JP4334004B2 - プラズマ放電リアクターおよびガス処理装置 - Google Patents
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Description
本実施の形態に係るプラズマ放電リアクターは、処理対象物質を含有している被処理ガスをプラズマによってガス処理(プラズマ処理)するカートリッジであって、電極と当接している部分において、誘電体自体が露出している誘電体を備えている。
本実施の形態に係るプラズマ放電リアクターは、図3に示す誘電体が用いられる。
実施例1では、図2に示したように、強誘電体材料12がセラミックからなる誘電体5の上に被覆され、さらに吸着材13が強誘電体材料12の上に被覆されている。さらに、この誘電体5は、裸電極である接地電極4に当接する当接部11aにおいて露出している。
実施例2では、図3に示したように、強誘電体材料12がセラミックからなる誘電体15の上に被覆され、さらに触媒担持吸着材14が強誘電体材料12の上に被覆されている。さらに、この誘電体15は、裸電極である接地電極4に当接する当接部11aにおいて露出している。
比較例1では、セラミックからなる誘電体5の全面に亘って強誘電体材料12が被覆され、さらにこの強誘電体材料12の表面に吸着材13が被覆されてなる誘電体25を使用した。
比較例2は、誘電体として、セラミックからなる誘電体5の全面に亘って強誘電体材料12で被覆され、さらにこの強誘電体材料12の表面が触媒担持吸着材14で被覆されてなる誘電体35を使用した。
2 高電圧印加電極
3 バリヤ材
4 接地電極
5 誘電体
6 電源部
10 収納空間
11a 当接部
12 強誘電体材料
13 吸着材
14 触媒担持吸着材
a 被処理ガス
b 処理ガス
Claims (10)
- 第1の電極と、
第2の電極と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に配置され、且つ少なくともいずれか一方の前記電極と当接している誘電体と、を有し、
前記誘電体は、被処理ガスを通過させる内部を有し、
前記誘電体の前記内部で前記被処理ガスに含有される処理対象物質を処理するプラズマ放電リアクターにおいて、
前記誘電体の外面と前記誘電体の前記内部を構成する壁面は共に前記処理対象物質を吸着する吸着材で被覆され、
前記誘電体における、前記少なくとも一方の電極と当接している当接部は、前記誘電体自体が露出していることを特徴とするプラズマ放電リアクター。 - 前記誘電体は、前記第2の電極と離間している請求項1に記載のプラズマ放電リアクター。
- 前記第2の電極はバリヤ材で被覆されている請求項1または請求項2に記載のプラズマ放電リアクター。
- 前記第1の電極は裸電極である請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のプラズマ放電リアクター。
- 前記吸着材には触媒が担持されている請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のプラズマ放電リアクター。
- 前記第1の電極はロッド形状の電極であり、且つ互いに離間して配置された複数の電極である請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のプラズマ放電リアクター。
- 前記第1の電極は前記第1の電極の長尺方向に対して交差する方向の断面の輪郭が湾曲した形状である請求項6に記載のプラズマ放電リアクター。
- 前記第2の電極はロッド状の電極であり、且つ互いに離間して配置された複数の電極であり、前記第2の電極の長尺方向は前記第1の電極と交差する方向である請求項6または請求項7に記載のプラズマ放電リアクター。
- 前記当接している部分は、前記誘電体を被覆していた前記吸着材が除去されたことで前記誘電体自体が露出している部分である請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載のプラズマ放電リアクター。
- 請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載のプラズマ放電リアクターと、前記プラズマ放電リアクターを装着する装着部とを有するガス処理装置。
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