JP4353320B2 - 洗浄液及び有機el装置の製造方法 - Google Patents
洗浄液及び有機el装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4353320B2 JP4353320B2 JP2009044682A JP2009044682A JP4353320B2 JP 4353320 B2 JP4353320 B2 JP 4353320B2 JP 2009044682 A JP2009044682 A JP 2009044682A JP 2009044682 A JP2009044682 A JP 2009044682A JP 4353320 B2 JP4353320 B2 JP 4353320B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- organic
- cleaning liquid
- cleaning
- deposition mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 48
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 24
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 88
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 150000004040 pyrrolidinones Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 6
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 39
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 19
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 18
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 18
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 13
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 7
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 6
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 2
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- -1 benzylene Chemical group 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
なお、特許文献1および2に提案されている方法は、いずれも処理室(チャンバ)内で有機膜等を除去するものであり、蒸着装置の改造を伴うことになる。そのため、多くのコストを必要とするという問題がある。
レジスト剥離等に利用されるピロリドンの誘導体は、有機物の分解作用に優れている。
そのため、擦り洗い等の物理的処理や、製造装置の改造を必要とすることなく、有機物を除去することができる。したがって、電気光学装置の製造装置に付着した有機物を容易に除去することができる。
製造装置に付着した有機物は、ピロリドンの誘導体で処理することによって除去される。また、製造装置に付着したピロリドンの誘導体は、水で処理することによって除去される。さらに、製造装置に付着した水は、エタノールで処理することによって置換される。
そして、製造装置に付着した低沸点のエタノールは、迅速に乾燥させることができる。したがって、電気光学装置の製造装置に付着した有機物を容易に除去することができる。
N−メチル−2−ピロリドンは、有機物の剥離作用に特に優れている。したがって、電気光学装置の製造装置に付着した有機物を容易に除去することができる。
この構成によれば、防着板に付着した有機物を容易に除去することができるので、蒸着チャンバ内の汚染を防止することができる。
この構成によれば、マスクに付着した有機物を容易に除去することができるので、有機物の重さによるマスクの撓みを防止することができる。したがって、蒸着処理の精度を確保することができる。
この構成によれば、加熱による製造装置の変形を防止することができるので、電気光学装置を精度良く製造することができる。
この構成によれば、電気光学装置の製造装置に付着した有機物を効率的に除去することができる。
この構成によれば、電気光学装置の製造装置に付着した有機物を容易に除去することができる。
この構成によれば、電気光学装置の製造装置に付着した有機物を除去して、蒸着処理の精度を確保することができるので、高品質な電気光学装置を提供することができる。
本実施形態の洗浄方法は、低分子有機EL装置の発光層を形成する際に、蒸着マスクに付着した有機物を洗浄する方法である。そこでまず、低分子有機EL装置の概略構成につき、図2を用いて説明する。
上述した発光層は、蒸着装置を用いて蒸着処理することにより形成する。そこで、蒸着装置につき図3を用いて説明する。
図3は、蒸着装置の説明図である。以下には、抵抗加熱式真空蒸着装置を例にして説明する。この蒸着装置100は、真空ポンプ102が接続されたチャンバ104を備えている。そのチャンバ104の内部には、基板ホルダ110が設けられている。この基板ホルダ110には、蒸着処理の対象となる基板210が下向きに保持されるようになっている。一方、基板ホルダ110と対向するように、蒸着材料124が充填されるルツボ120が設けられている。そのルツボ120にはフィラメント122が配線され、ルツボ内の蒸着材料124を加熱しうるようになっている。なお、蒸発した蒸着材料がチャンバ104の内壁等に付着するのを防止するため、防着板130が設けられている。
図1は、本実施形態の洗浄装置の概略構成を示す説明図である。本実施形態の洗浄装置1は、蒸着マスク140をピロリドンの誘導体で処理する第1ステージ10と、蒸着マスク140を水リンス処理する第2ステージ20と、蒸着マスク140を流水リンス処理する第3ステージ30と、蒸着マスク140をエタノールで処理する第4ステージ40と、蒸着マスク140を乾燥させる第5ステージ50と、各ステージに対して蒸着マスク140を順次搬送する搬送手段5とを有するものである。なお、各ステージは洗浄チャンバ2の内部に設けられている。
第4ステージ40は、蒸着マスク140をエタノールで処理するステージである。そのため、第4ステージ40の処理槽には、エタノールが充填されている。
第5ステージ50は、蒸着マスク140を乾燥させるステージである。なお、第5ステージ50にブロワー56を設ければ、蒸着マスクを迅速に乾燥させることができる。また、窒素ガス等の不活性ガスのブロワー56を採用すれば、蒸着マスク140の酸化等を防止することができる。
上述した洗浄装置を使用して蒸着マスクを洗浄する方法につき、図5および図1を用いて説明する。図5は、本実施形態の洗浄方法における各工程の処理内容および処理条件である。本実施形態の洗浄方法は、蒸着マスク140をピロリドンの誘導体で処理する第1工程と、蒸着マスク140を水リンス処理する第2工程と、蒸着マスク140を流水リンス処理する第3工程と、蒸着マスク140をエタノールで処理する第4工程と、蒸着マスク140を乾燥させる第5工程と、を有するものである。
以上により、ピロリドン誘導体であるN−メチル−2−ピロリドンが、防着板等に付着した有機物の洗浄液として、最も好適であることが確認された。
Claims (10)
- 有機EL装置の機能層を形成するための製造装置に付着した前記機能層を構成する有機材料を洗浄する洗浄液において、前記有機材料が金属錯体を含んでおり、ピロリドンの誘導体によって前記有機材料を前記製造装置から除去することを特徴とする洗浄液。
- 前記ピロリドンの誘導体が、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、及びN−ビニル−2−ピロリドンからなる群から選択されること、を特徴とする請求項1に記載の洗浄液。
- 前記ピロリドンの誘導体が、N−メチル−2−ピロリドンであること、を特徴とする請求項2に記載の洗浄液。
- 前記有機材料が蒸着材料であること、を特徴とする請求項1ないし3のうちいずれかに記載の洗浄液。
- 前記製造装置が蒸着マスクを備えており、前記洗浄液が前記蒸着マスクに付着した前記有機材料を除去する洗浄液であること、を特徴とする請求項4に記載の洗浄液。
