JP4415581B2 - 光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光走査装置及び画像形成装置に関し、さらに詳しくは、光ビームを画像情報に応じて像担持体上に走査露光することで、画像を形成する画像形成装置と、この画像形成装置に使用される光走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
画像形成装置に使用される光走査装置では、従来から、走査線の湾曲を防止するために、光走査装置内のミラーを撓ませる技術が提案されている。例えば特許文献1では、平面ミラーの両端の調整ねじで平面ミラーを押圧して湾曲させ、直線状に補正できるようにした光学走査装置が記載されている。
【0003】
しかし、この構成では、ミラーの両端に調整機構(調整ねじ)が必要になるため、光学走査装置自体が大型化してしまう。また、ミラーの両端をバランス良く調整する必要があるため、実際上は適切に調整することが難しい場合がある。
【0004】
これに対し、特許文献2には、シリンドリカルミラーに変形調整部材を設け、調整部の調整ネジを進退させることで、シリンドリカルミラーを湾曲変形させることが可能な光走査装置が記載されている。この構成では、1箇所の調整ネジでミラーを湾曲させることができため、光走査装置を小型化でき、しかも、両端のバランスをとる必要もない。
【0005】
しかし、この構成では、ミラーの中央部が押圧されるため、設計上走査線の湾曲を走査範囲全域で補正することが難しい。しかも、ミラーに変形調整部材が取り付けられるため、全体として重量が増加し、振動や衝撃に対するミラーの維持性が悪化することがある。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−117040号公報
【特許文献2】
特開2002−311366号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記事実を考慮し、小型且つ軽量な構成で、走査線の湾曲を適性に補正可能な光走査装置と、このような光走査装置を備えた画像形成装置を得ることを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明では、光源から射出された光ビームを、回転による偏向反射面の移動によって主走査方向に偏向走査する光偏向器と、光源からの光ビームを、副走査断面において前記光偏向器の前記偏向反射面に斜めに入射させ、偏向反射面の近傍に副走査方向に結像した焦線を形成する入射光学系と、前記光偏向器の前記偏向反射面で反射された光ビームを反射又は透過させて被走査面に導く1又は複数の光学部材と、を備え、複数の前記光学部材の少なくとも1つが、副走査方向の断面2次モーメントが主走査方向で不均一な不均一光学部材とされると共に、この不均一光学部材の主走査方向一端側からの外力で変形可能とされ、前記不均一光学部材の前記主走査方向一端側に外力を作用させて不均一光学部材を厚み方向に撓ませる変形手段、を有することを特徴とする。
【0009】
この光走査装置では、光源から射出された光ビーム(光束)が、入射光学系を経て、光偏向器の偏向反射面に入射する。光偏向器の回転による偏向反射面の移動で、光ビームが主走査方向に偏向走査される。この光ビームがさらに光学部材によって反射又は透過されて、被走査面に導かれる。
【0010】
ここで、光ビームを、副走査断面において光偏向器の偏向反射面に斜めに入射させ、偏向反射面の近傍に副走査方向に結像した焦線を形成する入射光学系、及び、偏向反射面の移動によって主走査方向に偏向走査する光偏向器、を備えた構成では、被走査面上で走査線が湾曲する。本発明では、光学部材の一つが不均一光学部材とされており、この不均一光学部材を変形(湾曲)させて、走査線の湾曲を打ち消すことができる。不均一光学部材は、副走査方向の断面2次モーメントを主走査方向で不均一とされているため、主走査方向一端側からの外力のみでバランス良く湾曲させることができる。1箇所のみで不均一光学部材を湾曲させるので、光走査装置の小型化、軽量化を図ることが可能となる。
【0011】
