JP4347547B2 - 半導体光源装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体光源装置に関し、特に半導体レーザダイオード等の半導体発光素子と、半導体発光素子から出射されるモニタ光を受光するホトダイオードを備え、ホトダイオードのモニタ出力に基づいて、半導体発光素子から出射する出力光の強度を制御する半導体光源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、このような分野の技術として、特開平4−147690号公報がある。この公報に記載された半導体光源装置は、半導体レーザダイオードのモニタ用レーザ光出射面から下方に出射されるモニタ用レーザ光を、ステム上に固定されたホトダイオードに受光する。そして、ホトダイオードによるモニタ出力に基づいて、上記のモニタ用レーザ光出射面と対向するレーザ光出射面から上方に出射するレーザ光の出力を制御している。また、この半導体光源装置においては、モニタ用レーザ光の光軸とホトダイオードの表面が直交しないようにホトダイオードをステム上に固定することで、ホトダイオード表面から反射されるモニタ用レーザ光がレーザ光出射面から出射されるレーザ光と重ならないようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の半導体光源装置に備えるホトダイオードは、温度変化に伴って受光感度が大きく変動するという問題点を有しており、その結果、半導体レーザダイオードの出力の精密制御が困難なものとなっていた。
【0004】
本発明は上記問題点を解決するためになされたもので、温度変化に対しても安定した受光感度を得ることが可能なホトダイオードを備え、半導体発光素子から安定した出力光を出射することが可能な半導体光源装置を提供する。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本願発明の発明者らは、従来の半導体光源装置においてホトダイオードの受光感度が温度変化によって大きく変動する原因について以下の知見を得た。すなわち、従来の半導体光源装置に備えるホトダイオードは、第1導電型半導体層の表層において、その周縁部の内側に選択的に形成された第2導電型半導体層を有する領域が光感応領域(入射光に感応してホール/電子からなるキャリアを生成する領域)であり、この光感応領域を囲む第2導電型半導体層が形成されていない領域(以下、「変動領域」と呼ぶ)に、モニタ用レーザ光が入射すると、その受光感度が温度変化に伴って大きく変動するという知見を得た。
【0006】
そこで、このような知見に基づいて上記課題を解決するため、本発明の半導体光源装置は、半導体発光素子と、上記半導体発光素子から出射されるモニタ光を受光するホトダイオードとを備え、上記ホトダイオードのモニタ出力に基づいて、上記半導体発光素子から出射する出力光の強度を制御する半導体光源装置において、上記半導体発光素子は、上記ホトダイオードの受光面の中心から偏位した領域に上記モニタ光の出射光軸が位置するように配置され、上記ホトダイオードは、その周縁部の内側において選択的に形成された光感応領域を有し、当該光感応領域を囲む領域のうち、少なくとも上記モニタ光が入射する領域を含む部分がチップ側面の少なくとも一部を含めて遮光部材によって覆われたことを特徴としている。ホトダイオードは、第1導電型半導体層と、第2導電型半導体層と、を有している。第2導電型半導体層は、ホトダイオードの周縁部の内側であって第1導電型半導体層の表層部に、選択的に形成されている。遮光部材は、モニタ光が入射する領域において第1導電型半導体層の表層と第2導電型半導体層の表層の一部を被覆している。
【0007】
この発明によれば、半導体光源装置に備えるホトダイオードは、その周縁部の内側において選択的に形成された光感応領域を有し、この光感応領域を囲む領域、すなわち上記した変動領域のうち、少なくともモニタ光が入射する領域を含む部分がチップ側面の少なくとも一部を含めて遮光部材によって被覆されている。したがって、この遮光部材によりチップ周縁の変動領域にモニタ光が入射することを防止できるので、ホトダイオードの受光感度を温度変化に対して安定にすることができる。その結果、この半導体光源装置は、半導体発光素子から安定した出力光を出射することが可能となる。
【0008】
また、本発明の半導体光源装置においては、上記半導体発光素子は、ステム上面に固定された上記ホトダイオードの受光面の中心から偏位した領域に上記モニタ光の出射光軸が位置し、上記出射光軸と上記ホトダイオードの表面に対する法線とが所定角度傾くように、上記ステム上面に固定された支持体の側面に固着されたことを特徴とすることが好適である。
【0009】
この発明によれば、半導体発光素子をステム上に固定された支持体側面に固着すると共に、ホトダイオードをステム上に固定することによって、上述した半導体発光素子とホトダイオードとの位置関係を安定に保つことができる。
【0010】
また、本発明の半導体光源装置においては、上記半導体発光素子は、波長550nm以下の光を出射することを特徴とすることが好適である。
【0011】
この発明によれば、半導体光源装置に備えるホトダイオードは、上記のようにチップ周縁の変動領域が遮光部材で被覆されたことによって、従来のホトダイオードでは、波長550nm以下の短波長において、温度変化に伴って特に大きく変動していた受光感度を、安定にすることができる。したがって、従来の半導体光源装置に比べ、この半導体光源装置は、特にこの波長帯域において安定した出力光を出射することが可能である。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態にかかる半導体光源装置10について添付の図面を参照して説明する。なお、以下の実施形態に関する説明においては、説明の理解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に対しては可能な限り同一の符号を附し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。
【0013】
図1は半導体光源装置10を説明する説明図である。本実施形態にかかる半導体光源装置10は、円板上のステム11上に固定された柱上の支持体20の側面に固定された半導体レーザダイオード12と、この半導体レーザダイオード12のモニタ用レーザ光出射面15から出射されるモニタ用レーザ光16の光軸17がその中心から外れた領域に入射するホトダイオード18を備えて構成されている。この半導体レーザダイオード12は、窒化物系の材料により構成されており、波長409nmの紫色レーザ光を出射する。そして、ホトダイオード18は、その表面に対する法線19が、半導体レーザダイオード12のモニタ用レーザ光出射面15から出射されるモニタ用レーザ光16の光軸17に対して所定角度傾けられている。このような構成とすることで、ホトダイオード18の表面で反射されたモニタ用レーザ光16が、戻り光としてモニタ用レーザ光出射面15に入射するのを防止すると同時に、モニタ用レーザ光出射面15と対向するレーザ光出射端面13から出射されるレーザ光14と重なることを避けるようにしている。そして、ホトダイオード18に入射したモニタ用レーザ光16によるモニタ出力に基づいて、半導体レーザダイオード12から出射するレーザ光14を制御している。
【0014】
次に、ホトダイオード18について図2及び図3を参照して説明する。図2はホトダイオード18の平面図である。図2に示すように、このホトダイオード18は、平面形状が正方形状であり、0.68×0.68mmのチップ面積を有する。そして、チップ周縁部の内側において選択的に形成された正方形状のp型半導体層18pを有し、このp型半導体層18pの周辺の領域、すなわち変動領域からp型半導体層18pの一部にかけて遮光部18rが被覆されている。この遮光部18rには、黒色の染料や絶縁処理したカーボンブラック等の顔料を混入させた黒色ホトレジストやポリイミド等を用いることができる。そして遮光部18rによって囲まれた正方形状の光感応領域18aの角部に近い位置に、0.13mm×0.13mmの正方形状でアルミニウムからなる上面電極euが設けられている。すなわち、この上面電極euは、ホトダイオード18の光感応領域18aの中心からみて、モニタ用レーザ光16が入射する領域と逆側の角部に近い位置に、形成されている。
【0015】
次に、このホトダイオード18の断面図を図3に示す。図3は、図2に示すホトダイオード18のIII−III断面における断面構造を示している。図3に示すように、ホトダイオード18は、0.002Ω・cmの抵抗をもつ低抵抗シリコンからなる厚さ240μmのn型の半導体基板18sを有する。この半導体基板18s上には、1kΩ・cmの抵抗をもつ厚さ30μmのn型半導体層18nが形成されている。そして、このn型半導体層18n上にフォトリソグラフィー技術を用いてマスクパターンを形成した後、n型半導体層18nの表層部にp型不純物(ボロン)を拡散によって添加し、この表層部の導電型を反転させた厚さ0.35μmで100Ω/□のシート抵抗をもつp型半導体層18pが形成されている。このようにチップ周縁部の内側において選択的に形成されたp型半導体層18pの周囲の領域が、変動領域となる。
【0016】
また、p型半導体層18p及びn型半導体層18nの表層部にはSiO2からなる絶縁層ILTが形成されている。さらに、p型半導体層18p上の絶縁層ILTの所定位置をエッチングした後に形成された厚さ1.1μmのアルミニウム層からなる上面電極euを有し、また、半導体基板18sの底面から順次形成された厚さ1.1μmのアルミニウム層18c、及びNi−Auからなる厚さ5μmの下面電極elを有する。