- 前記製造装置がチャンバ、及び前記有機材料が前記チャンバに付着するのを防止する防着板を具備し、前記洗浄液が前記防着板に付着した前記有機材料を除去する洗浄液であること、を特徴とする請求項4に記載の洗浄液。
- 有機EL装置の製造方法において、
金属錯体を含む有機材料により機能層を形成する工程と、
請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の洗浄液を用いて、前記製造装置に付着した前記有機材料を除去する工程と、を有することを特徴とする有機EL装置の製造方法。 - 前記製造装置を水で処理する工程と、
前記製造装置をエタノールで処理する工程と、を更に有することを特徴とする請求項7に記載の有機EL装置の製造方法。 - 前記有機材料を除去する工程を常温で行うことを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の有機EL装置の製造方法。
- 前記有機材料を除去する工程を、超音波を併用しつつ行うことを特徴とする請求項7ないし請求項9のいずれかに記載の有機EL装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009044682A JP4353320B2 (ja) | 2009-02-26 | 2009-02-26 | 洗浄液及び有機el装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009044682A JP4353320B2 (ja) | 2009-02-26 | 2009-02-26 | 洗浄液及び有機el装置の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003403071A Division JP4352880B2 (ja) | 2003-12-02 | 2003-12-02 | 洗浄方法および洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009113043A JP2009113043A (ja) | 2009-05-28 |
JP4353320B2 true JP4353320B2 (ja) | 2009-10-28 |
Family
ID=40780770
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009044682A Expired - Lifetime JP4353320B2 (ja) | 2009-02-26 | 2009-02-26 | 洗浄液及び有機el装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4353320B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013071062A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-04-22 | Toho Technology Corp | 蒸着マスク洗浄装置、蒸着マスク洗浄システムおよび蒸着マスク洗浄方法 |
-
2009
- 2009-02-26 JP JP2009044682A patent/JP4353320B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009113043A (ja) | 2009-05-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4352880B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
TWI426962B (zh) | A cleaning device for a mask member and a cleaning method, and an organic electroluminescent display | |
US7148148B2 (en) | Mask forming and removing method, and semiconductor device, an electric circuit, a display module, a color filter and an emissive device manufactured by the same method | |
TW200905015A (en) | Method for cleaning metal mask | |
JP2006192426A (ja) | マスク洗浄方法 | |
US7485580B2 (en) | Method for removing organic electroluminescent residues from a substrate | |
WO2015188416A1 (zh) | 掩模版的清洗方法及装置 | |
WO2015188412A1 (zh) | 光阻剥离方法及光阻剥离装置 | |
JP4353320B2 (ja) | 洗浄液及び有機el装置の製造方法 | |
JP2007188728A (ja) | マスクの再生方法 | |
JP4267874B2 (ja) | フォトマスクの製造方法 | |
US6805135B1 (en) | Cleaning fluid and cleaning method for component of semiconductor-treating apparatus | |
KR100728218B1 (ko) | 증착 마스크의 세정장치 및 세정방법 | |
JP4421322B2 (ja) | 物品の洗浄方法 | |
JP2010043795A (ja) | 連続雰囲気炉 | |
JP4139205B2 (ja) | 有機el素子製造装置の洗浄方法および有機el素子の製造方法 | |
KR100851125B1 (ko) | 유기 el소자의 제조방법 및 유기 el소자 제조장치의세정방법 | |
JP4139204B2 (ja) | 有機el素子の製造方法および有機el素子製造装置の洗浄方法 | |
JPWO2005117498A1 (ja) | 有機el素子の製造方法および有機el素子製造装置の洗浄方法 | |
JP4873736B2 (ja) | 有機発光素子の製造方法 | |
KR100623714B1 (ko) | 유기전계발광소자의 제조방법 | |
KR20160003367A (ko) | 세정도 측정이 가능한 연속식 마스크 처리 장치 | |
JP2002028599A (ja) | 再利用部品の洗浄方法 | |
KR20160002563A (ko) | 린스액의 재사용이 가능한 연속식 마스크 처리 장치 | |
KR20160002562A (ko) | 적외선 건조 시스템을 포함하는 연속식 마스크 처리 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090305 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090305 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20090305 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090309 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20090327 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090414 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090707 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090720 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4353320 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120807 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130807 Year of fee payment: 4 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |