JP4396221B2 - 高圧水素貯蔵タンク用液晶性ポリエステル樹脂 - Google Patents
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Description
また、他の熱可塑性ポリマーとのアロイが検討されている(例えば、特許文献11〜14)。
NP=ナフチレン基(モル)/(フェニレン基(モル)+ナフチレン基(モル))>0.35・・・(1)
で示される範囲にあり、35℃における水素ガス透過係数が1.4×10−11cc・cm/cm2・s・kPa未満の高圧水素貯蔵タンク用液晶性ポリエステル樹脂である。
上記式のフェニレン基量は、フェニレン基を一つ構造単位中に有する構造単位であればそのモル数を、フェニレン基を二つ構造単位中に有する構造単位であれば、そのモル数の2倍とし、全構造単位について足し合わせたものである。
(1)ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルのポリマー、オリゴマーまたはビス(β−ヒドロキシエチル)テレフタレートなど芳香族ジカルボン酸のビス(β−ヒドロキシエチル)エステルの存在下で、p−アセトキシ安息香酸、6−アセトキシ−2−ナフトエ酸および4,4’−ジアセトキシビフェニル、ジアセトキシベンゼンなどの芳香族ジヒドロキシ化合物のジアシル化物と2,6−ナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸から脱酢酸縮重合反応によって液晶性ポリエステル樹脂を製造する方法。
(2)ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルのポリマー、オリゴマーまたはビス(β−ヒドロキシエチル)テレフタレートなど芳香族ジカルボン酸のビス(β−ヒドロキシエチル)エステルの存在下で、p−ヒドロキシ安息香酸、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸および4,4’−ジヒドロキシビフェニル、ハイドロキノンなどの芳香族ジヒドロキシ化合物と2,6−ナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸に無水酢酸を反応させて、フェノール性水酸基をアシル化した後、脱酢酸重縮合反応によって液晶性ポリエステル樹脂を製造する方法。
p−ヒドロキシ安息香酸460重量部、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸728重量部、4,4´−ジヒドロキシビフェニル126重量部、テレフタル酸112重量部(0.3モル%過剰)、固有粘度が約0.6dl/gのポリエチレンテレフタレ−ト216重量部及び無水酢酸985重量部を撹拌翼、留出管を備えた反応容器に仕込み、150℃3時間でアセチル化反応、次いで4時間かけて310℃まで昇温し、310℃で1torrまで30分で減圧し、約10分重合を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位80モル当量、芳香族ジオキシ単位7.5モル当量、エチレンジオキシ単位12.5モル当量、芳香族ジカルボン酸単位20.0225モル当量からなる液晶性樹脂が得られた。
プレスフィルムの表面粗度を小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−10を用い、中心線平均粗さ(Ra)を測定した。20回の測定の平均値をもって値とした。Ra0.010以下が表面平滑性良好である。測定条件は触針先端半径0.5μm、触針荷重5mg、測定長1mm、カットオフ値0.08mmで行った。
同様に250℃、150kg/cm2、予熱2分間、1分間プレスして、ポリエチレン(三井化学製)“ハイゼックス”7000Fのプレスフィルム(長さ250mm×幅150mm×厚み100μm)を作成し、得られた液晶ポリエステル樹脂およびポリエチレンのフィルムを長さ100mm×幅20mm×100μm厚に切削し、長さ方向に20mmを重ねて200℃で10kg/cm3、5秒間でプレス圧着した。
◎:破断せずに変位が1mm以上得られた、○:破断せず変位が0.5mm以上1mm未満得られた、×:変位が0.5mm未満で破断した(ここでの破断は全て接着面での剥離破断である)。
JIS K7126 A法(差圧法)に従いGTR−10(ヤナコ分析工業製)を用いて35℃で測定を行った。ガスとしては水素を用いた。
前記液晶性ポリエステル樹脂のプレスフィルムおよび(2)で作成したポリエチレンのプレスフィルムを100mm×100mm×100μm厚に切削し、ポリエチレン−液晶ポリエステル樹脂−ポリエチレンの3層に積層して200℃、10kg/cm2で5秒間熱圧着し300μm厚の積層フィルムを作成した(厚みの変化は誤差範囲0.01μa以下であった)。
◎:圧漏れ、フィルム破損なし、×:圧漏れ、フィルム破損あり。
p−ヒドロキシ安息香酸460重量部、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸728重量部、4,4´−ジヒドロキシビフェニル126重量部、テレフタル酸112重量部(0.3モル%過剰)、固有粘度が約0.6dl/gのポリエチレンテレフタレ−ト216重量部及び無水酢酸985重量部を撹拌翼、留出管を備えた反応容器に仕込み、150℃3時間でアセチル化反応、次いで4時間かけて310℃まで昇温し、310℃で1torrまで30分で減圧し、約27分重合を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位80モル当量、芳香族ジオキシ単位7.5モル当量、エチレンジオキシ単位12.5モル当量、芳香族ジカルボン酸単位20.0225モル当量からなる液晶性樹脂が得られた。
p−ヒドロキシ安息香酸460重量部、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸728重量部、4,4´−ジヒドロキシビフェニル126重量部、テレフタル酸112重量部、固有粘度が約0.6dl/gのポリエチレンテレフタレ−ト216重量部及び無水酢酸985重量部を撹拌翼、留出管を備えた反応容器に仕込み、150℃3時間でアセチル化反応、次いで4時間かけて310℃まで昇温し、310℃で1torrまで30分で減圧し、約10分重合を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位80モル当量、芳香族ジオキシ単位7.5モル当量、エチレンジオキシ単位12.5モル当量、芳香族ジカルボン酸単位20モル当量からなる融点211℃、液晶開始温度164℃、数平均分子量12,400の液晶性樹脂(B−3)が得られた。
6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸1355重量部、4,4´−ジヒドロキシビフェニル126重量部、テレフタル酸112重量部、固有粘度が約0.6dl/gのポリエチレンテレフタレ−ト216重量部及び無水酢酸985重量部を撹拌翼、留出管を備えた反応容器に仕込み、150℃3時間でアセチル化反応、次いで4時間かけて310℃まで昇温し、310℃で1torrまで30分で減圧し、約18分重合を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位80モル当量、芳香族ジオキシ単位7.5モル当量、エチレンジオキシ単位12.5モル当量、芳香族ジカルボン酸単位20モル当量からなる融点264℃、液晶開始温度224℃、数平均分子量12,200の液晶性樹脂(B−4)が得られた。
p−ヒドロキシ安息香酸547重量部、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸610重量部、4,4´−ジヒドロキシビフェニル126重量部、2,6−ナフタレンジカルボン酸146重量部、固有粘度が約0.6dl/gのポリエチレンテレフタレ−ト216重量部及び無水酢酸985重量部を撹拌翼、留出管を備えた反応容器に仕込み、150℃3時間でアセチル化反応、次いで4時間かけて310℃まで昇温し、310℃で1torrまで30分で減圧し、約10分重合を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位80モル当量、芳香族ジオキシ単位7.5モル当量、エチレンジオキシ単位12.5モル当量、芳香族ジカルボン酸単位20モル当量からなる液晶開始温度165℃、数平均分子量12,500の液晶性樹脂(B−5)が得られた。なお、融点は示差熱量計(DSC)で400℃まで昇温して測定したが、観測されなかった。
p−ヒドロキシ安息香酸995重量部、4,4´−ジヒドロキシビフェニル126重量部、テレフタル酸112重量部(0.3モル%過剰)、固有粘度が約0.6dl/gのポリエチレンテレフタレ−ト216重量部及び無水酢酸985重量部を撹拌翼、留出管を備えた反応容器に仕込み、150℃3時間でアセチル化反応、次いで4時間かけて330℃まで昇温し、330℃で1torrまで30分で減圧し、約10分重合を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位80モル当量、芳香族ジオキシ単位7.5モル当量、エチレンジオキシ単位12.5モル当量、芳香族ジカルボン酸単位20.0225モル当量からなる融点312℃、液晶開始温度292℃、数平均分子量12,100の液晶性樹脂が得られた。
p−ヒドロキシ安息香酸808重量部と6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸593重量部及び無水酢酸946重量部を攪拌翼、留出管を備えた反応容器に仕込み、150℃3時間でアセチル化反応、次いで4時間かけて300℃まで昇温し、300℃で1torrまで30分で減圧し、約2分重合を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位100モル等量からなる融点262℃、液晶開始温度232℃、数平均分子量8,400の液晶性樹脂(C−2)が得られた。
p−ヒドロキシ安息香酸907重量部と6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸457重量部及び無水酢酸946重量部を攪拌翼、留出管を備えた反応容器に仕込み、150℃3時間でアセチル化反応、次いで4時間かけて310℃まで昇温し、310℃で1torrまで30分で減圧し、約10分重合を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位100モル当量からなる融点283℃、液晶開始温度248℃、数平均分子量12,300の液晶性樹脂(C−3)が得られた。
p−ヒドロキシ安息香酸994重量部、固有粘度が約0.6dl/gのポリエチレンテレフタレ−ト346重量部及び無水酢酸946重量部を撹拌翼、留出管を備えた反応容器に仕込み、150℃3時間でアセチル化反応、次いで1時間かけて300℃まで昇温し、300℃で1torrまで30分で減圧し、約10分重合を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位80モル当量、エチレンジオキシ単位20モル当量、芳香族ジカルボン酸単位20モル当量からなる融点283℃、液晶開始温度242℃、数平均分子量27,000の液晶性樹脂(C−4)が得られた。実施例1と同様に評価した。
p−ヒドロキシ安息香酸833重量部、4,4´−ジヒドロキシビフェニル553重量部、テレフタル酸493重量部及び無水酢酸1297重量部を撹拌翼、留出管を備えた反応容器に仕込み、150℃3時間でアセチル化反応、次いで4時間かけて390℃まで昇温し、390℃で1torrまで30分で減圧し、約10分重合を行った結果、芳香族オキシカルボニル単位67モル当量、芳香族ジオキシ単位33モル当量、芳香族ジカルボン酸単位33モル当量からなる融点290℃、液晶開始温度358℃、数平均分子量14,000の液晶性樹脂(C−5)が得られた。実施例1と同様に評価した。
サイドフィーダを備えた日本製鋼所製TEX30型2軸押出機で、実施例1または比較例1で得た液晶性ポリエステル100重量部をホッパーから投入し、表2に示す配合量のガラス繊維(日本電気硝子製790DE)をサイドから投入し、樹脂温度が融点+10℃になるようにシリンダーのヒーター設定温度を調整し、スクリュー回転数100r.p.mの条件で溶融混練してペレットとした。熱風乾燥後実施例1と同様に評価を行った。
HBA:p−ヒドロキシ安息香酸から生成する構造単位
HNA:6−ヒドロキシ−2−安息香酸から生成する構造単位
DHB:4,4−ジヒドロキシフェニルから生成する構造単位
HQ :ヒドロキノンから生成する構造単位
DHN:2,6−ジヒドロキシナフタレンから生成する構造単位
EG :エチレングリコールから生成する構造単位
TPA:テレフタル酸から生成する構造単位
Claims (7)
- 下記構造単位(I)、(II)、(III)および(IV)からなる液晶性ポリエステル樹脂であって、前記液晶性ポリエステル樹脂中の構造単位内のフェニレン基とナフチレン基の合計に対するナフチレン基の含有比NPが、下式(1)
NP=ナフチレン基(モル)/(フェニレン基(モル)+ナフチレン基(モル))>0.35・・・(1)
で示される範囲にあり、35℃における水素ガス透過係数が1.4×10−11cc・cm/cm2・s・kPa未満の高圧水素貯蔵タンク用液晶性ポリエステル樹脂。
- 融点が270℃未満および/または液晶開始温度が250℃未満の請求項1記載の高圧水素貯蔵タンク用液晶性ポリエステル樹脂。
- 数平均分子量が11,000〜45,000の請求項1または2記載の高圧水素貯蔵タンク用液晶性ポリエステル樹脂。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の液晶性ポリエステル樹脂からなる高圧水素貯蔵タンク。
- 該高圧水素貯蔵タンクが、少なくとも液晶性ポリエステル樹脂層とポリオレフィン層からなる多層積層構造を有していることを特徴とする請求項4記載の高圧水素貯蔵タンク。
- 多層積層構造が、液晶性ポリエステル樹脂層とポリオレフィン層との間に、接着性ポリオレフィン層を含むものであることを特徴とする請求項5記載の高圧水素貯蔵タンク。
- 多層ブロー成形によって製造されたものであることを特徴とする請求項5または6記載の高圧水素貯蔵タンク。
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