JP4409944B2 - ジフルオロアルケン誘導体、それを含有する有害生物防除剤及びその製造中間体 - Google Patents

ジフルオロアルケン誘導体、それを含有する有害生物防除剤及びその製造中間体 Download PDF

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Description

技術分野
本発明は新規なジフルオロアルケン誘導体並びにそれを有効成分として含有する有害生物防除剤に関するものである。
背景技術
ジフルオロアルケン誘導体が有害生物防除活性を有することは既に報告されている。例えば、特開２０００−３８３７９号公報には、ピリジンカルボン酸類でエステル化された直鎖ジフルオロアルケン誘導体が記載されている。特開２０００−８６６３６号公報には、ピラゾールカルボン酸類でエステル化された直鎖ジフルオロアルケン誘導体が記載されている。特開２０００−１８６０７３号公報には、チオフェン−２−カルボン酸、フラン−２−カルボン酸、１，４−ピリミジン−２−カルボン酸、又はキノリン−４−カルボン酸類でエステル化された直鎖ジフルオロアルケン誘導体が記載されている。特開２０００−１９８７６９号公報には、安息香酸又はピリジンカルボン酸類でチオエステル化又はジチオエステル化された直鎖ジフルオロアルケン誘導体が記載されている。また、米国特許第５０８１２８７号明細書には、アルカンカルボン酸、アルケンカルボン酸、芳香族カルボン酸類でエステル化された直鎖ジフルオロアルケン誘導体が記載されている。ＷＯ９７／０８１３０号（特表平１１−５１０４７４号参照）には、置換安息香酸類でエステル化された直鎖ジフルオロアルケン誘導体が記載されている。
これらのジフルオロアルケン誘導体は、いずれもジフルオロアルケンの末端が１，１−ジフルオロエチレン型（−Ｃ＝ＣＦ２）になっているものである。
また、ドイツ特許公開第４１２２５０６号には、各種のカルボン酸でエステル化された２−メチル又は２−エチル−１，１−ジフルオロエチレン型のジフルオロアルケン誘導体が記載されており、カルボン酸としては複素環式のカルボン酸でもよい旨の記載もなされているが具体的な例示もなされていない。欧州特許公開第４３２８６１号（特開平４−１５４７４０号参照）には、各種のカルボン酸でエステル化された２−メチル、２−エチル又は２−フェニル−１，１−ジフルオロエチレン型のジフルオロアルケン誘導体が記載されており、カルボン酸としては複素環式のカルボン酸でもよい旨の記載もなされており、例えばピリジン、トリアゾール又はクロメンがよい旨も記載されているが、具体的な化合物の例示はなされていない。
有用作物に対して使用される有害生物防除剤は、従来の農園芸用有害生物防除剤に抵抗性を示す各種有害生物に対して低薬量で十分な防除効果を示し、しかも作物、有害生物の天敵及び哺乳動物に対し高い安全性を有する薬剤であることが望まれる。これらの点で、従来のジフルオロアルケン誘導体は必ずしも満足すべきものとは言い難く、十分な防除効果を示し、かつ安全性の高い有害生物防除剤の開発が望まれていた。
発明の開示
本発明者らはこの様な状況に鑑み、上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、複素環式カルボン酸類でエステル化されたジフルオロアルケン誘導体において、末端のジフルオロエチレンの部位にメチル基を有する分枝状の１，１−ジフルオロプロピレン型のジフルオロアルケン誘導体が、従来の農園芸用有害生物防除剤に抵抗性を示す各種有害生物に対して優れた防除効果を示し、しかも有害生物の天敵及び哺乳動物に対し高い安全性を有することを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
末端のジフルオロエチレンの部位にメチル基を有する分枝状の１，１−ジフルオロプロピレン型のジフルオロアルケン誘導体のうち、下記一般式［１］で示されるジフルオロアルケン誘導体は、いずれの文献にも具体的に記載されておらず新規な化合物である。
即ち、本発明は次の通りである。
（１）一般式［１］：
Figure 0004409944
を有するジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩に関するものである。
なお、式中、
Ｌ１及びＬ２は同一又は相異なり、酸素原子又は硫黄原子を表わし；
ｎは２〜８の整数を表わし；
Ｑは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任意のヘテロ原子を有する５〜１２員のヘテロ環基を表わし、これらのヘテロ環基のヘテロ原子が窒素原子の時は酸化されてＮ−オキシドになってもよく；
Ｑは１〜４個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
Ｘは水酸基、ハロゲン原子、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルコキシ基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキルチオ基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキルスルフィニル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキルスルホニル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアシル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数２から６のアルコキシカルボニル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアシルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数２から６のアルコキシアルキル基、炭素数２から６のアルケニル基、炭素数２から７のハロアルケニル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数２から６のアルキニル基、炭素数３から６のシクロアルキル基、炭素数４から７のシクロアルキルアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、炭素数１から６のハロアルコキシ基、炭素数２から６のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３から８のアルケニルオキシ基、炭素数３から８のハロアルケニルオキシ基、炭素数３から６のアルキニルオキシ基、炭素数３から７のシクロアルキルオキシ基、炭素数４から７のシクロアルキルアルキルオキシ基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、炭素数１から６のアシルオキシ基、炭素数２から５のハロアルキルカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェノキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルチオ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルアミノ基［該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から４のアシル基、炭素数２から４のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）又は炭素数１から４のアルキルスルホニル基で置換されていてもよい］、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジル基、置換基群βより選択される１〜３個の任意の基で置換されてもよいチエニル基、置換基群βより選択される１〜３個の任意の基で置換されてもよいピラゾリル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジルオキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルカルバモイル基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフタルイミド基、ニトロ基、アミノ基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキルアミノ基（該基の窒素原子は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基又は水酸基で置換されていてもよい）、炭素数３から６のシクロアルキルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から４のアシル基、炭素数２から４のアルコキシカルボニル基又は炭素数１から４のアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルコキシアミノ基（該基の窒素原子は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１０のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から４のアシル基、炭素数２から４のアルコキシカルボニル基又は炭素数１から４のアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）、ピロリジニル基、ピペリジニル基、炭素数２から５のハロアルキルカルボニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）又は炭素数１から４のハロアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）を表し；
また、置換基Ｘは隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成してもよい。
「置換基群α」
置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェノキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンジルオキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジルオキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイルオキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルカルバモイル基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基又はシアノ基。
「置換基群β」
水酸基、ハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数１から４のハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、炭素数１から６のアルキルチオ基、炭素数１から６のアルキルスルフィニル基、炭素数１から６のアルキルスルホニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、ニトロ基、アミノ基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニル基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェノキシ基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンジルオキシ基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジル基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジルオキシ基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルカルバモイル基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から４のアルキルアミノ基、炭素数１から４のジアルキルアミノ基（該基のジアルキル基は同一又は異なってもよい）、炭素数１から６のアシルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基又は炭素数１から４のアシル基で置換されていてもよい）、炭素数１から５のハロアルキルカルボニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）又は炭素数１から４のハロアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）。
「置換基群γ」
水酸基、ハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数１から４のハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、炭素数１から６のアシルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から５のハロアルキルカルボニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）又は炭素数１から４のハロアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）。
（２）Ｑが、
Figure 0004409944
Ｑ１〜Ｑ３７で示されるヘテロ環を表わす上記（１）記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩に関するものである。
（３）Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；Ｑは、
Figure 0004409944
Ｑ１〜Ｑ３７である上記（１）記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（４）Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；Ｑは、
Figure 0004409944
Ｑ１、Ｑ２、Ｑ１２、Ｑ１３又はＱ２４である上記（１）記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（５）Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ１、Ｑ２、Ｑ１２、Ｑ１３又はＱ２４であり；
Figure 0004409944
Ｑは１〜３個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
Ｘはハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数１から６のアルキルチオ基、炭素数１から６のハロアルコキシ基、炭素数３から６のアルケニルオキシ基、炭素数３から６のハロアルケニルオキシ基、炭素数３から６のアルキニルオキシ基、炭素数３から６のシクロアルキル基、炭素数３から７のシクロアルキルオキシ基、フェニル基（該基は炭素数１から４のハロアルキル基で置換されてもよい）、ベンジル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、フェニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基又は炭素数３から４のアルキニル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルキルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基又は炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から５のアシル基又は炭素数２から５のハロアルキルカルボニル基で置換されていてもよい）、炭素数３から６のシクロアルキルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルコキシアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、ベンジルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、ピロリジニル基、ピペリジニル基である上記（１）記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（６）Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ１であり；
Figure 0004409944
Ｑは１〜３個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
Ｘは炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数１から６のアルキルチオ基、炭素数３から６のアルケニルオキシ基、炭素数３から６のハロアルケニルオキシ基、炭素数３から６のアルキニルオキシ基、炭素数３から７のシクロアルキルオキシ基、フェニル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、フェニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）である上記（１）記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（７）Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ２であり；
Figure 0004409944
Ｑは１〜３個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
Ｘは、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数１から６のハロアルコキシ基、フェニル基（該基は炭素数１から４のハロアルキル基で置換されてもよい）、フェノキシ基、フェニルチオ基、フェニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基又は炭素数３から４のアルキニル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルキルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基又は炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から５のアシル基又は炭素数２から５のハロアルキルカルボニル基で置換されていてもよい）、炭素数３から６のシクロアルキルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルコキシアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、ベンジルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、ピロリジニル基、又はピペリジニル基である上記（１）記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（８）Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ１２であり；
Figure 0004409944
Ｑは１〜２個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
Ｘは炭素数１から６のアルキル基、炭素数３から６のシクロアルキル基、フェニル基、フェニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）又はベンジル基である上記（１）記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（９）Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ１３であり；
Figure 0004409944
Ｑは１〜３個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
Ｘはハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基又はフェニル基である上記（１）記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（１０）Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ２４であり；
Figure 0004409944
Ｑは１〜３個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
Ｘはハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基である上記（１）記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
（１１）上記（１）〜（１０）に記載のジフルオロアルケン誘導体の有用な製造中間体である、次式［２］で表わされるジフルオロアルケニルスルホネート誘導体：
Figure 0004409944
式中、ｎは２〜８の整数を表わし、Ｙは低級アルキル基又は置換されてもよいフェニル基を表す。
（１２）請求の範囲第１項〜第１１項に記載のジフルオロアルケン誘導体の有用な製造中間体である、次式［３］で表わされるジフルオロアルケン酸エステル誘導体：
Figure 0004409944
式中、ｑは３〜７の整数を表わし、Ｚはメチル基又はエチル基を表す。
（１３）上記（１）〜（２）に記載のジフルオロアルケン誘導体の有用な製造中間体である、次式［４］で表わされるジフルオロアルケニルジチオカーバメート誘導体：
Figure 0004409944
式中、ｎは２〜８の整数を表わし、Ｗはジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基を表す。
（１４）上記（１）〜（６）に記載のジフルオロアルケン誘導体の有用な製造中間体である、次式［Ａ］で表わされるカルボン酸誘導体又はその塩：
Figure 0004409944
式中、Ｒ１は炭素数３から６のアルキニル基又は炭素数３から７のシクロアルキル基を表わす。
（１５）上記（１）〜（５）及び（７）に記載のジフルオロアルケン誘導体の有用な製造中間体である、次式［Ｂ］又は［Ｃ］で表わされるカルボン酸誘導体又はその塩：
Figure 0004409944
式中、
Ｒ２は炭素数２から１２のアルキル基［該基はフェニル基（該基はハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基からなる群から選ばれる同一又は相異なる１〜４個の基で置換されてもよい）、フェノキシ基（該基はハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基からなる群から選ばれる同一又は相異なる１〜４個の基で置換されてもよい）又はシアノ基で置換されてもよい］、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数２から６のアルコキシアルキル基、炭素数３から６のアルケニル基、炭素数３から６のハロアルケニル基、炭素数３から６のアルキニル基、炭素数３から７のシクロアルキル基、炭素数４から７のシクロアルキルアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、フェニル基（該基はハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基からなる群から選ばれる同一又は相異なる１〜４個の基で置換されてもよい）、ベンジル基（該基はハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基からなる群から選ばれる同一又は相異なる１〜４個の基で置換されてもよい）又はピリジル基（該基はハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基からなる群から選ばれる同一又は相異なる１〜４個の基で置換されてもよい）を表わし；
Ｒ３は炭素数１から６のアルキル基又はベンジル基を表わし；
Ｒ４は炭素数１から１２のアルキル基［該基はフェニル基（該基はハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基からなる群から選ばれる同一又は相異なる１〜４個の基で置換されてもよい）、フェノキシ基（該基はハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基からなる群から選ばれる同一又は相異なる１〜４個の基で置換されてもよい）又はシアノ基で置換されてもよい］、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数２から６のアルコキシアルキル基、炭素数３から６のアルケニル基、炭素数３から６のハロアルケニル基、炭素数３から６のアルキニル基、炭素数３から７のシクロアルキル基、炭素数４から７のシクロアルキルアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、フェニル基（該基はハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基からなる群から選ばれる同一又は相異なる１〜４個の基で置換されてもよい）又はピリジル基（該基はハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基からなる群から選ばれる同一又は相異なる１〜４個の基で置換されてもよい）を表わす。
（１６）上記（１）〜（１０）に記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する有害生物防除剤に関するものである。
発明を実施するための最良の形態
尚、本明細書において用いられる用語を具体的な例示により説明する。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
炭素数１から１２のアルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が１〜１２、好ましくは１〜７の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３，３−ジメチルブチル基等を挙げることができる。
炭素数１から４のハロアルキル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、１〜９個のハロゲン原子で置換されている直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えばフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基等を挙げることができる。
炭素数２から６のアルコキシアルキル基とは、炭素数が２〜６のアルキル基の炭素鎖中に酸素原子が挿入されて炭素−酸素−炭素結合が形成されたものを示し、例えばメトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ｔｅｒｔ−ブトキシメチル基等を挙げることができる。
炭素数２〜６のアルケニル基とは、直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えばエテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基又は２−ペンテニル基等を挙げることができる。
炭素数２〜７のハロアルケニル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、１〜４個のハロゲン原子で置換されている直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えば３−クロロ−２−プロペニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル基等を挙げることができる。
炭素数２〜６のアルキニル基とは、直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えばエチニル基、２−プロピニル基、２−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、２−メチル−３−ブチニル基、フェニルエチニル基等を挙げることができる。これらのアルキニル基は、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい。
炭素数３から６のシクロアルキル基とは、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基等を挙げることができる。
炭素数４〜７のシクロアルキルアルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が３〜６のシクロアルキル基により置換された炭素数が１〜４、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル基、１−シクロプロピルエチル基、２−シクロプロピルエチル基、１−シクロプロピルプロピル基、２−シクロプロピルプロピル基、３−シクロプロピルプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基などが挙げられる。これらの炭素数４〜７のシクロアルキルアルキル基は、シクロアルキル基の部分又はアルキル基の部分が、ハロゲン原子、又は炭素数が１〜１２、好ましくは１〜６のアルキル基で置換されてもよく、このような置換基を有するシクロアルキルアルキル基としては、例えば、２−クロロシクロプロピルメチル基、２，２−ジクロロシクロプロピルメチル基、２−フルオロシクロプロピルメチル基、２，２−ジフルオロシクロプロピルメチル基、２−メチルシクロプロピルメチル基、２，２−ジメチルシクロプロピルメチル基、２−メチルシクロプロピルエチル基等を挙げることができる。
炭素数１から１２のアルコキシ基とは、アルキル部分が炭素数が１〜１２、好ましくは１〜８の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基からなる（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基等を挙げることができる。
炭素数１から６のハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分が同一又は異なってもよい１〜９個のハロゲン原子で置換されている、炭素数１〜６、好ましくは１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基からなる（ハロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２−フルオロエトキシ基、２，２−ジフルオロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、４−クロロブトキシ基等を挙げることができる。
炭素数２から６のアルコキシアルキルオキシ基とは、アルコキシアルキル部分が上記の意味である（アルコキシアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、ｎ−プロポキシエトキシ基、ｎ−ブトキシエトキシ基等を挙げることができる。
炭素数３から８のアルケニルオキシ基とは、アルケニル部分が炭素数が３〜８、好ましくは３〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基である（アルケニル）−Ｏ−基を示し、例えば２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、５−ヘキセニルオキシ基等を挙げることができる。
炭素数３から８のハロアルケニルオキシ基とは、アルケニル部分が炭素数が３〜８、好ましくは３〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基で、同一又は異なってもよい１〜９個、好ましくは１〜３個のハロゲン原子で置換されているハロアルケニル基である（ハロアルケニル）−Ｏ−基を示し、例えば３−クロロ−２−プロペニルオキシ基、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル基等を挙げることができる。
炭素数３から６のアルキニルオキシ基とは、アルキニル部分が炭素数が３〜８、好ましくは３〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基である（アルキニル）−Ｏ−基を示し、例えば２−プロピニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基等を挙げることができる。
炭素数３から７のシクロアルキルオキシ基とは、シクロアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基又はシクロヘキシルオキシ基又はシクロペンチルオキシ基等を挙げることができる。
炭素数４から７のシクロアルキルアルキルオキシ基とは、シクロアルキルアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキルアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルメトキシ基、１−シクロプロピルエトキシ基、２−シクロプロピルエトキシ基、３−シクロプロピルプロポキシ基、シクロブチルメトキシ基、シクロペンチルメトキシ基又はシクロヘキシルメトキシ基などが挙げられる。これらの炭素数４〜７のシクロアルキルアルキルオキシ基は、シクロアルキル基の部分又はアルキル基の部分が、ハロゲン原子、又は炭素数が１〜１２、好ましくは１〜６のアルキル基で置換されてもよく、このような置換基を有するシクロアルキルアルキルオキシ基としては、例えば、２，２−ジクロロシクロプロピルメトキシ基、２，２−ジフルオロシクロプロピルメトキシ基、２−メチルシクロプロピルメトキシ基、２，２−ジメチルシクロプロピルメトキシ基等を挙げることができる。
炭素数１から１２のアルキルチオ基、アルキルスルフィニル基及びアルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｓ−基、（アルキル）−ＳＯ−基、（アルキル）−ＳＯ２−基をそれぞれ示し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基又はイソプロピルスルホニル基等を挙げることができる。
炭素数１から６のアシル基とは、炭素数が１〜６、好ましくは１〜４の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基からなる脂肪族アシル基又はホルミル基を示し、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基等を挙げることができる。
炭素数１から６のアシルオキシ基とは、アシル部分が上記の意味であり、（アシル）−Ｏ−基を示し、例えばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基、ピバロイルオキシ基等を挙げることができる。
炭素数１から５のハロアルキルカルボニル基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−ＣＯ−基を示し、例えばクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、等を挙げることができる。
炭素数１から６のアルコキシカルボニル基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−基を示し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基又はイソプロポキシカルボニル基等を挙げることができる。
カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）とは、例えばメチルカルバモイル基、イソプロピルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基等を挙げることができる。
本発明における置換又は非置換のアミノ基は、活性や安全性に重大な影響が無い範囲において必要に応じて、アミノ基の窒素原子がさらに、置換又は非置換の炭素数１から４のアルキル基、置換又は非置換の炭素数２から４のアルケニル基、置換又は非置換の炭素数３から４のアルキニル基、置換又は非置換の炭素数１から４のアシル基、置換又は非置換の炭素数２から４のアルコキシカルボニル基、Ｎ−置換又は非置換のカルバモイル基、又は置換又は非置換の炭素数１から４のアルキルスルホニル基などで置換されていてもよい。このような置換又は非置換のアミノ基としては、例えば、アミノ基、フェニルアミノ基、アルキルアミノ基、シクロアルキルアミノ基、アルコキシアミノ基、アシルアミノ基、ハロアルキルカルボニルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、ハロアルキルスルホニルアミノ基などが挙げられる。
