JP4402363B2 - 環状ジケトンの製法 - Google Patents
環状ジケトンの製法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4402363B2 JP4402363B2 JP2003104164A JP2003104164A JP4402363B2 JP 4402363 B2 JP4402363 B2 JP 4402363B2 JP 2003104164 A JP2003104164 A JP 2003104164A JP 2003104164 A JP2003104164 A JP 2003104164A JP 4402363 B2 JP4402363 B2 JP 4402363B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkyl
- alkoxy
- formula
- methyl
- halogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 CC(C1)=C(C)OC1*1=CC1 Chemical compound CC(C1)=C(C)OC1*1=CC1 0.000 description 6
- LPWZTKKGUAIGNX-UHFFFAOYSA-N CS(c(cc1)cc([N+]([O-])=O)c1C(C(C(C1CC2CC1)=O)=C2O)=O)(=O)=O Chemical compound CS(c(cc1)cc([N+]([O-])=O)c1C(C(C(C1CC2CC1)=O)=C2O)=O)(=O)=O LPWZTKKGUAIGNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/78—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans
- C07D307/79—Benzo [b] furans; Hydrogenated benzo [b] furans with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
- C07C315/04—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by reactions not involving the formation of sulfone or sulfoxide groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
- C07C319/20—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by reactions not involving the formation of sulfide groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/22—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and doubly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/45—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation
- C07C45/455—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation with carboxylic acids or their derivatives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/54—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition of compounds containing doubly bound oxygen atoms, e.g. esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/56—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds
- C07C45/57—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds with oxygen as the only heteroatom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/56—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds
- C07C45/57—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds with oxygen as the only heteroatom
- C07C45/60—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds from heterocyclic compounds with oxygen as the only heteroatom in six-membered rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
- C07C49/703—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups
- C07C49/723—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups polycyclic
- C07C49/727—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups polycyclic a keto group being part of a condensed ring system
- C07C49/733—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing hydroxy groups polycyclic a keto group being part of a condensed ring system having two rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/24—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D213/44—Radicals substituted by doubly-bound oxygen, sulfur, or nitrogen atoms, or by two such atoms singly-bound to the same carbon atom
- C07D213/46—Oxygen atoms
- C07D213/50—Ketonic radicals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
- C07C2602/36—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common
- C07C2602/44—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common the bicyclo ring system containing eight carbon atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Description
【０００１】
本発明は、２位においてカルボニル化された環状１，３−ジケトン誘導体の製法に関する。
【０００２】
アリールカルボニル基により２位において置換された環状１，３−ジケトンの製法は、例えば、ＷＯ００／１５６１５、ＷＯ００／３７４３７、ＷＯ０１／６６５２２、及びＷＯ０１／９４３３９中に記載されている。これらの化合物は、除草作用を有する。
【０００３】
しかしながら、これらの製法は、２位において置換されていないいくつかの環状１，３−ジケトン出発化合物、特に２環式１，３−ジケトン出発化合物は、一般に、容易に得られず、そしてその誘導体は、通常、多数の複雑な合成ステップ、及び精製手順によってのみ、製造されうるという欠点をもつ。
【０００４】
さらに、上記の知られた方法においては、その最終生成物の単離は、特に、２−ベンゾイル、２−ピリジルカルボニル、及び２−ヘテロアリールカルボニル誘導体の場合、高い支出を伴う。なぜなら、それらは、一般に、多段階の手順を含むからである。それゆえ、知られた方法により製造された環状１，３−ジケトンの純度及び収率は、しばしば、満足できるものではない。
【０００５】
それゆえ、本発明の目的は、単環式及び２環式１，３−ジケトン誘導体、特に、２−ベンゾイル、２−イソニコチノイル、及び２−ニコチノイル誘導体の新規一般製法を提供することであり、それにより、上記知られた方法の上述の欠点を伴わずに、単純な反応手順により、かつ、近い支出で、高収率で、かつ、良い品質で、上記化合物を製造することが可能になる。
【０００６】
したがって、本発明は、以下の式（Ｉ）：
【化５】
｛式中、
Ｑは、上記式（Ｉ）の化合物が１〜５のpK値をもつように選択された有機置換基であり；
Ｄは、水素又はＲ3 であり；
Ｅは、水素又はＲ4 であり；
ＤとＥは、一緒になって、Ｃ2 −Ｃ3 アルキレンであり、これは、Ｒ6 により１置換又は多置換されることができ；
Ａは、Ｃ1 −Ｃ2 アルキレンであり、これは、Ｒ5 により１置換又は多置換されることができ；又はＤとＥが、Ｃ2 −Ｃ3 アルキレン以外であるとき、Ａは、さらに、カルボニル、酸素又は−ＮＲ7 −であることができ；
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、及びＲ6 は、互いに独立に、水素、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ヒドロキシカルボニル又はＣ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニルであり；そして
Ｒ7 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、アルコキシカルボニル又はＣ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルである。｝により表される化合物の製法であって、以下のステップ：
【０００７】
ａ）以下の式（II）：
【化６】
｛式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ａ、Ｄ、及びＥは、上記式（Ｉ）のために定義したものと同じである。｝により表される化合物を、アミン塩基と触媒量のシアン化物の存在下か、又はアルカリ金属アルコラート又はアルカリ土類金属アルコラートの存在下で、以下の式（III）：
【化７】
｛式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ａ、Ｄ、及びＥは、上記式（Ｉ）のために定義したものと同じであり、そしてＭ+ は、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン又はアンモニウム・イオンである。｝により表される塩に変換し、
【０００８】
ｂ）上記化合物を、以下の式（IV）：
Ｘ−Ｃ（Ｏ）−Ｑ （IV）
｛式中、Ｘは、脱離基であり、そしてＱは、上記式（Ｉ）のために定義したものと同じである。｝により表される化合物と、反応させて、以下の式（Ｖ）：
【化８】
｛式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ａ、Ｄ、Ｅ、及びＱは、上記式（Ｉ）のために定義したものと同じである。｝により表される化合物を得、そして
【０００９】
ｃ）上記化合物を、触媒量のシアン化物イオンの存在下、及び塩基の存在下で、上記式（Ｉ）の化合物に変換する、
を含む前記製法に関する。
【００１０】
上記式（Ｉ）の化合物は、好ましくは、エノール化形態又は塩の形態で存在するので、本発明に係る製法は、式中、Ｍ+ が、水素又はアルカリ金属イオン、アルカリ土類イオン又はアンモニウム・イオンである、以下の式（Ｉａ）、式（Ｉｂ）、式（Ｉｃ）、及び式（Ｉｄ）のエノール化形態の製法をも含む：
【化９】
【００１１】
例えば、Ｒ1 、Ｄ、及びＡを担持する炭素原子の場合、不斎炭素原子が式（Ｉ）の化合物内に存在することもできるので、立体異性体の全ての形態も含まれる。このことは、中間体として使用される式（II）、式（III） 、式（IV）、及び式（Ｖ）の化合物の全ての可能な互変異性体及び立体異性体の形態にも同様に適用される。
【００１２】
Ｑは、特に、式（Ｉ）の化合物が２．５〜４のpKをもつように選択された有機置換基である。
【００１３】
有機置換基Ｑは、いずれかの構造をもつ置換基であることができる。但し、それは、本発明に係る製法の反応条件下では実質的に不活性である。
【００１４】
Ｑは、好ましくは、１又は多置換フェニル、ピリジル又はヘテロアリール基、特にジ又はトリ置換フェニル基、又はジ置換２−ピリジル又は３−ピリジル基であり、これらの基の置換パターンは、自由に選択される。但し、これらの基は、本発明に係る製法の反応条件下では実質的に不活性である。特に好ましくはオルト位にある、少なくとも１の置換基を担持する、フェニル、３−ピリジル、及びヘテロアリール基が好ましい。
【００１５】
Ｑが以下の式（Ｉ）：
【化１０】
｛式中、
Ａ1 は、ＣＲａ、又はＮ−（Ｏ）ｐであり；
ｐは、０又は１であり；
Ｒａ1 は、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、ヒドロキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルアミノ、Ｃ1 −Ｃ3 −アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ3 −アルキル）−、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、ホルミル、シアノ、ハロゲン、フェニル又はフェノキシであり、ここで、上記フェニル含有基は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；
【００１６】
又はＲａ1 は、３〜１０員の単環であるか、又はＲａ2 又はＲａ5 と一緒になって、縮合２環式環系であり、これは、酸素、硫黄、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ2 、Ｎ（Ｒａ6 ）、カルボニル、及びＣ（＝ＮＯＲａ7 ）から選ばれる複素環式置換基により１回又は３回まで中断されることができ、そしてここで、上記環系が縮合していないとき、それは、直接に、又は酸素、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル又はスルホニルにより中断されることができるＣ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2−Ｃ4 アルケニレン又はＣ2−Ｃ4 アルキニレン橋を介して、置換基Ａ1 の炭素原子に結合され、そして上記環系は、３以上の酸素原子を含まず及び３以上の硫黄原子を含まず、そして上記環系は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニル、ベンジルオキシ、及び／又はベンジルチオによりモノ−，ジ−又はトリ−置換されることができ、そしてここで、上記フェニル含有基は、それ自身、そのフェニル環上、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ、そしてここで、上記複素環式環内の窒素上の置換基は、ハロゲン以外であり；
【００１７】
又はＲａ1 は、基−Ｘ5 −Ｘ7 又は基−Ｘ6 −Ｘ5 −Ｘ7 であり；ここで、
Ｘ5 は、酸素、−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）Ｏ−、−Ｏ（ＣＯ）Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−Ｏ−、−Ｏ−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル、スルホニル、−ＳＯ2 Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）ＳＯ2 −、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル）ＳＯ2 −又は−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−であり；
【００１８】
Ｘ6 は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキレン、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニレン又はＣ3 −Ｃ6 アルキニレン鎖であり、これらは、ハロゲン又はＸ8 により１又は多置換されることができ、上記鎖の不飽和結合は、置換基Ｘ5 に直接結合されず；
【００１９】
Ｒａ6 は、水素、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−カルボニル、フェニルカルボニル又はフェニルであり、ここで、上記フェニル基は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−ＳＯ2 、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−Ｓ（Ｏ）2 Ｏ、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロ−アルキル−ＳＯ2 、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）2 Ｏ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−Ｓ（Ｏ）2 ＮＨ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−Ｓ（Ｏ）2 Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、ハロゲン、ニトロ又はシアノにより置換されることができ；
【００２０】
Ｒａ7 は、水素、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ3 −Ｃ4 アルケニル、Ｃ3 −Ｃ4 アルキニル又はベンジルであり；
Ｒａ2 は、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ1 −Ｃ2 −アルコキシカルボニル−又はフェニル−置換ビニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、トリメチルシリル−、ヒドロキシ−、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、又はフェニル−置換エチニル、Ｃ3 −Ｃ6 アレニル、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、ハロ−又はＣ1 −Ｃ3 アルコキシメチル−置換Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルオキシ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 −アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルアミノ、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ3 アルキル）、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 −アルキル）アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）、シアノ、カルバモイル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、ホルミル、ハロゲン、ローダノ、アミノ、ヒドロキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 −アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、シアノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルカルボニルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ローダノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェノキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ベンジルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ベンゾイルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、（２−オキシラニル）−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−アミノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ12アルキルチオカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル又はホルミル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、又はベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル又はフェニルスルホニルであり、ここで、フェニル含有基は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；又は
【００２１】
Ｒａ2 は、３〜１０員の単環又は縮合２環式環系であり、これは、芳香族、飽和又は部分飽和であることができ、そして窒素、酸素及び硫黄から選ばれる１〜４複素原子を含むことができ、ここで、上記環系は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルケニレン又はＣ2 −Ｃ4 アルキニレン橋であって酸素、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル、スルホニル又はカルボニルにより中断されることができるものにより基Ｑ1 又はＱ2 に結合され、そして各環系は、３以上の酸素原子を含まず、かつ、３以上の硫黄原子を含まず、そして上記環系は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、ヒドロキシ、メルカプト、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−カルボニル−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 −アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニル、及び／又はベンジルチオにより、モノ−，ジ−又はトリ置換されることができ、ここで、フェニルとベンジルチオは、それ自身、そのフェニル環上、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ、そして上記複素環内の窒素原子上の置換基は、ハロゲン以外であり；又は
