JP4353742B2 - 光学用合成石英ガラス材料及び光学用合成石英ガラスの評価方法 - Google Patents
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Description
ことを見出した。そして、その屈折率の変化について、屈折率変化量(B)をランプ光の単位面積当たりの総照射エネルギー量(A[kJ/cm2])で割った値(B/A)をある一定の範囲内に設定することにより、実装時に用いられる程度のレーザーエネルギー密度でArFエキシマレーザーを照射した際に引き起こされる屈折率変化量が極めて小さい石英ガラスが得られることを知見し、本発明を完成するに至った。
実施例1と同様にして、シリカ微粒子堆積体を作成した。これをカーボンヒーター仕様の炉に入れて真空中1200℃まで加熱して60時間保持することにより焼結を行い、さらに真空中で1700℃まで加熱して1時間保持することにより透明ガラス化し、直径100mm、長さ500mmの合成石英ガラス体を得た。
高純度テトラメトキシシランを酸水素火炎中で加水分解し、生成するシリカ微粒子を回転する基体上に堆積し溶融して合成石英ガラスを得る直接法により、直径130mm長さ300mmの高純度合成石英ガラス体を作成した。
比較例2と同様の製法で、直径130mm長さ300mmの3方向脈理フリーの高純度合成石英ガラス体を作成した。
Claims (5)
- 発振波長150nm以上220nm以下の紫外線パルスレーザーを1パルス当たりのエネルギー密度0.01mJ/cm2以上0.3mJ/cm2以下の範囲で用いる光学系用途の合成石英ガラス材料であって、
150nmから300nmまでの範囲に発光を持つ紫外線ランプから照射される連続光を、0.01mW/cm2以上100mW/cm2以下の照度で石英ガラスに照射した際に、紫外線ランプ光を照射した部位の屈折率が低下し、且つ、紫外線ランプ光を照射した部位における単位面積当たりの総照射エネルギー量をA[kJ/cm2]、紫外線ランプ光を照射した部位の屈折率変化量をBとしたとき、B/Aが
−1×10−6≦B/A≦−1×10−7
の範囲にあり、
OH基濃度が30ppm以上300ppm以下、水素分子濃度が3×10 16 個/cm 3 以上1×10 18 個/cm 3 以下であり、193.4nmにおける試料厚さ10mmでの内部透過率が99.7%以上であることを特徴とする光学用合成石英ガラス材料。 - 前記紫外線ランプ光を照射した部位における単位面積当たりの総照射エネルギー量A[kJ/cm2]が
0.1≦A≦100
であることを特徴とする請求項1記載の合成石英ガラス材料。 - 前記紫外線ランプがXeエキシマランプもしくは低圧水銀ランプであることを特徴とする請求項1又は2記載の合成石英ガラス材料。
- 633nmにおける屈折率の最大値と最小値の差Δnが1×10−6以下、633nmにおける複屈折が0.3nm/cm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の合成石英ガラス材料。
- 150nmから300nmまでの範囲に発光を持つ紫外線ランプから照射される連続光を、0.01mW/cm2以上100mW/cm2以下の照度で石英ガラスに照射した際の、紫外線ランプ光を照射した部位における単位面積当たりの総照射エネルギー量A[kJ/cm2]に対する紫外線ランプ光を照射した部位の屈折率変化量Bを測定し、B/Aの値から、光学用合成石英ガラスの長期紫外線レーザー耐性を評価することを特徴とする光学用合成石英ガラスの評価方法。
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