項8において、更に、
    前記有機半導体層がその上に装着されている前記基板の下側に配設されている第二基板、
    前記第二基板上に装着されており且つそれら2つの基板を一体的に固定する環状支持体、
    を有しており、前記環状支持体が前記シリコン半導体チップを包含する内部凹所を具備しており、前記シリコン半導体チップが前記有機半導体層の下側の前記第二基板上に装着されていることを特徴とする指紋検知器。
  13. センサー装置の製造方法において、
    柔軟性のあるポリマー基板を用意し、
    前記柔軟性のあるポリマー基板の上部表面上に剥離可能な膜を形成し、
    前記剥離可能な膜の上に前記剥離可能な膜と反対側に露出された主表面を具備している有機半導体層を形成し、
    前記有機半導体層の前記露出された主表面の上に導体からなるパターンを形成し、
    その上部表面上にコンタクトを具備する永久基板を用意し、
    前記有機半導体層上の導体からなるパターンの選択した導体が前記永久基板の上部表面上のコンタクトと接触するように配向された前記永久基板上の前記剥離可能な膜によって固定された前記柔軟性のあるポリマー基板を前記有機半導体層に装着し、
    前記剥離可能な膜が接着された前記柔軟性のあるポリマー基板を前記有機半導体層から除去する、
    ことを特徴とする方法。
  14. センサー装置において、
    その上にコンタクトを具備する上部表面を具備している基板、
    前記基板の前記上部表面上に装着されており且つそれと電気的に相互接続されている下部有機半導体層であって、その中に制御回路を画定するN型及びP型導電型の領域を包含している下部有機半導体層、
    前記下部有機半導体層の上側に装着されており且つそれと電気的に相互接続されており、その中にセンサーセルからなるアレイを包含している上部有機半導体層、
    を有していることを特徴とするセンサー装置。
  15. 請求項14において、前記上部有機半導体層が前記上部有機半導体層にわたってのP型の導電型物質により特性付けられることを特徴とするセンサー装置。
  16. 請求項14において、前記センサーセルからなるアレイは前記上部有機半導体層の検知表面と接触している人間の指の皮膚の存在を検知すべく適合されており、前記センサーセルは指紋の山と指紋の谷とを区別することが可能であることを特徴とするセンサー装置。
  17. 請求項14において、各センサーセルはそこにおいて接合電界効果トランジスタを与える構成とされており、前記トランジスタはソースコンタクトとドレインコンタクトとそれらの間のゲート電極とを具備しており、前記ゲート電極は、前記ゲート電極が電源電圧へ接続されることにより付勢される場合に、前記センサーセルを検知モードで動作させるべく前記ゲート電極と前記電源電圧との間に介在するスイッチをオンさせて選択的に付勢可能であり、各センサーセルは前記検知モードにおいてJFETチャンネルを有しており、その場合に、前記JFETチャンネルは各センサーセルの直上の前記上部有機半導体層の表面部分に近接した物体の存在又は不存在と共に変化する容量を有していることを特徴とするセンサー装置。
  18. センサー装置において、
    その上にコンタクトを具備する上部表面を具備している基板、
    前記基板の前記上部表面上に装着されており且つそれと電気的に相互接続されている下部有機半導体層であって、その中に制御回路を画定するN型及びP型導電型の領域を包含している下部有機半導体層、
    前記下部有機半導体層の上側に装着されておりその中にセンサーセルを包含している上部有機半導体層、
    前記上部有機半導体層の上に配設されており、露出された上部表面を具備しており、前記露出された上部表面と接触する特定の物質に対して選択的に反応性である化学物質を包含するポリマーを有している反応性界面層、
    を有しており、前記反応性界面層内の化学物質と前記特定の物質との前記反応性界面層内における反応が前記上部有機半導体層内の前記センサーセルによって検知され、それにより前記センサー装置が前記特定の物質に対する露呈を検知することが可能であることを特徴とするセンサー装置。
  19. 請求項18において、前記化学物質が酵素であることを特徴とするセンサー装置。
  20. 請求項19において、前記酵素がグルコースオキシダーゼであり、且つ前記特定の物質がグルコースであることを特徴とするセンサー装置。
JP2003334020A 2002-09-25 2003-09-25 有機半導体センサー装置 Expired - Lifetime JP4426806B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/254,311 US6852996B2 (en) 2002-09-25 2002-09-25 Organic semiconductor sensor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004125791A JP2004125791A (ja) 2004-04-22
JP4426806B2 true JP4426806B2 (ja) 2010-03-03

Family

ID=31993329

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003334020A Expired - Lifetime JP4426806B2 (ja) 2002-09-25 2003-09-25 有機半導体センサー装置

Country Status (3)

Country Link
US (3) US6852996B2 (ja)
EP (1) EP1411552B1 (ja)
JP (1) JP4426806B2 (ja)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7105462B2 (en) * 2003-07-22 2006-09-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Lamination of organic semiconductor
KR100564915B1 (ko) * 2004-02-10 2006-03-30 한국과학기술원 정전용량방식 지문센서 및 이를 이용한 지문 센싱방법
EP1728072A1 (en) * 2004-03-03 2006-12-06 Koninklijke Philips Electronics N.V. Detection of no with a semi-conducting compound and a sensor and device to detect no
WO2005122233A1 (ja) * 2004-06-10 2005-12-22 Yamanashi University ショットキーゲート有機電界効果トランジスタおよびその製造方法
AT413897B (de) * 2004-09-08 2006-07-15 Nanoident Technologies Ag Vorrichtung zum erfassen eines fingerabdruckes
AT413896B (de) * 2004-09-08 2006-07-15 Nanoident Technologies Ag Vorrichtung zum erfassen eines fingerabdruckes
US7710371B2 (en) * 2004-12-16 2010-05-04 Xerox Corporation Variable volume between flexible structure and support surface
US8059102B2 (en) * 2006-06-13 2011-11-15 N-Trig Ltd. Fingertip touch recognition for a digitizer
US9069417B2 (en) * 2006-07-12 2015-06-30 N-Trig Ltd. Hover and touch detection for digitizer
US8686964B2 (en) * 2006-07-13 2014-04-01 N-Trig Ltd. User specific recognition of intended user interaction with a digitizer
US20080121045A1 (en) * 2006-11-29 2008-05-29 Cole Matthew C Multiplexed sensor array
US8542211B2 (en) * 2007-01-03 2013-09-24 Apple Inc. Projection scan multi-touch sensor array
US8093689B2 (en) * 2007-07-02 2012-01-10 Infineon Technologies Ag Attachment member for semiconductor sensor device
US8536885B2 (en) * 2008-09-11 2013-09-17 Indian Institute Of Technology, Bombay Method and device for determining ionizing radiation
JP2010122015A (ja) * 2008-11-18 2010-06-03 Fujitsu Ltd センサユニット及び電子装置の製造方法
CN101509888B (zh) * 2009-03-20 2012-06-13 华东师范大学 硅基可集成微型葡萄糖传感器的制作方法
EP2459961A4 (en) * 2009-07-31 2012-12-26 Hewlett Packard Development Co BEAM DIRECTION SENSOR
TWI407561B (zh) * 2009-11-10 2013-09-01 Univ Nat Chiao Tung 一種壓力感測元件及其陣列
US9466382B2 (en) 2012-11-14 2016-10-11 Sandisk Technologies Llc Compensation for sub-block erase
US8830717B2 (en) 2012-11-29 2014-09-09 Sandisk Technologies Inc. Optimized configurable NAND parameters
US8988941B2 (en) 2012-12-18 2015-03-24 SanDisk Tehcnologies Inc. Select transistor tuning
US9218890B2 (en) 2013-06-03 2015-12-22 Sandisk Technologies Inc. Adaptive operation of three dimensional memory
US9142324B2 (en) 2013-09-03 2015-09-22 Sandisk Technologies Inc. Bad block reconfiguration in nonvolatile memory
US9218886B2 (en) 2013-12-10 2015-12-22 SanDisk Technologies, Inc. String dependent parameter setup
CN103793691A (zh) * 2014-01-28 2014-05-14 深圳市汇顶科技股份有限公司 指纹识别装置及具有其的移动终端
US9691473B2 (en) 2015-09-22 2017-06-27 Sandisk Technologies Llc Adaptive operation of 3D memory
US9401216B1 (en) 2015-09-22 2016-07-26 Sandisk Technologies Llc Adaptive operation of 3D NAND memory
GB2546995A (en) * 2016-02-03 2017-08-09 Cambridge Display Tech Ltd A sensor for detection of a target species
JP6801370B2 (ja) * 2016-10-28 2020-12-16 富士通株式会社 センサ装置
CN106897712B (zh) * 2017-03-13 2020-01-14 Oppo广东移动通信有限公司 指纹模组、显示屏和移动终端
CN109308433B (zh) * 2017-07-27 2022-09-20 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种半导体指纹传感器及其制作方法、电子装置
US10781519B2 (en) * 2018-06-18 2020-09-22 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for processing substrate
CN109374023B (zh) * 2018-10-25 2021-11-02 北京机械设备研究所 一种柔性可拉伸式传感器的制备方法
CN110781804B (zh) * 2019-10-23 2023-06-02 业泓科技(成都)有限公司 光学式影像辨识装置的制作方法
GB2602973B (en) * 2021-01-20 2023-10-18 Hyve Dynamics Holdings Ltd A deformable sensing layer and methods

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3831432A (en) * 1972-09-05 1974-08-27 Texas Instruments Inc Environment monitoring device and system
US4222903A (en) * 1978-05-04 1980-09-16 University Patents, Inc. P-Type electrically conducting doped polyacetylene film and method of preparing same
US4353056A (en) * 1980-06-05 1982-10-05 Siemens Corporation Capacitive fingerprint sensor
US4444892A (en) * 1980-10-20 1984-04-24 Malmros Mark K Analytical device having semiconductive organic polymeric element associated with analyte-binding substance
GB2096825A (en) * 1981-04-09 1982-10-20 Sibbald Alastair Chemical sensitive semiconductor field effect transducer
JPS5812370A (ja) * 1981-07-15 1983-01-24 Hitachi Ltd 高分子半導体素子
US4550221A (en) * 1983-10-07 1985-10-29 Scott Mabusth Touch sensitive control device
US4717673A (en) * 1984-11-23 1988-01-05 Massachusetts Institute Of Technology Microelectrochemical devices
JPS6283641A (ja) * 1985-10-08 1987-04-17 Sharp Corp 電界効果型半導体センサ
US4894339A (en) * 1985-12-18 1990-01-16 Seitaikinouriyou Kagakuhin Sinseizogijutsu Kenkyu Kumiai Immobilized enzyme membrane for a semiconductor sensor
JPS63131057A (ja) * 1986-11-20 1988-06-03 Terumo Corp 酵素センサ
JP2609366B2 (ja) * 1989-01-10 1997-05-14 三菱電機株式会社 電界効果型トランジスタ及びこれを用いた液晶表示装置
GB9116360D0 (en) 1991-07-29 1991-09-11 Neotronics Ltd Device for sensing volatile materials
US6278127B1 (en) * 1994-12-09 2001-08-21 Agere Systems Guardian Corp. Article comprising an organic thin film transistor adapted for biasing to form a N-type or a P-type transistor
US5719033A (en) * 1995-06-28 1998-02-17 Motorola, Inc. Thin film transistor bio/chemical sensor
US5625199A (en) * 1996-01-16 1997-04-29 Lucent Technologies Inc. Article comprising complementary circuit with inorganic n-channel and organic p-channel thin film transistors
US5763943A (en) * 1996-01-29 1998-06-09 International Business Machines Corporation Electronic modules with integral sensor arrays
US6326640B1 (en) * 1996-01-29 2001-12-04 Motorola, Inc. Organic thin film transistor with enhanced carrier mobility
US6114862A (en) * 1996-02-14 2000-09-05 Stmicroelectronics, Inc. Capacitive distance sensor
GB9615605D0 (en) * 1996-07-25 1996-09-04 British Nuclear Fuels Plc Polymer radiation sensors
GB9626217D0 (en) * 1996-12-18 1997-02-05 Aromascan Plc Gas sensor
US5981970A (en) * 1997-03-25 1999-11-09 International Business Machines Corporation Thin-film field-effect transistor with organic semiconductor requiring low operating voltages
KR100303934B1 (ko) * 1997-03-25 2001-09-29 포만 제프리 엘 낮은작동전압을필요로하는유기반도체를갖는박막전장효과트랜지스터
US6252245B1 (en) * 1999-03-29 2001-06-26 Howard Edan Katz Device comprising n-channel semiconductor material
GB9922572D0 (en) * 1999-09-24 1999-11-24 Koninkl Philips Electronics Nv Capacitive sensing array devices
US6344664B1 (en) * 1999-12-02 2002-02-05 Tera Connect Inc. Electro-optical transceiver system with controlled lateral leakage and method of making it
GB2370410A (en) * 2000-12-22 2002-06-26 Seiko Epson Corp Thin film transistor sensor
US6661299B2 (en) 2001-02-26 2003-12-09 Lucent Technologies Inc. Odor sensor with organic transistor circuitry
US6575013B2 (en) * 2001-02-26 2003-06-10 Lucent Technologies Inc. Electronic odor sensor
JP4087125B2 (ja) * 2001-03-07 2008-05-21 シャープ株式会社 凹凸パターン検出素子
US6672174B2 (en) * 2001-07-23 2004-01-06 Fidelica Microsystems, Inc. Fingerprint image capture device with a passive sensor array
DE10211900A1 (de) * 2002-03-18 2003-10-16 Infineon Technologies Ag Biosensor zum Erfassen von makromolekularen Biopolymeren und Verfahren zur Herstellung eines Biosensors zum Erfassen von makromolekularen Biopolymeren