フェニルアミノ基のアミノ基の窒素原子は、さらに置換されていてもよく、このようなＮ−置換又は非置換のフェニルアミノ基としては、式（フェニル）−Ｎ（Ｒ１１）−（式中、Ｒ１１は、水素原子、炭素数１から４のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から４のアシル基、炭素数２から４のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって炭素数１から４のアルキル基を示す。）で表される基が挙げられる。Ｎ−置換又は非置換のフェニルアミノ基の例としては、例えば、フェニルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−２−プロペニルアミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−２−プロピニルアミノ基、Ｎ−アセチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−４−トリルアミノ基、３，３−ジメチル−１−（４−トリル）ウレイド基等を挙げることができる。このようなＮ−置換又は非置換のフェニルアミノ基は、さらに置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよい。
炭素数１から１２のアルキルアミノ基とは、炭素数が１〜１２、好ましくは１〜８の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基からなるアルキルアミノ基であり、アミノ基の窒素原子は、さらに置換されていてもよく、このようなＮ−置換又は非置換のアルキルアミノ基としては、式（アルキル）−Ｎ（Ｒ１２）−（式中、Ｒ１２は、水素原子、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基又は水酸基を示す。）で表される基が挙げられ、例えば、メチルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、イソプロピルメチルアミノ基、ｎ−ブチルメチルアミノ基、ｎ−ヘキシルメチルアミノ基、メチル−２−プロペニルアミノ基、メチル−２−プロピニルアミノ基等を挙げることができる。このようなＮ−置換又は非置換のアルキルアミノ基は、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよく、例えば、ベンジルメチルアミノ基などが挙げられる。
炭素数１から６のシクロアルキルアミノ基とは、シクロアルキル部分が上記の意味であるシクロアルキルアミノ基であり、アミノ基の窒素原子は、さらに置換されていてもよく、このようなＮ−置換又は非置換のシクロアルキルアミノ基としては、式（シクロアルキル）−Ｎ（Ｒ１３）−（式中、Ｒ１３は、水素原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から４のアシル基、炭素数２から４のアルコキシカルボニル基、又は炭素数１から４のアルキルスルホニル基を示す。）で表される基が挙げられ、例えば、シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−シクロプロピル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−アセチル−Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メタンスルホニルアミノ基等を挙げることができる。
炭素数１から１２のアルコキシアミノ基は、炭素数が１〜１２、好ましくは１〜８の直鎖又は分岐鎖状のアルコキシ基を有するアルコキシアミノ基であり、アミノ基の窒素原子は、さらに置換されていてもよく、このようなＮ−置換又は非置換のアルコキシアミノ基としては、式（アルコキシ）−Ｎ（Ｒ１４）−（式中、Ｒ１４は、水素原子、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１０のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から４のアシル基、炭素数２から４のアルコキシカルボニル基、又は炭素数１から４のアルキルスルホニル基を示す。）で表される基が挙げられ、例えば、メトキシアミノ基、Ｎ−ｎ−ブトキシ−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−ベンジルオキシ−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−アセチル−Ｎ−ｎ−ヘキシルオキシアミノ基、Ｎ−ｎ−ブチル−Ｎ−メトキシアミノ基等を挙げることができる。このようなＮ−置換又は非置換のアルコキシアミノ基は、アルコキシ基の部分が、さらに置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されていてもよい。
炭素数１から６のアシルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）とは、アシル部分が上記の意味であり、Ｒ１５が水素原子又は炭素数１から６のアルキル基である（アシル）−Ｎ（Ｒ１５）−基を示し、例えばアセチルアミノ基、Ｎ−メチルアセトアミド基、Ｎ−ブチルアセトアミド基、プロピオニルアミノ基、イソプロピオニルアミノ基、ピバロイルアミノ基等を挙げることができる。
炭素数１から５のハロアルキルカルボニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）とは、ハロアルキル部分及びＲ１５が上記の意味である（ハロアルキル）−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ１５）−基を示し、例えばクロロアセチルアミノ基、トリクロロアセチルアミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基、Ｎ−メチルトリフルオロアセトアミド基、Ｎ−ブチルトリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロプロピオニルアミノ基、等を挙げることができる。
炭素数１から６のアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）とは、アルキル部分及びＲ１５が上記の意味である（アルキル）−ＳＯ２Ｎ（Ｒ１５）−基を示し、例えばメタンスルホニルアミノ基、Ｎ−メチルメタンスルホンアミド基、Ｎ−ブチルメタンスルホンアミド基、エタンスルホニルアミノ基、イソプロピルスルホニルアミノ基、１−ブタンスルホニルアミノ基等を挙げることができる。
炭素数１から４のハロアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）とは、ハロアルキル部分及びＲ１５が上記の意味である（ハロアルキル）−ＳＯ２Ｎ（Ｒ１５）−基、を示し、例えばクロロメタンスルホニルアミノ基、Ｎ−メチルクロロメタンスルホンアミド基、Ｎ−ブチルクロロメタンスルホンアミド基、クロロエタンスルホニルアミノ基、ジフルオロメタンスルホニルアミノ基、トリフルオロメタンスルホニルアミノ基、２，２，２−トリフルオロエタンスルホニルアミノ基等を挙げることができる。
窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を有する５員から１２員のヘテロ環基とは、１個の環の大きさが５〜８員、好ましくは５〜６員で、環中に同一又は異なって１〜４個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子から選ばれる異種原子を有する複素環を１個又は２個有する単環式、多環式又は縮合環式の基であり、好ましいヘテロ環基としては、例えばピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、フリル基、チエニル基、ピロリル基、イソキサゾリル基、オキサゾリル基、イソチアゾリル基、チアゾリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、チアジアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、テトラゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、シンノリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、ナフチリジニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、ベンゾイソキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、インダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、ピラゾロピリミジニル基、トリアゾロピリミジニル基、プリニル基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、ピロリジニル基又はピペリジニル基などを挙げることができる。
薬理上許容される塩とは、一般式［１］で表される化合物において、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等がその構造中に存在する場合に、これらと金属もしくは有機塩基との塩又は鉱酸もしくは有機酸との塩であり、金属としてはナトリウムもしくはカリウム等のアルカリ金属又はマグネシウムもしくはカルシウム等のアルカリ土類金属を挙げることができ、有機塩基としてはトリエチルアミン又はジイソプロピルアミン等を挙げることができ、鉱酸としては塩酸、硫酸等を挙げることができ、有機酸としては酢酸、メタンスルホン酸、パラ−トルエンスルホン酸等を挙げることができる。
一般式［１］を有する化合物としては、上記の各種の置換基を組み合わせたものを挙げることができるが、薬効の面から好ましいものは次の通りである。
（１）ＱがＱ１でＸが塩素原子であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが４である化合物。
（２）ＱがＱ２でＸがジメトキシ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが４又は６である化合物。
（３）ＱがＱ７でＸがメチル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（４）ＱがＱ８でＸが水素原子又はメチル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが４又は６である化合物。
（５）ＱがＱ９でＸがメチル基及びフェニル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（６）ＱがＱ１２でＸがメチル基及びフェニル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（７）ＱがＱ１３でＸがメチル基、エチル基及び塩素原子であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（８）ＱがＱ１８でＸが水素原子であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（９）ＱがＱ２３でＸが水素原子であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（１０）ＱがＱ２４でＸが水素原子であり、Ｌ１が酸素原子又は硫黄原子であり、Ｌ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（１１）ＱがＱ２４でＸが塩素原子であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（１２）ＱがＱ２５でＸが水素原子又はメチル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（１３）ＱがＱ２９でＸが水素原子であり、ｍが０であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（１４）ＱがＱ１でＸが炭素数３から７のアルコキシ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（１５）ＱがＱ１でＸが炭素数５又は６のシクロアルキルオキシ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（１６）ＱがＱ１でＸがフェノキシ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（１７）ＱがＱ２でＸがメチル基及びフェニル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（１８）ＱがＱ２でＸがエチル基及びフェニル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（１９）ＱがＱ２でＸがメチル基及び炭素数３から６のアルコキシ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（２０）ＱがＱ２でＸがメチル基及びベンジル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（２１）ＱがＱ２でＸがメチル基及び該基の窒素原子が炭素数１〜３のアルキル基で置換されたフェニルアミノ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（２２）ＱがＱ２でＸがメチル基及び１〜２個の同一又は相異なる炭素数１から６のアルキル基で置換されたアミノ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（２３）ＱがＱ１２でＸがメチル基及びベンジル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２又は４である化合物。
（２４）ＱがＱ１２でＸがメチル基及び炭素数４から６のアルキル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（２５）ＱがＱ１２でＸがメチル基及び炭素数５又は６のシクロアルキル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（２６）ＱがＱ１２でＸがメチル基及び該基の窒素原子が炭素数１〜３のアルキル基で置換されたフェニルアミノ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（２７）ＱがＱ１３でＸがメチル基及びフェニル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（２８）ＱがＱ１３でＸがメチル基及び炭素数３から５のアルキル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
中でも、特に好ましいものは次の通りである。
（１）ＱがＱ１でＸがｎ−ブトキシ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（２）ＱがＱ１でＸがシクロペンチルオキシ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（３）ＱがＱ２でＸがメチル基及びフェニル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（４）ＱがＱ２でＸがメチル基及びｎ−ブトキシ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（５）ＱがＱ２でＸがメチル基及びベンジル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（６）ＱがＱ２でＸがメチル基及びＮ−ｎ−ブチル−Ｎ−メチルアミノ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（７）ＱがＱ１２でＸがメチル基及びフェニル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（８）ＱがＱ１２でＸがメチル基及びシクロヘキシル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（９）ＱがＱ１２でＸがメチル基及びＮ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（１０）ＱがＱ１３でＸがメチル基及びフェニル基であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが２である化合物。
（１１）ＱがＱ２４でＸが水素原子であり、Ｌ１及びＬ２が酸素原子であり、ｎが４である化合物。
次に、一般式［１］を有する本発明化合物の代表的な化合物例を表１〜表３７に記載する。しかしながら、本発明化合物はこれらに限定されるものではない。尚、化合物番号は以後の記載において参照される。
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
Ｍｅ ：メチル基、
Ｅｔ ：エチル基、
Ｐｒ ：ｎ−プロピル基、
Ｐｒ−ｉ ：イソプロピル基、
Ｐｒ−ｃ ：シクロプロピル基、
Ｂｕ−ｔ ：ｔｅｒｔ−ブチル基、
Ｈｅｘ−ｃ：シクロヘキシル基、
Ｐｈ ：フェニル基、
３−Ｐｉｃｏｌｙｌ：３−ピコリル基、
２−Ｃｌ−Ｐｙｒｉｄ−５−ｙｌ：２−クロロ−５−ピリジル基
尚、本発明化合物は置換基として水酸基を含む場合、ケト−エノール互変異性体を有する化合物がある。
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一般式［１］を有する本発明化合物は、以下に示す製造法に従って製造することができるが、これらの方法に限定されるものではない。
＜製造法１＞ 本発明化合物［１ａ］は、次に示すように、化合物［５］と化合物［２］とを、溶媒中、塩基存在下で反応させることによって合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｑ、ｎ及びＹは前記と同じ意味を表わす。）原料のモル比は任意に設定できるが、通常、化合物［５］１当量に対して化合物［２］は０．５〜２当量の割合である。反応温度はいずれの反応も０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは室温〜１２０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが０．５時間〜５時間で終了する。
溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、水或いはこれらの混合物が挙げられる。
塩基としては、例えば水素化ナトリウム等の金属水素化物、ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類或いはナトリウムメトキシド又はカリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコールの金属塩類が挙げられる。
原料化合物［５］は市販品として入手するか、或いは市販品のエステル体又はニトリル体を加水分解して得るか、或いは公知文献に記載の方法又はそれに準じた方法で合成することができる。公知文献としては、例えば、Ｑがピリジル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ７ｂ巻、第２９６頁〜第６６２頁（１９９２年）、ピリミジニル基の場合はメソッズ・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｍｅｔｈｏｄｓ Ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第Ｅ９ｂ１巻、第８頁〜第２４９頁（１９９８年）、ピラジニル基の場合はメソッズ・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｍｅｔｈｏｄｓ Ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第Ｅ９ｂ１巻、第２６０頁〜第３４６頁（１９９８年）、ピリダジニル基の場合はメソッズ・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｍｅｔｈｏｄｓ Ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第Ｅ９ａ巻、第５６８頁〜第６６６頁（１９９７年）、トリアジニル基の場合はメソッズ・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｍｅｔｈｏｄｓ Ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第Ｅ９ｃ巻、第６７４頁〜第７８２頁（１９９７年）、フリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ６ａ巻、第２６頁〜第１５４頁（１９９４年）、チエニル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ６ａ巻、第１９４頁〜第４８８頁（１９９４年）、ピロリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ６ａ巻、第５７０頁〜第７６９頁（１９９４年）、イソキサゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ａ巻、第４９頁〜第１７６頁（１９９３年）、オキサゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ａ巻、第８９４頁〜第１００１頁（１９９３年）、イソチアゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ａ巻、第６７４頁〜第７７１頁（１９９３年）、チアゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ｂ巻、第５頁〜第３２５頁（１９９４年）、ピラゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ｂ巻、第４０８頁〜第７０４頁（１９９４年）、イミダゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ｃ巻、第４頁〜第１８５頁（１９９４年）、チアジアゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ｄ巻、第６０頁〜第８４頁又は第１５３頁〜第１６７頁（１９９４年）、トリアゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ｄ巻、第４８１頁〜第５８３頁（１９９４年）、キノリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ７ａ巻、第３０７頁〜第４６９頁（１９９１年）、イソキノリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ７ａ巻、第５８３頁〜第７２６頁（１９９１年）、キノキサリニル基の場合はメソッズ・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｍｅｔｈｏｄｓ Ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第Ｅ９ｂ２巻、第１９６頁〜第２４９頁（１９９７年）、シンノリニル基の場合はメソッズ・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｍｅｔｈｏｄｓ Ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第Ｅ９ａ巻、第６９１頁〜第７３８頁（１９９７年）、ナフチリジニル基の場合はジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）第２８３８頁（１９９０年）又はジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．）第２６７４頁（１９９７年）、ベンゾフリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ６ｂ１巻、第４０頁〜第１４１頁（１９９４年）、ベンゾチエニル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ６ｂ１巻、第２２０頁〜第２６３頁（１９９４年）、インドリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ６ｂ１巻、第５６２頁〜第８４８頁又は第Ｅ６ｂ２巻、第８４９頁〜第１２１６頁（１９９４年）、ベンゾイソキサゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ａ巻、第２３２頁〜第３２１頁（１９９３年）、ベンゾオキサゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ａ巻、第１０２２頁〜第１１６４頁（１９９３年）、ベンゾイソチアゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ａ巻、第８０１頁〜第８４０頁（１９９３年）、ベンゾチアゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ｂ巻、第８６９頁〜第１００９頁（１９９４年）、インダゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ｂ巻、第７７０頁〜第８５１頁（１９９４年）、ベンゾイミダゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ｃ巻、第２２２頁〜第３７２頁（１９９４年）、ベンゾトリアゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ｄ巻、第４０９頁〜第４６７頁（１９９４年）、ベンゾチアジアゾリル基の場合はメトーデン・デル・オルガニッシェン・ヘミー（Ｍｅｔｈｏｄｅｎ Ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ）第Ｅ８ｄ巻、第１７１頁〜第１８４頁（１９９４年）、ピラゾロピリミジニル基及びトリアゾロピリミジニル基の場合はジャーナル・オブ・ヘテロサイクル・ケミストリー（Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ．Ｃｈｅｍ．）第７３５頁（１９８３年）等が挙げられる。
原料化合物［２］において、ｎが４〜８で表わされる化合物［２ａ］は次に示す方法で合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｚ及びＹは前記と同じ意味を表わし、ｒは４〜８を表わす。）
化合物［３］は次に示す方法で合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｚ及びｑは前記と同じ意味を表わす。）化合物［７］は、ｑが３〜５で表わされるものは市販品として入手することができ、ｑが６で表わされるものは、例えば、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）第３４５６頁（１９７５年）、ｑが７で表わされるものは、例えば、ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．）第１１５２頁（１９７７年）に記載の方法に準じて製造することができる。
原料化合物［２］において、ｎが２又は３で表わされる化合物［２ｂ］は次に示す方法で合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｙは前記と同じ意味を表わし、ｔは２又は３を表わす。）化合物［９］は市販品として入手することができる。
＜製造法２＞ 本発明化合物［１ｂ−１］又は［１ｂ−２］は、化合物［１２］と化合物［６］又は化合物［１３］とを、溶媒中、塩基存在下で反応させることによって合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｑ及びｎは前記と同じ意味を表わし、Ｖはハロゲン原子を表す。）
原料のモル比は任意に設定できるが、通常、化合物［１２］１当量に対して化合物［６］又は［１３］は０．５〜２当量の割合である。
反応温度はいずれの反応も−２０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜６０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが０．２時間〜５時間で終了する。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物、酢酸エチル等のエステル類、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、ピリジン、水或いはこれらの混合物が挙げられる。
塩基としては、例えばピリジン、トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン又は１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、水素化ナトリウム等の金属水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム又は水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類が挙げられる。
原料化合物［１２］は市販品として入手するか、或いは化合物［５］を塩化チオニル又はオキザリルクロリドと反応させることで合成することができる。
原料化合物［１３］は次に示す方法で合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｗ及びｎは前記と同じ意味を表わす。）
化合物［４］は、化合物［２］を溶媒中、ジアルキルジチオカルバミン酸塩と反応させることで合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｙ、Ｗ及びｎは前記と同じ意味を表わす。）
＜製造法３＞ 本発明化合物［１ｂ−１］又は［１ｂ−２］は、次に示すように、化合物［５］と化合物［６］又は化合物［１３］とを、溶媒中、脱水縮合剤存在下で反応させることによっても合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｑ及びｎは前記と同じ意味を表わす。）
原料のモル比は任意に設定できるが、通常、化合物［５］１当量に対して化合物［６］又は［１３］は０．５〜２当量の割合である。
反応温度はいずれの反応も−２０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは０℃〜６０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが０．５時間〜５０時間で終了する。
用いる脱水縮合剤により、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、３−ヒドロキシ−４−オキソ−３，４−ジヒドロ−１，２，３−ベンゾトリアジン又はジメチルアミノピリジン等を触媒量添加してもよい。
溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、ピリジン或いはこれらの混合物が挙げられる。
脱水縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド（ＷＳＣ）及びその塩酸塩、ベンゾトリアゾール−１−イル−トリス（ピロリジノ）ホスホニウムヘキサフルオロリン化物塩（ＰＹＢＯＰ）、１，１’−カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）、トリフェニルホスフィンとアゾジカルボキシレートエステルとの組み合わせ等が挙げられる。
＜製造法４＞ 本発明化合物［１ｃ］は、化合物［１ｂ］と硫化剤とを、溶媒中で反応させることによって合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｑ、Ｌ２及びｎは前記と同じ意味を表わす。）反応の当量比は任意に設定できるが、通常、化合物［１ｂ］１当量に対して硫化剤は１〜２０当量である。反応温度はいずれの反応も０℃から反応系における還流温度までの任意の温度で行い、好ましくは室温〜１８０℃の温度範囲であり、反応は化合物により異なるが０．５時間〜５０時間で終了する。
溶媒としては、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン、クロロトルエン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、ピリジン又はキノリン等の芳香族ヘテロアリール類、アセトニトリル等のニトリル類或いはこれらの混合物が挙げられる。
硫化剤としては、例えばローソン試薬、五硫化二リン等が挙げられる。
＜製造法５＞ 本発明化合物［１ｅ］は化合物［１ｄ］と化合物［１４］とを、溶媒中、塩基存在下で反応させることにより合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｌ１、Ｌ２及びｎは前記と同じ意味を表わし、ＱはＱ９、Ｑ１４、Ｑ１５、Ｑ１８、Ｑ２６、Ｑ３１、Ｑ３２又はＱ３３を表わし、Ｘ１は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数２から６のアルコキシアルキル基、炭素数３から６のアルケニル基、炭素数３から７のハロアルケニル基、炭素数３から６のアルキニル基、炭素数３から６のシクロアルキル基又は炭素数４から７のシクロアルキルアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）を表わし、置換基群αは前記と同じ意味を表わし、Ｇは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はメタンスルホニルオキシ基を表わす。）
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間反応させる。反応に供される試剤の量は化合物［１ｄ］１当量に対して化合物［１４］は１〜２０当量、塩基は１〜３当量である。
塩基及び溶媒としては、例えば製造法１と同様なものが挙げられる。
＜製造法６＞ 本発明化合物［１ｇ］は化合物［１ｆ］と酸ハロゲン化物又は酸無水物とを、溶媒中、塩基存在下で反応させるか、或いは酸無水物を溶媒として反応させることにより合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｑ、Ｌ１、Ｌ２、ｎ及びＶは前記と同じ意味を表わし、Ｘ２は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアシル基又は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアルキルスルホニル基、炭素数２から５のハロアルキルカルボニル基、炭素数１から４のハロアルキルスルホニル基又は置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイル基又は置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルホニル基を表わす。置換基群α及び置換基群βは前記と同じ意味を表わす。）
この反応は通常、反応温度−２０〜１４０℃で１０分〜２４時間反応させる。反応に供される試剤の量は化合物［１ｆ］１当量に対して酸塩化物又は酸無水物は１〜２０当量、塩基は１〜３当量である。
塩基及び溶媒としては、例えば製造法２と同様なものが挙げられる。
＜製造法７＞ 本発明化合物［１ｉ］は化合物［１ｈ］と化合物［１４］とを、溶媒中、塩基存在下で反応させることにより合成することができる。
Figure 0004409944
［式中、Ｑ、Ｌ１、Ｌ２、ｎ、Ｘ１及びＧは前記と同じ意味を表わし、Ｌ３は−Ｏ−又は−Ｎ（Ｒ）−を表わし、Ｒは水素原子、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキル基、炭素数３から６のシクロアルキル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルコキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアシル基、炭素数２から５のハロアルキルカルボニル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアルキルスルホニル基、炭素数１から４のハロアルキルスルホニル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイル基又は置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルホニル基を表わす。置換基群α及び置換基群βは前記と同じ意味を表わす。］
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間反応させる。反応に供される試剤の量は化合物［１ｈ］１当量に対して化合物［１４］は１〜２０当量、塩基は１〜３当量である。
塩基及び溶媒としては、例えば製造法１と同様なものが挙げられる。
＜製造法８＞ 本発明化合物［１ｊ］は、以下の方法で合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｌ２、ｎ、Ｘ１及びＧは前記と同じ意味を表わす。）
この反応は通常、反応温度０〜１２０℃で１０分〜２４時間反応させる。
反応に供される試剤の量は化合物［１５］１当量に対して化合物［６］又は［１３］は１〜３当量、水素化ナトリウムは１〜３当量、化合物［１４］は１〜２０当量である。溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はスルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類或いはこれらの混合物が挙げられる。
化合物［１５］は、触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド存在下、イミダゾール−４−カルボン酸と塩化チオニルとを反応させることで合成することができる。
＜製造法９＞ 本発明化合物［１ｍ］は、化合物［１ｋ］と酸化剤とを、溶媒中反応させることにより合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｑ、Ｌ１、Ｌ２、ｎは前記と同じ意味を表わし、Ｘ３は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキル基又は置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニル基を表わし、ｕは１又は２を表わす。置換基群α及び置換基群βは前記と同じ意味を表わす。）
この反応は通常、反応温度−２０〜１００℃で１０分〜２４時間反応させる。
反応に供される酸化剤の量は、化合物［１ｋ］１当量に対して１〜２０当量である。溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン又はジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はＮ−メチル−２−ピロリジノン等のアミド類、ベンゼン、トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン又は２−ブタノン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール等のアルコール類、酢酸、水或いはこれらの混合物が挙げられる。
酸化剤としては、ｍ−クロロ過安息香酸、オキソン（商品名、２ＫＨＳＯ５・ＫＨＳＯ４・Ｋ２ＳＯ４）又は過酸化水素とタングステン酸ナトリウムの組み合わせ等が挙げられる。
＜製造法１０＞ 本発明化合物［１ｋ］、［１ｎ］又は［１ｐ］は、以下の方法で合成することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｑ、Ｌ１、Ｌ２、ｎ、Ｘ３は前記と同じ意味を表わす。Ｘ４は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数２から６のアルコキシアルキル基、炭素数３から８のアルケニル基、炭素数３から８のハロアルケニル基、炭素数３から６のアルキニル基、炭素数３から７のシクロアルキル基、炭素数４から７のシクロアルキルアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニル基又は置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジル基を表わす。Ｘ５は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキル基、炭素数３から６のシクロアルキル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルコキシ基又は置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニル基を表わし、Ｘ６は水素原子又は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキル基を表わすか、若しくは、Ｘ５、Ｘ６及び該窒素原子とで、ピロリジニル基、ピペリジニル基又はフタルイミド基を表わす。置換基群α及び置換基群βは前記と同じ意味を表わす。）
この反応は通常、反応温度−２０〜１２０℃で１０分〜２４時間反応させる。
反応に供される試剤の量は、化合物［１ｍ−１］１当量に対して［１６］、［１７］又は［１８］は１〜１０当量、塩基は０〜５当量である。
塩基及び溶媒としては、例えば製造法１と同様なものが挙げられる。
なお、特願２００１−２９９６８７明細書、及び特願２００２−１４２３２９明細書に記載された内容を、本明細書にすべて取り込む。
実施例
次に、実施例をあげて本発明化合物の製造法、製剤法及び用途を具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定解釈されるべきものではない。まず、本発明化合物の製造例を示す。
製造例１ ＜製造法１＞による化合物（１８）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート０．４０ｇ（１．８ミリモル）とベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボン酸０．３３ｇ（１．９ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．４６ｇ（５．５ミリモル）を加え１００℃で２時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：７）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボキシレート０．４８ｇ（収率９３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６９（３Ｈ，ｔ），２．４２〜２．４９（２Ｈ，ｍ），４．４１（２Ｈ，ｔ），７．３８〜７．４９（２Ｈ，ｍ），７．８５〜７．９０（２Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｓ）
製造例２ ＜製造法１＞による化合物（３）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニルメタンスルホネート５．００ｇ（２２ミリモル）とベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボン酸４．３０ｇ（２４ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム６．００ｇ（７１ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：７）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボキシレート５．５０ｇ（収率８１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５２〜１．６２（５Ｈ，ｍ），１．７３〜１．８３（２Ｈ，ｍ），２．０３〜２．０９（２Ｈ，ｍ），４．３６（２Ｈ，ｔ），７．３８〜７．４９（２Ｈ，ｍ），７．８５〜７．９０（２Ｈ，ｍ），８．０６（１Ｈ，ｓ）
製造例３ ＜製造法１＞による化合物（６）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル メタンスルホネート１．５０ｇ（６．６ミリモル）と１Ｈ−インドール−２−カルボン酸１．３０ｇ（８．１ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム１．４０ｇ（１７ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １Ｈ−インドール−２−カルボキシレート１．７０ｇ（収率８８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５２〜１．６２（５Ｈ，ｍ），１．７３〜１．８３（２Ｈ，ｍ），２．０３〜２．０９（２Ｈ，ｍ），４．３６（２Ｈ，ｔ），７．１６（１Ｈ，ｔ），７．２３（１Ｈ，ｓ），７．３３（１Ｈ，ｔ），７．４３（１Ｈ，ｄ），７．７０（１Ｈ，ｄ），８．９２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
製造例４ ＜製造法１＞による化合物（１５）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル メタンスルホネート０．６８ｇ（３．０ミリモル）と１Ｈ−インドール−５−カルボン酸０．５８ｇ（３．６ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．７５ｇ（８．９ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １Ｈ−インドール−５−カルボキシレート０．８１ｇ（収率９３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５２〜１．６２（５Ｈ，ｍ），１．７３〜１．８３（２Ｈ，ｍ），２．０３〜２．０９（２Ｈ，ｍ），４．３５（２Ｈ，ｔ），６．６６〜６．６７（１Ｈ，ｍ），７．２７〜７．２９（１Ｈ，ｍ），７．４１（１Ｈ，ｄ），７．９１（１Ｈ，ｄ），８．３７（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），８．４２（１Ｈ，ｓ）
製造例５ ＜製造法１＞による化合物（２６）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル メタンスルホネート０．５０ｇ（２．２ミリモル）と４−クロロ−５−エチル−２−メチル−２Ｈ−ピラゾール−３−カルボン酸０．４５ｇ（２．４ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．３７ｇ（４．４ミリモル）を加え１００℃で７時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−クロロ−５−エチル−２−メチル−２Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート０．５２ｇ（収率７４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．２４（３Ｈ，ｔ），１．５４〜１．６４（５Ｈ，ｍ），１．７１〜１．８０（２Ｈ，ｍ），２．０１〜２．０７（２Ｈ，ｍ），２．６５（２Ｈ，ｑ），４．１０（３Ｈ，ｓ），４．３４（２Ｈ，ｔ）
製造例６ ＜製造法１＞による化合物（２９）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル メタンスルホネート０．５０ｇ（２．２ミリモル）と４−メチル−２−フェニルチアゾール−５−カルボン酸０．５３ｇ（２．４ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．３７ｇ（４．４ミリモル）を加え１００℃で６時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−メチル−２−フェニルチアゾール−５−カルボキシレート０．５７ｇ（収率７４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５０〜１．６０（５Ｈ，ｍ），１．７０〜１．７９（２Ｈ，ｍ），２．０２〜２．０８（２Ｈ，ｍ），２．７９（３Ｈ，ｓ），４．３１（２Ｈ，ｔ），７．４２〜７．４７（３Ｈ，ｍ），７．９５〜７．９８（２Ｈ，ｍ）
製造例７ ＜製造法１＞による化合物（４２）の製造
メチル ベンゾ［１，２，５］チアジアゾール−５−カルボキシレート２．０ｇ（１０ミリモル）をエタノール３０ｍｌに溶かし、２５％水酸化ナトリウム水溶液３．３ｇを加え、室温で３時間攪拌した。反応液に水５０ｍｌを加え、希塩酸を加えてｐＨ２とし、析出した結晶をろ取、減圧下乾燥してベンゾ［１，２，５］チアジアゾール−５−カルボン酸１．７ｇ（収率９２％）を得た。別の反応容器で、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル メタンスルホネート０．５０ｇ（２．２ミリモル）とベンゾ［１，２，５］チアジアゾール−５−カルボン酸０．４３ｇ（２．４ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．３７ｇ（４．４ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１９）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾ［１，２，５］チアジアゾール−５−カルボキシレート０．４４ｇ（収率６４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５５〜１．６５（５Ｈ，ｍ），１．７７〜１．８７（２Ｈ，ｍ），２．０５〜２．１１（２Ｈ，ｍ），４．４２（２Ｈ，ｔ），８．０６（１Ｈ，ｄ），８．２２（１Ｈ，ｄ），８．７５（１Ｈ，ｄ）
製造例８ ＜製造法１＞による化合物（５６）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル メタンスルホネート０．９２ｇ（４．０ミリモル）と６−アミノニコチン酸０．７２ｇ（５．２ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム１．３０ｇ（１６ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−アミノニコチネート０．８５ｇ（収率７８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５１〜１．６０（５Ｈ，ｍ），１．６９〜１．７９（２Ｈ，ｍ），２．００〜２．０７（２Ｈ，ｍ），４．２９（２Ｈ，ｔ），４．８５（２Ｈ，ｂｒ．ｓ），６．４８（１Ｈ，ｄ），８．０２（１Ｈ，ｄｄ），８．７４（１Ｈ，ｄ）
製造例９ ＜製造法１＞による化合物（１０）の製造
８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテニル メタンスルホネート０．２９ｇ（１．１ミリモル）とベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボン酸０．２６ｇ（１．５ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．２８ｇ（３．３ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：８）により精製し、８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテニル ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボキシレート０．２７ｇ（収率７１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．３４〜１．５２（６Ｈ，ｍ），１．５５（３Ｈ，ｔ），１．７４〜１．８４（２Ｈ，ｍ），１．９５〜２．００（２Ｈ，ｍ），４．３５（２Ｈ，ｔ），７．３８〜７．４９（２Ｈ，ｍ），７．８５〜７．９０（２Ｈ，ｍ），８．０６（１Ｈ，ｓ）
製造例１０ ＜製造法２＞による化合物（４）の製造
ＷＯ ９３ １８０１２ Ａ１号公報に記載の方法で製造した４，６−ジメトキシピリミジン−２−カルボン酸１．１ｇ（６．０ミリモル）、塩化チオニル１．１ｇ（９．０ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１滴、トルエン５ｍｌの混合物を、加熱還流下３時間攪拌した。反応後、過剰の塩化チオニル及び溶媒を減圧下留去し、４，６−ジメトキシピリミジン−２−カルボニルクロリドの結晶を得た。別の容器で、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノール０．３０ｇ（２．０ミリモル）と４，６−ジメトキシピリミジン−２−カルボニルクロリド０．６１ｇ（３．０ミリモル）をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶かし、室温でトリエチルアミン０．４０ｇ（４．０ミリモル）を滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：７）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４，６−ジメトキシピリミジン−２−カルボキシレート０．２０ｇ（収率２１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５１〜１．６２（５Ｈ，ｍ），１．７５〜１．８４（２Ｈ，ｍ），２．０２〜２．０８（２Ｈ，ｍ），４．０２（６Ｈ，ｓ），４．４０（２Ｈ，ｔ），６．１６（１Ｈ，ｓ）
製造例１１ ＜製造法２＞による化合物（４５）の製造
ジャーナル・オブ・メディシナル・ケミストリー（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．）第２３０８頁〜第２３１４頁（１９９４年）に記載の方法で製造したベンゾ［ｄ］イソチアゾール−３−カルボニルクロリド１．１０ｇ（５．６ミリモル）と、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノール０．５９ｇ（３．９ミリモル）をテトラヒドロフラン３０ｍｌに溶かし、室温でトリエチルアミン０．７４ｇ（７．３ミリモル）を滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾ［ｄ］イソチアゾール−３−カルボキシレート１．００ｇ（収率８２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５５〜１．６５（５Ｈ，ｍ），１．８３〜１．９２（２Ｈ，ｍ），２．０４〜２．１０（２Ｈ，ｍ），４．５０（２Ｈ，ｔ），７．５２〜７．６２（２Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄ），８．７６（１Ｈ，ｄ）
製造例１２ ＜製造法２＞による化合物（５２）の製造
６−クロロニコチン酸１．００ｇ（６．３ミリモル）、塩化チオニル５ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３滴の混合物を、加熱還流下３時間攪拌した。反応後、過剰の塩化チオニルを減圧下留去し、トルエン１０ｍｌを加えて再度溶媒を減圧下留去し、６−クロロニコチノイルクロリドの結晶を得た。別の容器で、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセン−１−チオール０．５０ｇ（３．０ミリモル）と６−クロロニコチノイルクロリド０．８０ｇ（４．５ミリモル）をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶かし、室温でトリエチルアミン０．５０ｇ（４．９ミリモル）を滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：６）により精製し、Ｓ−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）６−クロロチオニコチネート０．８０ｇ（収率８７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４８〜１．５８（５Ｈ，ｍ），１．６３〜１．７３（２Ｈ，ｍ），１．９９〜２．０５（２Ｈ，ｍ），３．１２（２Ｈ，ｔ），７．４３（１Ｈ，ｄ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ），８．９５（１Ｈ，ｄ）
製造例１３ ＜製造法２＞による化合物（５３）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセン−１−チオール０．２５ｇ（１．５ミリモル）とベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボニルクロリド０．３９ｇ（２．０ミリモル）をテトラヒドロフラン１０ｍｌに溶かし、室温でトリエチルアミン０．３０ｇ（３．０ミリモル）を滴下し、そのまま１時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：２０）により精製し、Ｓ−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−チオカルボキシレート０．３９ｇ（収率８０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５０〜１．６０（５Ｈ，ｍ），１．６５〜１．７５（２Ｈ，ｍ），１．９９〜２．０５（２Ｈ，ｍ），３．１３（２Ｈ，ｔ），７．３８〜７．４９（２Ｈ，ｍ），７．８５〜７．９０（２Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｓ）
製造例１４ ＜製造法３＞による化合物（１）の製造
６−クロロニコチン酸０．３５ｇ（２．２ミリモル）、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノール０．４０ｇ（２．７ミリモル）、ジメチルアミノピリジン０．３３ｇ（２．７ミリモル）をジクロロメタン１０ｍｌに溶かし、室温でＮ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド（ＷＳＣ）塩酸塩０．５１ｇ（２．７ミリモル）を加え、そのまま１５時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−クロロニコチネート０．５９ｇ（収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５０〜１．５９（５Ｈ，ｍ），１．７２〜１．８１（２Ｈ，ｍ），２．０２〜２．０７（２Ｈ，ｍ），４．３７（２Ｈ，ｔ），７．４２（１Ｈ，ｄ），８．２４（１Ｈ，ｄｄ），８．９９（１Ｈ，ｄ）
製造例１５ ＜製造法３＞による化合物（１１）の製造
４−フェニル［１，２，３］チアジアゾール−５−カルボン酸０．２３ｇ（１．１ミリモル）、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノール０．１７ｇ（１．１ミリモル）、ジメチルアミノピリジン０．１３ｇ（１．１ミリモル）をジクロロメタン４ｍｌに溶かし、室温でＮ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド（ＷＳＣ）塩酸塩０．２９ｇ（１．５ミリモル）を加え、そのまま２０時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：６）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−フェニル［１，２，３］チアジアゾール−５−カルボキシレート０．２７ｇ（収率６６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．３７〜１．４７（２Ｈ，ｍ），１．５４（３Ｈ，ｍ），１．６３〜１．７３（２Ｈ，ｍ），１．９５〜２．０１（２Ｈ，ｍ），４．３２（２Ｈ，ｔ），７．５０〜７．５４（３Ｈ，ｍ），７．８７〜７．９０（２Ｈ，ｍ）
製造例１６ ＜製造法３＞による化合物（２１）の製造
ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイアティー（Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第２３２８頁（１９４９年）に記載の方法で製造したベンゾチアゾール−２−カルボン酸０．２４ｇ（１．３ミリモル）、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノール０．１７ｇ（１．１ミリモル）、ジメチルアミノピリジン０．１３ｇ（１．１ミリモル）をジクロロメタン４ｍｌに溶かし、室温でＮ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド（ＷＳＣ）塩酸塩０．３８ｇ（２．０ミリモル）を加え、そのまま２０時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾチアゾール−２−カルボキシレート０．１５ｇ（収率４３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５３〜１．６３（５Ｈ，ｍ），１．８１〜１．９０（２Ｈ，ｍ），２．０４〜２．０９（２Ｈ，ｍ），４．５０（２Ｈ，ｔ），７．５３〜７．６２（２Ｈ，ｍ），７．９８（１Ｈ，ｄ），８．２６（１Ｈ，ｄ）
製造例１７ ＜製造法４＞による化合物（５５）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニルベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボキシレート０．２０ｇ（０．６４ミリモル）を２−クロロトルエン５ｍｌに溶かし、ローソン試薬０．２６ｇ（０．６４ミリモル）を加え、４時間加熱還流した。反応液にジイソプロピルエーテル２ｍｌとヘキサン１０ｍｌを加え、析出した固体をろ別した。ろ液を減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：３０）により精製し、Ｏ−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−チオカルボキシレート０．１７ｇ（収率８１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５８〜１．６８（５Ｈ，ｍ），１．８５〜１．９５（２Ｈ，ｍ），２．０５〜２．１１（２Ｈ，ｍ），４．６７（２Ｈ，ｔ），７．３８（１Ｈ，ｔ），７．４５（１Ｈ，ｔ），７．８１（１Ｈ，ｄ），７．８７（１Ｈ，ｄ），８．０９（１Ｈ，ｓ）
製造例１８ ＜製造法５＞による化合物（１６）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １Ｈ−インドール−５−カルボキシレート０．４０ｇ（１．４ミリモル）とヨードメタン０．４０ｇ（２．８ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに溶かし、室温で水素化ナトリウム０．０７ｇ（１．７ミリモル）を加えそのまま１時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−メチル−１Ｈ−インドール−５−カルボキシレート０．３６ｇ（収率８６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５４〜１．６４（５Ｈ，ｍ），１．７４〜１．８３（２Ｈ，ｍ），２．０３〜２．０９（２Ｈ，ｍ），３．８３（３Ｈ，ｓ），４．３４（２Ｈ，ｔ），６．５９（１Ｈ，ｄ），７．１１（１Ｈ，ｄ），７．３３（１Ｈ，ｄ），７．９３（１Ｈ，ｄｄ），８．３９（１Ｈ，ｄ）
製造例１９ ＜製造法５＞による化合物（２５）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １Ｈ−インドール−２−カルボキシレート０．３２ｇ（１．１ミリモル）とヨードエタン０．３４ｇ（２．２ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに溶かし、室温で水素化ナトリウム０．０６ｇ（１．５ミリモル）を加えそのまま１時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−エチル−１Ｈ−インドール−２−カルボキシレート０．３１ｇ（収率８８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４０（３Ｈ，ｔ），１．５３〜１．６３（５Ｈ，ｍ），１．７３〜１．８３（２Ｈ，ｍ），２．０３〜２．０９（２Ｈ，ｍ），４．３３（２Ｈ，ｔ），４．６３（２Ｈ，ｑ），７．１５（１Ｈ，ｔ），７．２９（１Ｈ，ｓ），７．３０〜７．４２（２Ｈ，ｍ），７．６８（１Ｈ，ｄ）
製造例２０ ＜製造法１＞及び＜製造法５＞による化合物（３５）及び化合物（３６）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル メタンスルホネート０．６８ｇ（３．０ミリモル）と１Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−カルボン酸０．２４ｇ（１．５ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．４２ｇ（５．０ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製し、第１溶出成分として６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−カルボキシレート０．２２ｇ（収率３５％）、第２溶出成分として６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ３−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）−３Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−カルボキシレート０．２１ｇ（収率３３％）を得た。
化合物（３５）：１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．３９〜１．６４（１０Ｈ，ｍ），１．７４〜１．９４（４Ｈ，ｍ），１．９９〜２．０９（４Ｈ，ｍ），４．２２（２Ｈ，ｔ），４．３７（２Ｈ，ｔ），７．４２（１Ｈ，ｄ），７．９７（１Ｈ，ｓ），８．０５（１Ｈ，ｄ），８．５４（１Ｈ，ｓ）．
化合物（３６）：１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４３〜１．６４（１０Ｈ，ｍ），１．７６〜１．９６（４Ｈ，ｍ），２．００〜２．０９（４Ｈ，ｍ），４．２５（２Ｈ，ｔ），４．３８（２Ｈ，ｔ），７．８２（１Ｈ，ｄ），７．９７〜８．０１（２Ｈ，ｍ），８．１６（１Ｈ，ｓ）
製造例２１ ＜製造法６＞による化合物（５７）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−アミノニコチネート０．６２ｇ（２．３ミリモル）をピリジン５ｍｌに溶かし、氷冷下トルエン−４−スルホニルクロリド０．４８ｇ（２．５ミリモル）を加え１０分間攪拌し、その後室温で１５時間攪拌した。反応液を５％塩酸中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−（トルエン−４−スルホニルアミノ）ニコチネート０．８８ｇ（収率９０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４５〜１．５５（５Ｈ，ｍ），１．６７〜１．７６（２Ｈ，ｍ），１．９７〜２．０３（２Ｈ，ｍ），２．４０（３Ｈ，ｓ），４．３０（２Ｈ，ｔ），７．２７（２Ｈ，ｄ），７．３９（１Ｈ，ｄ），７．８０（２Ｈ，ｄ），８．１９（１Ｈ，ｄ），８．９３（１Ｈ，ｓ），１１．６０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
製造例２２ ＜製造法７＞による化合物（５８）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−（トルエン−４−スルホニルアミノ）ニコチネート０．３０ｇ（０．７ミリモル）とヨードメタン０．１５ｇ（１．１ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに溶かし、室温で炭酸カリウム０．２０ｇ（１．４ミリモル）を加え、そのまま１時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−［Ｎ−メチル−Ｎ−（トルエン−４−スルホニル）アミノ］ニコチネート０．１５ｇ（収率４８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４９〜１．５８（５Ｈ，ｍ），１．７０〜１．８０（２Ｈ，ｍ），２．０１〜２．０７（２Ｈ，ｍ），２．３９（３Ｈ，ｓ），３．３７（３Ｈ，ｓ），４．３３（２Ｈ，ｔ），７．２４（２Ｈ，ｄ），７．５３（２Ｈ，ｄ），７．８０（１Ｈ，ｄ），８．２３（１Ｈ，ｄｄ），８．８８（１Ｈ，ｄ）
製造例２３ ＜製造法１＞及び＜製造法７＞による化合物（６１）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート０．８０ｇ（４．０ミリモル）と６−ヒドロキシニコチン酸０．７２ｇ（５．２ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム１．３ｇ（１５ミリモル）を加え１３０℃で４時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−（４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニルオキシ）ニコチネート０．１９ｇ（収率２７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６４〜１．６７（６Ｈ，ｍ），２．４０〜２．４８（４Ｈ，ｍ），４．３７（２Ｈ，ｔ），４．４４（２Ｈ，ｔ），６．７５（１Ｈ，ｄ），８．１３（１Ｈ，ｄｄ），８．８０（１Ｈ，ｄ）
製造例２４ ＜製造法８＞による化合物（３９）の製造
１Ｈ−イミダゾール−４−カルボン酸１．５ｇ（１３ミリモル）、塩化チオニル５ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３滴、トルエン１０ｍｌの混合物を、加熱還流下３０時間攪拌した。反応後、過剰の塩化チオニル及び溶媒を減圧下留去し、ジイミダゾ［１，５−ａ，１’，５’−ｄ］ピラジン−５，１０−ジオンの結晶を得た。別の容器で、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノール０．３０ｇ（２．０ミリモル）とジイミダゾ［１，５−ａ，１’，５’−ｄ］ピラジン−５，１０−ジオン０．１８ｇ（１．０ミリモル）とテトラヒドロフラン５ｍｌの混合物に、室温で水素化ナトリウム０．１０ｇ（２．５ミリモル）を加え、そのまま２時間攪拌した後、ヨードメタン０．４０ｇ（２．８ミリモル）を加え、さらに２時間攪拌した。反応液に酢酸エチル２０ｍｌを加えて固体をろ別し、ろ液を減圧下濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：メタノール＝１０：１）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−メチル−１Ｈ−イミダゾール−４−カルボキシレート０．１５ｇ（収率３０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４７〜１．５６（５Ｈ，ｍ），１．７０〜１．７９（２Ｈ，ｍ），１．９８〜２．０４（２Ｈ，ｍ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．３１（２Ｈ，ｔ），７．５１（２Ｈ，ｓ），７．５６（１Ｈ，ｓ）
製造例２５ ＜製造法１＞による化合物（１０５）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート６．６ｇ（３３ミリモル）と２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸７．６ｇ（３６ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム３．６ｇ（４３ミリモル）を加え１００℃で２時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート３．３ｇ（収率３２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：０．９７（３Ｈ，ｔ），１．４４〜１．５７（２Ｈ，ｍ），１．６６（３Ｈ，ｔ），１．７６〜１．８５（２Ｈ，ｍ），２．４１〜２．４７（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｔ），４．４２（２Ｈ，ｔ），８．９６（１Ｈ，ｓ）
製造例２６ ＜製造法１＞による化合物（７７）の製造
中間体製造例１に準じた方法で合成した６−ブトキシニコチン酸０．３９ｇ（２．０ミリモル）と４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート０．４０ｇ（２．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．３４ｇ（４．０ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：７）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−ブトキシニコチネート０．４５ｇ（収率７５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：０．９８（３Ｈ，ｔ），１．４２〜１．５４（２Ｈ，ｍ），１．６６（３Ｈ，ｔ），１．７３〜１．８２（２Ｈ，ｍ），２．４０〜２．４６（２Ｈ，ｍ），４．３６（４Ｈ，ｔ），６．７４（１Ｈ，ｄｄ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ），８．８１（１Ｈ，ｄｄ）
製造例２７ ＜製造法１＞による化合物（８１）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート０．４２ｇ（２．１ミリモル）と６−シクロペンチルオキシニコチン酸０．４２ｇ（２．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．３５ｇ（４．２ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：７）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−シクロペンチルオキシニコチネート０．４４ｇ（収率７０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６０〜２．０５（１１Ｈ，ｍ），２．４０〜２．４５（２Ｈ，ｍ），４．３６（４Ｈ，ｔ），５．４５〜５．５１（１Ｈ，ｍ），６．７０（１Ｈ，ｄ），８．１０（１Ｈ，ｄｄ），８．８２（１Ｈ，ｄ）
製造例２８ ＜製造法１＞による化合物（９３）の製造
ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエティー（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第２１８３頁（１９２３年）に記載の方法に準じて合成した４−メチル−２−フェニルピリミジン−５−カルボン酸０．３４ｇ（１．６ミリモル）と、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート０．３０ｇ（１．５ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに溶解し、炭酸水素ナトリウム０．２７ｇ（３．２ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：４）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−フェニルピリミジン−５−カルボキシレート０．３５ｇ（収率７３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６８（３Ｈ，ｔ），２．４５〜２．５０（２Ｈ，ｍ），２．８９（３Ｈ，ｓ），４．４２（２Ｈ，ｔ），７．４７〜７．５５（３Ｈ，ｍ），８．５０〜８．５４（２Ｈ，ｍ），９．２０（１Ｈ，ｓ）
製造例２９ ＜製造法１＞による化合物（２１８）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート１．００ｇ（５．０ミリモル）と２−ベンジル−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸１．３０ｇ（５．５ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．５０ｇ（６．０ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、フロリジルを加えてろ過した。溶液を減圧下、濃縮し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ベンジル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート１．３０ｇ（収率７８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６４（３Ｈ，ｔ），２．４１〜２．４５（２Ｈ，ｍ），２．８０（３Ｈ，ｓ），４．２９（２Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｔ），７．２４（１Ｈ，ｔ），７．３０（２Ｈ，ｔ），７．３７（２Ｈ，ｄ），９．０５（１Ｈ，ｓ）
製造例３０ ＜製造法１＞による化合物（１１０）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート４．００ｇ（２０ミリモル）と４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボン酸４．００ｇ（２２ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム３．７０ｇ（４４ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、フロリジルを加えてろ過した。溶液を減圧下、濃縮し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボキシレート５．３０ｇ（収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６６（３Ｈ，ｔ），２．４２〜２．４６（２Ｈ，ｍ），２．６１（３Ｈ，ｓ），２．７６（３Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｔ），８．９２（１Ｈ，ｓ）
製造例３１ ＜製造法９＞による化合物（１１１）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボキシレート１．１０ｇ（３．８ミリモル）をクロロホルム２０ｍｌに溶解し、氷冷下、７０％ｍ−クロロ過安息香酸２．００ｇ（８．１ミリモル）を３回に分けて加えた後、室温に戻し１時間攪拌した。氷冷下、亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、混合物をろ過し、有機層を分取した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、フロリジルを加えてろ過した。溶液を減圧下、４０℃で濃縮し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メタンスルホニル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート１．１３ｇ（収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６７（３Ｈ，ｔ），２．４６〜２．５０（２Ｈ，ｍ），２．９５（３Ｈ，ｓ），３．３９（３Ｈ，ｓ），４．４７（２Ｈ，ｔ），９．２５（１Ｈ，ｓ）
製造例３２ ＜製造法１０＞による化合物（２１４）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メタンスルホニル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート０．５０ｇ（１．６ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３ｍｌに溶かし、Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルアミン０．２８ｇ（３．２ミリモル）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：７）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート０．４１ｇ（収率８０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：０．９５（３Ｈ，ｔ），１．２８〜１．４０（２Ｈ，ｍ），１．５５〜１．６６（５Ｈ，ｍ），２．３８〜２．４２（２Ｈ，ｍ），２．６３（３Ｈ，ｓ），３．２０（３Ｈ，ｂｒ．ｓ），３．６９（２Ｈ，ｂｒ．ｔ），４．３０（２Ｈ，ｔ），８．７９（１Ｈ，ｓ）
製造例３３ ＜製造法１０＞による化合物（１１７）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メタンスルホニル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート０．５６ｇ（１．８ミリモル）とチオフェノール０．２１ｇ（１．９ミリモル）をテトラヒドロフラン５ｍｌに溶かし、炭酸ナトリウム０．３０ｇ（２．８ミリモル）を加え室温で１時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：８）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（フェニルチオ）ピリミジン−５−カルボキシレート０．５４ｇ（収率８８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６３（３Ｈ，ｔ），２．３８〜２．４４（２Ｈ，ｍ），２．７１（３Ｈ，ｓ），４．３５（２Ｈ，ｔ），７．４３〜７．４８（３Ｈ，ｍ），７．６０〜７．６４（２Ｈ，ｍ），８．８６（１Ｈ，ｓ）
製造例３４ ＜製造法１０＞による化合物（２５４）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メタンスルホニル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート１．００ｇ（３．１ミリモル）を４−クロロブタノール１．０２ｇ（９．４ミリモル）に溶かし、氷冷下、トリエチルアミン０．３８ｇ（３．８ミリモル）を加え室温で１４時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４−クロロブトキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート０．３０ｇ（収率２７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６６（３Ｈ，ｔ），１．９７〜２．０１（４Ｈ，ｍ），２．４１〜２．４７（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），３．５９〜３．６４（２Ｈ，ｍ），４．３７（２Ｈ，ｔ），４．４５〜４．４９（２Ｈ，ｍ），８．９６（１Ｈ，ｓ）
製造例３５ ＜製造法１＞による化合物（６３）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート２．６０ｇ（１３ミリモル）と４−メチル−２−フェニルチアゾール−５−カルボン酸２．１９ｇ（１０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２５ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム１．６８ｇ（２０ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−フェニルチアゾール−５−カルボキシレート３．０３ｇ（収率９４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６７（３Ｈ，ｔ），２．４０〜２．４６（２Ｈ，ｍ），２．７８（３Ｈ，ｓ），４．３６（２Ｈ，ｔ），７．４４〜７．４９（３Ｈ，ｍ），７．９５〜７．９９（２Ｈ，ｍ）
製造例３６ ＜製造法１＞による化合物（１６９）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート０．５０ｇ（２．５ミリモル）と２−シクロヘキシル−４−メチルチアゾール−５−カルボン酸０．５６ｇ（２．５ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．４２ｇ（５．０ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−シクロヘキシル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート０．６４ｇ（収率７８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．２１〜１．５２（５Ｈ，ｍ），１．６５（３Ｈ，ｔ），１．７２〜１．８８（３Ｈ，ｍ），２．０９〜２．１５（２Ｈ，ｍ），２．３７〜２．４２（２Ｈ，ｍ），２．６９（３Ｈ，ｓ），２．８８〜２．９８（１Ｈ，ｍ），４．３１（２Ｈ，ｔ）
製造例３７ ＜製造法１＞による化合物（１７２）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート１．００ｇ（５．０ミリモル）と４−メチル−２−（Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボン酸１．１７ｇ（５．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．８４ｇ（１０ミリモル）を加え８０℃で５時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボキシレート０．９０ｇ（収率５３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６４（３Ｈ，ｔ），２．３５〜２．４０（２Ｈ，ｍ），２．５７（３Ｈ，ｓ），４．２８（２Ｈ，ｔ），７．１６（１Ｈ，ｔ），７．３２（２Ｈ，ｄ），７．４６（２Ｈ，ｔ），７．９３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）
製造例３８ ＜製造法７＞による化合物（１７３）の製造
４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボキシレート０．６８ｇ（２．０ミリモル）とヨードメタン０．５７ｇ（４．０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍｌに溶かし、６０％水素化ナトリウム０．１０ｇ（２．５ミリモル）を加え室温で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：４）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボキシレート０．６６ｇ（収率９３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５９（３Ｈ，ｔ），２．２９〜２．３５（２Ｈ，ｍ），２．５８（３Ｈ，ｓ），３．５５（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｔ），７．３０〜７．４８（５Ｈ，ｍ）
製造例３９ ＜製造法１＞による化合物（１９６）の製造
ジャーナル・オブザ・ケミカル・ソサイエティー（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第２７３６頁（１９６１年）に記載の方法に準じて合成した３−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸０．５７ｇ（２．８ミリモル）と、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート０．５８ｇ（２．９ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌに溶かし、炭酸水素ナトリウム０．４８ｇ（５．７ミリモル）を加え１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：６）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ３−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート０．６６ｇ（収率７６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６６（３Ｈ，ｔ），２．３９〜２．４５（２Ｈ，ｍ），２．５５（３Ｈ，ｓ），４．３３（２Ｈ，ｔ），７．３３（１Ｈ，ｔ），７．４７（２Ｈ，ｔ），７．６７（２Ｈ，ｄ），８．３２（１Ｈ，ｓ）
参考例１ ６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセンチオールの製造
反応は窒素雰囲気下で行った。水素化リチウムアルミニウム０．５９ｇ（１６ミリモル）をテトラヒドロフラン２０ｍｌに懸濁させ、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカーバメート２．６０ｇ（１０ミリモル）をテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶かした溶液を室温で滴下した。滴下終了後、還流下で３時間攪拌した。反応液を氷冷し、水を加えてクエンチした後、希塩酸で酸性にし、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下、１０ｍｌ程度まで濃縮した後、窒素で常圧に戻し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセンチオールを定量的に得て、次の反応に用いた。
参考例２ ２−ベンジル−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸の製造
（１）テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）第８８７頁（１９８４年）に記載の方法に準じて合成した２−フェニルアセトアミジン塩酸塩１７．１ｇ（１００ミリモル）、２−アセチル−３−エトキシアクリル酸エチル１８．６ｇ（１００ミリモル）、酢酸ナトリウム９．０ｇ（１１０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに懸濁させ、１００℃で３時間攪拌した。反応液を冷却後、氷水に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮し、２−ベンジル−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル２２．８ｇ（収率８９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．３９（３Ｈ，ｔ），２．８０（３Ｈ，ｓ），４．２８（２Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｑ），７．２２（１Ｈ，ｔ），７．３０（２Ｈ，ｔ），７．３６（２Ｈ，ｄ），９．０７（１Ｈ，ｓ）
（２）２−ベンジル−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル１０．０ｇ（３９ミリモル）をエタノール４０ｍｌに溶かし、２５％水酸化ナトリウム水溶液１２．５ｇ（７８ミリモル）を加え、室温で１５時間攪拌した。エタノールを留去し、残さを水１００ｍｌに溶かし、１０％塩酸を加えて酸性にした。析出した結晶をろ取、水洗、乾燥し、２−ベンジル−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸８．１０ｇ（収率９１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：２．８７（３Ｈ，ｓ），４．３３（２Ｈ，ｓ），７．２５（１Ｈ，ｔ），７．３０（２Ｈ，ｔ），７．３８（２Ｈ，ｄ），９．２２（１Ｈ，ｓ）
参考例３ ２−シクロヘキシル−４−メチルチアゾール−５−カルボン酸の製造
（１）シクロヘキサンカルボキサミド１１．１ｇ（８７ミリモル）、ローソン試薬１７．６ｇ（４３．５ミリモル）をテトラヒドロフラン９０ｍｌに懸濁させ、３時間加熱還流した。反応液を室温に冷却後、２−クロロ−３−オキソブタン酸エチル１４．４ｇ（８７ミリモル）を加え、再び３時間加熱還流した。反応液を氷水に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、希塩酸、炭酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５）により精製し、２−シクロヘキシル−４−メチルチアゾール−５−カルボン酸エチル２０．３ｇ（収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．２４〜１．５６（８Ｈ，ｍ），１．６５（３Ｈ，ｔ），１．７０〜１．８７（３Ｈ，ｍ），２．０９〜２．１５（２Ｈ，ｍ），２．７０（３Ｈ，ｓ），２．９０〜３．００（１Ｈ，ｍ），４．３２（２Ｈ，ｑ）
（２）２−シクロヘキシル−４−メチルチアゾール−５−カルボン酸エチル１７．３ｇ（６８ミリモル）をメタノール２０ｍｌに溶かし、２５％水酸化ナトリウム水溶液２４ｇ（１５０ミリモル）を加え、室温で１５時間攪拌した。メタノールを留去し、残さを水２００ｍｌに溶かし、１０％塩酸を加えて酸性にした。析出した結晶をろ取、水、ヘキサンで洗い、乾燥し、２−シクロヘキシル−４−メチルチアゾール−５−カルボン酸１２．８ｇ（収率８３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．２２〜１．５７（５Ｈ，ｍ），１．７３〜１．８８（３Ｈ，ｍ），２．１２〜２．１６（２Ｈ，ｍ），２．７３（３Ｈ，ｓ），２．９３〜３．０３（１Ｈ，ｍ）
同様にして、化合物（６７）、（１３０）、（１３３）、（１３４）、（１４２）〜（１６８）の原料となるチアゾールカルボン酸誘導体を合成した。
参考例４ ４−メチル−２−（Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボン酸の製造
（１）フェニルチオウレア１０．７ｇ（７０ミリモル）と２−クロロ−３−オキソブタン酸エチル１１．６ｇ（７０ミリモル）をエタノール７０ｍｌに溶かし、８時間加熱還流した。反応液を濃縮して酢酸エチルに溶かし、有機層を炭酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。得られた固体をジイソプロピルエーテルで洗い、４−メチル−２−（Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボン酸エチル１６．８ｇ（収率９１％）を得た。
（２）４−メチル−２−（Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボン酸エチル１２．８ｇ（４９ミリモル）をエタノール５０ｍｌに溶かし、２５％水酸化ナトリウム水溶液２４ｇ（１５０ミリモル）を加え、８０℃で１５時間攪拌した。反応液を氷水にあけ、酢酸を加えて酸性にした。析出した結晶をろ取、水、ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒で洗い、乾燥し、４−メチル−２−（Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボン酸５．５０ｇ（収率４８％）を得た。
同様にして、化合物（１７８）、（１７９）、（１８３）、（１８８）の原料となるチアゾールカルボン酸誘導体を合成した。
次に、一般式［１］で示される本発明化合物の具体例のいくつかを化合物番号及び物性値（屈折率：ｎＤ ２０；融点：ｍ．ｐ．）を示す。
（１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−クロロニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４９６７）
（２）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ３−メチルチオフェン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９３１）
（３）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４６８）
（４）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４，６−ジメトキシピリミジン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７８８）
（５）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １Ｈ−ピロール−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８７１）
（６）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １Ｈ−インドール−２−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝８５〜８６℃）
（７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾ［ｂ］フラン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２０３）
（８）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル キノリン−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３９９）
（９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル フラン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４５９６）
（１０）８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテニル ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３８８）
（１１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−フェニル［１，２，３］チアジアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４２１）
（１２）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ５−メチル−３−フェニルイソキサゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０８３）
（１３）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １Ｈ−インドール−３−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６８〜６９℃）
（１４）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−メチル−１Ｈ−インドール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３５５）
（１５）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １Ｈ−インドール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４０５）
（１６）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−メチル−１Ｈ−インドール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３９１）
（１７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ピリジン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８０７）
（１８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝５２〜５３℃）
（１９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４７９１）
（２０）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル イソニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４７４０）
（２１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾチアゾール−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４７６）
（２２）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル［１，２，５］チアジアゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７９０）
（２３）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４，６−ジメトキシ［１，３，５］トリアジン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４６９６）
（２４）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−メチル−１Ｈ−インドール−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４４７）
（２５）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−エチル−１Ｈ−インドール−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４００）
（２６）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−クロロ−５−エチル−２−メチル−２Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７９６）
（２７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル イソキノリン−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４３８）
（２８）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ピラジン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７８９）
（２９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−メチル−２−フェニルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５８３）
（３０）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２５７）
（３１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０２０）
（３２）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル キノキサリン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４３０）
（３３）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １Ｈ−インダゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３５１）
（３４）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ５，７−ジメチル［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ａ］ピリミジン−２−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝１２３〜１２６℃）
（３５）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０７１）
（３６）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ３−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）−３Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０４２）
（３７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル シンノリン−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３９３）
（３８）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−メチル−１Ｈ−ピロール−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８０７）
（３９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−メチル−１Ｈ−イミダゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
（４０）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−アセチルピペリジン−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４６５０）
（４１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル テトラヒドロフラン−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４３５７）
（４２）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾ［１，２，５］チアジアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４４３）
（４３）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾオキサゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝３５〜３７℃）
（４４）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾ［ｄ］イソキサゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０３６）
（４５）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ベンゾ［ｄ］イソチアゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４２１）
（４６）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ５，７−ジメトキシピラゾロ［１，５−ａ］ピリミジン−３−カルボキシレート
（４７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ５−メチル−１−フェニル−１Ｈ−［１，２，４］トリアゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１７８）
（４８）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ３，６−ジクロロピリダジン−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０４８）
（４９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ３，４−ジクロロイソチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４９〜１．５９（５Ｈ，ｍ），１．７１〜１．８１（２Ｈ，ｍ），２．０１〜２．０７（２Ｈ，ｍ），４．３８（２Ｈ，ｔ）
（５０）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ５−エトキシ−２−フェニルオキサゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２３０）
（５１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−クロロ−７−メチル［１，８］ナフチリジン−３−カルボキシレート
（５２）Ｓ−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）６−クロロチオニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５３２７）
（５３）Ｓ−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−チオカルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５９９５）
（５４）Ｏ−（４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−チオカルボキシレート
（５５）Ｏ−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル）ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−チオカルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．６１４４）
（５６）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−アミノニコチネート（ｍ．ｐ．＝７８〜８０℃）
（５７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−（トルエン−４−スルホニルアミノ）ニコチネート（ｍ．ｐ．＝１０７〜１０８℃）
（５８）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−［Ｎ−メチル−Ｎ−（トルエン−４−スルホニル）アミノ］ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５４２０）
（５９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−ヒドロキシ−６−（２−トリルオキシ）ピリミジン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１５５）
（６０）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−（６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニルオキシ）−６−（２−トリルオキシ）ピリミジン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９８５）
（６１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−（４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニルオキシ）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４７５７）
（６２）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ５−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２１１）
（６３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−フェニルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６８８）
（６４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ベンゾ［１，２，５］チアジアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５５９）
（６５）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（３−ピリジル）チアゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５２７）
（６６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４−トリフルオロメチルフェニル）チアゾール−４−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６５〜６６℃）
（６７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル２−（２−クロロフェニル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６６１）
（６８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−エトキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８６４）
（６９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−エトキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８４１）
（７０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−フェノキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５３６４）
（７１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ５−（２−チエニル）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５６７０）
（７２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ５−（フェニルエチニル）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５７７９）
（７３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−フェニルニコチネート（ｍ．ｐ．＝４３〜４５℃）
（７４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−（フェニルチオ）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５７４３）
（７５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−プロポキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８６０）
（７６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−イソプロポキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８３１）
（７７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−ブトキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８４２）
（７８）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ６−ブトキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８０８）
（７９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−ｔｅｒｔ−ブトキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８０３）
（８０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−ペンチルオキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８５５）
（８１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−シクロペンチルオキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５０３２）
（８２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−ヘキシルオキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８３９）
（８３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−シクロヘキシルオキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５０２３）
（８４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−ヘプチルオキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８２５）
（８５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−デシルオキシニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８３４）
（８６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−（２−ブチニルオキシ）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５０７２）
（８７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−（５−ヘキセニルオキシ）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４９２３）
（８８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４５１０）
（８９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−（２−フェノキシエトキシ）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５３１５）
（９０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−（ブチルチオ）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５２４４）
（９１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−（ヘキシルチオ）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５０９３）
（９２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）ニコチネート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６５（３Ｈ，ｔ），２．３７〜２．４３（２Ｈ，ｍ），３．５３（３Ｈ，ｓ），４．３１（２Ｈ，ｔ），６．４０（１Ｈ，ｄ），７．２２〜７．３３（３Ｈ，ｍ），７．４５（２Ｈ，ｔ），７．８３（１Ｈ，ｄｄ），８．８６（１Ｈ，ｄ）
（９３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−フェニルピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝３２〜３４℃）
（９４）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−メチル−２−フェニルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４５５）
（９５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−イソプロピル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７７３）
（９６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−シクロプロピル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０３１）
（９７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−シクロプロピル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９７５）
（９８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ブチル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７９０）
（９９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７５５）
（１００）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７３５）
（１０１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−ペンチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７８７）
（１０２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ヘキシル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７８０）
（１０３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ヘプチル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７６７）
（１０４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−プロポキシピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５０）
（１０５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５７）
（１０６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−ペンチルオキシピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：０．９２（３Ｈ，ｔ），１．３２〜１．５１（４Ｈ，ｍ），１．６４（３Ｈ，ｔ），１．７８〜１．８７（２Ｈ，ｍ），２．４０〜２．４７（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），４．３５〜４．４４（４Ｈ，ｍ），８．９６（１Ｈ，ｓ）
（１０７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ヘキシルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：０．９０（３Ｈ，ｔ），１．２４〜１．５３（６Ｈ，ｍ），１．６６（３Ｈ，ｔ），１．７７〜１．８７（２Ｈ，ｍ），２．４１〜２．４７（２Ｈ，ｍ），２．７６（３Ｈ，ｓ），４．３５〜４．４４（４Ｈ，ｍ），８．９６（１Ｈ，ｓ）
（１０８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−オクチルオキシピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７９５）
（１０９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−フェノキシピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３５１）
（１１０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３１２）
（１１１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メタンスルホニル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６７（３Ｈ，ｔ），２．４６〜２．５０（２Ｈ，ｍ），２．９５（３Ｈ，ｓ），３．３９（３Ｈ，ｓ），４．４７（２Ｈ，ｔ），９．２５（１Ｈ，ｓ）
（１１２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（プロピルチオ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２４２）
（１１３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ブチルチオ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１９１）
（１１４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（ペンチルチオ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１６５）
（１１５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ヘキシルチオ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１３７）
（１１６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ヘプチルチオ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０６０）
（１１７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（フェニルチオ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６６０）
（１１８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−フェニルアミノ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝１０２〜１０３℃）
（１１９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６３（３Ｈ，ｔ），２．３７〜２．４２（２Ｈ，ｍ），２．６６（３Ｈ，ｓ），３．５９（３Ｈ，ｓ），４．３１（２Ｈ，ｔ），７．２５〜７．３３（３Ｈ，ｍ），７．４０〜７．４５（２Ｈ，ｍ），８．７９（１Ｈ，ｓ）
（１２０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５８６）
（１２１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−フェニル−Ｎ−プロピルアミノ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５２２）
（１２２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−フェニル−Ｎ−２−プロペニルアミノ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６３０）
（１２３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−フェニル−Ｎ−２−プロピニルアミノ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６３３）
（１２４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０９８）
（１２５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０１１）
（１２６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ５−フェニルチオフェン−２−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝３８〜３９℃）
（１２７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ５−（２−メチル−５−トリフルオロメチル−２Ｈ−３−ピラゾリル）チオフェン−２−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝５９〜６０℃）
（１２８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メチル−１，５−ジフェニル−１Ｈ−ピロール−３−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝８２〜８４℃）
（１２９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−フェニルチアゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５０８）
（１３０）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（４−クロロフェニル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝５０〜５１℃）
（１３１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−メチル−２−フェノキシチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２９１）
（１３２）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−フェニルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６０１）
（１３３）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（３−クロロフェニル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６１３）
（１３４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（４−ニトロフェニル）チアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝８９〜９０℃）
（１３５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４−アミノフェニル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝７３〜７６℃）
（１３６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６９〜７２℃）
（１３７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４−アセチルアミノフェニル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝１６１〜１６３℃）
（１３８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４−ジアセチルアミノフェニル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６０〜６２℃）
（１３９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（フェニルチオ）チアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝５２〜５３℃）
（１４０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ベンゼンスルフィニル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝８７〜８９℃）
（１４１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ベンゼンスルホニル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝１０２〜１０３℃）
（１４２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）チアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝５３〜５４℃）
（１４３）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（２−メトキシフェニル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６３〜６４℃）
（１４４）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（３−メトキシフェニル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６０１）
（１４５）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（４−メトキシフェニル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５７２２）
（１４６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ベンジル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３６０）
（１４７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−ベンジル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２７４）
（１４８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２，４−ジメチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９１０）
（１４９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２，４−ジメチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８８４）
（１５０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−エチル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９０４）
（１５１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−エチル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８４５）
（１５２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−プロピルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８７２）
（１５３）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−メチル−２−プロピルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５９）
（１５４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−イソプロピル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８７６）
（１５５）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−イソプロピル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５５）
（１５６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−シクロプロピル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１１９）
（１５７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−シクロプロピル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０５５）
（１５８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ブチル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８７５）
（１５９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−ブチル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５２）
（１６０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５１）
（１６１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８２４）
（１６２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−イソブチル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５１）
（１６３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−ペンチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５３）
（１６４）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−メチル−２−ペンチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８４０）
（１６５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（１−エチルプロピル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５０）
（１６６）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（１−エチルプロピル）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８４７）
（１６７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−シクロペンチル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０６７）
（１６８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ヘキシル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５５）
（１６９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−シクロヘキシル−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０６７）
（１７０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−エトキシ−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９１９）
（１７１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−エトキシ−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８６１）
（１７２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６７〜６８℃）
（１７３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５７３９）
（１７４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミノ）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５９５）
（１７５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−フェニル−Ｎ−プロピルアミノ）チアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５６６）
（１７６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−フェニル−Ｎ−２−プロペニルアミノ）チアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６６１）
（１７７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−フェニル−Ｎ−２−プロピニルアミノ）チアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５８（３Ｈ，ｔ），２．２７〜２．３３（３Ｈ，ｍ），２．５９（３Ｈ，ｓ），４．２１（２Ｈ，ｔ），４．７４（２Ｈ，ｄ），７．３８〜７．５１（５Ｈ，ｍ）
（１７８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−［Ｎ−（２−クロロフェニル）アミノ］−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝７８〜８０℃）
（１７９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−［Ｎ−（４−メトキシフェニル）アミノ］−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝８６〜８８℃）
（１８０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−［Ｎ−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−メチルアミノ］−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５７２２）
（１８１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−［Ｎ−イソプロピル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）アミノ］−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５７２２）
（１８２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−［Ｎ−メタンスルホニル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）アミノ］−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
（１８３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−４−トリルアミノ）チアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝９６〜９７℃）
（１８４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−４−トリルアミノ）チアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６５９）
（１８５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−エチル−Ｎ−４−トリルアミノ）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６０５）
（１８６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−４−トリルアミノ）−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝１１２〜１１３℃）
（１８７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−［３，３−ジメチル−１−（４−トリル）ウレイド］−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５９２）
（１８８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−［Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）アミノ］チアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝９１〜９３℃）
（１８９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−［Ｎ−メチル−Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニル）アミノ］チアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３９６）
（１９０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−フェニルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝４７〜４９℃）
（１９１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−フェニルチアゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６１１）
（１９２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−４−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝１０３〜１０４℃）
（１９３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ）チアゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５６１２）
（１９４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １−メチル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３５３）
（１９５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−クロロ−１−メチル−５−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４２７）
（１９６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ３−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３５３）
（１９７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １−ベンジル−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１７７）
（１９８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ３−メチル−１−プロピル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７２６）
（１９９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １−ブチル−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７０１）
（２００）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ５−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２５３）
（２０１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ５−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２３２）
（２０２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １−ベンジル−５−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１３０）
（２０３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １−ブチル−５−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４６７９）
（２０４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メチル−５−フェニル−２Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３８３）
（２０５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−クロロ−２−メチル−５−フェニル−２Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４８７）
（２０６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メチル−５−プロピル−２Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４６２２）
（２０７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ５−ブチル−２−メチル−２Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７０１）
（２０８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メチル−５−ペンチル−２Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４６９２）
（２０９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル キノキサリン−６−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝４２〜４４℃）
（２１０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ベンゾ［ｂ］チオフェン−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５４９）
（２１１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（１−ピロリジニル）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝４８〜４９℃）
（２１２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（１−ピペリジニル）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６３〜６４℃）
（２１３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ヘキシル−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０６９）
（２１４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ブチル−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１１６）
（２１５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ヒドロキシ−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝９６〜９７℃）
（２１６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ブトキシ−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９６８）
（２１７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−フェニルピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝７６〜７７℃）
（２１８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ベンジル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２８０）
（２１９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−エチル−２−フェニルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５１５）
（２２０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−［Ｎ−（２−クロロフェニル）−Ｎ−メチルアミノ］−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５７６５）
（２２１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４−クロロフェニル）アミノ−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝１１０〜１１２℃）
（２２２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−［Ｎ−（４−クロロフェニル）−Ｎ−メチルアミノ］−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝５４〜５６℃）
（２２３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メチル−６−フェニルピリミジン−４−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６４〜６７℃）
（２２４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５５３７）
（２２５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−２−プロピニルアミノ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５２６４）
（２２６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１７４）
（２２７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１００）
（２２８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−イソプロピル−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１９７）
（２２９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ペンチルアミノ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０５２）
（２３０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ジメチルアミノ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝３７〜３８℃）
（２３１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メトキシアミノ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６２〜６４℃）
（２３２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１２４）
（２３３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メトキシカルボニルニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４８３２）
（２３４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ３−フェニルカルバモイルピリジン−２−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝７９〜８１℃）
（２３５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−フェニルカルバモイルニコチネート（ｍ．ｐ．＝６９〜７２℃）
（２３６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル）ニコチネート（ｎＤ ２０＝１．４９６２）
（２３７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ベンゾイルニコチネート（ｎＤ ２０＝１．５３５１）
（２３８）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル １−オキシニコチネート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４９〜１．５９（５Ｈ，ｍ），１．７２〜１．８１（２Ｈ，ｍ），２．０１〜２．０７（２Ｈ，ｍ），４．３７（２Ｈ，ｔ），７．３９（１Ｈ，ｔ），７．８８（１Ｈ，ｄ），８．３７（１Ｈ，ｓ），８．８０（１Ｈ，ｓ）
（２３９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−［４−（４−クロロベンゾイルアミノ）フェニル］−４−メチルチアゾール−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝１８９〜１９１℃）
（２４０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １−（４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル）−４−ニトロ−１Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５８（３Ｈ，ｔ），１．６４（３Ｈ，ｔ），２．４３〜２．４７（２Ｈ，ｍ），２．５７〜２．６２（２Ｈ，ｍ），４．２５（２Ｈ，ｔ），４．４５（２Ｈ，ｔ），８．１２（１Ｈ，ｓ）
（２４１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル）−４−ニトロ−２Ｈ−ピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７４８）
（２４２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−メチル−２，４，５，６−テトラヒドロシクロペンタピラゾール−３−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９１５）
（２４３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４−クロロフェニル）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝７２〜７３℃）
（２４４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝５７〜５９℃）
（２４５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４−メトキシフェニル）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６６〜６８℃）
（２４６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（４−メチルフェニル）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６０〜６２℃）
（２４７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−エトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８２５）
（２４８）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−メチル−２−プロポキシピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８１２）
（２４９）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８０７）
（２５０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−シクロペンチルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０２８）
（２５１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−シクロヘキシルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０４１）
（２５２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（２−メトキシエトキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５８）
（２５３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−シクロプロピルメトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９５４）
（２５４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（４−クロロブトキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９１１）
（２５５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（３−ピリジルオキシ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５３１７）
（２５６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−（６−メチル−２−ピリジルオキシ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝１０２〜１０４℃）
（２５７）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１５３）
（２５８）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５０７９）
（２５９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１６２）
（２６０）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５１３０）
（２６１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ブチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝４２〜４３℃）
（２６２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ブチル−Ｎ−メトキシアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９８１）
（２６３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ブチル−Ｎ−トリフルオロアセチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７２９）
（２６４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−シクロヘキシルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝５９〜６１℃）
（２６５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝４６〜４７℃）
（２６６）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−（Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５１〜１．５９（５Ｈ，ｍ），１．６９〜１．７８（２Ｈ，ｍ），２．０１〜２．０６（２Ｈ，ｍ），２．７２（３Ｈ，ｓ），３．４７（３Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），４．２９（２Ｈ，ｔ），８．９２（１Ｈ，ｓ）
（２６７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−（Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチルアミノ）−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４７９）
（２６８）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−シアノ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８６９）
（２６９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−２−フタルイミドピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６８（３Ｈ，ｔ），２．４５〜２．５１（２Ｈ，ｍ），２．９３（３Ｈ，ｓ），４．４５（２Ｈ，ｔ），７．８２〜７．８５（２Ｈ，ｍ），７．９９〜８．０２（２Ｈ，ｍ），９．２９（１Ｈ，ｓ）
（２７０）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−メタンスルフィニル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５１〜１．６１（５Ｈ，ｍ），１．７４〜１．８４（２Ｈ，ｍ），２．０２〜２．０９（２Ｈ，ｍ），２．９４（３Ｈ，ｓ），２．９８（３Ｈ，ｓ），４．４０（２Ｈ，ｔ），９．２３（１Ｈ，ｓ）
（２７１）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル ２−メタンスルホニル−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝測定不可）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５１〜１．６１（５Ｈ，ｍ），１．７５〜１．８４（２Ｈ，ｍ），２．０２〜２．０９（２Ｈ，ｍ），２．９６（３Ｈ，ｓ），３．３９（３Ｈ，ｓ），４．４２（２Ｈ，ｔ），９．２６（１Ｈ，ｓ）
（２７２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ブトキシ−４−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４５２０）
（２７３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メトキシメチルピリミジン−５−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７６６）
（２７４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−メチル−２−フェニルピリミジン−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４３１）
（２７５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ２−ブトキシ−６−メチルピリミジン−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７５７）
（２７６）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ６−ブトキシ−２−メチルピリミジン−４−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４７０５）
（２７７）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−６−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）ピリミジン−２−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝３７〜３９℃）
（２７８）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−メチル−６−フェニルピリミジン−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．５４６６）
（２７９）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １Ｈ−ピロール−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８５３）
（２８０）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １−（２−プロペニル）−１Ｈ−ピロール−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８７２）
（２８１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １−シクロプロピルメチル−１Ｈ−ピロール−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４９２０）
（２８２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １−シアノメチル−１Ｈ−ピロール−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４６２８）
（２８３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ３−トリフルオロアセチル−１Ｈ−ピロール−２−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝５１〜５４℃）
（２８４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ４−トリフルオロアセチル−１Ｈ−ピロール−２−カルボキシレート（ｍ．ｐ．＝６７〜７０℃）
（２８５）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル １−（３−ブチニル）−１Ｈ−ピロール−２−カルボキシレート（ｎＤ ２０＝１．４８６７）
次に、一般式［Ａ］、［Ｂ］及び［Ｃ］で示される中間体化合物の製造法について説明する。
一般式［Ａ］で示される中間体化合物は、以下に示す製造法に従って製造することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｒ１及びＧは前記と同じ意味を表わす。Ｒ５はメチル基又はエチル基を表わす。塩基としては、例えば製造法２と同様のものが挙げられる。）化合物［１８］は市販品として入手することができる。化合物［１６］は、例えばジャーナル・オブザ・ケミカル・ソサイエティー（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第１３７９頁（１９０８年）に記載の方法で合成することができる。
次に、一般式［Ａ］で示される中間体化合物の製造例を示す。
中間体製造例１ （中間体化合物 Ａ−２）の製造
６−クロロニコチン酸１．００ｇ（６．４ミリモル）とシクロペンタノール１．７２ｇ（２０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶かし、６０％水素化ナトリウム０．８０ｇ（２０ミリモル）を加え、室温で１時間攪拌した後、３時間加熱還流した。反応液を氷水１００ｍｌにあけ、酢酸を加えてｐＨ５にした。析出した結晶をろ取し、冷水、ヘキサンで洗い、乾燥して６−シクロペンチルオキシニコチン酸１．０６ｇ（収率８０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６０〜２．０５（８Ｈ，ｍ），５．４７〜５．５３（１Ｈ，ｍ），６．７３（１Ｈ，ｄ），８．１７（１Ｈ，ｄｄ），８．９１（１Ｈ，ｄ）
中間体製造例２ （中間体化合物 Ａ−３）の製造
６−クロロニコチン酸１．００ｇ（６．４ミリモル）とシクロヘキサノール２．００ｇ（２０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶かし、６０％水素化ナトリウム０．８０ｇ（２０ミリモル）を加え、室温で１時間攪拌した後、３時間加熱還流した。反応液を氷水１００ｍｌにあけ、酢酸を加えてｐＨ５にした。析出した結晶をろ取し、冷水、ヘキサンで洗い、乾燥して６−シクロヘキシルオキシニコチン酸１．３０ｇ（収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．２６〜１．６２（６Ｈ，ｍ），１．７７〜１．８３（２Ｈ，ｍ），１．９９〜２．０５（２Ｈ，ｍ），５．１１〜５．１９（１Ｈ，ｍ），６．７３（１Ｈ，ｄ），８．１７（１Ｈ，ｄｄ），８．８８（１Ｈ，ｄ）
中間体製造例３ （中間体化合物 Ａ−６）の製造
６−クロロニコチン酸３．００ｇ（１９ミリモル）と２−ブチン−１−オール２．００ｇ（２９ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７０ｍｌに溶かし、６０％水素化ナトリウム１．８０ｇ（４５ミリモル）を加え、室温で１時間攪拌した後、１４０℃で３時間攪拌した。反応液を氷水１５０ｍｌにあけ、酢酸を加えてｐＨ５にし、飽和食塩水５０ｍｌを加えた。析出した結晶をろ取し、冷水、ヘキサンで洗い、乾燥して６−（２−ブチニルオキシ）ニコチン酸０．９６ｇ（収率２６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．８９（３Ｈ，ｔ），５．０２（２Ｈ，ｑ），６．８５（１Ｈ，ｄ），８．２１（１Ｈ，ｄｄ），８．９１（１Ｈ，ｄ）
次に、一般式［Ａ］で示される中間体化合物の具体例のいくつかを化合物番号と共に示す。
Ａ−１）６−シクロブチルオキシニコチン酸
Ａ−２）６−シクロペンチルオキシニコチン酸
Ａ−３）６−シクロヘキシルオキシニコチン酸
Ａ−４）６−シクロヘプチルオキシニコチン酸
Ａ−５）６−（２−プロピニルオキシ）ニコチン酸
Ａ−６）６−（２−ブチニルオキシ）ニコチン酸
Ａ−７）６−（２−ペンチニルオキシ）ニコチン酸
次に、一般式［Ｂ］で示される中間体化合物は、以下に示す製造法に従って製造することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｒ２及びＲ３は前記と同じ意味を表わす。Ｒ６はメトキシ基、エトキシ基又はジメチルアミノ基を表わす。酸化剤としては、例えば製造法９と同様のものが挙げられる。塩基としては、例えば製造法２と同様のものが挙げられる。）化合物［２０］、［２３］及び［２５］は市販品として入手することができる。化合物［１９］は、例えばジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）第１４０頁（１９８４年）に記載の方法に準じて合成することができる。化合物［２４］は、例えばケミッシェ・ベリヒテ（Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．）第３０１６頁（１９６１年）に記載の方法に準じて合成することができる。
次に、一般式［Ｂ］で示される中間体化合物の製造例を示す。
中間体製造例４ （中間体化合物 Ｂ−４）の製造
（１）２−アセチル−３−エトキシアクリル酸エチル１８．６ｇ（１００ミリモル）、硫酸メチルイソチオ尿素１３．９ｇ（５０ミリモル）、酢酸ナトリウム８．２ｇ（１００ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに懸濁させ、８０℃で４時間攪拌した。反応液を冷却後、氷水に注ぎ、析出した結晶をろ取、水洗し、乾燥して４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボン酸エチル１８．６ｇ（収率８８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４０（３Ｈ，ｔ），２．６０（３Ｈ，ｓ），２．７７（３Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｑ），８．９４（１Ｈ，ｓ）
（２）４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボン酸エチル２１．２ｇ（１００ミリモル）とタングステン酸ナトリウム２水和物１．６５ｇ（５．０ミリモル）を酢酸８０ｍｌに懸濁させ、温度を約３０℃に保ちながら、３４．５％過酸化水素水２１．０ｇ（２１０ミリモル）をゆっくり滴下した。滴下終了後、３０℃で３０分間攪拌した。反応液を酢酸エチル３００ｍｌに溶かし、有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、ヘキサン３００ｍｌを加え、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、フロリジルを加えてろ過した。溶液を減圧下、４０℃で濃縮し、２−メタンスルホニル−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル１０．０ｇ（収率４１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４５（３Ｈ，ｔ），２．９６（３Ｈ，ｓ），３．３９（３Ｈ，ｓ），４．４７（２Ｈ，ｑ），９．２７（１Ｈ，ｓ）
（３）２−メタンスルホニル−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル１２．８ｇ（５２ミリモル）をブタノール１３．４ｇ（１０５ミリモル）に溶かし、氷冷下、トリエチルアミン５．８２ｇ（５８ミリモル）を滴下した。滴下終了後、室温で１５時間攪拌した。反応液を濃縮した後、ジイソプロピルエーテル５００ｍｌを加え、セライトろ過した。ろ液を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、フロリジルを加えてろ過した。溶液を減圧下、濃縮し、２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル７．６０ｇ（収率６８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：０．９７（３Ｈ，ｔ），１．４０（３Ｈ，ｔ），１．４４〜１．５７（２Ｈ，ｍ），１．７６〜１．８５（２Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），４．３７（２Ｈ，ｑ），４．４２（２Ｈ，ｔ），８．９８（１Ｈ，ｓ）
中間体製造例５ （中間体化合物 Ｂ−３）の製造
中間体製造例４に記載の方法に準じて、２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸メチルを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：０．９７（３Ｈ，ｔ），１．４４〜１．５７（２Ｈ，ｍ），１．７６〜１．８５（２Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），３．９１（３Ｈ，ｓ），４．４２（２Ｈ，ｔ），８．９８（１Ｈ，ｓ）
中間体製造例６ （中間体化合物 Ｂ−４）の製造
シアナミド２１．０ｇ（０．５０モル）とカルバムイミドイルクロリド塩酸塩５７．５ｇ（０．５０モル）をブタノール２２２ｇ（３．０モル）に溶かし、６０℃で１時間攪拌した。反応液を濃縮し、２−ブチルイソ尿素塩酸塩を得た。得られた２−ブチルイソ尿素塩酸塩、２−アセチル−３−エトキシアクリル酸エチル１８６ｇ（１．０モル）及び酢酸ナトリウム８２．０ｇ（１．０モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５００ｍｌに懸濁させ、１００℃で４時間攪拌した。反応液を冷却後、氷水に注ぎ、ジイソプロピルエーテルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、フロリジルを加えてろ過した。溶液を減圧下、濃縮し、２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル１９２ｇ（収率８１％）を得た。
次に、一般式［Ｂ］で示される中間体化合物の具体例のいくつかを化合物番号と共に示す。
Ｂ−１）２−エトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−２）４−メチル−２−プロポキシピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−３）２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸メチル
Ｂ−４）２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−５）２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸ベンジル
Ｂ−６）４−メチル−２−ペンチルオキシピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−７）２−ヘキシルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−８）２−シクロペンチルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−９）２−シクロヘキシルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−１０）２−（４−クロロブトキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−１１）２−（２−メトキシエトキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−１２）４−メチル−２−プロペニルオキシピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−１３）２−（３，３−ジクロロ−２−プロペニルオキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−１４）２−（２−ブチニルオキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−１５）２−シクロプロピルメトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−１６）４−メチル−２−フェノキシピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−１７）２−ベンジルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル
Ｂ−１８）４−メチル−２−（３−ピリジルオキシ）ピリミジン−５−カルボン酸エチル
次に、一般式［Ｃ］で示される中間体化合物は、以下に示す製造法に従って製造することができる。
Figure 0004409944
（式中、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表わす。塩基としては、例えば製造法２と同様のものが挙げられる。）化合物［Ｄ］は、一般式［Ｂ］で示される中間体化合物の製造法に準じて合成することができる。
次に、一般式［Ｃ］で示される中間体化合物の製造例を示す。
中間体製造例７ （中間体化合物 Ｃ−４）の製造
２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル１０．０ｇ（４２ミリモル）をアセトン５０ｍｌに溶かし、水５０ｍｌを加え、２５％水酸化ナトリウム水溶液１３．４ｇ（８４ミリモル）を滴下した後、室温で１時間攪拌した。反応液を減圧下４０℃で濃縮してアセトンを留去し、１０％塩酸を加えて酸性にした。析出した結晶をろ取、水で洗い、乾燥し、２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸８．００ｇ（収率９１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：０．９７（３Ｈ，ｔ），１．４４〜１．５６（２Ｈ，ｍ），１．７５〜１．８５（２Ｈ，ｍ），２．７７（３Ｈ，ｓ），４．４１（２Ｈ，ｔ），９．００（１Ｈ，ｓ）
中間体製造例８ （中間体化合物 Ｃ−６）の製造
（１）４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボン酸エチル１８．６ｇ（８８ミリモル）をエタノール１８０ｍｌに溶かし、氷冷下、２５％水酸化ナトリウム水溶液２８．２ｇ（１７６ミリモル）を滴下した。滴下終了後、室温で２時間攪拌した。エタノールを留去し、残さを水２００ｍｌに溶かし、１０％塩酸を加えて酸性にした。析出した結晶をろ取、水洗、乾燥し、４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボン酸１５．６ｇ（収率９６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：２．６０（３Ｈ，ｓ），２．７７（３Ｈ，ｓ），８．９７（１Ｈ，ｓ）
（２）４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボン酸１．００ｇ（５．４ミリモル）とヘキサノール１．１０ｇ（１１ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶かし、氷冷下、６０％水素化ナトリウム０．６０ｇ（１５ミリモル）を加えた。発泡がおさまった後、７０℃で２時間攪拌した。反応液に水３０ｍｌを加え、水層をジイソプロピルエーテルで洗浄した後、１０％塩酸を加えて酸性にした。析出した結晶をろ取、水洗、乾燥し、２−ヘキシルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸１．１０ｇ（収率８５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：０．９０（３Ｈ，ｔ），１．２８〜１．４２（４Ｈ，ｍ），１．４６〜１．５２（２Ｈ，ｍ），１．７９〜１．８７（２Ｈ，ｍ），２．８２（３Ｈ，ｓ），４．４５（２Ｈ，ｔ），９．１１（１Ｈ，ｓ）
中間体製造例９ （中間体化合物 Ｃ−９）の製造
４−メチル−２−（メチルチオ）ピリミジン−５−カルボン酸３．００ｇ（１６ミリモル）とシクロペンタノール２．１０ｇ（２４ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１６ｍｌに溶かし、氷冷下、６０％水素化ナトリウム１．３０ｇ（３３ミリモル）を加えた。発泡がおさまった後、７０℃で６時間攪拌した。反応液に水６０ｍｌを加え、水層をジイソプロピルエーテルとヘキサン１：１の混合溶媒で洗浄した後、１０％塩酸を加えて酸性にした。これを酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液を減圧下、濃縮し、２−シクロペンチルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸２．９０ｇ（収率８０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６１〜２．０５（８Ｈ，ｍ），２．８０（３Ｈ，ｓ），５．５０〜５．５５（１Ｈ，ｍ），９．０９（１Ｈ，ｓ）
同様にして、中間体化合物Ｃ−３、Ｃ−５、Ｃ−８及びＣ−１０を合成した。
中間体製造例１０ （中間体化合物 Ｃ−４）の製造
８５．５％水酸化カリウム粉末０．７２ｇ（１１ミリモル）をブタノール１．５ｍｌに懸濁させ、氷冷下、２−メタンスルホニル−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸エチル１．２２ｇ（５．０ミリモル）のブタノール１．５ｍｌ溶液を滴下した。滴下終了後、室温で３時間攪拌した。反応液に水５０ｍｌを加え、水層をジイソプロピルエーテルで洗浄した後、１０％塩酸を加えて酸性にした。これを酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液を減圧下、濃縮し、２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸０．８７ｇ（収率８３％）を得た。
次に、一般式［Ｃ］で示される中間体化合物の具体例のいくつかを化合物番号と共に示す。
Ｃ−１）２−メトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−２）２−エトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−３）４−メチル−２−プロポキシピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−４）２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−５）４−メチル−２−ペンチルオキシピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−６）２−ヘキシルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−７）２−ヘプチルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−８）４−メチル−２−オクチルオキシピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−９）２−シクロペンチルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−１０）２−シクロヘキシルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−１１）２−（４−クロロブトキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−１２）２−（２−メトキシエトキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−１３）４−メチル−２−プロペニルオキシピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−１４）２−（３，３−ジクロロ−２−プロペニルオキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−１５）２−（２−ブチニルオキシ）−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−１６）２−シクロプロピルメトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−１７）４−メチル−２−フェノキシピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−１８）２−ベンジルオキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボン酸
Ｃ−１９）４−メチル−２−（３−ピリジルオキシ）ピリミジン−５−カルボン酸
次に、一般式［２］で示される中間体化合物の製造例を示す。
中間体製造例１１ （中間体化合物 １）の製造
（１）反応容器に３−オキソ−１−ブタノール１５．０ｇ（０．１７モル）とベンゾイルクロリド２６．３ｇ（０．１９モル）をテトラヒドロフラン４００ｍｌに溶かし、氷冷下、トリエチルアミン２０．６ｇ（０．２０モル）を滴下した。滴下終了後、室温で３時間攪拌した。トリエチルアミンの塩酸塩をろ別し、ろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５〜１：３）により精製し、３−オキソブチルベンゾエート３１．５ｇ（収率９６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：２．２４（３Ｈ，ｓ），２．９１（２Ｈ，ｔ），４．５９（２Ｈ，ｔ），７．４４（２Ｈ，ｔ），７．５６（１Ｈ，ｔ），８．０１（２Ｈ，ｄ）
（２）反応は窒素雰囲気下で行った。ジブロモジフルオロメタン４６．２ｇ（０．２２モル）をテトラヒドロフラン４００ｍｌに溶かし、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン７０．２ｇ（０．４３モル）を、−１０℃で滴下した。滴下終了後、室温で１時間攪拌した。さらに、３−オキソブチルベンゾエート１９．２ｇ（０．１０モル）をテトラヒドロフラン１５０ｍｌに溶かした溶液を、−２０℃で滴下した。滴下終了後、室温で一昼夜攪拌した。この混合物にジエチルエーテルを加え、希塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下、濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジイソプロピルエーテル：ヘキサン＝１：８）により精製し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ベンゾエート１６．４ｇ（収率７２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６７（３Ｈ，ｔ），２．４２〜２．４７（２Ｈ，ｍ），４．３８（２Ｈ，ｔ），７．４５（２Ｈ，ｔ），７．５７（１Ｈ，ｔ），８．０３（２Ｈ，ｄ）
（３）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル ベンゾエート１６．１ｇ（７１ミリモル）と水３０ｍｌとメタノール１００ｍｌを混合し、５０％水酸化ナトリウム水溶液７．４ｇ（９３ミリモル）を加えた。この混合物を６０℃で３時間攪拌した。室温まで放冷後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下、濃縮し、４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテノール７．５ｇ（収率８６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．３８（１Ｈ，ｔ），１．６１（３Ｈ，ｔ），２．２１〜２．２７（２Ｈ，ｍ），３．７１（２Ｈ，ｑ）
（４）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテノール４．４５ｇ（３６ミリモル）とメタンスルホニルクロリド４．５９ｇ（４０ミリモル）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かし、氷冷下、トリエチルアミン４．４２ｇ（４４ミリモル）を滴下した。滴下終了後、室温で１時間攪拌した。トリエチルアミンの塩酸塩をろ別し、ろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮し４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート７．２０ｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．６４（３Ｈ，ｔ），２．４０〜２．４６（２Ｈ，ｍ），３．０２（３Ｈ，ｓ），４．２７（２Ｈ，ｔ）
中間体製造例１２ （中間体化合物 ５）の製造
（１）メチル６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノエート５３ｇ（０．３０モル）をテトラヒドロフラン１１０ｍｌに溶かし、水素化ホウ素ナトリウム２３ｇ（０．６１モル）を加えた。この混合物を加熱し、還流下、メタノール５０ｍｌをゆっくりと滴下した。滴下終了後、還流下で１時間攪拌した。室温まで放冷後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水、希塩酸、水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下、濃縮し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノール３６．５ｇ（収率８２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４３〜１．６１（７Ｈ，ｍ），１．９８〜２．０３（２Ｈ，ｍ），３．６６（２Ｈ，ｔ）
（２）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノール５．００ｇ（３３ミリモル）とメタンスルホニルクロリド４．２０ｇ（３７ミリモル）をテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶かし、氷冷下、トリエチルアミン４．４０ｇ（４４ミリモル）を滴下した。滴下終了後、室温で１時間攪拌した。トリエチルアミンの塩酸塩をろ別し、ろ液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮し６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル メタンスルホネート７．５０ｇ（収率９９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５０〜１．６０（５Ｈ，ｍ），１．７０〜１．７９（２Ｈ，ｍ），１．９９〜２．０５（２Ｈ，ｍ），３．０１（３Ｈ，ｓ），４．２４（２Ｈ，ｔ）
中間体製造例１３ （中間体化合物 ７）の製造
（１）中間体製造例１２−（１）に記載の方法に準じて、７，７−ジフルオロ−６−メチル−６−ヘプテノールを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．２９〜１．４８（５Ｈ，ｍ），１．５２〜１．６３（５Ｈ，ｍ），１．９４〜２．００（２Ｈ，ｍ），３．６５（２Ｈ，ｑ）
（２）中間体製造例１２−（２）に記載の方法に準じて、７，７−ジフルオロ−６−メチル−６−ヘプテニル メタンスルホネートを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．３５〜１．４８（４Ｈ，ｍ），１．５５（３Ｈ，ｔ），１．７２〜１．８１（２Ｈ，ｍ），１．９５〜２．０１（２Ｈ，ｍ），３．０１（３Ｈ，ｓ），４．２３（２Ｈ，ｔ）
中間体製造例１４ （中間体化合物 ９）の製造
（１）中間体製造例１２−（１）に記載の方法に準じて、８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテノールを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．２４〜１．４５（７Ｈ，ｍ），１．５３〜１．６２（５Ｈ，ｍ），１．９３〜１．９８（２Ｈ，ｍ），３．６５（２Ｈ，ｔ）
（２）中間体製造例１２−（２）に記載の方法に準じて、８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテニル メタンスルホネートを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．２８〜１．４７（６Ｈ，ｍ），１．５５（３Ｈ，ｔ），１．７１〜１．８０（２Ｈ，ｍ），１．９２〜１．９８（２Ｈ，ｍ），３．０１（３Ｈ，ｓ），４．２３（２Ｈ，ｔ）
次に、一般式［２］で示される中間体化合物の具体例のいくつかを化合物番号と共に示す。
１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル メタンスルホネート
２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル エタンスルホネート
３）５，５−ジフルオロ−４−メチル−４−ペンテニル メタンスルホネート
４）５，５−ジフルオロ−４−メチル−４−ペンテニル エタンスルホネート
５）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル メタンスルホネート
６）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル エタンスルホネート
７）７，７−ジフルオロ−６−メチル−６−ヘプテニル メタンスルホネート
８）７，７−ジフルオロ−６−メチル−６−ヘプテニル エタンスルホネート
９）８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテニル メタンスルホネート
１０）８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテニル エタンスルホネート
１１）１０，１０−ジフルオロ−９−メチル−９−デセニル メタンスルホネート
１２）１０，１０−ジフルオロ−９−メチル−９−デセニル エタンスルホネート
次に、一般式［３］で示される中間体化合物の製造例を示す。
中間体製造例１５ （中間体化合物 １３）の製造
（１）５−オキソヘキサン酸２５ｇ（０．１９モル）と炭酸カリウム４３ｇ（０．３１モル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８０ｍｌに溶かし、５０℃に加熱した。ヨウ化メチル４１ｇ（０．２９モル）を滴下し、同温で２時間攪拌した。この混合物に水１５０ｍｌを加え、ジエチルエーテル２００ｍｌ×４で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下、濃縮し、メチル ５−オキソヘキサノエート２４．９ｇ（収率９０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．８５〜１．９４（２Ｈ，ｍ），２．１５（３Ｈ，ｓ），２．３５（２Ｈ，ｔ），２．５１（２Ｈ，ｔ），３．６７（３Ｈ，ｓ）
（２）反応は窒素雰囲気下で行った。ジブロモジフルオロメタン８０ｇ（０．３８モル）をテトラヒドロフラン６５０ｍｌに溶かし、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン１２１ｇ（０．７４モル）を、−１０℃で滴下した。滴下終了後、室温で１時間攪拌した。さらに、メチル ５−オキソヘキサノエート２４．９ｇ（０．１７モル）をテトラヒドロフラン２５０ｍｌに溶かした溶液を、−２０℃で滴下した。滴下終了後、室温で一昼夜攪拌した。この混合物にジエチルエーテルを加え、希塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下、濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジエチルエーテル：ヘキサン＝１：４）により精製し、メチル ６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノエート２７ｇ（収率８８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．５６（３Ｈ，ｔ），１．６９〜１．７９（２Ｈ，ｍ），１．９８〜２．０４（２Ｈ，ｍ），２．３０（２Ｈ，ｔ），３．６８（３Ｈ，ｓ）
中間体製造例１６ （中間体化合物 １５）の製造
中間体製造例１５に記載の方法に準じて、メチル ７，７−ジフルオロ−６−メチル−６−ヘプテノエートを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．３８〜１．４８（２Ｈ，ｍ），１．５５（３Ｈ，ｔ），１．５６〜１．６６（２Ｈ，ｍ），１．９５〜２．０１（２Ｈ，ｍ），２．３３（２Ｈ，ｔ），３．６７（３Ｈ，ｓ）
中間体製造例１７ （中間体化合物 １７）の製造
中間体製造例１５に記載の方法に準じて、メチル ８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテノエートを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．２６〜１．４６（４Ｈ，ｍ），１．５４（３Ｈ，ｔ），１．５９〜１．６９（２Ｈ，ｍ），１．９３〜１．９９（２Ｈ，ｍ），２．３１（２Ｈ，ｔ），３．６７（３Ｈ，ｓ）
次に、一般式［３］で示される中間体化合物の具体例のいくつかを化合物番号と共に示す。
１３）メチル ６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノエート
１４）エチル ６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセノエート
１５）メチル ７，７−ジフルオロ−６−メチル−６−ヘプテノエート
１６）エチル ７，７−ジフルオロ−６−メチル−６−ヘプテノエート
１７）メチル ８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテノエート
１８）エチル ８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテノエート
１９）メチル １０，１０−ジフルオロ−９−メチル−９−デセノエート
２０）メチル １０，１０−ジフルオロ−９−メチル−９−デセノエート
次に、一般式［４］で示される中間体化合物の製造例を示す。
中間体製造例１８ （中間体化合物 ２５）の製造
６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル メタンスルホネート４．５６ｇ（２０ミリモル）とジメチルジチオカルバミン酸ナトリウム二水和物４．７０ｇ（２６ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶かし、１００℃で３時間攪拌した。反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、濃縮した。残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０）により精製し、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカーバメート２．６０ｇ（収率５１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．４８〜１．５８（５Ｈ，ｍ），１．６４〜１．７４（２Ｈ，ｍ），１．９７〜２．０４（２Ｈ，ｍ），３．２９（２Ｈ，ｔ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．５６（３Ｈ，ｓ）
中間体製造例１９ （中間体化合物 ２６）の製造
中間体製造例１８に記載の方法に準じて、６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカーバメートを得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δｐｐｍ：１．２５〜１．３１（６Ｈ，ｍ），１．４８〜１．５８（５Ｈ，ｍ），１．６４〜１．７４（２Ｈ，ｍ），１．９７〜２．０３（２Ｈ，ｍ），３．２９（２Ｈ，ｔ），３．７５（２Ｈ，ｑ），４．０４（２Ｈ，ｑ）
次に、一般式［４］で示される中間体化合物の具体例のいくつかを化合物番号と共に示す。
２１）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカーバメート
２２）４，４−ジフルオロ−３−メチル−３−ブテニル Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカーバメート
２３）５，５−ジフルオロ−４−メチル−４−ペンテニル Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカーバメート
２４）５，５−ジフルオロ−４−メチル−４−ペンテニル Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカーバメート
２５）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカーバメート
２６）６，６−ジフルオロ−５−メチル−５−ヘキセニル Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカーバメート
２７）７，７−ジフルオロ−６−メチル−６−ヘプテニル Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカーバメート
２８）７，７−ジフルオロ−６−メチル−６−ヘプテニル Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカーバメート
２９）８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテニル Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカーバメート
３０）８，８−ジフルオロ−７−メチル−７−オクテニル Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカーバメート
３１）１０，１０−ジフルオロ−９−メチル−９−オクテニル Ｎ，Ｎ−ジメチルジチオカーバメート
３２）１０，１０−ジフルオロ−９−メチル−９−オクテニル Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカーバメート
本発明化合物を有害生物防除剤の有効成分として使用するに際しては、本発明化合物それ自体で用いてもよいが、農薬補助剤として製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、及びその他補助剤を配合して、乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤、水溶剤、液剤、フロアブル剤、顆粒水和剤、エアゾール剤、ペースト剤、油剤、乳濁剤、くん煙剤等の種々の形態に製剤することができる。これらの配合割合は通常、有効成分０．１〜９０重量部で農薬補助剤１０〜９９．９重量部である。
ここにいう製剤化に際して用いられる担体としては、固体担体と液体担体に分けられる。固体担体としては、例えば澱粉、活性炭、大豆粉、小麦粉、木粉、魚粉、粉乳等の動植物性粉末、タルク、カオリン、ベントナイト、炭酸カルシウム、ゼオライト、珪藻土、ホワイトカーボン、クレー、アルミナ、硫安、尿素等の無機物粉末が挙げられる。液体担体としては、例えば水；イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類；シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類；ケロシン、軽油等の脂肪族炭化水素類；キシレン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン、メチルナフタリン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；ジメチルアセトアミド等の酸アミド類；脂肪酸のグリセリンエステル等のエステル類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド等の含硫化合物類等が挙げられる。
界面活性剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート、シリコーン系界面活性剤等が挙げられる。
その他の補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリウム、グアーガム、トラガントガム、ポリビニルアルコール等の固着剤あるいは増粘剤、金属石鹸等の消泡剤、脂肪酸、アルキルリン酸塩、シリコーン、パラフィン等の物性向上剤、着色剤等を用いることができる。
これらの製剤の実際の使用に際しては、そのまま使用するか、又は水等の希釈剤で所定濃度に希釈して使用することができる。本発明化合物を含有する種々の製剤、又はその希釈物の施用は、通常一般に行なわれている施用方法、即ち、散布（例えば噴霧、ミスティング、アトマイジング、散粉、散粒、水面施用、箱施用等）、土壌施用（例えば混入、潅注等）、表面施用（例えば塗布、粉衣、被覆等）、浸漬、毒餌、くん煙施用等により行うことができる。また、家畜に対して前記有効成分を飼料に混合して与え、その排泄物での有害虫、特に有害昆虫の発生、成育を防除することも可能である。また、いわゆる超高濃度少量散布法により施用することもできる。この方法においては、活性成分を１００％含有することが可能である。有効成分の配合割合は必要に応じ適宜選ばれるが、粉剤及び粒剤とする場合は０．１〜２０％（重量）、また、乳剤及び水和剤とする場合は１〜８０％（重量）が適当である。
本発明の有害生物防除剤の施用は、希釈剤で希釈して使用する場合には一般に０．１〜５０００ｐｐｍの有効成分濃度で行なう。製剤をそのまま使用する場合の単位面積あたりの施用量は、有効成分化合物として１ｈａ当り０．１〜５０００ｇで使用されるが、これらに限定されるものではない。
尚、本発明化合物は単独でも十分有効であることはいうまでもないが、必要に応じて他の肥料、農薬、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウイルス剤、誘引剤、除草剤、植物生長調整剤などと混用、併用することができ、この場合に一層優れた効果を示すこともある。
本発明化合物と混合して使用できる殺虫剤、殺菌剤、殺ダニ剤等の代表例を以下に示す。
例えば有機リン及びカーバメート系殺虫剤：フェンチオン、フェニトロチオン、ダイアジノン、クロルピリホス、オキシデプロホス、バミドチオン、フェントエート、ジメトエート、ホルモチオン、マラチオン、トリクロルホン、チオメトン、ホスメット、ジクロルボス、アセフェート、ＥＰＢＰ、メチルパラチオン、オキシジメトンメチル、エチオン、ジオキサベンゾホス、シアノホス、イソキサチオン、ピリダフェンチオン、ホサロン、メチダチオン、スルプロホス、クロルフェンビンホス、テトラクロルビンホス、ジメチルビンホス、プロパホス、イソフェンホス、ジスルホトン、プロフェノホス、ピラクロホス、モノクロトホス、アジンホスメチル、アルジカルブ、メソミル、チオジカルブ、カルボフラン、カルボスルファン、ベンフラカルブ、フラチオカルブ、プロポキスル、フェノブカルブ、メトルカルブ、イソプロカルブ、カルバリル、ピリミカーブ、エチオフェンカルブ、ジクロフェンチオン、ピリミホスメチル、キナルホス、クロルピリホスメチル、プロチオホス、ナレッド、ＥＰＮ、ＸＭＣ、ベンダイオカルブ、オキサミル、アラニカルブ、クロルエトキシホス等。
ピレスロイド系殺虫剤：ペルメトリン、シペルメトリン、デルタメトリン、フェンバレレート、フェンプロパトリン、ピレトリン、アレスリン、テトラメトリン、レスメトリン、ジメスリン、プロパスリン、フェノトリン、プロトリン、フルバリネート、シフルトリン、シハロトリン、フルシトリネート、エトフェンプロックス、シクロプロトリン、トラロメトリン、シラフルオフェン、テフルトリン、ビフェントリン、アクリナトリン等。
アシルウレア系、その他の殺虫剤：ジフルベンズロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロン、トリフルムロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロン、フルシクロクスロン、ブプロフェジン、ピリプロキシフェン、ルフェヌロン、シロマジン、メトプレン、エンドスルファン、ジアフェンチウロン、イミダクロプリド、アセタミプリド、ニテンピラム、クロチアニジン、ジノテフラン、チアメトキサム、チアクロプリド、ピメトロジン、フィプロニル、硫酸ニコチン、ロテノン、メタアルデヒド、ピリダリル、クロマフェノジド、スピノサド、マシン油、ＢＴや昆虫病原ウイルス等の微生物農薬、フェノキシカルブ、カルタップ、チオシクラム、ベンスルタップ、テブフェノジド、クロルフェナピル、エマメクチンベンゾエート、アセタプリド、ニテンピラム、オレイン酸ナトリウム、なたね油等。
殺線虫剤：フェナミホス、ホスチアゼート、エトプロホス、メチルイソチオシアネート、１，３ジクロロプロペン、ＤＣＩＰ、クロルピクリン、Ｄ−Ｄ、ＭＩＴＣ、カーバムＮａ塩、ダゾメット、オキサミル等。
殺ダニ剤：クロルベンジレート、フェニソブロモレート、ジコホル、アミトラズ、プロパルギット、ベンゾメート、ヘキシチアゾクス、フェンブタチンオキシド、ポリナクチン、キノメチオネート、クロルフェンソン、テトラジホン、アバメクチン、ミルベメクチン、クロフェンテジン、ピリダベン、フェンピロキシメート、テブフェンピラド、ピリミジフェン、フェノチオカルブ、ジエノクロル、エトキサゾール、ビフェナゼート、アセキノシル、ハルフェンプロックス等。
殺菌剤：チオファネートメチル、ベノミル、カルベンダゾール、チアベンダゾール、フォルペット、チウラム、ジラム、ジネブ、マンネブ、ポリカーバメート、イプロベンホス、エジフェンホス、フサライド、プロベナゾール、イソプロチオラン、クロロタロニル、キャプタン、ポリオキシン、ブラストサイジンＳ、カスガマイシン、ストレプトマイシン、バリダマイシン、トリシクラゾール、ピロキロン、フェナジンオキシド、メプロニル、フルトラニル、ペンシクロン、イプロジオン、ヒメキサゾール、メタラキシル、トリフルミゾール、トリホリン、トリアジメホン、ビテルタノール、フェナリモル、プロピコナゾール、シモキサニル、プロクロラズ、ペフラゾエート、ヘキサゴナゾール、ミクロブタニル、ジクロメジン、テクロフタラム、プロピネブ、ジチアノン、ホセチル、ビンクロゾリン、プロシミドン、オキサジキシル、グアザチン、プロパモカルブ塩酸塩、フルアジナム、オキソリニック酸、ヒドロキシイソキサゾール、メパニピリム等。
本発明の化合物は、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植物寄生性線虫類等の害虫に対して、優れた防除効果を示す。そのような害虫の例としては、以下の如き害虫類を例示することができる。
半翅目害虫、例えばホソヘリカメムシ（Ｒｉｐｔｏｒｔｕｓ ｃｌａｖａｔｕｓ）、ミナミアオカメムシ（Ｎｅｚａｒａ ｖｉｒｉｄｕｌａ）、メクラカメムシ類（Ｌｙｇｕｓ ｓｐ．）、アメリカコバネナガカメムシ（Ｂｌｉｓｓｕｓ ｌｅｕｃｏｐｔｅｒｕｓ）、ナシグンバイ（Ｓｔｅｐｈａｎｉｔｉｓ ｎａｓｈｉ）等のカメムシ類（異翅類；ＨＥＴＥＲＯＰＴＥＲＡ）、ツマグロヨコバイ（Ｎｅｐｈｏｔｅｔｔｉｘ ｃｉｎｃｔｉｃｅｐｓ）、ヒメヨコバイ類（Ｅｍｐｏａｓｃａ ｓｐ．，Ｅｒｙｔｈｒｏｎｅｕｒａ ｓｐ．，Ｃｉｒｃｕｌｉｆｅｒ ｓｐ．）等のヨコバイ類、トビイロウンカ（Ｎｉｌａｐａｒｖａｔａ ｌｕｇｅｎｓ）、セジロウンカ（Ｓｏｇａｔｅｌｌａ ｆｕｒｃｉｆｅｒａ）、ヒメトビウンカ（Ｌａｏｄｅｌｐｈａｘ ｓｔｒｉａｔｅｌｌｕｓ）等のウンカ類、Ｐｓｙｌｌａ ｓｐ．等のキジラミ類、シルバーリーフコナジラミ（Ｂｅｍｉｓｉａｔａｂａｃｉ）、オンシツコナジラミ（Ｔｒｉａｌｅｕｒｏｄｅｓ ｖａｐｏｒａｒｉｏｒｕｍ）等のコナジラミ類、ブドウネアブラムシ（Ｖｉｔｅｕｓ ｖｉｔｉｆｏｌｉｉ）、モモアカアブラムシ（Ｍｙｚｕｓ ｐｅｒｓｉｃａｅ）、リンゴアブラムシ（Ａｐｈｉｓ ｐｏｍｉ）、ワタアブラムシ（Ａｐｈｉｓ ｇｏｓｓｙｐｉｉ）、Ａｐｈｉｓ ｆａｂａｅ、ニセダイコンアブラムシ（Ｒｈｏｐａｌｏｓｉｐｈｕｍ ｐｓｅｄｏｂｒａｓｓｉｃａｓ）、ジャガイモヒゲナガアブラムシ（Ａｕｌａｃｏｒｔｈｕｍ ｓｏｌａｎｉ）、ムギミドリアブラムシ（Ｓｃｈｉｚａｐｈｉｓ ｇｒａｍｉｎｕｍ）等のアブラムシ類、クワコナカイガラムシ（Ｐｓｅｕｄｏｃｏｃｃｕｓ ｃｏｍｓｔｏｃｋｉ）、ルビーロウムシ（Ｃｅｒｏｐｌａｓｔｅｓ ｒｕｂｅｎｓ）、サンホーゼカイガラムシ（Ｃｏｍｓｔｏｃｋａｓｐｉｓ ｐｅｒｎｉｃｉｏｓａ）、ヤノネカイガラムシ（Ｕｎａｓｐｉｓ ｙａｎｏｎｅｎｓｉｓ）等のカイガラムシ類、サシガメ（Ｒｈｏｄｎｉｕｓ ｓｐ．）等。
鱗翅目害虫、例えばチャハマキ（Ｈｏｍｏｎａ ｍａｇｎａｎｉｍａ）、コカクモンハマキ（Ａｄｏｘｏｐｈｙｅｓ ｏｒａｎａ）、テングハマキ（Ｓｐａｒｇａｎｏｔｈｉｓ ｐｉｌｌｅｒｉａｎａ）、ナシヒメシンクイ（Ｇｒａｐｈｏｌｉｔｈａ ｍｏｌｅｓｔａ）、マメシンクイガ（Ｌｅｇｕｍｉｎｉｖｏｒａ ｇｌｙｃｉｎｉｖｏｒｅｌｌａ）、コドリンガ（Ｌａｓｐｅｙｒｅｓｉａ ｐｏｍｏｎｅｌｌａ）、Ｅｕｃｏｓｍａ ｓｐ．、Ｌｏｂｅｓｉａ ｂｏｔｒａｎａ等のハマキガ類、ブドウホソハマキ（Ｅｕｐｏｅｃｉｌｌｉａ ａｍｂｉｇｕｅｌｌａ）等のホソハマキガ類、Ｂａｍｂａｌｉｎａ ｓｐ．等のミノガ類、コクガ（Ｎｅｍａｐｏｇｏｎ ｇｒａｎｅｌｌｕｓ）、イガ（Ｔｉｎｅａ ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｓ）等のヒロズコガ類、ギンモンハモグリガ（Ｌｙｏｎｅｔｉａ ｐｒｕｎｉｆｏｌｉｅｌｌａ）等のハモグリガ類、キンモンホソガ（Ｐｈｙｌｌｏｎｏｒｙｃｔｅｒ ｒｉｇｏｎｉｅｌｌａ）等のホソガ類、ミカンハモグリガ（Ｐｈｙｌｌｏｃｎｉｓｔｉｓ ｃｉｔｒｅｌｌａ）等のコハモグリガ類、コナガ（Ｐｌｕｔｅｌｌａ ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）、Ｐｒａｙｓ ｃｉｔｒｉ等のスガ類、ブドウスカシバ（Ｐａｒａｎｔｈｒｅｎｅ ｒｅｇａｌｉｓ）、Ｓｙｎａｎｔｈｅｄｏｎ ｓｐ．等のスカシバガ類、ワタアカミムシ（Ｐｅｃｔｉｎｏｐｈｏｒａ ｇｏｓｓｙｐｉｅｌｌａ）、ジャガイモガ（Ｐｈｔｈｏｒｉｍａｅａ ｏｐｅｒｃｕｌｅｌｌａ）、Ｓｔｏｍｏｐｔｅｒｙｘ ｓｐ．等のキバガ類、モモシンクイ（Ｃａｒｐｏｓｉｎａ ｎｉｐｏｎｅｎｓｉｓ）等のシンクイガ類、イラガ（Ｍｏｎｅｍａ ｆｌａｖｅｓｃｅｎｓ）等のイラガ類、ニカメイガ（Ｃｈｉｌｏ ｓｕｐｐｒｅｓｓａｌｉｓ）、コブノメイガ（Ｃｎａｐｈａｌｏｃｒｏｃｉｓ ｍｅｄｉｎａｌｉｓ）、Ｏｓｔｒｉｎｉａ ｎｕｂｉｌａｌｉｓ、アワノメイガ（Ｏｓｔｒｉｎｉａ ｆｕｒｎａｃａｌｉｓ）、ハイマダラノメイガ（Ｈｅｌｌｕｌａ ｕｎｄａｌｉｓ）、ハチミツガ（Ｇａｌｌｅｒｉａ ｍｅｌｌｏｎｅｌｌａ）、Ｅｌａｓｍｏｐａｌｐｕｓ ｌｉｇｎｏｓｅｌｌｕｓ、Ｌｏｘｏｓｔｅｇｅ ｓｔｉｃｔｉｃａｌｉｓ等のメイガ類、モンシロチョウ（Ｐｉｅｒｉｓ ｒａｐａｅ）等のシロチョウ類、ヨモギエダシャク（Ａｓｃｏｔｉｓ ｓｅｌｅｎａｒｉａ）等のシャクガ類、オビカレハ（Ｍａｌａｃｏｓｏｍａ ｎｅｕｓｔｒｉａ）等のカレハガ類、Ｍａｎｄｕｃａ ｓｅｘｔａ等のスズメガ類、チャドクガ（Ｅｕｐｒｏｃｔｉｓ ｐｓｅｕｄｏｃｏｎｓｐｅｒｓａ）、マイマイガ（Ｌｙｍａｎｔｒｉａ ｄｉｓｐａｒ）等のドクガ類、アメリカシロヒトリ（Ｈｙｐｈａｎｔｒｉａ ｃｕｎｅａ）等のヒトリガ類、タバコバッドワーム（Ｈｅｌｉｏｔｈｉｓ ｖｉｒｅｓｃｅｎｓ）、ボールワーム（Ｈｅｌｉｃｏｖｅｒｐａ ｚｅａ）、シロイチモジヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ ｅｘｉｇｕａ）、オオタバコガ（Ｈｅｌｉｃｏｖｅｒｐａ ａｒｍｉｇｅｒａ）、ハスモンヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅｒａ ｌｉｔｕｒａ）、ヨトウガ（Ｍａｍｅｓｔｒａ ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、タマナヤガ（Ａｇｒｏｔｉｓ ｉｐｓｉｒｏｎ）、アワヨトウ（Ｐｓｅｕｄａｌｅｔｉａ ｓｅｐａｒａｔａ）、イラクサキンウワバ（Ｔｒｉｃｈｏｐｌｕｓｉａ ｎｉ）等のヤガ類等。
鞘翅目害虫、例えばドウガネブイブイ（Ａｎｏｍａｌａ ｃｕｐｒｅａ）、マメコガネ（Ｐｏｐｉｌｌｉａ ｊａｐｏｎｉｃａ）、ヒメコガネ（Ａｎｏｍａｌａ ｒｕｆｏｃｕｐｒｅａ）、Ｅｕｔｈｅｏｌａ ｒｕｇｉｃｅｐｓ等のコガネムシ類、ワイヤーワーム（Ａｇｒｉｏｔｅｓ ｓｐ．）、Ｃｏｎｏｄｅｕｓ ｓｐ．等のコメツキムシ類、ニジュウヤホシテントウ（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ ｖｉｇｉｎｔｉｏｃｔｏｐｕｎｃｔａｔａ）、インゲンテントウムシ（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ ｖａｒｉｖｅｓｔｉｓ）等のテントウムシ類、コクヌストモドキ（Ｔｒｉｂｏｌｉｕｍ ｃａｓｔａｎｅｕｍ）等のゴミムシダマシ類、ゴマダラカミキリ（Ａｎｏｐｌｏｐｈｏｒａ ｍａｌａｓｉａｃａ）、マツノマダラカミキリ（Ｍｏｎｏｃｈａｍｕｓ ａｌｔｅｒｎａｔｕｓ）等のカミキリムシ類、インゲンマメゾウムシ（Ａｃａｎｔｈｏｓｃｅｌｉｄｅｓ ｏｂｔｅｃｔｕｓ）、アズキゾウムシ（Ｃａｌｌｏｓｏｂｒｕｃｈｕｓ ｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）等のマメゾウムシ類、コロラドハムシ（Ｌｅｐｔｉｎｏｔａｒｓａ ｄｅｃｅｍｌｉｎｅａｔａ）、コーンルートワーム（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ ｓｐ．）、イネドロオイムシ（Ｏｕｌｅｍａ ｏｒｙｚａｅ）、テンサイトビハムシ（Ｃｈａｅｔｏｃｎｅｍａ ｃｏｎｃｉｎｎａ）、Ｐｈａｅｄｏｎ ｃｏｃｈｌｅａｒｉａｓ、Ｏｕｌｅｍａ ｍｅｌａｎｏｐｕｓ、Ｄｉｃｌａｄｉｓｐａ ａｒｍｉｇｅｒａ等のハムシ類、Ａｐｉｏｎ ｇｏｄｍａｎｉ等のホソクチゾウムシ類、イネミズゾウムシ（Ｌｉｓｓｏｒｈｏｐｔｒｕｓ ｏｒｙｚｏｐｈｉｌｕｓ）、ワタミゾウムシ（Ａｎｔｈｏｎｏｍｕｓ ｇｒａｎｄｉｓ）等のゾウムシ類、コクゾウムシ（Ｓｉｔｏｐｈｉｌｕｓ ｚｅａｍａｉｓ）等のオサゾウムシ類、キクイムシ類、カツオブシムシ類、シバンムシ類等。
双翅目害虫、例えばキリウジガガンボ（Ｔｉｐｒａ ａｎｏ）、イネユスリカ（Ｔａｎｙｔａｒｓｕｓ ｏｒｙｚａｅ）、イネシントメタマバエ（Ｏｒｓｅｏｌｉａ ｏｒｙｚａｅ）、チチュウカイミバエ（Ｃｅｒａｔｉｔｉｓ ｃａｐｉｔａｔａ）、イネミギワバエ（Ｈｙｄｒｅｌｌｉａ ｇｒｉｓｅｏｌａ）、オウトウショウジョウバエ（Ｄｒｏｓｏｐｈｉｌａ ｓｕｚｕｋｉｉ）、フリッツフライ（Ｏｓｃｉｎｅｌｌａ ｆｒｉｔ）、イネカラバエ（Ｃｈｌｏｒｏｐｓ ｏｒｙｚａｅ）、インゲンモグリバエ（Ｏｐｈｉｏｍｙｉａ ｐｈａｓｅｏｌｉ）、マメハモグリバエ（Ｌｉｒｉｏｍｙｚａ ｔｒｉｆｏｌｉｉ）、アカザモグリハナバエ（Ｐｅｇｏｍｙａ ｈｙｏｓｃｙａｍｉ）、タネバエ（Ｈｙｌｅｍｉａ ｐｌａｔｕｒａ）、ソルガムフライ（Ａｔｈｅｒｉｇｏｎａ ｓｏｃｃａｔａ）、イエバエ（Ｍｕｓｃａ ｄｏｍｅｓｔｉｃａ）、ウマバエ（Ｇａｓｔｒｏｐｈｉｌｕｓ ｓｐ．）、サシバエ（Ｓｔｏｍｏｘｙｓ ｓｐ．）、ネツタイシマカ（Ａｅｄｅｓ ａｅｇｙｐｔｉ）、アカイエカ（Ｃｕｌｅｘ ｐｉｐｉｅｎｓ）、シナハマダラカ（Ａｎｏｐｈｅｌｅｓ ｓｌｎｅｎｓｉｓ）、コガタアカイエカ（Ｃｕｌｅｘ ｔｒｉｔａｅｎｉｏｒｈｙｎｃｈｕｓ）等。
膜翅目害虫、例えばクキバチ類（Ｃｅｐｈｕｓ ｓｐ．）、カタビロコバチ類（Ｈａｒｍｏｌｉｔａ ｓｐ．）、カブラハバチ類（Ａｔｈａｌｉａ ｓｐ．）、スズメバチ類（Ｖｅｓｐａ ｓｐ．）、ファイアーアント類等。
直翅目害虫、例えばチャバネゴキブリ（Ｂｌａｔｅｌｌａ ｇｅｒｍａｎｉｃａ）、ワモンゴキブリ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ ａｍｅｒｉｃａｎａ）、ケラ（Ｇｒｙｌｌｏｔａｌｐａ ａｆｒｉｃａｎａ）、バッタ（Ｌｏｃｕｓｔａ ｍｉｇｒａｔｏｒｉａ ｍｉｇｒａｔｏｒｉｏｄｅｓ）、Ｍｅｌａｎｏｐｌｕｓ ｓａｎｇｕｉｎｉｐｅｓ等。
シロアリ目害虫、例えば、ヤマトシロアリ（Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓ ｓｐｅｒａｔｕｓ）、イエシロアリ（Ｃｏｐｔｏｔｅｒｍｅｓ ｆｏｒｍｏｓａｎｕｓ）等。
アザミウマ目害虫、例えば、チャノキイロアザミウマ（Ｓｃｉｒｔｏｔｈｒｉｐｓ ｄｏｒｓａｌｉｓ）、ミナミキイロアザミウマ（Ｔｈｒｉｐｓ ｐａｌｍｉ）、クロトンアザミウマ（Ｈｅｌｉｏｔｈｒｉｐｓ ｈａｅｍｏｒｒｈｏｉｄａｌｉｓ）、ミカンキイロアザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ ｏｃｃｉｄｅｎｔａｌｉｓ）、イネクダアザミウマ（Ｈａｐｌｏｔｈｒｉｐｓ ａｃｕｌｅａｔｕｓ）等。
ハダニ類、例えばナミハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｕｒｔｉｃａｅ）、カンザワハダニ（Ｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｋａｎｚａｗａｉ）、ミカンハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ ｃｉｔｒｉ）、リンゴハダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ ｕｌｍｉ）、イエローマイト（Ｅｏｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｃａｒｐｉｎｉ）、テキサスシトラスマイト（Ｅｏｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｂａｎｋｓｉ）、ミカンサビダニ（Ｐｈｙｌｌｏｃｏｐｔｒｕｔａ ｏｌｅｉｖｏｒａ）、チャノホコリダニ（Ｐｏｌｙｐｈａｇｏｔａｒｓｏｎｅｍｕｓ ｌａｔｕｓ）、ヒメハダニ（Ｂｒｅｖｉｐａｌｐｕｓ ｓｐ．）、ロビンネダニ（Ｒｈｉｚｏｇｌｙｐｈｕｓ ｒｏｂｉｎｉ）、ケナガコナダニ（Ｔｙｒｏｐｈａｇｕｓ ｐｕｔｒｅｓｃｅｎｔｉａｅ）等。
植物寄生性線虫類、例えばサツマイモネコブセンチュウ（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ ｉｎｃｏｇｎｉｔａ）、ネグサレセンチュウ（Ｐｒａｔｙｌｅｎｃｈｕｓ ｓｐ．）、ダイズシストセンチュウ（Ｈｅｔｅｒｏｄｅｒａ ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、イネシンガレセンチュウ（Ａｐｈｅｌｅｎｃｈｏｉｄｅｓ ｂｅｓｓｅｙｉ）、マツノザイセンチュウ（Ｂｕｒｓａｐｈｅｌｅｎｃｈｕｓ ｘｙｌｏｐｈｉｌｕｓ）等。
その他有害動物、不快動物、衛生害虫、寄生虫、例えばスクミリンゴガイ（Ｐｏｍａｃｅａ ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔａ）、ナメクジ（Ｉｎｃｉｌａｒｉａ ｓｐ．）、アフリカマイマイ（Ａｃｈａｔｉｎａ ｆｕｌｉｃａ）等の腹足綱類（Ｇａｓｔｒｏｐｏｄａ）、ダンゴムシ（Ａｒｍａｄｉｌｌｉｄｉｕｍ ｓｐ．）、ワラジムシ、ムカデ等の等脚目類（Ｉｓｏｐｏｄａ）、Ｌｉｐｏｓｃｅｌｉｓ ｓｐ．等のチャタテムシ類、Ｃｔｅｎｏｌｅｐｉｓｍａ ｓｐ．等のシミ類、Ｐｕｌｅｘ ｓｐ．、Ｃｔｅｎｏｃｅｐｈａｌｉｄｅｓ ｓｐ．等のノミ類、Ｔｒｉｃｈｏｄｅｃｔｅｓ ｓｐ．等のハジラミ類、Ｃｉｍｅｘ ｓｐ．等のトコジラミ類、オウシマダニ（Ｂｏｏｐｈｉｌｕｓ ｍｉｃｒｏｐｌｕｓ）、フタトゲチマダニ（Ｈａｅｍａｐｈｙｓａｌｉｓ ｌｏｎｇｉｃｏｒｎｉｓ）等の動物寄生性ダニ類、ヒョウヒダニ類等を挙げることができる。
更に、有機リン系化合物、カーバメート系化合物、合成ピレスロイド系化合物、アシルウレア系化合物あるいは既存の殺虫剤に抵抗性を示す害虫に対しても有効である。
次に、代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。化合物、補助剤の種類及び配合比率は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能である。以下の説明において、％は重量百分率を示す。
製剤例１ 乳剤
化合物（３３）３０％、シクロヘキサノン２０％、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル１１％、アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム４％及びメチルナフタリン３５％を均一に溶解して乳剤とした。
製剤例２ 水和剤
化合物（３３）１０％、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩０．５％、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル０．５％、珪藻土２４％、クレー６５％を均一に混合粉砕して水和剤とした。
製剤例３ 粉剤
化合物（３３）２％、珪藻土５％及びクレー９３％を均一に混合粉砕して粉剤とした。
製剤例４ 粒剤
化合物（３３）５％、ラウリルアルコール硫酸エステルのナトリウム塩２％、リグニンスルホン酸ナトリウム５％、カルボキシメチルセルロース２％及びクレー８６％を均一に混合粉砕した。この混合物１００重量部に水２０重量部を加えて練合し、押出式造粒機を用いて１４〜３２メッシュの粒状に加工したのち、乾燥して粒剤とした。
次に本発明化合物を有効成分とする有害生物防除剤の奏する効果について試験例をもって説明する。
試験例１ トビイロウンカ殺虫試験
製剤例２に準じて調製した水和剤を有効成分として５００ｐｐｍの濃度に水で希釈した。その薬液に、イネ芽だし籾を浸漬し、容量６０ｍｌのプラスティックカップに入れた。これにトビイロウンカ４齢幼虫を１０頭放ち、蓋をして２５℃の恒温室に置いた。６日後に生存虫数を数え、数１の計算式により死虫率を求めた。
この試験において死虫率９０％以上の殺虫効果が得られる化合物の代表として、１、２、８、９、１０、１１、１５、１６、２１、２２、２３、２５、２６、２８、３２、３３、３４、３８、３９、４０、４１、４３、４４、４５、４７、４８、４９、５０、１２９、１３２、１６９、２３４、２４２、２７６、２７８、２８１、２８２等が挙げられる。
Figure 0004409944
試験例２ ナミハダニ防除試験
製剤例２に準じて調製した水和剤を有効成分として５００ｐｐｍの濃度に水で希釈した。その薬液に、予めナミハダニ成虫を接種しておいたダイズ苗を浸漬し、風乾した。処理後のダイズ苗は２５℃の恒温室に置き、１３日後に生存虫数を調査し、数２の計算式により防除価を求めた。
この試験において防除価９０以上の殺ダニ効果が得られる化合物の代表として、７、１２、１３、１６、２７、３１、３２、３３、３５、３７、４２、１８５、１９４、２０３等が挙げられる。また、これらの化合物はダイズ苗に対し、まったく薬害を生じなかった。
試験例３ ナミハダニ防除試験
製剤例２に準じて調製した水和剤を有効成分として０．８ｐｐｍの濃度に水で希釈し、試験例２と同様の試験を行い、数２の計算式により防除価を求めた。
この試験において防除価９０以上の殺ダニ効果が得られる化合物の代表として、６３、９３、７７、８１、１０５、１６９、１９０、１９６、２０８等が挙げられる。また、これらの化合物はダイズ苗に対し、まったく薬害を生じなかった。
Figure 0004409944
試験例４ サツマイモネコブセンチュウ防除試験
プラスティック製小型ポットにサツマイモネコブセンチュウ汚染土壌を入れ、有効成分として１０アール当たり１５００ｇの割合になるように、製剤例２に準じて調製した水和剤の希釈液を土壌混和処理した。７日後に土壌を攪拌し、更に２４時間放置し、キュウリ種を５粒播種した。播種から１４日後にキュウリ根部に形成された根こぶの程度を判定基準１にしたがって調べ、数３の計算式により根こぶ指数を求めた。
この試験において根こぶ指数１０以下の根こぶ形成阻害効果が得られる化合物の代表として、８１、２４７、２４９等が挙げられる。
判定基準１
多：根系の全体に渡って多く認められる
中：中程度認められる
少：少数散見される
稀：一見しただけでは目立たないが少数認めうる
無：まったく認められない
Figure 0004409944
ただし、Ａは稀の株数、Ｂは少の株数、Ｃは中の株数、Ｄは多の株数、Ｎは全調査株数を表す。
試験例５ 急性経口毒性試験
「毒性に関する試験成績を作成するにあたっての指針」（農林水産省）に記載された方法に基づき実施した。動物は株式会社日本エスエルシーから入手したｄｄＹマウス（Ｓｌｃ：ｄｄＹ）７週齢の雄雌各３匹を用いた。本発明化合物又は比較化合物を、３０（ｍｇ／ｋｇ）相当量を動物体重１ｋｇあたり１０ｍｌ投与となるように０．５％カルボキシメチルセルロースナトリウム水溶液又はコーン油で懸濁調製し、これを約３時間絶食させた動物へ胃ゾンデを用いて強制経口投与した。投与後さらに３時間絶食させ、投与７日後までの死亡の有無を検査した。その結果を表３８に示す。この表の試験結果において、０／３は動物３匹中死亡なし、１／３は動物３匹中１匹死亡、２／３は動物３匹中２匹死亡、３／３は動物３匹全ての死亡を表す。
Figure 0004409944
比較化合物Ａ：６，６−ジフルオロ−５−ヘキセニル ６−クロロニコチネート（特開平２０００−０３８３７９号公報記載化合物）；
比較化合物Ｂ：４，４−ジフルオロ−３−ブテニル ２−ブトキシ−４−メチルピリミジン−５−カルボキシレート；
比較化合物Ｃ：４，４−ジフルオロ−３−ブテニル ４−メチル−２−フェニルピリミジン−５−カルボキシレート；
比較化合物Ｄ：６，６−ジフルオロ−５−ヘキセニルベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボキシレート
産業上の利用可能性
本発明の化合物は、作物安全性が高く、半翅目害虫、鱗翅目害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植物寄生性線虫類等の広範囲の有害生物に対して優れた防除効果を示し、また、抵抗性を帯びた有害生物をも防除できるとともに有害生物の天敵及び哺乳動物に対し高い安全性を有する。

Claims (10)

  1. 一般式［１］を有するジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩：
    Figure 0004409944
    Ｌ１及びＬ２は同一又は相異なり、酸素原子又は硫黄原子を表わし；
    ｎは２〜８の整数を表わし；
    Ｑは次式
    Figure 0004409944
    で表されるＱ １ 、Ｑ ２ 、Ｑ １２ 、Ｑ １３ 又はＱ ２４ であり；
    Ｑは１〜４個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
    Ｘは水酸基、ハロゲン原子、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルコキシ基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキルチオ基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキルスルフィニル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキルスルホニル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアシル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数２から６のアルコキシカルボニル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアシルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数２から６のアルコキシアルキル基、炭素数２から６のアルケニル基、炭素数２から７のハロアルケニル基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数２から６のアルキニル基、炭素数３から６のシクロアルキル基、炭素数４から７のシクロアルキルアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、炭素数１から６のハロアルコキシ基、炭素数２から６のアルコキシアルキルオキシ基、炭素数３から８のアルケニルオキシ基、炭素数３から８のハロアルケニルオキシ基、炭素数３から６のアルキニルオキシ基、炭素数３から７のシクロアルキルオキシ基、炭素数４から７のシクロアルキルアルキルオキシ基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、炭素数１から６のアシルオキシ基、炭素数２から５のハロアルキルカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェノキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルチオ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルフィニル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルホニル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルアミノ基［該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から４のアシル基、炭素数２から４のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）又は炭素数１から４のアルキルスルホニル基で置換されていてもよい］、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジル基、置換基群βより選択される１〜３個の任意の基で置換されてもよいチエニル基、置換基群βより選択される１〜３個の任意の基で置換されてもよいピラゾリル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジルオキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルカルバモイル基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフタルイミド基、ニトロ基、アミノ基、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルキルアミノ基（該基の窒素原子は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から６のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基又は水酸基で置換されていてもよい）、炭素数３から６のシクロアルキルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から４のアシル基、炭素数２から４のアルコキシカルボニル基又は炭素数１から４のアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）、置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１２のアルコキシアミノ基（該基の窒素原子は置換基群αより選択される任意の基でモノ置換されてもよい炭素数１から１０のアルキル基、炭素数２から４のアルケニル基、炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から４のアシル基、炭素数２から４のアルコキシカルボニル基又は炭素数１から４のアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）、ピロリジニル基、ピペリジニル基、炭素数２から５のハロアルキルカルボニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）又は炭素数１から４のハロアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）を表し；
    また、置換基Ｘは隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成してもよい。
    「置換基群α」
    置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェノキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンジルオキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジル基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジルオキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイルオキシ基、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルカルバモイル基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群βより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンジルオキシカルボニル基又はシアノ基。
    「置換基群β」
    水酸基、ハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数１から４のハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、炭素数１から６のアルキルチオ基、炭素数１から６のアルキルスルフィニル基、炭素数１から６のアルキルスルホニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、ニトロ基、アミノ基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニル基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェノキシ基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンジルオキシ基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジル基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいピリジルオキシ基、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいベンゾイルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、置換基群γより選択される１〜４個の任意の基で置換されてもよいフェニルカルバモイル基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から４のアルキルアミノ基、炭素数１から４のジアルキルアミノ基（該基のジアルキル基は同一又は異なってもよい）、炭素数１から６のアシルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基又は炭素数１から４のアシル基で置換されていてもよい）、炭素数１から５のハロアルキルカルボニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）又は炭素数１から４のハロアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）。
    「置換基群γ」
    水酸基、ハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数１から４のハロアルコキシ基、メチレンジオキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、炭素数１から６のアシルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から５のハロアルキルカルボニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）又は炭素数１から４のハロアルキルスルホニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）。
  2. Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数である請求項１に記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
  3. Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；
    Ｑは１〜３個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
    Ｘはハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数１から６のアルキルチオ基、炭素数１から６のハロアルコキシ基、炭素数３から６のアルケニルオキシ基、炭素数３から６のハロアルケニルオキシ基、炭素数３から６のアルキニルオキシ基、炭素数３から６のシクロアルキル基、炭素数３から７のシクロアルキルオキシ基、フェニル基（該基は炭素数１から４のハロアルキル基で置換されてもよい）、ベンジル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、フェニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基又は炭素数３から４のアルキニル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルキルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基又は炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から５のアシル基又は炭素数２から５のハロアルキルカルボニル基で置換されていてもよい）、炭素数３から６のシクロアルキルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルコキシアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、ベンジルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、ピロリジニル基、ピペリジニル基である請求項１に記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
  4. Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ１であり；
    Figure 0004409944
    Ｑは１〜３個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
    Ｘは炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数１から６のアルキルチオ基、炭素数３から６のアルケニルオキシ基、炭素数３から６のハロアルケニルオキシ基、炭素数３から６のアルキニルオキシ基、炭素数３から７のシクロアルキルオキシ基、フェニル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、フェニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）である請求項１に記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
  5. Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ２であり；
    Figure 0004409944
    Ｑは１〜３個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
    Ｘは、炭素数１から６のアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数１から６のハロアルコキシ基、フェニル基（該基は炭素数１から４のハロアルキル基で置換されてもよい）、フェノキシ基、フェニルチオ基、フェニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基又は炭素数３から４のアルキニル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルキルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基又は炭素数３から４のアルキニル基、炭素数１から５のアシル基又は炭素数２から５のハロアルキルカルボニル基で置換されていてもよい）、炭素数３から６のシクロアルキルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、炭素数１から６のアルコキシアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、ベンジルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から６のアルキル基で置換されていてもよい）、ピロリジニル基、又はピペリジニル基である請求項１に記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
  6. Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ１２であり；
    Figure 0004409944
    Ｑは１〜２個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
    Ｘは炭素数１から６のアルキル基、炭素数３から６のシクロアルキル基、フェニル基、フェニルアミノ基（該基の窒素原子は炭素数１から４のアルキル基で置換されていてもよい）又はベンジル基である請求項１に記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
  7. Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ１３であり；
    Figure 0004409944
    Ｑは１〜３個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
    Ｘはハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基又はフェニル基である請求項１に記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
  8. Ｌ１及びＬ２はそれぞれ酸素原子であり；ｎは２〜４の整数であり；ＱはＱ２４であり；
    Figure 0004409944
    Ｑは１〜３個の同一又は相異なる置換基Ｘで置換されていてもよく；
    Ｘはハロゲン原子、炭素数１から６のアルキル基又は炭素数１から６のアルコキシ基である請求項１に記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩。
  9. 請求項１及び２に記載のジフルオロアルケン誘導体の有用な製造中間体である、次式［４］で表わされるジフルオロアルケニルジチオカーバメート誘導体：
    Figure 0004409944
    式中、ｎは２〜８の整数を表わし、Ｗはジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基を表す。
  10. 請求項１〜８に記載のジフルオロアルケン誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成分として含有する有害生物防除剤。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20080114177A1 (en) * 2006-11-15 2008-05-15 3M Innovative Properties Company Method for preparing fluorinated benzotriazole compounds
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