【0017】
そして、ホトダイオード18の端部において絶縁層ILTから半導体基板18sの一部にかかる部分と、ホトダイオード18の表層において、絶縁膜ILTがn型半導体層18nと接する部分からp型半導体層18pの一部にかかる部分とを遮光部18rで被覆している。このように、遮光部18rを形成することで、変動領域が遮光されるので、ホトダイオード18は、温度変化に対して安定した受光感度を得ることができる。
【0018】
次に、ホトダイオード18の製造方法について説明する。図4は、ホトダイオード18の製造方法を説明する断面図である。まず、図4(a)に示すように、厚さ240μmの半導体基板18sを用意する。次に、図4(b)に示すように、半導体基板18s上にエピタキシャル成長法を用いて、厚さ30μmのn型半導体層18nを形成する。
【0019】
次に、フォトリソグラフィー技術を用いてn型半導体層18n上にマスクパターンを形成し、マスクパターンの開口部からn型半導体層18nの表層部にp型不純物(ボロン)を拡散によって添加し、この表層部の導電型を反転させて、図4(c)に示すように厚さ0.35μmのp型半導体層18pを形成する。
【0020】
次に、表層部に露出したn型半導体層18n及びp型半導体層18pの表層部に、図4(d)に示すように絶縁層ILTを堆積する。この堆積法としては、CVD(化学的気相成長)法やスパッタ法などを用いることができる。
【0021】
次に、図4(e)に示すように、厚さ1.1μmのAlよりなる上面電極eu及びアルミニウム層18cをスパッタ法又は蒸着法により形成し、更に無電解めっき法により厚さ5μmの下面電極el(Ni−Au)を形成する。
【0022】
次に、ここまでに形成されたチップに対して、上述した黒色ホトレジスト等の材料をスピンコートによって塗布した後、変動領域を覆う部分を露光し、図4(f)に示すように、厚さ1μmの遮光部18rを形成する。以上のような製造方法によって、ホトダイオード18が形成される。
【0023】
ここで、ホトダイオード18に、波長409nmのレーザ光を照射したときの温度変化に対する受光感度の特性を表すグラフを図5に示す。また、参考のため、図8に従来の半導体光源装置に用いられていたホトダイオードの同様の特性を示す。図5及び図8において、横軸はホトダイオードの温度であり、縦軸は光電流比、すなわち温度25℃の光電流を基準とした他の温度における光電流の変動比率[%]を表す。また、図5及び図8において、黒塗りの正方形状のプロットを結ぶ線は、pn接合上面すなわち光感応領域のみにレーザ光を照射したときの、温度変化に対する受光感度を示している。また、黒塗りの円形状のプロットを結ぶ線は、図5においては、ホトダイオード18のチップ端にレーザ光を照射したときの同様の特性を示し、図8においては光感応領域の周辺の変動領域にもレーザ光を照射したときの同様の特性を示す。図8に示すように、従来の半導体光源装置に用いられていたホトダイオードでは、光感応領域のみにレーザ光を照射した場合に比べて、変動領域にもレーザ光を照射した場合に、光電流比すなわち受光感度が温度変化によって大きく変動していることがわかる。このように従来の半導体光源装置に用いられていたホトダイオードにおいては、変動領域にもレーザ光を照射した場合の温度係数、すなわち1℃の温度変化に伴う光電流比の変化量は−0.35[%/℃]と大きい。一方、図5に示すようにホトダイオード18においてはチップ端にレーザ光を照射しても、温度係数が−0.08[%/℃]と、温度変化に対して安定した受光感度が得られることが確認できる。
【0024】
なお、本発明は上記した本実施形態に限定されることなく種々の変形が可能である。例えば、本実施形態では波長409nm(紫色)のレーザ光を発する半導体レーザダイオード12を用いているが、赤色等の他の波長帯域のレーザ光を発する半導体レーザダイオードを用いても良い。本実施形態にかかるホトダイオード18は波長550nm以下の短波長のレーザ光に対する受光感度特性が特に優れるが、赤色等の他の波長帯域のレーザ光に対しても良好な受光感度特性を示す。
【0025】
また、本実施形態においては、ホトダイオード18においては、n型半導体層18nが光吸収層として機能するが、p型半導体層18p及びn型半導体層18nの導電型を反転させても良い。この場合には、p型半導体層18pが光吸収層として機能する。
【0026】