Also Published As

Publication number Publication date
EP1411552A2 (en) 2004-04-21
US7141839B2 (en) 2006-11-28
US20040056245A1 (en) 2004-03-25
US20070029583A1 (en) 2007-02-08
JP2004125791A (ja) 2004-04-22
EP1411552B1 (en) 2014-04-16
US6852996B2 (en) 2005-02-08
EP1411552A3 (en) 2008-07-02
US8569809B2 (en) 2013-10-29
US20050110055A1 (en) 2005-05-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4426806B2 (ja) 有機半導体センサー装置
JP4169395B2 (ja) ソリッドステート指紋センサーパッケージング装置及び方法
JP3969702B2 (ja) センサ・セル、センサ、サンプルを同定する方法、化学センサ、指紋認識装置、バイオセンサの操作方法、及び指紋認識装置の操作方法
US5132541A (en) Sensor matrix
US6111280A (en) Gas-sensing semiconductor devices
US6672174B2 (en) Fingerprint image capture device with a passive sensor array
TW201225304A (en) Chemically sensitive sensor with lightly doped drains
US6191593B1 (en) Method for the non-invasive sensing of physical matter on the detection surface of a capacitive sensor
JP3003311B2 (ja) 指紋センサ
US10566425B2 (en) Apparatus comprising a sensor arrangement and associated fabrication methods
EP3214656B1 (en) A quantum dot photodetector apparatus and associated methods
JPH0561966A (ja) 指紋センサ
KR970067851A (ko) 강자성체 비휘발성 메모리 셀 및 메모리 셀 형성 방법
Al-Ahdal et al. ISFET-based chemical switch
EP0042604B1 (en) Selective access array integrated circuit
CN111279503A (zh) 用于压力传感器的电子装置
EP4191870A1 (en) Sensor weak signal reading circuit
US20220299465A1 (en) Manufacturing process for multi-pixel gas microsensors with multiple sensing capabilities
KR100479263B1 (ko) 비정질 실리콘 박막 트랜지스터를 이용한 생체 분자 감지를 위한 형광 검출 소자
JPH0268967A (ja) 圧力センサ
CN115096965A (zh) 薄膜晶体管型生化传感微阵列芯片及其制备方法
JP3181719B2 (ja) ガスセンサ
JPS60154678A (ja) 圧覚センサ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060914

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090611

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090630

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090928

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20091110

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20091211

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4426806

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121218

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131218

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term