しかも、本発明では、変形手段により、不均一光学部材の主走査方向一端側に外力を作用させることで、不均一光学部材を厚み方向に撓ませて、走査線の湾曲を補正することができる。この外力の種類は限定されないが、たとえば、押圧、引張、曲げ等を挙げることができる。特に請求項2に記載のように、前記不均一光学部材が、長手方向の押圧力で変形可能とされた構成とすることができる。
【0012】
さらに、光偏向器の偏向反射面に入射される光ビーム(光束)の数も特に限定されないが、請求項3に記載のように、前記光偏向器が、複数の光源から射出された複数の光ビームの少なくとも1つを前記偏向反射面に入射可能とされていると、複数の光ビームで光偏向器を共通化できるので、光走査装置をさらに小型化、軽量化することが可能になる。
【0013】
光学部材の副走査方向の断面2次モーメントを主走査方向で不均一にするための構成としては、たとえば、請求項4に記載のように、副走査方向の断面形状を主走査方向に変化させてもよいし、請求項5に記載のように、前記不均一光学部材が、光ビームを反射又は透過させる光学部材本体と、前記光学部材本体の光ビーム非通過面に貼着され断面2次モーメントを主走査方向で不均一とする貼着部材と、を備えた構成とされていてもよい。
【0014】
請求項6に記載の発明では、請求項1〜請求項5のいずれかに記載の光走査装置と、画像情報に応じた光ビームを射出する1又は複数の光源と、前記光走査装置で偏向走査された光ビームが被走査面上で結像される像担持体と、を有することを特徴とする。
【0015】
このため、小型且つ軽量な構成で、走査線の湾曲を適性に補正し、像担持体上に光ビームを結像させることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
図1には、本発明の第1実施形態の光走査装置102と、この光走査装置102を備えた画像形成装置100の概略構成が示されている。この光走査装置102は、ブラック(K)、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)の4色を重ね合わせて、いわゆるフルカラーの画像を形成するために使用される。
【0017】
光走査装置102は、光学箱104の略中央に配置された回転多面鏡(光偏向器)106を有している。この回転多面鏡106を挟んで、2色ずつ、合計で4つの光学系が略対称に配置されており、4つの光源(半導体レーザ110)から射出された光ビームLB−K、LB−Y、LB−M、LB−Cを、回転多面鏡106の回転軸Cを挟んで回転軸Cと直交する両方向から、2組のfθレンズ112、114を透過させ、単一の回転多面鏡106の対向する2面(偏向反射面106M)に各2本づつ上下方向に角度を異ならせて入射させる。回転多面鏡106の回転による偏向反射面106Mの移動により、光ビームLB−K、LB−Y、LB−M、LB−Cが偏向走査される。偏向走査後に再びfθレンズ114、112を透過した光ビームLB−K、LB−Y、LB−M、LB−Cを光路分割して4つの感光体ドラム116K、116Y、116M、116Cに導くようになっている。感光体ドラム116K、116Y、116M、116C上での光ビームLB−K、LB−Y、LB−M、LB−Cの主走査方向を矢印Mで、副走査方向を矢印Sでそれぞれ示す。
【0018】
なお、回転多面鏡106の矢印L方向側の光学系と矢印R方向側の光学系とは対称な構成であるため、以下では、主に矢印L方向側の光路に沿って説明する。
【0019】
それぞれの光学系を構成する半導体レーザ110から出射された発散状態の光ビームLB−K、LB−Y、LB−M、LB−Cは、カップリングレンズ118により緩やかな発散光束とされ、スリット120により光ビームLB−K、LB−Y、LB−M、LB−Cの光束幅を規制されたのち、シリンドリカルレンズ122により副走査方向にのみ収束作用を受ける。
【0020】
次いで、合成ミラー124により折り返された光ビームLB−Kは、合成ミラー124の上部を通過する他の半導体レーザ110からの光ビームLB−Y と、主走査断面でほぼ同一に光路を通る光ビームに合成される。
【0021】
合成された2本の光ビームLB−K、LB−Yは、正面入射用の単一の折返ミラー126A(なお、回転多面鏡106を挟んで反対側には対称的に折返ミラー126Bが配置されている)により折り返されて、副走査断面で入射角度の異なる2本の光ビームLB−K、LB−Yとしてfθレンズ112、114を透過し、単一の回転多面鏡106に入射する。
【0022】
ここで、回転多面鏡106の偏向反射面106M上の2本の光ビームLB−K、LB−Yの反射位置が、回転軸Cと平行方向に離間するように、光ビームLB−K、LB−Yが入射されている。これに加えて、回転多面鏡106への2本の光ビームLB−K、LB−Yによる副走査方向入射角度も異なっているため、偏向反射面106Mで反射された光ビームLB−K、LB−Yは、回転多面鏡106から離れるにしたがって光線間隔が広がる2本の光ビームとして偏向される。
【0023】
この2本の偏向光ビームLB−K、LB−Yは、各々主走査方向の中心に対し、主走査方向の両端に至る光ビームが、図1の上側、下側に位置する走査線湾曲を持っている。
【0024】
fθレンズ114、112を透過した2本の光ビームLB−K、LB−Yは、除々にその副走査方向の光線間隔を広げて進む。光ビームLB−Kは、折返ミラー127Aの上部を通過し、その後方に配設された折返ミラー128Aにより、それぞれの光路上に設けられたシリンドリカルミラー130K、130Yに入射する。
【0025】
シリンドリカルミラー130K、130Yにより反射された光ビームLB−K、LB−Yは、それぞれの光路上に独立に設けられた平面鏡134K、134Yにより折り返されて防塵ガラス132K、132Yを透過したのち、感光体ドラム116K、116Y上にスポット結像される。
【0026】
ここで、平面鏡134K、134Yは、後述するように、上記した走査線湾曲を打消す方向に所定量湾曲調整されており、平面鏡134K、134Yで反射された光ビームLB−K、LB−Yは感光体ドラム116K、116Y上で直線的に走査するように補正される。もちろん、シリンドリカルミラー130K、130Yを反射面方向または反射面と直交する方向に所定量変形させることでも走査線湾曲を補正することが可能である。
【0027】
また、2本の光ビームLB−K、LB−Yの光路は、副走査断面内で回転多面鏡106の偏向反射面106Mと感光体ドラム116K、116Yとがそれぞれ幾何光学的に共役関係となる面倒れ補正光学系を構成するように配置されている。
【0028】
なお、双方向走査の対向面側は、回転多面鏡106の回転軸Cを含み、感光体ドラム116K、116Yの母線を含む平面に対して面対称の構成となっており、上記した2本の光ビームLB−K、LB−Yと同様の光路を通る。
【0029】
但し、本実施形態では、単一の回転多面鏡106の対向する2面により偏向走査するため、感光体ドラム116の走査方向は双方向を走査する各2本づつ逆向きとなる。このため、これら2本の光ビームに対応する画像データは、走査方向に応じて反転される。
【0030】
感光体ドラム116K、116Y、116M、116Cの下方には、無端状の転写ベルト(図示省略)が設けられており、感光体ドラム116K、116Y、116M、116C上のトナー画像が転写ベルトに順次転写され、4つの色が重ね合わされることで、転写ベルト上にカラー画像が形成される。このカラー画像が用紙に転写され、さらに定着装置(図示省略)によって定着されることで、用紙上に所望のカラー画像を得ることができる。
【0031】
図2には、本実施形態の平面鏡134の湾曲補正機構136が示されている。なお、本実施形態の4つの平面鏡134K、134Y、134M、134Cで同一の保持機構とされているため、以下では区別することなく平面鏡134の湾曲補正機構136として説明する。
【0032】
平面鏡134は、ブラケット138を介して光学箱104に取り付けられている。
【0033】
ブラケット138には、下方へ延びる厚肉板状のアーム140を備えている。ここで、一方のブラケット138のアーム140と、他方のブラケット138のアーム140とは互いに平行に配置されている。
【0034】
アーム140には、平面鏡134が挿通する略矩形の挿通孔142が形成されている。図3にも示すように、平面鏡134は、両アーム140の挿通孔142を挿通しており、端部付近が挿通孔142より突出している。
【0035】
アーム140の一方の端面(平面鏡134の裏面134B側(反射面134A側とは反対面側))には、金属板で形成された金具144がねじ146で固定されている。
【0036】
金具144は、平面鏡134の端部側へ延びる腕部148を備えている。腕部148は弾性によって、平面鏡134を押圧して、アーム140に対し固定するようになっている。
【0037】
一方の腕部148の先端側には、ナット150が固着されており、このナット150に調整ねじ152が螺合されている。調整ねじ152には、ドライバーで回すための溝154が形成されている。ここで、平面鏡134は、反射面134Aがアーム140の挿通孔142の支持突起142Aに当接して支持され、裏面134Bが2つの調整ねじ152の先端に当接して支持される。これに対し、他方の金具144の腕部148には、ナット150が螺合されるネジ孔は形成されておらず、単に腕部148の先端部分が平面鏡134に接触している。したがって、平面鏡134は、長手方向(副走査方向)の一端側でのみ、調整ねじ152により厚み方向(長手方向と直交する方向)押圧されて撓み変形される。
【0038】
図4(C)に示すように、本実施形態の平面鏡134は、その厚みが、調整ねじ152によって押圧される側(図4(C)での左側)からその反対側に向かって漸減されて、断面2次モーメントが主走査方向で非対称とされており、上記したように、片端部のみ押圧された結果主走査方向に対称に撓むようになっている。
【0039】
このような構成とされた第1実施形態では、調整ねじ152のねじ込み量を加減することで、平面鏡134を所定量だけ撓ませて、感光体ドラム116K、116Y上の走査線の湾曲を補正することができる。図4(D)には、補正後の光ビームの補正の程度が、像高と走査位置との関係として各色ごとに示されている。このグラフから分かるように、本実施形態では、平面鏡134の長手方向一端側のみで撓ませることで、走査線の湾曲を効果的に補正できている。
【0040】
なお、図4(B)には比較のために、断面2次モーメントが長手方向で一定とされた平面鏡184について、本実施形態と同様に、長手方向一端側でのみ押圧して撓み変形させた場合(図4(A)参照)の、光ビームの補正の程度が示されている。このグラフから分かるように、断面2次モーメントが長手方向で一定とされた平面鏡184では、非対称に撓んでしまうため、光ビームの湾曲を本実施形態と同程度に補正できておらず、しかも、光ビームは主走査方向の左右で非対称になっている。
【0041】
また、図5(B)にも比較のために、断面2次モーメントが長手方向で一定とされた平面鏡184について、長手方向の両端でそれぞれ異なる押圧力で押圧した場合(図5(A)参照)の、光ビームの補正の程度が示されている。この場合でも、平面鏡184が非対称に撓み、光ビームの湾曲を良好に補正できておらず、しかも主走査方向で非対称になっていることがグラフから分かる。
【0042】
図6(B)にはさらに比較のために、断面2次モーメントが長手方向で一定とされた平面鏡184の長手方向両端近傍を支持(固定)し、中央部分を押圧して撓ませた場合(図6(A)参照)の、光ビームの補正の程度が示されている。この場合には、光ビームの湾曲は主走査方向で対称になっているが、主走査方向の全域では光ビームの湾曲を補正できていないことがグラフから分かる。
【0043】
このように、本実施形態では、図4(A)、図5(A)及び図6(A)のいずれの構成と比較しても、走査線(光ビーム)の湾曲を効果的にバランス良く補正でき、しかも、平面鏡134の長手方向一端側のみを押圧すればよいので、光走査装置102の小型化、軽量化を図ることができる。
【0044】
図7には、本発明の第2実施形態の湾曲補正機構156が示されている。第2実施形態では、平面鏡134をその長手方向に押圧して撓ませるようにしている点が、第1実施形態と異なっているが、それ以外は同一構成とされているので、異なっている点のみ説明する。
【0045】
第2実施形態では、光学箱104の内面に、平面鏡134を支持するための一対の支持凹部104Dが形成されている。平面鏡134は支持凹部104Dに支持された状態で、光学箱104に取り付けられた板ばね158によって挟持されている。光学箱104の一方の側壁には調整ねじ152がねじ込まれており、その先端が、平面鏡134の長手方向一端面に接触している。したがって、調整ねじ152をねじ込むことで、平面鏡134を長手方向に押圧して撓ませることができる。
【0046】
特に、第2実施形態においても第1実施形態と同様に、断面2次モーメントが長手方向で非対称とされた平面鏡134を用いているので、図8(B)に示すように、小さな押圧力で平面鏡134を撓ませることができる。これに対し、図8(A)に示すように、断面2次モーメントが長手方向で一定とされた平面鏡184では、撓ませるために、より大きな押圧力が必要となる。
【0047】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明において撓み変形される光学部材(すなわち、副走査方向の断面2次モーメントが主走査方向で不均一な不均一光学部材)としては、平面鏡に限られず、たとえば、シリンドリカルミラー130の場合でも、同様の効果を得ることができる。
【0048】
また、副走査方向の断面2次モーメントを主走査方向で不均一とする具体的構成としても、上記したものに限られず、たとえば、図9に示す各種形状の平面鏡(又はシリンドリカルミラー)とすることが可能である。
【0049】
図9(A)−1に示す平面鏡160では、その幅を変える(長手方向一端から他端に向かって漸減させる)ことで、断面2次モーメントを不均一にしている。
【0050】
図9(A)−2に示すシリンドリカルミラー170では、その幅を変える(長手方向一端から他端に向かって漸減させる)ことで、断面2次モーメントを不均一にしている。
【0051】
図9(B)に示す平面鏡162では、反射面162Aと直交する長手側端面(図9では上面162U)に、断面2次モーメントが不均一な別部材164が貼り付けられている。なお、別部材164は、下面162Lに貼り付けても、あるいは上面162U及び下面162Lの双方に貼り付けてもよい。別部材164の材質も限定されず、平面鏡134と同じ材質でも、異なる材質でもよい。
【0052】
図9(C)に示す平面鏡166では、裏面166B(反射面の反対側の面)に、断面2次モーメントが不均一な別部材168が貼り付けられている。この構成においても、別部材168の材質は限定されず、平面鏡166と同じ材質でも、異なる材質でもよい。
【0053】
図9(D)に示すシリンドリカルミラー172では、その厚みを変える(長手方向一端から他端に向かって漸減させる)ことで、断面2次モーメントを不均一にしている。
【0054】
図9(E)−1に示すシリンドリカルミラー174では、その厚みを、長手方向中央で薄く、両端に向かって厚くすることで、特に、長手方向に押圧されたときに変形しやすくしている。
【0055】
図9(E)−2に示すシリンドリカルミラー176では、その幅を、長手方向中央で薄く、両端に向かって厚くすることで、特に、長手方向に押圧されたときに変形しやすくしている。
【0056】
図9(F)に示すシリンドリカルミラー(又はレンズ)178では、材質が樹脂の場合において、リブ高さを、長手方向中央で低く、両端に向かって高くすることで、特に、長手方向に押圧されたときに変形しやすくしている。
【0057】
【発明の効果】
本発明は上記構成としたので、小型且つ軽量な構成で、走査線の湾曲を適性に補正できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施形態の光走査装置及び画像形成装置の概略構成を示す斜視図である。
【図2】 本発明の第1実施形態の光走査装置における平面鏡の湾曲補正機構を示す斜視図である。
【図3】 本発明の第1実施形態の光走査装置における平面鏡の湾曲補正機構を拡大して示す断面図である。
【図4】 (A)は断面2次モーメントが均一とされた平面鏡の長手方向一端側のみを押圧した状態の概念図、(B)はこの平面鏡の撓み変形後の光ビームの湾曲補正を示すグラフ、(C)は第1実施形態のた平面鏡の長手方向一端側のみを押圧した状態の概念図、(B)はこの平面鏡の撓み変形後の光ビームの湾曲補正を示すグラフ、である。
【図5】 (A)は断面2次モーメントが均一とされた平面鏡を長手方向両端で異なる押圧力で押圧した状態の概念図、(B)はこの平面鏡の撓み変形後の光ビームの湾曲補正を示すグラフ、である。
【図6】 (A)は断面2次モーメントが均一とされた平面鏡を長手方向中央押圧力で押圧した状態の概念図、(B)はこの平面鏡の撓み変形後の光ビームの湾曲補正を示すグラフ、である。
【図7】 本発明の第2実施形態の光走査装置における平面鏡の湾曲補正機構を示す断面図である。
【図8】 平面鏡を長手方向に沿って押圧した場合の湾曲の程度を示す概念図であり、(A)断面2次モーメントが均一とされた平面鏡の場合、(B)は第2実施形態の平面鏡の場合である。
【図9】 (A)〜(F)はそれぞれ、本発明に適用可能な平面鏡,シリンドリカルレンズ又はシリンドリカルミラーの各種形状を示す斜視図である。
【符号の説明】
100 画像形成装置
102 光走査装置
104 光学箱
106 回転多面鏡(光偏向器)
106M 偏向反射面
110 半導体レーザ(光源)
112 fθレンズ(入射光学系、光学部材)
114 fθレンズ(入射光学系、光学部材)
116 感光体ドラム(像担持体)
118 カップリングレンズ(入射光学系)
120 スリット(入射光学系)
122 シリンドリカルレンズ(入射光学系)
124 合成ミラー(入射光学系)
126A 折返ミラー(入射光学系)
127A 折返ミラー(光学部材)
128A 折返ミラー(光学部材)
130 シリンドリカルミラー(光学部材)
134 平面鏡(光学部材、不均一光学部材)
136 湾曲補正機構
156 湾曲補正機構
160 平面鏡(光学部材、不均一光学部材)
162 平面鏡(光学部材本体、不均一光学部材)
164 別部材(貼着部材)
166 平面鏡(光学部材本体、不均一光学部材)
168 別部材(貼着部材)
170 シリンドリカルミラー(光学部材、不均一光学部材)
172 シリンドリカルミラー(光学部材、不均一光学部材)
174 シリンドリカルミラー(光学部材、不均一光学部材)
176 シリンドリカルミラー(光学部材、不均一光学部材)
178 シリンドリカルミラーまたはレンズ(光学部材、不均一光学部材)
Claims (6)
- 光源から射出された光ビームを、回転による偏向反射面の移動によって主走査方向に偏向走査する光偏向器と、
光源からの光ビームを、副走査断面において前記光偏向器の前記偏向反射面に斜めに入射させ、偏向反射面の近傍に副走査方向に結像した焦線を形成する入射光学系と、
前記光偏向器の前記偏向反射面で反射された光ビームを反射又は透過させて被走査面に導く1又は複数の光学部材と、
を備え、
複数の前記光学部材の少なくとも1つが、副走査方向の断面2次モーメントが主走査方向で不均一な不均一光学部材とされると共に、この不均一光学部材の主走査方向一端側からの外力で変形可能とされ、
前記不均一光学部材の前記主走査方向一端側に外力を作用させて不均一光学部材を厚み方向に撓ませる変形手段、
を有することを特徴とする光走査装置。 - 前記不均一光学部材が、長手方向の押圧力で変形可能とされていることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
- 前記光偏向器が、複数の光源から射出された複数の光ビームの少なくとも1つを前記偏向反射面に入射可能とされていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光走査装置。
- 前記不均一光学部材が、副走査方向の断面形状を主走査方向に変化させることで断面2次モーメントを主走査方向で不均一とされていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の光走査装置。
- 前記不均一光学部材が、
光ビームを反射又は透過させる光学部材本体と、
前記光学部材本体の光ビーム非通過面に貼着され断面2次モーメントを主走査方向で不均一とする貼着部材と、
を備えた構成とされていることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の光走査装置。 - 請求項1〜請求項5のいずれかに記載の光走査装置と、
画像情報に応じた光ビームを射出する1又は複数の光源と、
前記光走査装置で偏向走査された光ビームが被走査面上で結像される像担持体と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
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