また、本実施形態においてはホトダイオード18の変動領域全体を被覆するように遮光部18rを形成しているが、モニタ用レーザ光が入射する領域近辺の変動領域のみに遮光部18rを形成しても良い。図6及び図7はそれぞれ、モニタ用レーザ光が入射する領域近辺の変動領域のみに遮光部18rを形成した場合の、ホトダイオード18の平面図及び断面図(図6におけるVII−VII断面の断面図)である。このように、モニタ用レーザ光が入射する領域近辺の変動領域のみに遮光部18rを形成しても、変動領域にはモニタ用レーザ光が入射しないので、ホトダイオード18は温度変化に対して受光感度が安定している。なお、図6及び図7に示したホトダイオード18の製造方法と、図4に示したホトダイオード18の製造方法とは、黒色ホトレジスト等の材料をスピンコートによって塗布した後に、露光するパターンが異なるだけである。すなわち、モニタ用レーザ光が入射する領域近辺の変動領域を覆う部分のみを露光して、遮光部材18rを形成する以外は、図4に示した製造方法と異ならない。
【0027】
また、遮光部18rを、上面電極euやアルミニウム層18cを形成するのと同時に、スパッタ法または蒸着法により、アルミニウムによって形成しても良い。このときの遮光部18rは、図2及び図3、あるいは図6及び図7に示したパターンと同様に形成される。
【0028】
また、本実施形態では最も好適な光源として半導体レーザダイオード12を搭載する例を説明したが、光源としては発光ダイオード(LED)も適用可能である。
【0029】
【発明の効果】
本発明によれば、ホトダイオードの周縁部の内側に選択的に形成された光感応領域を囲む領域、すなわち変動領域のうち、少なくともモニタ光が入射する領域を含む部分がチップ側面の少なくとも一部を含めて、遮光部材によって被覆されるので、変動領域にモニタ光が入射することを防止できる。よって、ホトダイオードの受光感度を温度変化に対して安定にすることができる結果、例えば半導体レーザダイオードのような半導体発光素子から安定した出力光を得ることが可能な半導体光源装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態にかかる半導体光源装置の説明図である。
【図2】実施形態にかかる半導体光源装置に備えるホトダイオードの平面図である。
【図3】実施形態にかかる半導体光源装置に備えるホトダイオードの断面図である。
【図4】実施形態にかかる半導体光源装置に備えるホトダイオードの製造方法を説明する断面図である。
【図5】実施形態にかかる半導体光源装置に備えるホトダイオードの温度変化に対する受光感度特性を示す図である。
【図6】実施形態にかかる半導体光源装置に備えるホトダイオードの変形態様を示す平面図である。
【図7】実施形態にかかる半導体光源装置に備えるホトダイオードの変形態様を示す断面図である。
【図8】従来のホトダイオードの温度変化に対する受光感度特性を示す図である。
【符号の説明】
10・・・半導体光源装置、11・・・ステム、12・・・半導体レーザダイオード、18・・・ホトダイオード、18a・・・光感応領域、18s・・・半導体基板、18n・・・n型半導体層、18p・・・p型半導体層、18r・・・遮光部、ILT・・・絶縁層、eu・・・上面電極、el・・・下面電極
Claims (3)
- 半導体発光素子と、前記半導体発光素子から出射されるモニタ光を受光するホトダイオードとを備え、前記ホトダイオードのモニタ出力に基づいて、前記半導体発光素子から出射する出力光の強度を制御する半導体光源装置において、
前記半導体発光素子は、前記ホトダイオードの受光面の中心から偏位した領域に前記モニタ光の出射光軸が位置するように配置され、
前記ホトダイオードは、その周縁部の内側において選択的に形成された光感応領域を有し、当該光感応領域を囲む領域のうち、少なくとも前記モニタ光が入射する領域を含む部分がチップ側面の少なくとも一部を含めて遮光部材によって覆われており、
前記ホトダイオードは、第1導電型半導体層と、第2導電型半導体層と、を有しており、
前記第2導電型半導体層は、前記ホトダイオードの周縁部の内側であって前記第1導電型半導体層の表層部に、選択的に形成されており、
前記遮光部材は、前記モニタ光が入射する領域において前記第1導電型半導体層の表層と前記第2導電型半導体層の表層の一部を被覆している、
ことを特徴とする半導体光源装置。 - 前記半導体発光素子は、ステム上面に固定された前記ホトダイオードの前記受光面の中心から偏位した領域に前記モニタ光の出射光軸が位置し、前記出射光軸と前記ホトダイオードの表面に対する法線とが所定角度傾くように、前記ステム上面に固定された支持体の側面に固着されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体光源装置。
- 前記半導体発光素子は、波長550nm以下の光を出射することを特徴とする請求項1または2に記載の半導体光源装置。
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