【００２２】
Ｒａ2 は、基−Ｘ1 −Ｘ3 又は基−Ｘ2 −Ｘ1 −Ｘ3 であり；ここで、
Ｘ1 は、酸素、−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）Ｏ−、−Ｏ（ＣＯ）Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−Ｏ−、−Ｏ−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、チオ、スルフィニル、スルホニル、−ＳＯ2 Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）ＳＯ2 −、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル）ＳＯ2 −又は−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−であり；
Ｘ2 は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキレン、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニレン又はＣ3 −Ｃ6 アルキニレン鎖であり、これは、ハロゲン又はＸ4 により１又は多置換されることができ、上記鎖の不飽和結合は、置換基Ｘ1 に直接結合されず；
【００２３】
Ｘ3 とＸ7 は、互いに独立に、Ｃ1 −Ｃ8 アルキル、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニル又はＣ3 −Ｃ6 アルキニルであり、これらは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ホルミル、ニトロ、シアノ、メルカプト、カルバモイル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシカルボニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、ハロ置換Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルオキシ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルカルボニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、オキシランであってそれ自身Ｃ1 −Ｃ6 アルキルにより置換されうるオキシラン、（３−オキセタニル）−オキシであってそれ自身Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−Ｓ（Ｏ）2 Ｏ、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノスルホニル、ローダノ、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル又はフェニルスルホニルにより置換されうるものにより１又は多置換されることができ、そして上記フェニル又はベンジル含有基は、それ自身、１以上のＣ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ又はニトロ基により置換されることができ；又は
【００２４】
Ｘ3 とＸ7 は、互いに独立に、フェニルであり、これらは、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ又はニトロにより１又は多置換されることができ；又は
Ｘ3 とＸ7 は、互いに独立に、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6アルコキシ−又はＣ1 −Ｃ6 アルキル−置換Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、３−オキセタニル又はＣ1 −Ｃ6 アルキル−置換３−オキセタニルであり；又は
【００２５】
Ｘ3 とＸ7 は、互いに独立に、３−〜１０−員単環又は縮合２環式の環系であり、これらは、芳香族、飽和又は部分飽和であることができ、そして窒素、酸素、及び硫黄から選ばれる１〜４個の複素原子を含有することができ、ここで、上記環系は、置換基Ｘ1 又はＸ5 に、直接に、又は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルケニレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルキニレン、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン、−Ｓ（Ｏ）−Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン又は−ＳＯ2 −Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン基を介して、結合され、そして各環系は、２以下の酸素原子及び２以下の硫黄原子を含有することができ、そしてこの環系は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、ヒドロキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルチオ、Ｃ1 −Ｃ3 −アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ2 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ2 アルキル）アミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 −アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ6 カルボニルアミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニル、ベンジルオキシ、及び／又はベンジルチオによりモノ−，ジ−又はトリ−置換されることができ、ここで、上記フェニル基は、それ自身、そのフェニル環上、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより、置換されることができ、そして上記複素環式環内の窒素上の置換基は、ハロゲン以外であり；そして
【００２６】
Ｘ4 とＸ8 は、互いに独立に、ヒドロキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、（Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル）オキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ又はＣ1 −Ｃ6 アルキルスルホニルオキシであり；
【００２７】
Ｒａ3 は、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル−スルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、アミノ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル−アミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノスルホニル、シアノ、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェニル、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル又はフェノキシであり、ここで、フェニル基は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；
【００２８】
Ｒａ4 は、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、ヒドロキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 −ハロアルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1 −4 アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 −アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル、ホルミル、シアノ、ハロゲン、フェニル又はフェノキシであり、ここで、上記フェニル含有基は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ3 −アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；又は
【００２９】
Ｒａ4 は、３−〜１０−員の単環又は、Ｒａ3 又はＲａ5 と一緒になって、縮合２環式の環系であり、これらは、窒素、酸素、及び硫黄から選ばれる１〜４個の複素原子を含有することができ、ここで、上記環系が縮合されていないとき、それは、基Ｑ1 又はＱ2 に、直接に、又は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2−Ｃ4 アルケニレン又はＣ2−Ｃ4 アルキニレン橋であって酸素、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル、スルホニル又はカルボニルにより中断されることができるものを介して、結合され、そして上記環系は、２以下の酸素原子、及び２以下の硫黄原子を含有することができ、そして上記環系は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 −アルキルチオ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノスルホニル、アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニル、及び／又はベンジルチオにより、モノ−，ジ−又はトリ−置換されることができ、ここで、フェニル及びベンジルチオそれ自身は、そのフェニル環上、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ、上記複素環式環内の窒素上の置換基は、ハロゲン以外であり；
【００３０】
Ｒａ5 は、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニルオキシ、ヒドロキシ、メルカプト、アミノ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノスルホニル、シアノ、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 −アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、トリアゾールイル、フェニル、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル又はフェノキシであり、ここで、上記フェニル含有基は、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができる。｝により表される化合物、及び、上記化合物の農業上許容される塩／Ｎ−オキシド／異性体／エナンチオマーの製法に従って特に有利に製造されうる。
【００３１】
上記置換基の定義中のアルキル基は、直鎖又は分枝であることができ、そして例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル又はｔｅｒｔ−ブチルであることができる。アルコキシ、アルケニル、及びアルキニル基は、上述のアルキル基から誘導される。上記アルケニル及びアルキニル基は、１又は多不飽和でありうる。アルコキシは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ又はｔｅｒｔ−ブトキシである。アルコキシカルボニルは、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル；好ましくは、メトキシカルボニル又はエトキシカルボニルである。
【００３２】
アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン又はアンモニウム・イオンとしてのＭ+ は、例えば、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、トリエチルアンモニウム又はジイソプロピルエチルアンモニウム・カチオンである。
【００３３】
ハロゲンは、一般に、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素である。他の定義、例えば、ハロアルキル又はハロフェニルに関するハロゲンにも、同じことが適用される。１〜６炭素原子の炭素長をもつハロアルキル基は、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、１−フルオロエチル、２−フルオロエチル、２−クロロエチル、２−フルオロプロピル−２−ル、ペンタフルオロエチル、１，１−ジフルオロ−２，２，２−トリクロロエチル、２，２，３，３−テトラフルオロエチル、及び２，２，２−トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル又はペルフルオロ−ｎ−ヘキシルである。
【００３４】
アルケニル及びアルキニル基は、１又は多不飽和であることができ、そしてまた、１以上の２重又は３重結合をもつアルキル、アルケニル又はアルキニルをも含みうる。アルケニルは、例えば、ビニル、アリル、イソブテニ−３−ル、ＣＨ2 ＝ＣＨ−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ2 ＝ＣＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ−又はＣＨ3 −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ−である。好ましいアルキニルは、例えば、プロパルギルであり、そして好ましいアレニルは、ＣＨ2 ＝Ｃ＝ＣＨ2 −である。
【００３５】
アルキレン鎖は、１以上のＣ1 −Ｃ3 アルキル基、特にメチル基により置換されることもできる。このようなアルキレン鎖及びアルキレン基は、好ましくは、非置換である。Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル−、Ｃ3 −Ｃ5 オキサシクロアルキル−、Ｃ3 −Ｃ5 チアシクロアルキル−、Ｃ3 −Ｃ4 −ジオキサシクロアルキル、Ｃ3 −Ｃ4 ジチアシクロアルキル−又はＣ3 −Ｃ4 オキサチアシクロアルキル−含有基であって、例えば、基Ｒａ1 及びＲａ2 の酸素−及び硫黄−含有複素環式環系の一部としても生じうるものの全てにも、同じことが適用される。
【００３６】
Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルケニレン又はＣ2 −Ｃ4 アルキニレン鎖であって、酸素、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル又はスルホニルにより中断されることができ、又はハロゲンにより又はＸ4 又はＸ8 により１又は多置換されうるＣ1 −Ｃ6 アルキレン、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニレン又はＣ3 −Ｃ6 アルキニレンであって、それぞれ、上記鎖の不飽和結合が、それぞれ置換基Ｘ1 とＸ5 に直接結合されていない、Ｘ2 又はＸ6 内のＣ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルケニレン又はＣ2 −Ｃ4 アルキニレンは、例えば、−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ（ＣＨ3 ）−、−ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）−、−ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ（Ｃｌ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＣＨ3 ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−ＯＣＨ2ＣＨ2 −、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＯＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＯＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＨ2−、−ＳＣＨ2 −、−ＳＣＨ2ＣＨ2 −、−ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｓ−、−ＣＨ2 ＳＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｓ（Ｏ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＳＯ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＳＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｓ（Ｏ）ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＳＯ2 ＮＨ−、−ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）ＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｎ（ＳＯ2 Ｍｅ）ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｏ）ＮＨ−又は−ＣＨ2 ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ2 −を意味すると理解すべきである。したがって、場合により酸素により中断されうるＣ2 −Ｃ4 アルキレン鎖は、例えば、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 −、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2ＣＨ2 −又は−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 ＯＣＨ2 −を意味すると理解すべきであり、そして場合により酸素により中断されうるＣ2 −Ｃ4 アルキニレン鎖は、例えば、−ＣＨ≡Ｃ−、−Ｃ≡ＣＣＨ2 −、−Ｃ≡ＣＣＨ2−Ｏ−、−Ｃ≡ＣＣＨ2 ＯＣＨ2 −又は−ＯＣ≡ＣＣＨ2 −を意味すると理解すべきである。
【００３７】
１回又は３回まで、酸素、硫黄、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ2 、Ｎ（Ｒａ6 ）、カルボニル、及びＣ（＝ＮＯＲａ7 ）から選ばれる置換基により中断されうる３−〜１０−員の単一又は２−環式環系Ｒａ1 又はＲａ2 であって、基Ａ1 の炭素原子に又は基Ｑ1 又はＱ2 に、直接に、又は酸素、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル又はスルホニルにより中断されうるＣ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルケニレン又はＣ2 −Ｃ4 アルキニレン橋を介して結合されているＲａ1 又はＲａ2 は、例えば、１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル、１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル、１−プロピル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル、１Ｈ−ピラゾール−３−イル、１，５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル、４−クロロ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル、１Ｈ−ピラゾール−１−イル、３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−１−イル、３，５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−１−イル、３−イソキサゾールイル、５−メチル−３−イソキサゾールイル、３−メチル−５−イソキサゾールイル、５−イソキサゾールイル、１Ｈ−ピロール−２−イル、１−メチル−１Ｈ−ピロール−２−イル、１Ｈ−ピロール−１−イル、１−メチル−１Ｈ−ピロール−３−イル、２−フラニル、５−メチル−２−フラニル、３−フラニル、５−メチル−２−チエニル、２−チエニル、３−チエニル−１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル、１Ｈ−イミダゾール−２−イル、１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−４−イル、１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−５−イル、４−メチル−２−オキサゾールイル、５−メチル−２−オキサゾールイル、２−オキサゾールイル、２−メチル−５−オキサゾールイル、
【００３８】
２−メチル−４−オキサゾールイル、４−メチル−２−チアゾールイル、５−メチル−２−チアゾールイル、２−チアゾールイル、２−メチル−５−チアゾールイル、２−メチル−４−チアゾールイル、３−メチル−イソチアゾールイル、３−メチル−５−イソチアゾールイル、５−メチル−３−イソチアゾールイル、１−メチル−１Ｈ−１，２，３−トリアゾール−４−イル、２−メチル−２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−４−イル、４−メチル−２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−２−イル、１−メチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル、１，５−ジメチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル、３−メチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル、５−メチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル、４，５−ジメチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル、４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル、４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−４−イル、５−メチル−１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、３−メチル−１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、５−メチル−１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、４−メチル−３−フラザニル、３−フラザニル、５−メチル−１，２，４−オキサジアゾール−２−イル、５−メチル−１，２，３−チアジアゾール−４−イル、１，２，３−チアジアゾール−４−イル、３−メチル−１，２，４−チアジザゾール−５−イル、５−メチル−１，２，４−チアジアゾール−３−イル、４−メチル−１，２，５−チアジアゾール−３−イル、５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル、１Ｈ−テトラゾール−５−イル、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル、２−メチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル、２−エチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル、５−メチル−２Ｈ−テトラゾール−２−イル、
【００３９】
２Ｈ−テトラゾール−２−イル、２−ピリジル、６−メチル−２−ピリジル、４−ピリジル、３−ピリジル、６−メチル−３−ピリダジニル、５−メチル−３−ピリダジニル、３−ピリダジニル、４，６−ジメチル−２−ピリミジニル、４−メチル−２−ピリミジニル、２−ピリミジニル、２−メチル−４−ピリミジニル、２−クロロ−４−ピリミジニル、２，６−ジメチル−４−ピリミジニル、４−ピリミジニル、２−メチル−５−ピリミジニル、６−メチル−２−ピラジニル、２−ピラジニル、４，６−ジメチル−１，３，５−トリアジン−２−イル、４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン−２−イル、１，３，５−トリアジン−２−イル、４−メチル−１，３，５−トリアジン−２−イル、３−メチル−１，２，４−トリアジン−５−イル、３−メチル−１，２，４−トリアジン−６−イル、
【化１１】
又は
【化１２】
を意味すると理解すべきであり、上記基中、Ｒ26はメチルであり、各Ｒ27は、互いに独立に、水素、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ又はトリフルオロメチルであり、そしてＸ9 は酸素又は硫黄である。
【００４０】
さらなる縮合、単環式又は２環式環系であって、例えば、２つの隣接置換基Ｒａ1 とＲａ2 又はＲａ1 とＲａ5 により形成され、そして場合により、１回又は３回まで、酸素、硫黄、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ2 、−Ｎ（Ｒａ6 ）−、カルボニル又はＣ（＝ＮＯＲａ7 ）から選ばれる置換基により中断され、そしてさらに、１以上の置換基により置換されることができるものは、例えば、以下の式：
【化１３】
｛式中、
特にＲ46は、水素、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はＣ1 −Ｃ4 アルキルチオであり；Ｒ47は、水素、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシであり；そしてＲ50、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、及びＲ59は、水素、又はＣ1 −Ｃ4 アルキルであり；そしてＸ10は、酸素又はＮＯＲ59である。｝により表される縮合、二座環系を意味すると理解すべきである。
【００４１】
少なくともそのオルト位で置換されたヘテロアリール基Ｑは、特に、先に列記した５−又は６−員芳香族複素アリール基であって、さらに、Ｒａ1 、Ｒａ2 、Ｒａ3 又はＲａ4 及びＲａ5 の定義から選ばれる基により、その窒素原子及び／又は炭素原子上でモノ−〜トリ−置換されるもの、を意味すると理解すべきである。
【００４２】
特に有利には、ＷＯ００／１５６１５、ＷＯ００／３７４３７、ＷＯ０１／６６５２２、及びＷＯ０１／９４３３９中に記載されたシクロヘキサンジオン除草剤が、本発明に係る製法により製造される。
【００４３】
本発明に係る製法による製造によく適した式（Ｉ）の化合物は、式中、
Ｒ1 とＲ2 が水素であり；
Ａが、非置換Ｃ1 −Ｃ2 アルキレン；
ＤとＥが共に、非置換Ｃ2 −Ｃ3 アルキレンであり；
ＱがＱ1 であり、ここでＡ1 がＣＲａ1 又はＮ−（Ｏ）p であり；
ｐが０であり；
【００４４】
Ｒａ1 が、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、ヒドロキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 −ハロアルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 −アルコキシ、（Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル）−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ、（１，３−ジオキソラン−２−イル）−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ、（テトラヒドロフラン−２−イル）−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ、（テトラヒドロフラン−３−イル）オキシ、（オキセタン−３−イル）オキシ、（Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル）オキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−スルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ2 −アルコキシエチルアミノ、Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシエチル−（Ｎ−メチル）アミノ、モルフォリノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルアミノ−エトキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、ヒドロキシメチル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシメチル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシメチル、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシメチル、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルオキシメチル、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシメチル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシメチル、（Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル）−メトキシメチル、（１，３−ジオキソラン−２−イル）−メトキシメチル、（テトラヒドロフラン−２−イル）−メトキシメチル、（テトラヒドロフラン−３−イル）オキシメチル、（オキセタン−３−イル）オキシ−メチル）、（Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル）オキシメチル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルアミノ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、フェニル又はベンジルオキシであり、ここで、フェニル含有基自身、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；
【００４５】
Ｒａ2 が、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、ハロ−又はＣ1 −Ｃ2 アルコキシメチル−置換Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−スルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、シアノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルカルボニルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−カルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェノキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ベンジルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ベンゾイルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、フェノキシ又はフェニルチオであり、ここで、上記フェニル含有基はそれ自身、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；又は
Ｒａ2 が、基−Ｘ1 −Ｘ3 又は基−Ｘ2 −Ｘ1 −Ｘ3 であり、ここで、Ｘ1 、Ｘ2 とＸ3 は、先に定義したものと同じであり；
Ｒａ3 が水素であり；
Ｒａ4 が水素又はメチルであり;
【００４６】
Ｒａ5 が、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 −アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル−スルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、シアノ、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシメチル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオメチル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニルメチル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニルメチル又は１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルであるものである。
【００４７】
本発明に係る製法による製造に特によく適した式（Ｉ）の化合物は、式中、
Ｒ1 とＲ2 が水素であり、Ａがメチレンであり、ＤとＥが一緒になってエチレンであり、ＱがＱ1 であり、ここで、Ａ1 が、窒素であり、Ｒａ3 とＲａ4 が水素であり、Ｒａ5 が、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、好ましくはトリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル又はジフルオロメチル、特にトリフルオロメチルであり、Ｒａ2 が、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル又はＣ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル、好ましくは、メチル、エチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシプロピル又はメトキシエトキシメチル、特にメトキシエトキシメチルであるものである。
【００４８】
本発明に係る製法による製造に特によく適した式（Ｉ）の化合物は、式中、
Ｒ1 とＲ2 が水素であり、Ａがメチレンであり、ＤとＥが一緒になってエチレンであり、ＱがＱ1 であり、ここで、Ａ1 が、窒素であり、Ｒａ3 とＲａ4 が水素であり、Ｒａ5 がトリフルオロメチルであり、そしてＲａ2 がＣ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル、特に好ましくはメトキシエトキシメチルであるものである。
本発明に係る製法の特別な利点は、式（II）の出発化合物が容易に得られうることである。ＤとＥが一緒になってＣ2 −Ｃ3 アルキレン以外であるとき、その出発化合物は、例えば、J. Gen. Chem. USSR, 1964, 34, 3509 (engl. Tranl. 1964, 34, 3553) ; Tetrahedron Letters, 1984, 25, 3179 ; J.A.C.S. 1987, 109, 6385 ; Journal of Organic Chemistry, 1988, 53, 4923 又はArm. Khim. Zh, 1976, 29, 342から知られているか、又はその中に記載された方法に従って製造されうるか；又は特に、ＤがＥと一緒になってＣ2 −Ｃ3 アルキレン鎖を形成するときは、以下の式（VI）：
【化１４】
｛式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ａ、Ｄ、及びＥは、式（Ｉ）のために定義したものと同じである。｝により化合物を酸化することにより得られ、得られた式（II）の化合物は、一般に、本発明に係る製法における使用のために単離される必要がなく、そして上記混合物から直接に使用されることができる。式（VI）の化合物は、知られているか又は知られた方法に従って、例えば、ホルムアルデヒドの付加、及び水の除去により、得られうる。式中、Ｒ1 とＲ2 が水素であり、Ａがメチレンであり、そしてＤとＥが一緒になってエチレン（メチレン−ノルカンファー）である式（VI）の化合物の製造は、例えば、ＪＰ−１０−２６５４１５中に記載されている。
【００４９】
式（VI）の化合物から式（II）の化合物への変換に好適な酸化剤は、有機過酸、例えば、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過ギ酸、過プロピオン酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸又はモノペルオキシフタル酸、過酸化水素又は触媒量の２酸化セレンの存在下、適宜、追加量の塩基の存在下、不活性溶媒中−２０〜５０℃の温度における過酸化水素である。好適な塩基は、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、酸化バリウム、リン酸水素カリウム、及びリン酸２水素カリウムを含む。好適な溶媒は、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、酢酸、無水酢酸、及びそれらの混合物、例えば、ジクロロメタンと酢酸又は酢酸と無水酢酸である。
【００５０】
アルカリ金属及びアルカリ土類金属アルコラートは、式（II）の化合物から式（III） の塩への変換において触媒又は化学量論量において使用されうる。触媒量が使用されるとき、さらなる塩基を添加することが必要である。このさらなる塩基は、化学量論量で又は過剰に添加されうる。それはより有利には、化学量論量から僅かに過剰な量までで使用される。追加の塩基としては、例えば、無機塩基、例えば、炭酸塩、例えば、炭酸カリウム、オキシド、例えば、酸化バリウム、及びヒドリド、例えば、水素化ナトリウムが使用されうる。触媒量のアルカリ金属及びアルカリ土類金属アルコラートは、０．０００１％〜２５％、好ましくは０．１％〜１０％であると理解すべきである。
【００５１】
本発明に係る製法の好ましい態様においては、アルカリ金属及びアルカリ土類金属のアルコラート、特に、リチウム、ナトリウム、及びカリウムのアルコラートが、追加の塩基を伴わずに、化学量論量又は過剰であるが、特に好ましくは化学量論量で、使用される。
【００５２】
好ましいアルカリ金属及びアルカリ土類金属アルコラートは、リチウム、ナトリウム、及びカリウムのアルコラート、特にメタノラート及びエタノラートである。特に好ましいアルカリ金属及びアルカリ土類金属アルコラートは、ナトリウム・メタノラート、ナトリウム・エタノラート、ナトリウム・イソプロパノラート、ナトリウムｎ−ブタノラート、カリウムｔｅｒｔ−ブタノラート、ナトリウムｎ−ペンタノラート、ナトリウムｔｅｒｔ−アミラート、及びナトリウム２−メトキシエタノラートであり；ナトリウム・メタノラートが特に好ましい。
【００５３】
上記変換は、好ましくは溶媒の存在下又は特に混合溶媒の存在下で、行われる。好適な溶媒は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、メチルナフタレン、又はアルコール、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アミル・アルコール、又はテトラヒドロフラン又はジオキサン、又は非プロトン溶媒、例えば、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン又はジメチル・スルホキシド、又は２−メチル−５−エチルピリジンなど、又は上記溶媒の混合物、例えば、トルエンとジメチルホルムアミド又はトルエンとＮ−メチルピロリドンである。
【００５４】
反応ステップａ）においては、トルエンと、追加の溶媒として、ジメチルホルムアミド又はＮ−メチルピロリドンの使用が特に好ましい。なぜなら、その後、式（III） の化合物が、上記反応混合物から特に有利に沈殿されることができ、そしてその後さらに、塩基により触媒される２次反応が実質的に回避されるからである。
【００５５】
反応ステップａ）においては、式（III） の塩、好ましくはそのナトリウム塩が、上記反応媒質から容易に結晶形態で沈殿するが、その反応混合物は容易に撹拌しうるままであるところの量で、上記溶媒又は混合溶媒が使用される。式（II）の化合物から、式中、Ｍ+ がアルカリ金属カチオン、好ましくはナトリウム・カチオンであるところの式（III） の化合物への変換においては、特に、トルエンと、１〜１５％のジメチルホルムアミド又は１〜１５％のＮ−メチルピロリドンの混合溶媒が有利であり、トルエン中３〜８％のジメチルホルムアミドが特に好ましい。
【００５６】
溶媒によるが、上記変換は、約０℃〜沸点の温度で、そして有利には無水条件下で行われる。本発明に係る製法の特に有利な態様においては、上記変換は、トルエン中で、塩基としてナトリウム・メタノラートを用いて、８０℃〜沸点の温度で、行われ、その間に、解放されたメタノールは、２次反応を回避するために、連続して留去される。
【００５７】
特に、トルエンと約１〜１５％のジメチルホルムアミドの混合物中の約３０％のメタノール性溶液の形態にあるナトリウム・メタノラートが、初期チャージとして使用されることができ、加熱中、まず初めに、メタノールが約１０５〜１１０℃のカラム塔頂温度まで留去され、そしてその後になって、式（II）の化合物が少量のトルエンに溶解され、解放されたメタノールがさらなる蒸留により上記反応混合物から連続的に除去され、そしてこれゆえ、式（III） の塩が純粋な、容易に撹拌しうる結晶の形態で上記反応混合物から沈殿することができるように、滴下される。
【００５８】
上記変換が触媒としてアルコラート・アニオンを用いて行われるとき、対応のアルコラート−形成性カチオンが式（Ｉ）のエノラートの沈殿のための塩として使用されることも有利である。アルカリ金属アルコラートの好適な量は、１．０〜２．５当量、特に１．０〜約１．５当量である。塩基として１．０００１〜１．１当量のナトリウム・メタノラートが特に好ましい。
【００５９】
本発明に係る製法のさらなる態様においては、反応ステップａ）において、触媒量のシアン化物イオンが、追加のアミン塩基の存在下で使用される。好適な塩基は、特に第３アミン、例えばトリアルキルアミン、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン（Ｈｕｅｎｉｇ’ｓ塩基）、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、及びＮ−メチルモルフォリンである。シアン化物イオンの源として、アルカリ金属シアニド、例えば、シアン化ナトリウム又はシアン化カリウム、又はシアン化銅（Ｉ）、又は有機シアノヒドリン、例えば、アセトン・シアノヒドリン、又はシアン化トリアルキルシリル、例えば、トリメチルシリル、シアニド、又は第３アンモニウム塩基、例えば、テトラエチルアンモニウム・シアニドが好ましくは使用される。本発明に係る変法においては、使用されるアルカリ金属シアニドの量は、少量〜僅かに過剰の範囲にある。上記シアニドは、追加の塩基、例えば、特にトリエチルアミン又はＨｕｅｎｉｇ’ｓ塩基の存在下、０．１％〜約２５％、好ましくは１％〜約１５％の量で使用され、この塩基の量は、１〜６当量、特に、１．１〜約２．５当量である。
【００６０】
本発明に係る製法の上記態様は、好ましくは、不活性溶媒、例えば、ｎ−ヘプタン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ｔｅｒｔ−ブチル・メチル・エーテル、酢酸エチル、アセトン、２−ブタノン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド又はＮ−メチルピロリドン中、−５℃〜約８０℃の温度で、特に好ましくは、アセトニトリル又はジクロロメタン中、約１０℃〜約６０℃の温度で、行われる。
【００６１】
使用される溶媒にしたがって、添加物、例えば、塩化リチウム、臭化リチウム、又は相転移触媒、例えば、テトラブチルアンモニウム・ブロミド又は特にテトラエチルアンモニウム・シアニドが場合により、上記の反応のために使用されることができ、又は乾燥剤、例えば、硫酸マグネシウム又は分子篩も場合により使用されることができるが、このような添加物は、一般には要求されない。
【００６２】
反応ステップｂ）：
反応ステップａ）において得られた式（III） の化合物は、好ましくは、直接に、中間体の単離を伴わずに、式（IV）の化合物と反応させる。上記反応手順は、本発明に係る製法の特別な利点である。
【００６３】
反応ステップａ）において得られた反応混合物を、１０℃〜５０℃の温度に冷却し、そして場合により溶媒又は混合溶媒、例えば、トルエン、テトラヒドロフラン又はアセトニトリル中に溶解された式（IV）の化合物を、それに添加する。次に、式（Ｖ）の化合物を、慣用を調製手順にしたがって、有機溶媒による抽出、及び７〜９のpHにおける希アルカリ溶液による洗浄により、単離することができる。
【００６４】
本発明に係る製法の好ましい態様においては、反応ステップａ）において、ナトリウム・メタノラートを、塩基として、好ましくは、１〜１．５当量、特に好ましくは１．０００１〜１．１当量の量で使用し、そして式（IV）の化合物を、化学量論量〜１．０００１〜１．１当量の僅かに過剰な量の範囲の量で添加する。上記態様における脱離基Ｘは、特に、フッ素、塩素、臭素、トリアゾールイル、イミダゾールイル又はシアノであり、より特に塩素である。
【００６５】
式（IV）の化合物は、知られているか又は、当業者に知られた方法に従って製造されうる。式（IV）の化合物とその製造は、例えばＷＯ００／１５６１５、ＷＯ００／３７４３７、ＷＯ０１／６６５２２、及びＷＯ００／９４３３９中に記載されている。
【００６６】
反応ステップｃ）：
本発明に係る製法の特に好ましい態様においては、反応ステップｃ）にしたがう反応は、中間体の単離に伴わずに、行われ、すなわち、反応ステップｂ）にしたがって得られる式（Ｖ）の化合物は、塩基の存在下、シアニド・イオンによりその場で処理される。
【００６７】
上記シアン化物イオンは、好ましくは、０．０１％〜１５％の量で使用される。上記反応の開始後すぐに、好ましくは約２０℃の温度において、形成される式（Ｖ）の中間体が、例えば、薄層クロマトグラフィーの手段により、検出されることができ、上記反応は、さらなる触媒量のシアン化物イオン、及び適宜、追加量の塩基、例えば、０．１〜２．５当量のトリエチルアミン、又はＨｕｅｎｉｇ’ｓ塩基の添加により、反応終了までもっていかれることができ、そして式（Ｉ）の化合物は、慣用の調製方法に従って（例えば、洗浄及び抽出手順により、及び結晶化により）単離及び精製されることができる。シアン化物イオンの好適な源は、例えば、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化銅（Ｉ）、アセトン・シアノヒドリン又はシアン化トリメチルシリル、好ましくは、シアン化カリウムである。このようなエノール・エステル転移は、例えば、ＥＰ−Ａ−０
１８６ １１７中に記載されている。
【００６８】
本発明に係る製法の特に好ましい態様においては、反応ステップａ）、ｂ）、及びｃ）が、中間体の単離を伴わずに、１容器反応として行われる。
本発明に係る製法の同じくさらに好ましい態様においては、反応ステップａ）とｂ）が、１容器反応として、行われ、そして追加の洗浄及び精製工程において、式（IV）の中性中間体が、まず初めに、不純物から解放され、そして次に、反応ステップｃ）（工業的カスケード反応）に直接移される。
本発明に係る製法を、以下の製造実施例において説明する：
【００６９】
実施例Ｐ１：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンのトリエチルアンモニウム塩の調製：
【化１５】
【００７０】
２．７６ｇ（２０mmol）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを、２０mlのアセトニトリル中、２．２３ｇ（２０mmol）のトリエチルアミンと０．１３ｇ（２mmol）のシアン化カリウムの存在下、２．５時間５５℃の温度いおいて加熱する。濁った反応混合物を、Ｈｙｆｌｏ（商標）上で濾過し、そして蒸発乾固させる。４−ヒドロキシ−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンのトリエチルアンモニウム塩を、樹脂性の吸湿性生成物の形態で得る。
【００７１】
実施例Ｐ２：４−メチレン−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンのエチルジイソプロピルアンモニウム塩の調製：
【化１６】
【００７２】
実施例Ｐ１と同様にして、１．３８ｇ（１０mmol）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを、１０mlのアセトニトリル中１．２９ｇ（１０mmol）のＨｕｅｎｉｇ’ｓ塩基と０．１３ｇのシアン化カリウムの存在下、１２時間の期間にわたり、撹拌する。固体成分（カリウム塩）を濾別し、そして濾液を、蒸発乾固させて、樹脂の形態で、４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンのエチルジイソプロピル−アンモニウムを得る。
【００７３】
実施例Ｐ３：４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンのナトリウム塩の調製：
【化１７】
【００７４】
１１０℃の温度において、メタノール中１２．１ｇ（０．２２mol ）のナトリウム・メタノラートの３０％溶液を、１９０mlのトルエンと１０mlのジメチルホルムアミドの溶液に滴下し、その間に、上記メタノールを、蒸留により連続的に除去する。３０分間の時間にわたり得られた懸濁液に、２０mlのトルエン中に溶解された２０．７ｇ（０．１５mol ）の４−メチレン−３−オキサ−ビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２オンを、滴下し、そして蒸留によりメタノールをさらに除去する。沸点においてさらに２時間撹拌した後、反応混合物を静置して冷却し、そして沈殿した生成物を濾別し、そしてトルエンで洗浄する。
【００７５】
実施例Ｐ４：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの２−メトキシ−４−メチルスルファニル安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル−２−オン・エステル：
【化１８】
【００７６】
１．３８ｇ（０．０１mol ）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを、１０mlのアセトニトリル中、１．２９ｇ（０．０１mol ）のＨｕｅｎｉｇ’ｓ塩基と０．１３ｇのシアン化カリウムの存在下、１２時間撹拌する。上記反応混合物から沈殿した固体成分を、その後濾別する。上記温度をコントロールしながら、２−メトキシ−４−メチルスルファニル安息香酸からの塩化チオニルを用いて新たに調製した固体２−メトキシ−４−メチル−スルファニルベンゾイル・クロリド１．７３ｇ（８mmol）（融点７２〜７２．５℃）を、その後、２０℃の温度において導入する。３０分間撹拌した後、水に対する酢酸エチルによる抽出、及び蒸発による濃縮を行う。残渣（３．１２ｇ）を、カラム・クロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン １：３）により精製する。１．７８ｇの２−メトキシ−４−メチルスルファニル−安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル−２−オン・エステルを、樹脂性の形態で得る（収率：使用した４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンに基づき５５．９％、又は使用した２−メトキシ−４−メチルスルファニルベンゾイル・クロリドに基づき６９．９％）。
【００７７】
【化１９】
【００７８】
実施例Ｐ５：４−ヒドロキシ−３−（２−メトキシ−４−メチルスルファニルベンゾイル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンの調製：
【化２０】
実施例Ｐ４に従って調製した化合物を、２０℃の温度において、アセトニトリル中、触媒量のアセトン・シアノヒドリンにより、２当量のトリエチルアミンの存在下で処理する。４−ヒドロキシ−３−（２−メトキシ−４−メチルスルファニルベンゾイル）−ビシクロ〔３．２．１〕−オクト−３−エン−２−オン（式中、Ｑが２−メトキシ−４−メチルチオベンゾイルである式（Ｉ）の化合物）を得る。
【００７９】
【化２１】
【００８０】
実施例Ｐ６：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの（ＵＳ−Ａ−５ ６０８ １０１から知られた）４−メタンスルホニル−２−ニトロ安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステル：
【化２２】
【００８１】
１．３８ｇ（０．０１mol ）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを、２０℃の温度において１２時間、２０mlのアセトニトリル中、１．１１ｇ（０．０１mol ）のトリエチルアミンと６５mg（１mmol）のシアン化カリウムの存在下で撹拌し、ここで、形成された４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン・トリエチルアンモニウム塩が、部分的に析出する。上記温度をコントロールしながら、新たに調製された４−メタンスルホニル−２ニトロベンゾイル・クロリド２．６４ｇ（０．０１mol ）を、２０℃の温度において、得られた懸濁液に導入する。２０℃の温度で３０分間撹拌した後、５％炭酸水素ナトリウム溶液に対して酢酸エチルを用いて抽出を行い、その後、希塩酸で１回、そして水で１回洗浄し、そして蒸発乾固させる。上記残渣（３．２ｇ）を、少量のシリカ・ゲルを通して濾過し（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン １：１）、粘性の油の形態で４−メタンスルホニル−２−ニトロ安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステルを得る：収率２．４８ｇ（６７．９％）；
【化２３】
【００８２】
実施例Ｐ７：（ＵＳ−Ａ−５ ８０１ １２０から知られた）４−ヒドロキシ−３−（４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル）ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンの調製：
実施例Ｐ６に従って調製した化合物２．４８ｇを、２０℃の温度で１時間、１当量のトリエチルアミンの存在下で、アセトニトリル中の触媒量のシアン化カリウム（１０mol％ ）で処理する。４−ヒドロキシ−３−（４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン（式中、Ｑが２−ニトロ−４−メタンスルホニルである式（Ｉ）の化合物）を得る。使用した４−ヒドロキシビシクロ−〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンに基づく収率：１．４１ｇ又は５６．８％。
【００８３】
実施例Ｐ８：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの４−ヒドロキシ−３−（４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾ イル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン：
【化２４】
【００８４】
ａ）２．７６ｇ（０．０２mol ）の９３％ ４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンと４．４５ｇ（０．０４４mmol）のトリエチルアミンを、１３０mg（２mmol）のシアン化の存在下、５０mlのアセトニトリル中室温で７時間撹拌する。次に、４．２２ｇ（０．１６mol ）の新たに調製した４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル・クロリドを次に導入し、そして撹拌を２０℃の温度において１２時間行った。薄層クロマトグラフィーによるモニタリングにしたがって、比較的多量の、（ＵＳ−Ａ−５ ８０１ １２０から知られた）中間体４−メタンスルホニル−２−ニトロ−安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステルは、未だ検出可能であり、次に、さらなる１３０mg（２mmol）のシアン化カリウムを添加し、そして撹拌を、変換が終了するまでさらに２時間続ける。次に、反応混合物を、酢酸エチル中に取り出し、そして水に対して１３のpH値において抽出する。次に水相を、塩酸を用いて酸性にし、そして新たな酢酸エチルを用いて約４のpH値において抽出し、Ｎａ2 ＳＯ4 上で乾燥させ、そして僅かな程度濃縮する。温かい酢酸エチル中に溶解した生成物を、活性炭で処理し、そして少量のシリカ・ゲルを通して吸引（吸引濾過）により濾別し、その後、さらに濃縮し、そして少量のヘキサンの添加により結晶化させる。１７０〜１７０．５℃の融点をもつ純粋な４−ヒドロキシ−３−（４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン １．６９ｇを得る。さらなる生成物（１．６５ｇ）を、再結晶化により、その母液から得ることができる。総収量：３．３４ｇ、又は使用した出発材料４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンに基づき４９．１％又は使用した出発材料４−メタン・スルホニル−２−ニトロ安息香酸に基づき５７．１％である。
【００８５】
【化２５】
【００８６】
ｂ）２．７６ｇ（０．０２mol ）の９３％ ４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンと４．４５ｇ（０．０４４mmol）のトリエチルアミンを、１７０mg（２mmol）のアセトン・シアノヒドリンの存在下、５０mlのアセトニトリル中２０℃の温度で６時間撹拌する。次に、４．２２ｇ（０．１６mol ）の４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル・クロリドを、導入し、そして撹拌を２０℃の温度でさらに１２時間続ける。次に、さらに１７０mg（２mmol）のアセトン・シアノヒドリンを添加し、そして撹拌を、変換が終了するまでさらに３０分間続ける。次に反応混合物を酢酸エチルに取り出し、そして水に対して１３のpH値で抽出する。この水相を、一度pH５において、そして一度pH４において、酸性にし、そして新たな酢酸エチルで抽出し、蒸発により乾燥させ、そして濃縮する。良好な純度レベルをもつ３．０５ｇの４−ヒドロキシ−３−（４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンを得る。収率は、出発材料４−メチレン−３−オキサ−ビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンに基づき４４．９％又は出発材料４−メタンスルホニル−２−ニトロ安息香酸に基づき５２．２％である。
【００８７】
実施例Ｐ９：４−メチレン−３−オキサ−ビシクロ〔３．２．１〕オクタン− ２−オンからの（ＷＯ００／１５６１５から知られた）４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンの調製：
【化２６】
【００８８】
２．０７ｇ（０．０１５mol ）の蒸留４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを３．３４ｇ（０．０３３mol ）のトリエチルアミンを、９８mg（１・５mmol）シアン化カリウムの存在下、５０mlのアセトニトリル中、６０℃の温度で２．５時間撹拌する。２０℃の温度までの冷却をその後に行い、そしてＷＯ００／１５６１５に従って新たに調製し、少量のアセトニトリルに溶解した２．３５ｇ（０．１１mol ）の２−メチル−６−トリフルオロメチル−ニコチノイル・クロリドを添加する。中間体としてその場で得られた（ＷＯ００／１５６１５から知られた）２−メチル−６−トリフルオロメチルニコチン酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステルを（薄層クロマトグラフィーによりモニターしながら）３．５時間にわたり完全に変換する。次にこの反応混合物を、希塩酸で酸性にし、そしてこのpH値で水に対して酢酸エチルで抽出し、Ｎａ2 ＳＯ4 上で乾燥させ、そして蒸発により濃縮する。生成物を、カラム・クロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン４：１）により精製して、３．１６ｇの９０％４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン（使用した４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンに基づき５８．３％又は使用した２−メチル−６−トリフルオロメチルニコチノイル・クロリドに基づき８３．３％）。
【００８９】
【化２７】
【００９０】
実施例Ｐ１０：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン・２−オンからの４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−７−メチルスルファニルベンゾフラン−４−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン：
【化２８】
５０mlのアセトニトリル中１．０１ｇ（７．３mmol）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンと１．５２ｇ（１５mmol）のトリエチルアミンを、４８mg（０．７mmol）のシアン化カリウムの存在下２０℃の温度で７時間撹拌する。２−メチル−７−メチルスルファニル−ベンゾフラン−４−カルボン酸（融点２３５〜２３５．５℃）から塩化オキザリルを用いて新たに調製した１．７５ｇ（７．３mmol）の２−メチル−７−メチルスルファニルベンゾフラン−４−カルボニル・クロライド（融点１２３．５〜１２４℃）を、次に、添加し、そして撹拌を１２時間行う。薄層クロマトグラフィーによるモニタリング後、相対的に多量の、その場で形成された中間体２−メチル−７−メチル−スルファニルベンゾフラン−４−カルボン酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステルが未だ検出されうる場合には、その化合物の完全な変換のために、さらに３滴のアセトン・シアノヒドリンを添加し、そして上記混合物を４０℃の温度で１．５時間再び撹拌する。次にこの混合物を酢酸エチルで希釈し、そしてpH９において水で抽出する。水相を、一度pH６で、そして一度pH４で、新たな酢酸エチルで抽出し、そして上記相を併合した後に、蒸発により濃縮する。１．２７ｇ（９０．８％）の４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−７−メチルスルファニルベンゾフラン−４−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン
【化２９】
を、樹脂性生成物の形態で得る。
【００９１】
この生成物を、所望により、その後の酸化段階において、直接、例えば、メタノール中のナトリウム・ヨーデートと反応させて、４−ヒドロキシ−３−（７−メタンスルフィニル−２−メチルベンゾフラン−４−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン（融点：２４３〜２４３．５℃）を得ることができる。
【００９２】
実施例Ｐ１１：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの４−ヒドロキシ−３−（７−メタンスルホニル−２−メチルベンゾフラン−４−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンの調製：
【化３０】
５３０mgの工業グレードの４−ヒドロキシ−３−（７−メタンスルホニル−２−メチルベンゾフラン−４−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンを、実施例Ｐ１０と同様にして、中間体の単離を伴わずに、１容器反応において、２００mg（１．５mmol）の４−メチレン−３−オキサビシクロ−〔３．２．１〕オクタン−２−オンから、５０mlのアセトニトリル中、３０４mg（３mmol）のトリエチルアミン、１０mg（０．１５mmol）のシアン化カリウム、及び４１０mg（１．５mmol）の２−メチル−７−メチルスルファニルベンゾフラン−４−カルボニル・クロリド（融点１４５．５〜１４６℃）であって、塩化オギザリルを用いて２−メチル−７−メチルスルファニル−ベンゾフラン−４−カルボン酸（融点２２８〜２２８．５℃）から新たに調製されたものの存在下で、製造され、この生成物は、酢酸エチルを用いてpH２で水相から単離される。酢酸エチルとメタノールを用いたクロマトグラフィー精製の後、４１０mg（４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンに基づき７５．５％）の２５８．５〜２５９℃の融点をもつ純粋な４−ヒドロキシ−３−（７−メタンスルホニル−２−メチルベンゾフラン−４−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンを得る；
【化３１】
【００９３】
実施例Ｐ１２：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの３−シクロプロパンカルボニル−４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンの調製：
【化３２】
実施例Ｐ１０と同様にして、中間体の単離を伴わずに、１容器反応において、３９mg（０．６mmol）のシアン化カリウムと６２７mg（６mmol）のシクロプロパン−カルボン酸クロリドの存在下、１５mlのアセトニトリル中、８２９mg（６mmol）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オン、１．２ｇ（１２mmol）のトリエチルアミンから、１．１２ｇ（９０．５％）の工業グレードの３−シクロプロパンカルボニル−４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンを調製し、これは、酢酸エチル／ヘキサンから再結晶化され、７１．５〜７２℃の温度で溶融する；
【化３３】
【００９４】
実施例Ｐ１３：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの（ＵＳ−Ａ−５ ８０１ １２０から知られた）２，３−ジクロロ−４−メタンスルホニル安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステル：
【化３４】
３．６ｇの３０％ナトリウム・メタノラート溶液（０．０２２mol ）を、１９mlのトルエンと１mlのジメチルホルムアミドの混合物中、１０８℃のカラム塔頂温度まで加熱し、メタノールを蒸留により除去する。蒸留によるメタノールの除去を続けながら、３mlのトルエンに溶解した２．７６ｇ(０．０２mol ）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを次に滴下する。１時間撹拌した後、この混合物を、２０℃の温度まで冷却し、そしてその温度をコントロールしながら、塩化オギザリルを用いて新たに調製した６．３２ｇ（０．０２２mol ）の２，３−ジクロロ−４−メタンスルホニルベンゾイル・クロリドの１：１ トルエン／アセトニトリル中の溶液を導入する。短時間撹拌した後、pH１０における僅かにアルカリ性の水溶液に対して少量の酢酸エチルを用いて抽出を行う。２，３−ジクロロ−４−メタンスルホニル安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステルを、５．５ｇ（７１％）の収率で非晶質の形態で得る。
【化３５】
本発明は、２位においてカルボニル化された環状１，３−ジケトン誘導体の製法に関する。
【０００２】
アリールカルボニル基により２位において置換された環状１，３−ジケトンの製法は、例えば、ＷＯ００／１５６１５、ＷＯ００／３７４３７、ＷＯ０１／６６５２２、及びＷＯ０１／９４３３９中に記載されている。これらの化合物は、除草作用を有する。
【０００３】
しかしながら、これらの製法は、２位において置換されていないいくつかの環状１，３−ジケトン出発化合物、特に２環式１，３−ジケトン出発化合物は、一般に、容易に得られず、そしてその誘導体は、通常、多数の複雑な合成ステップ、及び精製手順によってのみ、製造されうるという欠点をもつ。
【０００４】
さらに、上記の知られた方法においては、その最終生成物の単離は、特に、２−ベンゾイル、２−ピリジルカルボニル、及び２−ヘテロアリールカルボニル誘導体の場合、高い支出を伴う。なぜなら、それらは、一般に、多段階の手順を含むからである。それゆえ、知られた方法により製造された環状１，３−ジケトンの純度及び収率は、しばしば、満足できるものではない。
【０００５】
それゆえ、本発明の目的は、単環式及び２環式１，３−ジケトン誘導体、特に、２−ベンゾイル、２−イソニコチノイル、及び２−ニコチノイル誘導体の新規一般製法を提供することであり、それにより、上記知られた方法の上述の欠点を伴わずに、単純な反応手順により、かつ、近い支出で、高収率で、かつ、良い品質で、上記化合物を製造することが可能になる。
【０００６】
したがって、本発明は、以下の式（Ｉ）：
【化５】
Ｑは、上記式（Ｉ）の化合物が１〜５のpK値をもつように選択された有機置換基であり；
Ｄは、水素又はＲ3 であり；
Ｅは、水素又はＲ4 であり；
ＤとＥは、一緒になって、Ｃ2 −Ｃ3 アルキレンであり、これは、Ｒ6 により１置換又は多置換されることができ；
Ａは、Ｃ1 −Ｃ2 アルキレンであり、これは、Ｒ5 により１置換又は多置換されることができ；又はＤとＥが、Ｃ2 −Ｃ3 アルキレン以外であるとき、Ａは、さらに、カルボニル、酸素又は−ＮＲ7 −であることができ；
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、及びＲ6 は、互いに独立に、水素、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ヒドロキシカルボニル又はＣ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニルであり；そして
Ｒ7 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、アルコキシカルボニル又はＣ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルである。｝により表される化合物の製法であって、以下のステップ：
【０００７】
ａ）以下の式（II）：
【化６】
【化７】
【０００８】
ｂ）上記化合物を、以下の式（IV）：
Ｘ−Ｃ（Ｏ）−Ｑ （IV）
｛式中、Ｘは、脱離基であり、そしてＱは、上記式（Ｉ）のために定義したものと同じである。｝により表される化合物と、反応させて、以下の式（Ｖ）：
【化８】
【０００９】
ｃ）上記化合物を、触媒量のシアン化物イオンの存在下、及び塩基の存在下で、上記式（Ｉ）の化合物に変換する、
を含む前記製法に関する。
【００１０】
上記式（Ｉ）の化合物は、好ましくは、エノール化形態又は塩の形態で存在するので、本発明に係る製法は、式中、Ｍ+ が、水素又はアルカリ金属イオン、アルカリ土類イオン又はアンモニウム・イオンである、以下の式（Ｉａ）、式（Ｉｂ）、式（Ｉｃ）、及び式（Ｉｄ）のエノール化形態の製法をも含む：
【化９】
例えば、Ｒ1 、Ｄ、及びＡを担持する炭素原子の場合、不斎炭素原子が式（Ｉ）の化合物内に存在することもできるので、立体異性体の全ての形態も含まれる。このことは、中間体として使用される式（II）、式（III） 、式（IV）、及び式（Ｖ）の化合物の全ての可能な互変異性体及び立体異性体の形態にも同様に適用される。
【００１２】
Ｑは、特に、式（Ｉ）の化合物が２．５〜４のpKをもつように選択された有機置換基である。
【００１３】
有機置換基Ｑは、いずれかの構造をもつ置換基であることができる。但し、それは、本発明に係る製法の反応条件下では実質的に不活性である。
【００１４】
Ｑは、好ましくは、１又は多置換フェニル、ピリジル又はヘテロアリール基、特にジ又はトリ置換フェニル基、又はジ置換２−ピリジル又は３−ピリジル基であり、これらの基の置換パターンは、自由に選択される。但し、これらの基は、本発明に係る製法の反応条件下では実質的に不活性である。特に好ましくはオルト位にある、少なくとも１の置換基を担持する、フェニル、３−ピリジル、及びヘテロアリール基が好ましい。
【００１５】
Ｑが以下の式（Ｉ）：
【化１０】
Ａ1 は、ＣＲａ、又はＮ−（Ｏ）ｐであり；
ｐは、０又は１であり；
Ｒａ1 は、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、ヒドロキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルアミノ、Ｃ1 −Ｃ3 −アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ3 −アルキル）−、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、ホルミル、シアノ、ハロゲン、フェニル又はフェノキシであり、ここで、上記フェニル含有基は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；
【００１６】
又はＲａ1 は、３〜１０員の単環であるか、又はＲａ2 又はＲａ5 と一緒になって、縮合２環式環系であり、これは、酸素、硫黄、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ2 、Ｎ（Ｒａ6 ）、カルボニル、及びＣ（＝ＮＯＲａ7 ）から選ばれる複素環式置換基により１回又は３回まで中断されることができ、そしてここで、上記環系が縮合していないとき、それは、直接に、又は酸素、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル又はスルホニルにより中断されることができるＣ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2−Ｃ4 アルケニレン又はＣ2−Ｃ4 アルキニレン橋を介して、置換基Ａ1 の炭素原子に結合され、そして上記環系は、３以上の酸素原子を含まず及び３以上の硫黄原子を含まず、そして上記環系は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニル、ベンジルオキシ、及び／又はベンジルチオによりモノ−，ジ−又はトリ−置換されることができ、そしてここで、上記フェニル含有基は、それ自身、そのフェニル環上、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ、そしてここで、上記複素環式環内の窒素上の置換基は、ハロゲン以外であり；
【００１７】
又はＲａ1 は、基−Ｘ5 −Ｘ7 又は基−Ｘ6 −Ｘ5 −Ｘ7 であり；ここで、
Ｘ5 は、酸素、−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）Ｏ−、−Ｏ（ＣＯ）Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−Ｏ−、−Ｏ−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル、スルホニル、−ＳＯ2 Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）ＳＯ2 −、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル）ＳＯ2 −又は−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−であり；
【００１８】
Ｘ6 は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキレン、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニレン又はＣ3 −Ｃ6 アルキニレン鎖であり、これらは、ハロゲン又はＸ8 により１又は多置換されることができ、上記鎖の不飽和結合は、置換基Ｘ5 に直接結合されず；
【００１９】
Ｒａ6 は、水素、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−カルボニル、フェニルカルボニル又はフェニルであり、ここで、上記フェニル基は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−ＳＯ2 、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−Ｓ（Ｏ）2 Ｏ、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロ−アルキル−ＳＯ2 、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル−Ｓ（Ｏ）2 Ｏ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−Ｓ（Ｏ）2 ＮＨ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−Ｓ（Ｏ）2 Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、ハロゲン、ニトロ又はシアノにより置換されることができ；
【００２０】
Ｒａ7 は、水素、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ3 −Ｃ4 アルケニル、Ｃ3 −Ｃ4 アルキニル又はベンジルであり；
Ｒａ2 は、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ1 −Ｃ2 −アルコキシカルボニル−又はフェニル−置換ビニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、トリメチルシリル−、ヒドロキシ−、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、又はフェニル−置換エチニル、Ｃ3 −Ｃ6 アレニル、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、ハロ−又はＣ1 −Ｃ3 アルコキシメチル−置換Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルオキシ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 −アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルアミノ、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ3 アルキル）、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 −アルキル）アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）、シアノ、カルバモイル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、ホルミル、ハロゲン、ローダノ、アミノ、ヒドロキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 −アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、シアノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルカルボニルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ローダノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェノキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ベンジルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ベンゾイルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、（２−オキシラニル）−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−アミノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ12アルキルチオカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル又はホルミル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、又はベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル又はフェニルスルホニルであり、ここで、フェニル含有基は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；又は
【００２１】
Ｒａ2 は、３〜１０員の単環又は縮合２環式環系であり、これは、芳香族、飽和又は部分飽和であることができ、そして窒素、酸素及び硫黄から選ばれる１〜４複素原子を含むことができ、ここで、上記環系は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルケニレン又はＣ2 −Ｃ4 アルキニレン橋であって酸素、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル、スルホニル又はカルボニルにより中断されることができるものにより基Ｑ1 又はＱ2 に結合され、そして各環系は、３以上の酸素原子を含まず、かつ、３以上の硫黄原子を含まず、そして上記環系は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、ヒドロキシ、メルカプト、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−カルボニル−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 −アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニル、及び／又はベンジルチオにより、モノ−，ジ−又はトリ置換されることができ、ここで、フェニルとベンジルチオは、それ自身、そのフェニル環上、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ、そして上記複素環内の窒素原子上の置換基は、ハロゲン以外であり；又は
【００２２】
Ｒａ2 は、基−Ｘ1 −Ｘ3 又は基−Ｘ2 −Ｘ1 −Ｘ3 であり；ここで、
Ｘ1 は、酸素、−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）Ｏ−、−Ｏ（ＣＯ）Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−Ｏ−、−Ｏ−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、チオ、スルフィニル、スルホニル、−ＳＯ2 Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）ＳＯ2 −、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル）ＳＯ2 −又は−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−であり；
Ｘ2 は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキレン、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニレン又はＣ3 −Ｃ6 アルキニレン鎖であり、これは、ハロゲン又はＸ4 により１又は多置換されることができ、上記鎖の不飽和結合は、置換基Ｘ1 に直接結合されず；
【００２３】
Ｘ3 とＸ7 は、互いに独立に、Ｃ1 −Ｃ8 アルキル、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニル又はＣ3 −Ｃ6 アルキニルであり、これらは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、ホルミル、ニトロ、シアノ、メルカプト、カルバモイル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシカルボニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、ハロ置換Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルオキシ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルカルボニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、オキシランであってそれ自身Ｃ1 −Ｃ6 アルキルにより置換されうるオキシラン、（３−オキセタニル）−オキシであってそれ自身Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルフィニル、ベンジルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−Ｓ（Ｏ）2 Ｏ、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノスルホニル、ローダノ、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル又はフェニルスルホニルにより置換されうるものにより１又は多置換されることができ、そして上記フェニル又はベンジル含有基は、それ自身、１以上のＣ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ又はニトロ基により置換されることができ；又は
【００２４】
Ｘ3 とＸ7 は、互いに独立に、フェニルであり、これらは、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ又はニトロにより１又は多置換されることができ；又は
Ｘ3 とＸ7 は、互いに独立に、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6アルコキシ−又はＣ1 −Ｃ6 アルキル−置換Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、３−オキセタニル又はＣ1 −Ｃ6 アルキル−置換３−オキセタニルであり；又は
【００２５】
Ｘ3 とＸ7 は、互いに独立に、３−〜１０−員単環又は縮合２環式の環系であり、これらは、芳香族、飽和又は部分飽和であることができ、そして窒素、酸素、及び硫黄から選ばれる１〜４個の複素原子を含有することができ、ここで、上記環系は、置換基Ｘ1 又はＸ5 に、直接に、又は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルケニレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルキニレン、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン、−Ｓ（Ｏ）−Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン又は−ＳＯ2 −Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン基を介して、結合され、そして各環系は、２以下の酸素原子及び２以下の硫黄原子を含有することができ、そしてこの環系は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、ヒドロキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、メルカプト、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルチオ、Ｃ1 −Ｃ3 −アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ3 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ2 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ2 アルキル）アミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 −アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ6 カルボニルアミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニル、ベンジルオキシ、及び／又はベンジルチオによりモノ−，ジ−又はトリ−置換されることができ、ここで、上記フェニル基は、それ自身、そのフェニル環上、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより、置換されることができ、そして上記複素環式環内の窒素上の置換基は、ハロゲン以外であり；そして
【００２６】
Ｘ4 とＸ8 は、互いに独立に、ヒドロキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、（Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル）オキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ又はＣ1 −Ｃ6 アルキルスルホニルオキシであり；
【００２７】
Ｒａ3 は、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル−スルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、アミノ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル−アミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノスルホニル、シアノ、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェニル、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル又はフェノキシであり、ここで、フェニル基は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；
【００２８】
Ｒａ4 は、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、ヒドロキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 −ハロアルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1 −4 アルキルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 −アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル、ホルミル、シアノ、ハロゲン、フェニル又はフェノキシであり、ここで、上記フェニル含有基は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ3 −アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；又は
【００２９】
Ｒａ4 は、３−〜１０−員の単環又は、Ｒａ3 又はＲａ5 と一緒になって、縮合２環式の環系であり、これらは、窒素、酸素、及び硫黄から選ばれる１〜４個の複素原子を含有することができ、ここで、上記環系が縮合されていないとき、それは、基Ｑ1 又はＱ2 に、直接に、又は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2−Ｃ4 アルケニレン又はＣ2−Ｃ4 アルキニレン橋であって酸素、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル、スルホニル又はカルボニルにより中断されることができるものを介して、結合され、そして上記環系は、２以下の酸素原子、及び２以下の硫黄原子を含有することができ、そして上記環系は、それ自身、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルチオ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ2 −アルキルチオ、シアノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノスルホニル、アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、フェニル、及び／又はベンジルチオにより、モノ−，ジ−又はトリ−置換されることができ、ここで、フェニル及びベンジルチオそれ自身は、そのフェニル環上、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ、上記複素環式環内の窒素上の置換基は、ハロゲン以外であり；
【００３０】
Ｒａ5 は、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルキニル、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニルオキシ、ヒドロキシ、メルカプト、アミノ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノスルホニル、シアノ、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 −アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、トリアゾールイル、フェニル、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル又はフェノキシであり、ここで、上記フェニル含有基は、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができる。｝により表される化合物、及び、上記化合物の農業上許容される塩／Ｎ−オキシド／異性体／エナンチオマーの製法に従って特に有利に製造されうる。
【００３１】
上記置換基の定義中のアルキル基は、直鎖又は分枝であることができ、そして例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル又はｔｅｒｔ−ブチルであることができる。アルコキシ、アルケニル、及びアルキニル基は、上述のアルキル基から誘導される。上記アルケニル及びアルキニル基は、１又は多不飽和でありうる。アルコキシは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ又はｔｅｒｔ−ブトキシである。アルコキシカルボニルは、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル；好ましくは、メトキシカルボニル又はエトキシカルボニルである。
【００３２】
アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン又はアンモニウム・イオンとしてのＭ+ は、例えば、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、トリエチルアンモニウム又はジイソプロピルエチルアンモニウム・カチオンである。
【００３３】
ハロゲンは、一般に、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素である。他の定義、例えば、ハロアルキル又はハロフェニルに関するハロゲンにも、同じことが適用される。１〜６炭素原子の炭素長をもつハロアルキル基は、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、１−フルオロエチル、２−フルオロエチル、２−クロロエチル、２−フルオロプロピル−２−ル、ペンタフルオロエチル、１，１−ジフルオロ−２，２，２−トリクロロエチル、２，２，３，３−テトラフルオロエチル、及び２，２，２−トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル又はペルフルオロ−ｎ−ヘキシルである。
【００３４】
アルケニル及びアルキニル基は、１又は多不飽和であることができ、そしてまた、１以上の２重又は３重結合をもつアルキル、アルケニル又はアルキニルをも含みうる。アルケニルは、例えば、ビニル、アリル、イソブテニ−３−ル、ＣＨ2 ＝ＣＨ−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ2 ＝ＣＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ−又はＣＨ3 −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 −ＣＨ＝ＣＨ−である。好ましいアルキニルは、例えば、プロパルギルであり、そして好ましいアレニルは、ＣＨ2 ＝Ｃ＝ＣＨ2 −である。
【００３５】
アルキレン鎖は、１以上のＣ1 −Ｃ3 アルキル基、特にメチル基により置換されることもできる。このようなアルキレン鎖及びアルキレン基は、好ましくは、非置換である。Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル−、Ｃ3 −Ｃ5 オキサシクロアルキル−、Ｃ3 −Ｃ5 チアシクロアルキル−、Ｃ3 −Ｃ4 −ジオキサシクロアルキル、Ｃ3 −Ｃ4 ジチアシクロアルキル−又はＣ3 −Ｃ4 オキサチアシクロアルキル−含有基であって、例えば、基Ｒａ1 及びＲａ2 の酸素−及び硫黄−含有複素環式環系の一部としても生じうるものの全てにも、同じことが適用される。
【００３６】
Ｃ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルケニレン又はＣ2 −Ｃ4 アルキニレン鎖であって、酸素、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル又はスルホニルにより中断されることができ、又はハロゲンにより又はＸ4 又はＸ8 により１又は多置換されうるＣ1 −Ｃ6 アルキレン、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニレン又はＣ3 −Ｃ6 アルキニレンであって、それぞれ、上記鎖の不飽和結合が、それぞれ置換基Ｘ1 とＸ5 に直接結合されていない、Ｘ2 又はＸ6 内のＣ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルケニレン又はＣ2 −Ｃ4 アルキニレンは、例えば、−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ（ＣＨ3 ）−、−ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）−、−ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ（Ｃｌ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ（ＯＣＨ3 ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ−、ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−ＯＣＨ2ＣＨ2 −、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＯＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＯＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＨ2−、−ＳＣＨ2 −、−ＳＣＨ2ＣＨ2 −、−ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｓ−、−ＣＨ2 ＳＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｓ（Ｏ）ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＳＯ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＳＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｓ（Ｏ）ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＳＯ2 ＮＨ−、−ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）ＳＯ2ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｎ（ＳＯ2 Ｍｅ）ＣＨ2ＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｃ（Ｏ）ＮＨ−又は−ＣＨ2 ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ2 −を意味すると理解すべきである。したがって、場合により酸素により中断されうるＣ2 −Ｃ4 アルキレン鎖は、例えば、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 −、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2ＣＨ2 −又は−ＣＨ＝ＣＨＣＨ2 ＯＣＨ2 −を意味すると理解すべきであり、そして場合により酸素により中断されうるＣ2 −Ｃ4 アルキニレン鎖は、例えば、−ＣＨ≡Ｃ−、−Ｃ≡ＣＣＨ2 −、−Ｃ≡ＣＣＨ2−Ｏ−、−Ｃ≡ＣＣＨ2 ＯＣＨ2 −又は−ＯＣ≡ＣＣＨ2 −を意味すると理解すべきである。
【００３７】
１回又は３回まで、酸素、硫黄、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ2 、Ｎ（Ｒａ6 ）、カルボニル、及びＣ（＝ＮＯＲａ7 ）から選ばれる置換基により中断されうる３−〜１０−員の単一又は２−環式環系Ｒａ1 又はＲａ2 であって、基Ａ1 の炭素原子に又は基Ｑ1 又はＱ2 に、直接に、又は酸素、−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、硫黄、スルフィニル又はスルホニルにより中断されうるＣ1 −Ｃ4 アルキレン、Ｃ2 −Ｃ4 アルケニレン又はＣ2 −Ｃ4 アルキニレン橋を介して結合されているＲａ1 又はＲａ2 は、例えば、１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル、１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル、１−プロピル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル、１Ｈ−ピラゾール−３−イル、１，５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル、４−クロロ−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル、１Ｈ−ピラゾール−１−イル、３−メチル−１Ｈ−ピラゾール−１−イル、３，５−ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−１−イル、３−イソキサゾールイル、５−メチル−３−イソキサゾールイル、３−メチル−５−イソキサゾールイル、５−イソキサゾールイル、１Ｈ−ピロール−２−イル、１−メチル−１Ｈ−ピロール−２−イル、１Ｈ−ピロール−１−イル、１−メチル−１Ｈ−ピロール−３−イル、２−フラニル、５−メチル−２−フラニル、３−フラニル、５−メチル−２−チエニル、２−チエニル、３−チエニル−１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−２−イル、１Ｈ−イミダゾール−２−イル、１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−４−イル、１−メチル−１Ｈ−イミダゾール−５−イル、４−メチル−２−オキサゾールイル、５−メチル−２−オキサゾールイル、２−オキサゾールイル、２−メチル−５−オキサゾールイル、
【００３８】
２−メチル−４−オキサゾールイル、４−メチル−２−チアゾールイル、５−メチル−２−チアゾールイル、２−チアゾールイル、２−メチル−５−チアゾールイル、２−メチル−４−チアゾールイル、３−メチル−イソチアゾールイル、３−メチル−５−イソチアゾールイル、５−メチル−３−イソチアゾールイル、１−メチル−１Ｈ−１，２，３−トリアゾール−４−イル、２−メチル−２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−４−イル、４−メチル−２Ｈ−１，２，３−トリアゾール−２−イル、１−メチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル、１，５−ジメチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル、３−メチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル、５−メチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イル、４，５−ジメチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル、４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル、４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−４−イル、５−メチル−１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、３−メチル−１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、５−メチル−１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、４−メチル−３−フラザニル、３−フラザニル、５−メチル−１，２，４−オキサジアゾール−２−イル、５−メチル−１，２，３−チアジアゾール−４−イル、１，２，３−チアジアゾール−４−イル、３−メチル−１，２，４−チアジザゾール−５−イル、５−メチル−１，２，４−チアジアゾール−３−イル、４−メチル−１，２，５−チアジアゾール−３−イル、５−メチル−１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１−メチル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル、１Ｈ−テトラゾール−５−イル、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール−１−イル、２−メチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル、２−エチル−２Ｈ−テトラゾール−５−イル、５−メチル−２Ｈ−テトラゾール−２−イル、
【００３９】
２Ｈ−テトラゾール−２−イル、２−ピリジル、６−メチル−２−ピリジル、４−ピリジル、３−ピリジル、６−メチル−３−ピリダジニル、５−メチル−３−ピリダジニル、３−ピリダジニル、４，６−ジメチル−２−ピリミジニル、４−メチル−２−ピリミジニル、２−ピリミジニル、２−メチル−４−ピリミジニル、２−クロロ−４−ピリミジニル、２，６−ジメチル−４−ピリミジニル、４−ピリミジニル、２−メチル−５−ピリミジニル、６−メチル−２−ピラジニル、２−ピラジニル、４，６−ジメチル−１，３，５−トリアジン−２−イル、４，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジン−２−イル、１，３，５−トリアジン−２−イル、４−メチル−１，３，５−トリアジン−２−イル、３−メチル−１，２，４−トリアジン−５−イル、３−メチル−１，２，４−トリアジン−６−イル、
【化１１】
【化１２】
【００４０】
さらなる縮合、単環式又は２環式環系であって、例えば、２つの隣接置換基Ｒａ1 とＲａ2 又はＲａ1 とＲａ5 により形成され、そして場合により、１回又は３回まで、酸素、硫黄、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ2 、−Ｎ（Ｒａ6 ）−、カルボニル又はＣ（＝ＮＯＲａ7 ）から選ばれる置換基により中断され、そしてさらに、１以上の置換基により置換されることができるものは、例えば、以下の式：
【化１３】
特にＲ46は、水素、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ又はＣ1 −Ｃ4 アルキルチオであり；Ｒ47は、水素、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシであり；そしてＲ50、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55、Ｒ56、Ｒ57、Ｒ58、及びＲ59は、水素、又はＣ1 −Ｃ4 アルキルであり；そしてＸ10は、酸素又はＮＯＲ59である。｝により表される縮合、二座環系を意味すると理解すべきである。
【００４１】
少なくともそのオルト位で置換されたヘテロアリール基Ｑは、特に、先に列記した５−又は６−員芳香族複素アリール基であって、さらに、Ｒａ1 、Ｒａ2 、Ｒａ3 又はＲａ4 及びＲａ5 の定義から選ばれる基により、その窒素原子及び／又は炭素原子上でモノ−〜トリ−置換されるもの、を意味すると理解すべきである。
【００４２】
特に有利には、ＷＯ００／１５６１５、ＷＯ００／３７４３７、ＷＯ０１／６６５２２、及びＷＯ０１／９４３３９中に記載されたシクロヘキサンジオン除草剤が、本発明に係る製法により製造される。
【００４３】
本発明に係る製法による製造によく適した式（Ｉ）の化合物は、式中、
Ｒ1 とＲ2 が水素であり；
Ａが、非置換Ｃ1 −Ｃ2 アルキレン；
ＤとＥが共に、非置換Ｃ2 −Ｃ3 アルキレンであり；
ＱがＱ1 であり、ここでＡ1 がＣＲａ1 又はＮ−（Ｏ）p であり；
ｐが０であり；
【００４４】
Ｒａ1 が、水素、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、ヒドロキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 −ハロアルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 −アルコキシ、（Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル）−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ、（１，３−ジオキソラン−２−イル）−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ、（テトラヒドロフラン−２−イル）−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ、（テトラヒドロフラン−３−イル）オキシ、（オキセタン−３−イル）オキシ、（Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル）オキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−スルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノ、Ｃ1 −Ｃ2 −アルコキシエチルアミノ、Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシエチル−（Ｎ−メチル）アミノ、モルフォリノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルアミノ−エトキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル、ヒドロキシメチル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシメチル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシメチル、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシメチル、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルオキシメチル、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシメチル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシメチル、（Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル）−メトキシメチル、（１，３−ジオキソラン−２−イル）−メトキシメチル、（テトラヒドロフラン−２−イル）−メトキシメチル、（テトラヒドロフラン−３−イル）オキシメチル、（オキセタン−３−イル）オキシ−メチル）、（Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル）オキシメチル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルアミノ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル、シアノ、ハロゲン、フェニル又はベンジルオキシであり、ここで、フェニル含有基自身、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；
【００４５】
Ｒａ2 が、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 アルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ2 −Ｃ6 アルキニル、Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、ハロ−又はＣ1 −Ｃ2 アルコキシメチル−置換Ｃ3 −Ｃ6 シクロアルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルケニルオキシ、Ｃ3 −Ｃ6 アルキニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ3 −Ｃ6 ハロアルケニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ6 アルキル）アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）、シアノ、ハロゲン、ヒドロキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル−スルホニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、シアノ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルカルボニルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−カルボニル−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェノキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ベンジルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ベンゾイルオキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、フェノキシ又はフェニルチオであり、ここで、上記フェニル含有基はそれ自身、Ｃ1 −Ｃ3 アルキル、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ3 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることができ；又は
Ｒａ2 が、基−Ｘ1 −Ｘ3 又は基−Ｘ2 −Ｘ1 −Ｘ3 であり、ここで、Ｘ1 、Ｘ2 とＸ3 は、先に定義したものと同じであり；
Ｒａ3 が水素であり；
Ｒａ4 が水素又はメチルであり;
【００４６】
Ｒａ5 が、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル、Ｃ2 −Ｃ6 ハロアルケニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルコキシ、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 −アルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルチオ、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1 −Ｃ6 ハロアルキル−スルホニル、Ｃ1 −Ｃ6 アルキルスルホニルオキシ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノスルホニル、ジ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）アミノスルホニル、Ｃ1 −Ｃ4 −アルキルスルホニルアミノ、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニル−Ｎ（Ｃ1 −Ｃ4 アルキル）−、シアノ、ハロゲン、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシメチル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルチオメチル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルフィニルメチル、Ｃ1 −Ｃ4 アルキルスルホニルメチル又は１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−イルであるものである。
【００４７】
本発明に係る製法による製造に特によく適した式（Ｉ）の化合物は、式中、
Ｒ1 とＲ2 が水素であり、Ａがメチレンであり、ＤとＥが一緒になってエチレンであり、ＱがＱ1 であり、ここで、Ａ1 が、窒素であり、Ｒａ3 とＲａ4 が水素であり、Ｒａ5 が、Ｃ1 −Ｃ3 ハロアルキル、好ましくはトリフルオロメチル、ジフルオロクロロメチル又はジフルオロメチル、特にトリフルオロメチルであり、Ｒａ2 が、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、Ｃ1 −Ｃ4 ハロアルキル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキル又はＣ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル、好ましくは、メチル、エチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシプロピル又はメトキシエトキシメチル、特にメトキシエトキシメチルであるものである。
【００４８】
本発明に係る製法による製造に特によく適した式（Ｉ）の化合物は、式中、
Ｒ1 とＲ2 が水素であり、Ａがメチレンであり、ＤとＥが一緒になってエチレンであり、ＱがＱ1 であり、ここで、Ａ1 が、窒素であり、Ｒａ3 とＲａ4 が水素であり、Ｒａ5 がトリフルオロメチルであり、そしてＲａ2 がＣ1 −Ｃ4 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルコキシ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキル、特に好ましくはメトキシエトキシメチルであるものである。
本発明に係る製法の特別な利点は、式（II）の出発化合物が容易に得られうることである。ＤとＥが一緒になってＣ2 −Ｃ3 アルキレン以外であるとき、その出発化合物は、例えば、J. Gen. Chem. USSR, 1964, 34, 3509 (engl. Tranl. 1964, 34, 3553) ; Tetrahedron Letters, 1984, 25, 3179 ; J.A.C.S. 1987, 109, 6385 ; Journal of Organic Chemistry, 1988, 53, 4923 又はArm. Khim. Zh, 1976, 29, 342から知られているか、又はその中に記載された方法に従って製造されうるか；又は特に、ＤがＥと一緒になってＣ2 −Ｃ3 アルキレン鎖を形成するときは、以下の式（VI）：
【化１４】
【００４９】
式（VI）の化合物から式（II）の化合物への変換に好適な酸化剤は、有機過酸、例えば、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過ギ酸、過プロピオン酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸又はモノペルオキシフタル酸、過酸化水素又は触媒量の２酸化セレンの存在下、適宜、追加量の塩基の存在下、不活性溶媒中−２０〜５０℃の温度における過酸化水素である。好適な塩基は、例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、酸化バリウム、リン酸水素カリウム、及びリン酸２水素カリウムを含む。好適な溶媒は、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、酢酸、無水酢酸、及びそれらの混合物、例えば、ジクロロメタンと酢酸又は酢酸と無水酢酸である。
【００５０】
アルカリ金属及びアルカリ土類金属アルコラートは、式（II）の化合物から式（III） の塩への変換において触媒又は化学量論量において使用されうる。触媒量が使用されるとき、さらなる塩基を添加することが必要である。このさらなる塩基は、化学量論量で又は過剰に添加されうる。それはより有利には、化学量論量から僅かに過剰な量までで使用される。追加の塩基としては、例えば、無機塩基、例えば、炭酸塩、例えば、炭酸カリウム、オキシド、例えば、酸化バリウム、及びヒドリド、例えば、水素化ナトリウムが使用されうる。触媒量のアルカリ金属及びアルカリ土類金属アルコラートは、０．０００１％〜２５％、好ましくは０．１％〜１０％であると理解すべきである。
【００５１】
本発明に係る製法の好ましい態様においては、アルカリ金属及びアルカリ土類金属のアルコラート、特に、リチウム、ナトリウム、及びカリウムのアルコラートが、追加の塩基を伴わずに、化学量論量又は過剰であるが、特に好ましくは化学量論量で、使用される。
【００５２】
好ましいアルカリ金属及びアルカリ土類金属アルコラートは、リチウム、ナトリウム、及びカリウムのアルコラート、特にメタノラート及びエタノラートである。特に好ましいアルカリ金属及びアルカリ土類金属アルコラートは、ナトリウム・メタノラート、ナトリウム・エタノラート、ナトリウム・イソプロパノラート、ナトリウムｎ−ブタノラート、カリウムｔｅｒｔ−ブタノラート、ナトリウムｎ−ペンタノラート、ナトリウムｔｅｒｔ−アミラート、及びナトリウム２−メトキシエタノラートであり；ナトリウム・メタノラートが特に好ましい。
【００５３】
上記変換は、好ましくは溶媒の存在下又は特に混合溶媒の存在下で、行われる。好適な溶媒は、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、メチルナフタレン、又はアルコール、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アミル・アルコール、又はテトラヒドロフラン又はジオキサン、又は非プロトン溶媒、例えば、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン又はジメチル・スルホキシド、又は２−メチル−５−エチルピリジンなど、又は上記溶媒の混合物、例えば、トルエンとジメチルホルムアミド又はトルエンとＮ−メチルピロリドンである。
【００５４】
反応ステップａ）においては、トルエンと、追加の溶媒として、ジメチルホルムアミド又はＮ−メチルピロリドンの使用が特に好ましい。なぜなら、その後、式（III） の化合物が、上記反応混合物から特に有利に沈殿されることができ、そしてその後さらに、塩基により触媒される２次反応が実質的に回避されるからである。
【００５５】
反応ステップａ）においては、式（III） の塩、好ましくはそのナトリウム塩が、上記反応媒質から容易に結晶形態で沈殿するが、その反応混合物は容易に撹拌しうるままであるところの量で、上記溶媒又は混合溶媒が使用される。式（II）の化合物から、式中、Ｍ+ がアルカリ金属カチオン、好ましくはナトリウム・カチオンであるところの式（III） の化合物への変換においては、特に、トルエンと、１〜１５％のジメチルホルムアミド又は１〜１５％のＮ−メチルピロリドンの混合溶媒が有利であり、トルエン中３〜８％のジメチルホルムアミドが特に好ましい。
【００５６】
溶媒によるが、上記変換は、約０℃〜沸点の温度で、そして有利には無水条件下で行われる。本発明に係る製法の特に有利な態様においては、上記変換は、トルエン中で、塩基としてナトリウム・メタノラートを用いて、８０℃〜沸点の温度で、行われ、その間に、解放されたメタノールは、２次反応を回避するために、連続して留去される。
【００５７】
特に、トルエンと約１〜１５％のジメチルホルムアミドの混合物中の約３０％のメタノール性溶液の形態にあるナトリウム・メタノラートが、初期チャージとして使用されることができ、加熱中、まず初めに、メタノールが約１０５〜１１０℃のカラム塔頂温度まで留去され、そしてその後になって、式（II）の化合物が少量のトルエンに溶解され、解放されたメタノールがさらなる蒸留により上記反応混合物から連続的に除去され、そしてこれゆえ、式（III） の塩が純粋な、容易に撹拌しうる結晶の形態で上記反応混合物から沈殿することができるように、滴下される。
【００５８】
上記変換が触媒としてアルコラート・アニオンを用いて行われるとき、対応のアルコラート−形成性カチオンが式（Ｉ）のエノラートの沈殿のための塩として使用されることも有利である。アルカリ金属アルコラートの好適な量は、１．０〜２．５当量、特に１．０〜約１．５当量である。塩基として１．０００１〜１．１当量のナトリウム・メタノラートが特に好ましい。
【００５９】
本発明に係る製法のさらなる態様においては、反応ステップａ）において、触媒量のシアン化物イオンが、追加のアミン塩基の存在下で使用される。好適な塩基は、特に第３アミン、例えばトリアルキルアミン、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン（Ｈｕｅｎｉｇ’ｓ塩基）、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、及びＮ−メチルモルフォリンである。シアン化物イオンの源として、アルカリ金属シアニド、例えば、シアン化ナトリウム又はシアン化カリウム、又はシアン化銅（Ｉ）、又は有機シアノヒドリン、例えば、アセトン・シアノヒドリン、又はシアン化トリアルキルシリル、例えば、トリメチルシリル、シアニド、又は第３アンモニウム塩基、例えば、テトラエチルアンモニウム・シアニドが好ましくは使用される。本発明に係る変法においては、使用されるアルカリ金属シアニドの量は、少量〜僅かに過剰の範囲にある。上記シアニドは、追加の塩基、例えば、特にトリエチルアミン又はＨｕｅｎｉｇ’ｓ塩基の存在下、０．１％〜約２５％、好ましくは１％〜約１５％の量で使用され、この塩基の量は、１〜６当量、特に、１．１〜約２．５当量である。
【００６０】
本発明に係る製法の上記態様は、好ましくは、不活性溶媒、例えば、ｎ−ヘプタン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ｔｅｒｔ−ブチル・メチル・エーテル、酢酸エチル、アセトン、２−ブタノン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド又はＮ−メチルピロリドン中、−５℃〜約８０℃の温度で、特に好ましくは、アセトニトリル又はジクロロメタン中、約１０℃〜約６０℃の温度で、行われる。
【００６１】
使用される溶媒にしたがって、添加物、例えば、塩化リチウム、臭化リチウム、又は相転移触媒、例えば、テトラブチルアンモニウム・ブロミド又は特にテトラエチルアンモニウム・シアニドが場合により、上記の反応のために使用されることができ、又は乾燥剤、例えば、硫酸マグネシウム又は分子篩も場合により使用されることができるが、このような添加物は、一般には要求されない。
【００６２】
反応ステップｂ）：
反応ステップａ）において得られた式（III） の化合物は、好ましくは、直接に、中間体の単離を伴わずに、式（IV）の化合物と反応させる。上記反応手順は、本発明に係る製法の特別な利点である。
【００６３】
反応ステップａ）において得られた反応混合物を、１０℃〜５０℃の温度に冷却し、そして場合により溶媒又は混合溶媒、例えば、トルエン、テトラヒドロフラン又はアセトニトリル中に溶解された式（IV）の化合物を、それに添加する。次に、式（Ｖ）の化合物を、慣用を調製手順にしたがって、有機溶媒による抽出、及び７〜９のpHにおける希アルカリ溶液による洗浄により、単離することができる。
【００６４】
本発明に係る製法の好ましい態様においては、反応ステップａ）において、ナトリウム・メタノラートを、塩基として、好ましくは、１〜１．５当量、特に好ましくは１．０００１〜１．１当量の量で使用し、そして式（IV）の化合物を、化学量論量〜１．０００１〜１．１当量の僅かに過剰な量の範囲の量で添加する。上記態様における脱離基Ｘは、特に、フッ素、塩素、臭素、トリアゾールイル、イミダゾールイル又はシアノであり、より特に塩素である。
【００６５】
式（IV）の化合物は、知られているか又は、当業者に知られた方法に従って製造されうる。式（IV）の化合物とその製造は、例えばＷＯ００／１５６１５、ＷＯ００／３７４３７、ＷＯ０１／６６５２２、及びＷＯ００／９４３３９中に記載されている。
【００６６】
反応ステップｃ）：
本発明に係る製法の特に好ましい態様においては、反応ステップｃ）にしたがう反応は、中間体の単離に伴わずに、行われ、すなわち、反応ステップｂ）にしたがって得られる式（Ｖ）の化合物は、塩基の存在下、シアニド・イオンによりその場で処理される。
【００６７】
上記シアン化物イオンは、好ましくは、０．０１％〜１５％の量で使用される。上記反応の開始後すぐに、好ましくは約２０℃の温度において、形成される式（Ｖ）の中間体が、例えば、薄層クロマトグラフィーの手段により、検出されることができ、上記反応は、さらなる触媒量のシアン化物イオン、及び適宜、追加量の塩基、例えば、０．１〜２．５当量のトリエチルアミン、又はＨｕｅｎｉｇ’ｓ塩基の添加により、反応終了までもっていかれることができ、そして式（Ｉ）の化合物は、慣用の調製方法に従って（例えば、洗浄及び抽出手順により、及び結晶化により）単離及び精製されることができる。シアン化物イオンの好適な源は、例えば、シアン化ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化銅（Ｉ）、アセトン・シアノヒドリン又はシアン化トリメチルシリル、好ましくは、シアン化カリウムである。このようなエノール・エステル転移は、例えば、ＥＰ−Ａ−０
１８６ １１７中に記載されている。
【００６８】
本発明に係る製法の特に好ましい態様においては、反応ステップａ）、ｂ）、及びｃ）が、中間体の単離を伴わずに、１容器反応として行われる。
本発明に係る製法の同じくさらに好ましい態様においては、反応ステップａ）とｂ）が、１容器反応として、行われ、そして追加の洗浄及び精製工程において、式（IV）の中性中間体が、まず初めに、不純物から解放され、そして次に、反応ステップｃ）（工業的カスケード反応）に直接移される。
本発明に係る製法を、以下の製造実施例において説明する：
【００６９】
実施例Ｐ１：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンのトリエチルアンモニウム塩の調製：
【化１５】
２．７６ｇ（２０mmol）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを、２０mlのアセトニトリル中、２．２３ｇ（２０mmol）のトリエチルアミンと０．１３ｇ（２mmol）のシアン化カリウムの存在下、２．５時間５５℃の温度いおいて加熱する。濁った反応混合物を、Ｈｙｆｌｏ（商標）上で濾過し、そして蒸発乾固させる。４−ヒドロキシ−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンのトリエチルアンモニウム塩を、樹脂性の吸湿性生成物の形態で得る。
【００７１】
実施例Ｐ２：４−メチレン−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンのエチルジイソプロピルアンモニウム塩の調製：
【化１６】
実施例Ｐ１と同様にして、１．３８ｇ（１０mmol）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを、１０mlのアセトニトリル中１．２９ｇ（１０mmol）のＨｕｅｎｉｇ’ｓ塩基と０．１３ｇのシアン化カリウムの存在下、１２時間の期間にわたり、撹拌する。固体成分（カリウム塩）を濾別し、そして濾液を、蒸発乾固させて、樹脂の形態で、４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンのエチルジイソプロピル−アンモニウムを得る。
【００７３】
実施例Ｐ３：４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンのナトリウム塩の調製：
【化１７】
１１０℃の温度において、メタノール中１２．１ｇ（０．２２mol ）のナトリウム・メタノラートの３０％溶液を、１９０mlのトルエンと１０mlのジメチルホルムアミドの溶液に滴下し、その間に、上記メタノールを、蒸留により連続的に除去する。３０分間の時間にわたり得られた懸濁液に、２０mlのトルエン中に溶解された２０．７ｇ（０．１５mol ）の４−メチレン−３−オキサ−ビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２オンを、滴下し、そして蒸留によりメタノールをさらに除去する。沸点においてさらに２時間撹拌した後、反応混合物を静置して冷却し、そして沈殿した生成物を濾別し、そしてトルエンで洗浄する。
【００７５】
実施例Ｐ４：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの２−メトキシ−４−メチルスルファニル安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル−２−オン・エステル：
【化１８】
１．３８ｇ（０．０１mol ）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを、１０mlのアセトニトリル中、１．２９ｇ（０．０１mol ）のＨｕｅｎｉｇ’ｓ塩基と０．１３ｇのシアン化カリウムの存在下、１２時間撹拌する。上記反応混合物から沈殿した固体成分を、その後濾別する。上記温度をコントロールしながら、２−メトキシ−４−メチルスルファニル安息香酸からの塩化チオニルを用いて新たに調製した固体２−メトキシ−４−メチル−スルファニルベンゾイル・クロリド１．７３ｇ（８mmol）（融点７２〜７２．５℃）を、その後、２０℃の温度において導入する。３０分間撹拌した後、水に対する酢酸エチルによる抽出、及び蒸発による濃縮を行う。残渣（３．１２ｇ）を、カラム・クロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン １：３）により精製する。１．７８ｇの２−メトキシ−４−メチルスルファニル−安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル−２−オン・エステルを、樹脂性の形態で得る（収率：使用した４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンに基づき５５．９％、又は使用した２−メトキシ−４−メチルスルファニルベンゾイル・クロリドに基づき６９．９％）。
【００７７】
【化１９】
実施例Ｐ５：４−ヒドロキシ−３−（２−メトキシ−４−メチルスルファニルベンゾイル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンの調製：
【化２０】
【００７９】
【化２１】
実施例Ｐ６：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの（ＵＳ−Ａ−５ ６０８ １０１から知られた）４−メタンスルホニル−２−ニトロ安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステル：
【化２２】
１．３８ｇ（０．０１mol ）の４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを、２０℃の温度において１２時間、２０mlのアセトニトリル中、１．１１ｇ（０．０１mol ）のトリエチルアミンと６５mg（１mmol）のシアン化カリウムの存在下で撹拌し、ここで、形成された４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン・トリエチルアンモニウム塩が、部分的に析出する。上記温度をコントロールしながら、新たに調製された４−メタンスルホニル−２ニトロベンゾイル・クロリド２．６４ｇ（０．０１mol ）を、２０℃の温度において、得られた懸濁液に導入する。２０℃の温度で３０分間撹拌した後、５％炭酸水素ナトリウム溶液に対して酢酸エチルを用いて抽出を行い、その後、希塩酸で１回、そして水で１回洗浄し、そして蒸発乾固させる。上記残渣（３．２ｇ）を、少量のシリカ・ゲルを通して濾過し（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン １：１）、粘性の油の形態で４−メタンスルホニル−２−ニトロ安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステルを得る：収率２．４８ｇ（６７．９％）；
【化２３】
実施例Ｐ７：（ＵＳ−Ａ−５ ８０１ １２０から知られた）４−ヒドロキシ−３−（４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル）ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンの調製：
実施例Ｐ６に従って調製した化合物２．４８ｇを、２０℃の温度で１時間、１当量のトリエチルアミンの存在下で、アセトニトリル中の触媒量のシアン化カリウム（１０mol％ ）で処理する。４−ヒドロキシ−３−（４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン（式中、Ｑが２−ニトロ−４−メタンスルホニルである式（Ｉ）の化合物）を得る。使用した４−ヒドロキシビシクロ−〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンに基づく収率：１．４１ｇ又は５６．８％。
【００８３】
実施例Ｐ８：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの４−ヒドロキシ−３−（４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾ イル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン：
【化２４】
ａ）２．７６ｇ（０．０２mol ）の９３％ ４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンと４．４５ｇ（０．０４４mmol）のトリエチルアミンを、１３０mg（２mmol）のシアン化の存在下、５０mlのアセトニトリル中室温で７時間撹拌する。次に、４．２２ｇ（０．１６mol ）の新たに調製した４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル・クロリドを次に導入し、そして撹拌を２０℃の温度において１２時間行った。薄層クロマトグラフィーによるモニタリングにしたがって、比較的多量の、（ＵＳ−Ａ−５ ８０１ １２０から知られた）中間体４−メタンスルホニル−２−ニトロ−安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステルは、未だ検出可能であり、次に、さらなる１３０mg（２mmol）のシアン化カリウムを添加し、そして撹拌を、変換が終了するまでさらに２時間続ける。次に、反応混合物を、酢酸エチル中に取り出し、そして水に対して１３のpH値において抽出する。次に水相を、塩酸を用いて酸性にし、そして新たな酢酸エチルを用いて約４のpH値において抽出し、Ｎａ2 ＳＯ4 上で乾燥させ、そして僅かな程度濃縮する。温かい酢酸エチル中に溶解した生成物を、活性炭で処理し、そして少量のシリカ・ゲルを通して吸引（吸引濾過）により濾別し、その後、さらに濃縮し、そして少量のヘキサンの添加により結晶化させる。１７０〜１７０．５℃の融点をもつ純粋な４−ヒドロキシ−３−（４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン １．６９ｇを得る。さらなる生成物（１．６５ｇ）を、再結晶化により、その母液から得ることができる。総収量：３．３４ｇ、又は使用した出発材料４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンに基づき４９．１％又は使用した出発材料４−メタン・スルホニル−２−ニトロ安息香酸に基づき５７．１％である。
【００８５】
【化２５】
ｂ）２．７６ｇ（０．０２mol ）の９３％ ４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンと４．４５ｇ（０．０４４mmol）のトリエチルアミンを、１７０mg（２mmol）のアセトン・シアノヒドリンの存在下、５０mlのアセトニトリル中２０℃の温度で６時間撹拌する。次に、４．２２ｇ（０．１６mol ）の４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル・クロリドを、導入し、そして撹拌を２０℃の温度でさらに１２時間続ける。次に、さらに１７０mg（２mmol）のアセトン・シアノヒドリンを添加し、そして撹拌を、変換が終了するまでさらに３０分間続ける。次に反応混合物を酢酸エチルに取り出し、そして水に対して１３のpH値で抽出する。この水相を、一度pH５において、そして一度pH４において、酸性にし、そして新たな酢酸エチルで抽出し、蒸発により乾燥させ、そして濃縮する。良好な純度レベルをもつ３．０５ｇの４−ヒドロキシ−３−（４−メタンスルホニル−２−ニトロベンゾイル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンを得る。収率は、出発材料４−メチレン−３−オキサ−ビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンに基づき４４．９％又は出発材料４−メタンスルホニル−２−ニトロ安息香酸に基づき５２．２％である。
【００８７】
実施例Ｐ９：４−メチレン−３−オキサ−ビシクロ〔３．２．１〕オクタン− ２−オンからの（ＷＯ００／１５６１５から知られた）４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンの調製：
【化２６】
２．０７ｇ（０．０１５mol ）の蒸留４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンを３．３４ｇ（０．０３３mol ）のトリエチルアミンを、９８mg（１・５mmol）シアン化カリウムの存在下、５０mlのアセトニトリル中、６０℃の温度で２．５時間撹拌する。２０℃の温度までの冷却をその後に行い、そしてＷＯ００／１５６１５に従って新たに調製し、少量のアセトニトリルに溶解した２．３５ｇ（０．１１mol ）の２−メチル−６−トリフルオロメチル−ニコチノイル・クロリドを添加する。中間体としてその場で得られた（ＷＯ００／１５６１５から知られた）２−メチル−６−トリフルオロメチルニコチン酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステルを（薄層クロマトグラフィーによりモニターしながら）３．５時間にわたり完全に変換する。次にこの反応混合物を、希塩酸で酸性にし、そしてこのpH値で水に対して酢酸エチルで抽出し、Ｎａ2 ＳＯ4 上で乾燥させ、そして蒸発により濃縮する。生成物を、カラム・クロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン４：１）により精製して、３．１６ｇの９０％４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−６−トリフルオロメチルピリジン−３−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン（使用した４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンに基づき５８．３％又は使用した２−メチル−６−トリフルオロメチルニコチノイル・クロリドに基づき８３．３％）。
【００８９】
【化２７】
実施例Ｐ１０：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン・２−オンからの４−ヒドロキシ−３−（２−メチル−７−メチルスルファニルベンゾフラン−４−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン：
【化２８】
【化２９】
【００９１】
この生成物を、所望により、その後の酸化段階において、直接、例えば、メタノール中のナトリウム・ヨーデートと反応させて、４−ヒドロキシ−３−（７−メタンスルフィニル−２−メチルベンゾフラン−４−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン（融点：２４３〜２４３．５℃）を得ることができる。
【００９２】
実施例Ｐ１１：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの４−ヒドロキシ−３−（７−メタンスルホニル−２−メチルベンゾフラン−４−カルボニル）−ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンの調製：
【化３０】
【化３１】
実施例Ｐ１２：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの３−シクロプロパンカルボニル−４−ヒドロキシビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オンの調製：
【化３２】
【化３３】
実施例Ｐ１３：４−メチレン−３−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２−オンからの（ＵＳ−Ａ−５ ８０１ １２０から知られた）２，３−ジクロロ−４−メタンスルホニル安息香酸４−オキソビシクロ〔３．２．１〕オクト−２−エン−２−イル・エステル：
【化３４】
【化３５】
Claims (1)
- 以下の式（Ｉ）：
Ｑは、上記式（Ｉ）の化合物が１〜５のpK値をもつように選ばれる有機置換基であり；
Ｄは、水素又はＲ3 であり；
Ｅは、水素又はＲ4 であり；又は
ＤとＥは、一緒になって、Ｃ2 −Ｃ3 アルキレンであり、このＣ2 −Ｃ3 アルキレンはＲ6 により１置換又は多置換されることができ；
Ａは、Ｃ1 −Ｃ2 アルキレンであって、Ｒ5 により１置換又は多置換されることができるものであり；又はＤとＥがＣ2 −Ｃ3 アルキレン以外であるとき、Ａは、さらに、カルボニル、酸素又は−ＮＲ7 −であることができ；
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、及びＲ6 は、互いに独立に、水素、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、フェニル、Ｃ1 −Ｃ4 アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、ヒドロキシカルボニル又はＣ1 −Ｃ4 アルコキシカルボニルであり；そして
Ｒ7 は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル、アルコキシカルボニル又はＣ1 −Ｃ4 アルキルカルボニルである。｝により表される化合物の製法であって、以下のステップ：
ａ）以下の式（II）：
ｂ）上記化合物を、以下の式（IV）：
Ｘ−Ｃ（Ｏ）−Ｑ （IV）
｛式中、Ｘは、脱離基であり、そしてＱは、上記式（Ｉ）のために定義したものと同じである。｝と、反応させて、以下の式（Ｖ）：
ｃ）上記化合物を、触媒量のシアン化物イオンの存在下、及び塩基の存在下で、上記式（Ｉ）の化合物に、変換する、
を含む、前記製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH598/02 | 2002-04-09 | ||
| CH5982002 | 2002-04-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003313161A JP2003313161A (ja) | 2003-11-06 |
| JP4402363B2 true JP4402363B2 (ja) | 2010-01-20 |
Family
ID=28048300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003104164A Expired - Fee Related JP4402363B2 (ja) | 2002-04-09 | 2003-04-08 | 環状ジケトンの製法 |
Country Status (19)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6855831B2 (ja) |
| EP (1) | EP1352901B1 (ja) |
| JP (1) | JP4402363B2 (ja) |
| KR (1) | KR100964481B1 (ja) |
| CN (1) | CN100513381C (ja) |
| AR (1) | AR039386A1 (ja) |
| AT (1) | ATE409690T1 (ja) |
| AU (1) | AU2003203482B2 (ja) |
| BR (1) | BR0300877A (ja) |
| CA (1) | CA2424803C (ja) |
| DE (1) | DE60323778D1 (ja) |
| ES (1) | ES2315441T3 (ja) |
| IL (1) | IL155234A (ja) |
| MX (1) | MXPA03003061A (ja) |
| PL (1) | PL211016B1 (ja) |
| RU (1) | RU2316544C2 (ja) |
| TW (1) | TWI307688B (ja) |
| UA (1) | UA78685C2 (ja) |
| ZA (1) | ZA200302618B (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2003203482B2 (en) * | 2002-04-09 | 2005-06-02 | Syngenta Participations Ag | Process for the preparation of cyclic diketones |
| KR101147632B1 (ko) | 2004-04-30 | 2012-05-23 | 신젠타 리미티드 | 사이클릭 디케톤의 제조방법 |
| US20080142375A1 (en) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Francois Doniat | Electrolyte formulation for electrochemical mechanical planarization |
| GB0710223D0 (en) * | 2007-05-29 | 2007-07-11 | Syngenta Ltd | Novel Herbicides |
| CN110818542A (zh) * | 2019-11-27 | 2020-02-21 | 怀化旺达生物科技有限公司 | 一种1，2-环己二酮的纯化方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2261751C3 (de) * | 1972-12-16 | 1981-12-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Cyclohexandionen-(1,3) |
| IL77350A (en) | 1984-12-20 | 1991-01-31 | Stauffer Chemical Co | Production of acylated diketonic compounds |
| PT1114030E (pt) * | 1998-09-15 | 2005-09-30 | Syngenta Participations Ag | Piridina cetonas uteis como herbicidas |
| AU1982600A (en) | 1998-12-21 | 2000-07-12 | Syngenta Participations Ag | Novel herbicides |
| SE0000772D0 (sv) * | 2000-03-08 | 2000-03-08 | Astrazeneca Ab | Chemical compounds |
| WO2001066522A1 (en) | 2000-03-09 | 2001-09-13 | Syngenta Participations Ag | Acylated phenyl or pyridine herbicides |
| GT200100103A (es) | 2000-06-09 | 2002-02-21 | Nuevos herbicidas | |
| AU2003203482B2 (en) * | 2002-04-09 | 2005-06-02 | Syngenta Participations Ag | Process for the preparation of cyclic diketones |
-
2003
- 2003-04-02 AU AU2003203482A patent/AU2003203482B2/en not_active Ceased
- 2003-04-03 IL IL155234A patent/IL155234A/en not_active IP Right Cessation
- 2003-04-03 PL PL359520A patent/PL211016B1/pl not_active IP Right Cessation
- 2003-04-03 ZA ZA200302618A patent/ZA200302618B/xx unknown
- 2003-04-07 UA UA2003043065A patent/UA78685C2/uk unknown
- 2003-04-07 CA CA2424803A patent/CA2424803C/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-04-07 AR ARP030101209A patent/AR039386A1/es active IP Right Grant
- 2003-04-07 TW TW092107861A patent/TWI307688B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-04-07 BR BR0300877-0A patent/BR0300877A/pt not_active IP Right Cessation
- 2003-04-08 US US10/409,577 patent/US6855831B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-04-08 AT AT03008197T patent/ATE409690T1/de active
- 2003-04-08 ES ES03008197T patent/ES2315441T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2003-04-08 RU RU2003109966/04A patent/RU2316544C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2003-04-08 KR KR1020030021836A patent/KR100964481B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2003-04-08 DE DE60323778T patent/DE60323778D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-04-08 EP EP03008197A patent/EP1352901B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-04-08 MX MXPA03003061A patent/MXPA03003061A/es active IP Right Grant
- 2003-04-08 JP JP2003104164A patent/JP4402363B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-04-09 CN CNB031095488A patent/CN100513381C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-02-11 US US11/056,406 patent/US7135574B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20030199708A1 (en) | 2003-10-23 |
| EP1352901B1 (en) | 2008-10-01 |
| EP1352901A2 (en) | 2003-10-15 |
| IL155234A0 (en) | 2003-11-23 |
| CN1450047A (zh) | 2003-10-22 |
| ZA200302618B (en) | 2003-10-06 |
| TW200307663A (en) | 2003-12-16 |
| AU2003203482B2 (en) | 2005-06-02 |
| AR039386A1 (es) | 2005-02-16 |
| IL155234A (en) | 2010-05-17 |
| PL359520A1 (en) | 2003-10-20 |
| CA2424803C (en) | 2011-01-25 |
| TWI307688B (en) | 2009-03-21 |
| AU2003203482A1 (en) | 2003-10-23 |
| ATE409690T1 (de) | 2008-10-15 |
| KR100964481B1 (ko) | 2010-06-21 |
| US7135574B2 (en) | 2006-11-14 |
| CA2424803A1 (en) | 2003-10-09 |
| DE60323778D1 (de) | 2008-11-13 |
| KR20030081064A (ko) | 2003-10-17 |
| US20050159314A1 (en) | 2005-07-21 |
| RU2316544C2 (ru) | 2008-02-10 |
| UA78685C2 (en) | 2007-04-25 |
| PL211016B1 (pl) | 2012-03-30 |
| CN100513381C (zh) | 2009-07-15 |
| EP1352901A3 (en) | 2004-03-24 |
| ES2315441T3 (es) | 2009-04-01 |
| MXPA03003061A (es) | 2003-10-14 |
| US6855831B2 (en) | 2005-02-15 |
| JP2003313161A (ja) | 2003-11-06 |
| BR0300877A (pt) | 2004-08-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7135574B2 (en) | Process for the preparation of cyclic diketones | |
| JP4971141B2 (ja) | 環式ジケトンの製造方法 | |
| JP4616006B2 (ja) | 新規除草剤 | |
| JP4819798B2 (ja) | 環式ジケトンの製造方法 | |
| JP2022554350A (ja) | 小分子プロスタグラジン輸送阻害剤 | |
| JPH039890B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060316 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090616 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090929 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091029 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121106 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121106 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131106 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131106 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131106 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131106 Year of fee payment: 4 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |