JP2005193151A - ガス処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】非平衡プラズマ放電により揮発性化合物などを含有するガスの処理において、非平衡プラズマ放電が発生する高圧印加電極と接地電極に挟まれた空間内に、金属触媒が担持された吸着剤でコーティングされた誘電物質を配置したプラズマによるガス処理装置を用いる。
【選択図】図2
Description
(1)処理対象物質を含有しているガスを非平衡プラズマ放電により処理する装置において、非平衡プラズマ放電が発生する高圧印加電極と接地電極に挟まれた空間内に誘電体物質が空隙を有して配置されており、前記誘電体物質は強誘電体物質が吸着材でコーティングされており、さらに金属触媒が前記吸着材に担持されていることを特徴とするプラズマによるガス処理装置を提供する。
(2)処理対象物質が含有しているガスを非平衡プラズマ放電により処理する装置において、非平衡プラズマ放電が発生する高圧印加電極と接地電極に挟まれた空間内に誘電体物質が空隙を有して配置されており、前記誘電体物質は強誘電体物質が金属触媒を混合した吸着材でコーティングされていることを特徴とするプラズマによるガス処理装置を提供する。
本実施の形態に係る処理対象物質を含有しているガスを非平衡プラズマ放電により処理する装置は、誘電体物質は強誘電体物質が吸着材でコーティングされており、さらに金属触媒が前記吸着材に担持されており、そのような誘電体物質が電極間に配置されていることを特徴とするガス処理装置である。
本実施の形態に係るガス処理装置は、誘電体物質は強誘電体物質が金属触媒を混合した吸着材でコーティングされているものでありそのような誘電体物質を両電極間に配置していることを特徴とする。それ以外は第1の実施の形態と同様である。
本発明の効果を以下に示す実施例及び参考例により具体的に説明するが、本発明は該実施例により限定されるものではない。
図1に示すプラズマガス処理装置を用い、対象物質の処理効果を求めた。ワイヤー状高電圧印加電極5はφ0.5mmのタングステン線とし、接地電極7はφ12mm、長さ13mmの円筒状にしたSUS網を用い、厚さ1mmの石英ガラスをバリヤ材6としてSUS網の内側に配設した。誘電体物質1としてφ3mmのパラジウムが担持されたゼオライトをコーティングしたチタン酸バリウム(比誘電率1600)球を電極間に充填した。
誘電体物質2としてφ3mmのパラジウム2−3が混合されたゼオライト2−2をコーティングしたチタン酸バリウム1−1(比誘電率1600)球を電極間に充填した。それ以外は実施例1と同じである。
図4に示すように誘電体物質3として金属触媒3−2であるφ3mmのパラジウムが担持された吸着剤3−1であるアルミナ(比誘電率10)球を電極間に充填した。それ以外は第1の実施の形態と同じである。
図5に示すように誘電体物質4として吸着剤4−2であるφ3mmのゼオライトがコーティングされた誘電体4−1であるチタン酸バリウム(比誘電率1600)球を電極間に充填した。それ以外は第1の実施の形態と同じである。
1−1、2−1、4−1 強誘電体物質
1−2、2−2、3−1、4−2 吸着剤
1−3、2−3、3−2 金属触媒
5 ワイヤー状高圧印加電極
6 バリヤ材
7 円筒接地電極
8 電源
9 プラズマガス処理装置
a 被処理ガス
b 処理ガス
Claims (5)
- 処理対象物質を含有しているガスを非平衡プラズマ放電により処理する装置において、非平衡プラズマ放電が発生する高圧印加電極と接地電極に挟まれた空間内に誘電体物質が空隙を有して配置されており、前記誘電体物質は強誘電体物質が吸着材でコーティングされており、さらに金属触媒が前記吸着材に担持されていることを特徴とするプラズマによるガス処理装置。
- 処理対象物質が含有しているガスを非平衡プラズマ放電により処理する装置において、非平衡プラズマ放電が発生する高圧印加電極と接地電極に挟まれた空間内に誘電体物質が空隙を有して配置されており、前記誘電体物質は強誘電体物質が金属触媒を混合した吸着材でコーティングされていることを特徴とするプラズマによるガス処理装置。
- 前記強誘電体物質は、比誘電率が500〜10000であることを特徴とする請求項1または2のいずれか1項に記載のプラズマによるガス処理装置。
- 前記吸着材は、活性炭、シリカ、アルミナ、ゼオライトの少なくとも何れか1種を有することを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマによるガス処理装置。
- 前記金属触媒は、白金、パラジウム、ロジウム、ニッケル、銀、銅、マンガン、ルテニウム、レニウム、イリジウムの少なくとも何れか1種を有する物質であることを特徴とする請求項1または2のいずれか1項に記載のプラズマによるガス処理装置。
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