JP4327779B2 - 微細加工チップおよび使用方法 - Google Patents
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Description
12 光源
14 光線
16 コリメータレンズ
20 微細加工チップ
22 フラットフィールドレンズ
24 光学フィルター
26 光検出器
42 第一のチャネル平面アレイ
50 サンプルチャンバ
56 受液チャンバ
64 回収管
66 ゲルマトリクス
82 第二のチャネル平面アレイ
90 緩衝液チャンバ
99 延在サンプルチャンバ104 緩衝液
108 障壁
Claims (8)
- マルチプレックス吸光度式微細加工チップ電気泳動システムであって、
サンプルの第一次元分離のためのサンプルチャンバと、
前記サンプルチャンバに対してほぼ垂直である、前記サンプルの第二次元分離のための第一のチャネル平面アレイと、
第一次元分離時に前記第一のチャネル平面アレイから前記サンプルチャンバを分離する障壁と、
を有する微細加工チップ;
前記第一のチャネル平面アレイを通過する光を検出するための光検出器;および
前記光検出器に対して配置された光源
を有するシステムにおいて、
前記微細加工チップがさらに、前記チャネルからのサンプルを集合させて受液するよう作製された、第一のチャネル平面アレイ出口端に対してほぼ横方向の受液チャンバを有し、
前記微細加工チップがさらに、前記受液チャンバに固定され、前記チャネルからのサンプルを回収するよう作製された、前記チャネル平面アレイと一致するよう配列された回収管のアレイを有する前記システム。 - 複数のサンプルを分析する吸光度式電気泳動システムで用いられる微細加工チップであって、
サンプルの第一次元分離のためのサンプルチャンバ;
前記サンプルチャンバに対して隣接し、ほぼ垂直に配置された、前記サンプルの第二次元分離のための第一のチャネル平面アレイ;
第一次元分離時に前記第一のチャネル平面アレイから前記サンプルチャンバを分離する障壁;
前記サンプルチャンバに隣接配置された第一の電場発生装置;
前記第一のチャネル平面アレイに隣接配置された第二の電場発生装置
を有する微細加工チップにおいて、
前記第一のチャネル平面アレイに隣接した受液チャンバをさらに有し、
前記サンプル供給チャンバに隣接配置された第二のチャネル平面アレイをさらに有し、
前記第二のチャネル平面アレイにほぼ隣接した緩衝液チャンバをさらに有し、
前記第一のチャネル平面アレイ内にゲルマトリクスをさらに含み、
等電点電気泳動後にタンパク質を含むサンプルに電荷を供給するよう作製された前記第二のチャネル平面アレイ内の緩衝液をさらに含み、
前記チャネルからのサンプルを回収するよう作製された前記受液チャンバ内の回収管アレイをさらに有する前記微細加工チップ。 - 複数のサンプルを分析する吸光度式電気泳動システムで用いられる微細加工チップであって、
サンプルの第一次元分離のためのサンプルチャンバ;
前記サンプルチャンバに対して隣接し、ほぼ垂直に配置された、前記サンプルの第二次元分離のための第一のチャネル平面アレイ;
第一次元分離時に前記第一のチャネル平面アレイから前記サンプルチャンバを分離する障壁;
前記サンプルチャンバに隣接配置された第一の電場発生装置;
前記第一のチャネル平面アレイに隣接配置された第二の電場発生装置
を有する微細加工チップにおいて、
前記サンプルチャンバが、前記チャネル平面アレイを超えて延在することで、前記サンプルチャンバの一部分を画定している前記微細加工チップ。 - 前記サンプルチャンバが、前記サンプル中のタンパク質を前記一部分に等電点電気泳動させ得るような最適化されたサンプルマトリクスを含む請求項3に記載の微細加工チップ。
- 前記サンプルを、前記一部分から、電気浸透流駆動可動化によって前記第一のチャネル平面アレイに対し一直線上にある前記サンプルチャンバ中に移動させることができる請求項4に記載の微細加工チップ。
- 前記サンプルを、前記一部分から、動電的可動化によって前記第一のチャネル平面アレイに対し一直線上にある前記サンプルチャンバ中に移動させることができる請求項4に記載の微細加工チップ。
- 前記サンプルを、前記一部分から、流体力学的可動化によって前記第一のチャネル平面アレイに対し一直線上にある前記サンプルチャンバ中に移動させることができる請求項4に記載の微細加工チップ。
- 複数のサンプルを分析する吸光度式電気泳動システムで用いられる微細加工チップであって、
サンプルの第一次元分離のためのサンプルチャンバ;
前記サンプルチャンバに対して隣接し、ほぼ垂直に配置された、前記サンプルの第二次元分離のための第一のチャネル平面アレイ;
第一次元分離時に前記第一のチャネル平面アレイから前記サンプルチャンバを分離する障壁;
前記サンプルチャンバに隣接配置された第一の電場発生装置;
前記第一のチャネル平面アレイに隣接配置された第二の電場発生装置
を有する微細加工チップにおいて、
前記障壁が、等電点電気泳動時にサンプルチャンバと前記第一のチャネル平面アレイとの間の電流を低減し、かつ
前記障壁が、前記第一のチャネル平面アレイの凍結領域である前記微細加工チップ。
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