JP4308508B2 - 導電性懸濁剤を包含する保護コーティングを有する容量性指紋センサー - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、大略、半導体装置用の保護コーティングに関するものであって、更に詳細には、ソリッドステート指紋センサーの表面構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
容量性指紋センサーはTartagni et al.の本願出願人に譲渡されている米国特許第6,114,862号に開示されており、その開示内容を引用によって本明細書に取込む。該Tartagni et al.の特許は容量性センサーセル即ち「ピクセル」セルからなる二次元アレイを開示している。該アレイはユーザの指の指紋を担持する皮膚と接触するための検知表面を形成する誘電体層を有している。該誘電体層下側の各ピクセル位置におけるコンデンサプレートが、指紋検知動作期間中に、検知表面上の指紋の山及び谷の存在の間の区別を行う。
【0003】
例えば上記Tartagni et al.特許に開示されているような従来の指紋センサーにおける検知表面を形成する誘電体層は、典型的に、繰返しの使用からの摩耗に対する耐久性のために極めて硬質の物質である。従来の指紋センサーにおいて使用される極めて硬質の誘電体物質の1つの例は炭化珪素層である。このような極めて硬質の誘電体層は、例えばボールペンの先端等の鋭い道具で衝撃された場合に損傷される場合があることが判明している。意図的な破壊的不正使用に耐えるような製品を設計することは現実的ではないが、時折の偶発的な不正使用に耐えるような製品を設計することが望ましい。従って、通常の予測された使用の場合に耐久性があり、時折の偶発的な不正使用に対して耐久性があり、且つ検知表面に適用される指の指紋を正確に検知する上で有効な指紋センサーに対する保護コーティングとして使用する物質を見つけ出すことが所望されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上の点に鑑みなされたものであって、上述した如き従来技術の欠点を解消し、半導体装置用の優れた保護コーティングを提供することを目的とする。本発明の別の目的とするところは、改良したソリッドステート指紋センサーを提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、指紋センサー用の保護コーティングを提供しており、それは内部に導電性粒子が懸濁されているポリマー物質を有している。該保護コーティングはユーザの指の指紋を担持する皮膚と接触するための露出されている上表面を有している。該保護コーティングは耐久性があり且つ鋭い即ち尖った物体からの引っ掻き又は衝撃による損傷に対して耐久性を有している。該保護コーティングは内部に容量性検知プレートが埋め込まれている下側に存在する硬質の誘電体本体へ適用される。該保護コーティング内に懸濁されている導電性パーティクル(粒子)は、通常、一様に分布されており且つ保護コーティングの厚さより小さく、従ってそれらは保護コーティングの上側検知表面と各ピクセル位置において保護コーティングの下側に配設されている容量性検知プレートとの間に直列コンデンサからなる並列ストリングを画定している。
【0006】
【発明の実施の形態】
図1を参照すると、検知要素12からなるアレイ10の一部が示されており、それは指紋センサー装置内のピクセル位置を画定している。検知要素12は指紋の画像を作成するのに充分な数行及び列に配設されている。検知要素12は検知表面14の下側に配設されており、検知動作期間中ユーザの指の指紋を担持する皮膚が検知表面14へ適用される。好適には、検知要素12はアレイ10全体にわたって、列方向及び行方向において約50ミクロンの中心間間隔で配設されている。
【0007】
図2を参照すると、ピクセルアレイ10の一部の断面図がユーザの指16と関連して模式的に示されている。指16は指紋を担持する皮膚18を有しており、それは指紋の山20と谷22とを包含しており、それは人の指の一般的な特性であるが個人個人独特のパターンを有している。山20は検知表面14と接触して示されており、谷22は検知表面14のすぐ上に離隔されている。
【0008】
アレイ10が一部である指紋センサーは半導体基板24上に形成されており、該基板は、基本的に特定の固有抵抗にドーピングされた単結晶シリコンから構成することが可能である。エピタキシャル層26が基板24の上に形成されており且つ基板24の一部と考えることが可能である。主に相互接続されているMOSトランジスタ(不図示)から構成することが可能なアクティブ(活性)回路が従来の半導体製造技術を使用してエピタキシャル層26内に形成されている。エピタキシャル層26内に形成されている適宜のアクティブ回路の1例について以下に図5を参照して説明する。
【0009】
検知要素12は概略図2に示した導電性経路28を介してエピタキシャル層26内のアクティブ回路と通信を行う。検知要素12及び導電性経路28は複合誘電体本体30内に形成されており、該本体は、典型的に、酸化物、窒化物又は半導体装置製造において使用されるその他の従来の誘電体物質からなる複数個の層を有している。複合誘電体本体30は上表面32を有している。検知要素12は下側の深さから上表面32へ延在している。複合誘電体本体30の上表面32の上には保護コーティング34が付着形成されており、それは内部に懸濁されている多数の導電性パーティクル(粒子)36を有している。
【0010】
図3を参照すると、検知要素の1つの可能な実現例が示されている。検知要素12は、好適には、容量性検知要素である。図示した特定の実施例においては、容量性検知要素12が複合誘電体本体30の上表面30に設けられている上側コンデンサプレート38を有している。検知要素12は、更に、第一下側コンデンサプレート40及び第二下側コンデンサプレート42を有しており、それらは同一面状であり且つ上側プレート38の下側に配置されてそれと共に夫々第一及び第二コンデンサを画定している。複合誘電体本体30の一部である薄い誘電体層44が上側コンデンサプレート38を第一及び第二下側コンデンサプレート40及び42から分離している。薄い誘電体層44は、好適には、0.2乃至0.3ミクロンの厚さであり、窒化シリコン、燐酸ガラス又はその他の一般的に使用される誘電体物質を有することが可能である。下側プレート40及び42の対向する端部間に狭いギャップ46が形成されている。このギャップ46は約1乃至2ミクロンの幅であり且つ誘電体物質で充填されている。
【0011】
ギャップ46とは別に、第一及び第二下側プレート40及び42は、好適には、上側プレート38に対応する面積を占有しており且つ上側プレート38の下側に並置されている。このような構成は、上側プレート38と接地との間の寄生容量を効果的に最小とさせる。導体48及び50は夫々のプレート40及び42を基板24のエピタキシャル層26内のアクティブ回路へ接続させている。導体48及び50は図2を参照して上述した導電性経路28のうちの1つに対応している。
【0012】
理解されるように、アレイ10の全ての検知要素12は同様に構成されており、且つ図3の容量性検知要素12に対する特定の構成は本発明を実現するために使用することが可能な種々の代替的構成のうちの1つに過ぎない。又、上側プレート38は保護コーティング34と直接接触していることは必要ではない。例えば、その構成は表面32と保護コーティング34との間に非常に薄いポリマー層(例えば、2ミクロン未満の厚さ)を包含することが可能であり、非常に薄いポリマー層は第二保護コーティングとして作用する。この第二の非常に薄い保護コーティングは、基本的に、導電性パーティクル(粒子)が存在せず且つ複合誘電体本体30及び検知要素12を保護するために表面32へ永久的に固定される。このような変形例においては、サスペンド(suspend)即ち懸濁されている導電性パーティクル(粒子)36を内部に有する保護コーティング34は、損傷された場合又は過剰な磨耗の後に置換させることが可能である。このことは指紋検知装置の有用な寿命を延ばすことを可能とする。
【0013】
プレート38,40,42は装置の製造期間中に2つの異なるレベルに付着形成される典型的にアルミニウムである従来のメタル層から構成することが可能である。その他の導電性物質を使用することが可能である。例えば、プレート38はアルミニウム層の上に酸化チタン又は酸化チタン層を有することが可能である。アルミニウムの代わりに、プレート40及び42はシリサイド化したポリシリコン等の導電性ポリシリコン層から形成することが可能である。又、プレート38及び下側に存在するプレート40及び42によって共有される面積は充分に大きなものであり、それらが形成する2つのコンデンサは、各々、下側のプレート40及び42の対向する端部の間に形成されるコンデンサよりも著しく大きな容量を有している。
【0014】
保護コーティング34は、好適には、耐久性があり且つ耐引っ掻き性があるフルオロポリマーを有している。種々のフルオロポリマーがこの適用に対して適している。特に、デュポン社がそのブランド名テフロン(登録商標)FEPの下でフッ素化エチレンプロピレンコーティングを販売しており、それは高度に疎水性及び疎油性であり、従って、検知表面14上に皮膚油からなる指紋が維持されることを禁止する。フルオロポリマーを含有するカーボンブラック粒子であるデュポンコーティングタイプ958−203を使用して、成功裡に実験が行われた。
【0015】
保護コーティング内には導電性物質又はメタルからなる導電性粒子36が懸濁されており、それは、好適には、一般的に球状の形状をしているが、その他の形状も効果的に機能することが可能である。該導電性粒子用の適宜の物質は炭素、グラファイト、シリコン、アルミニウム、銅、銀を包含している。デュポン社コーティングタイプ958−203の分析から、カーボンブラック粒子の形態におけるカーボンは、通常、フルオロポリマーコーティング内に一様に分布させることが可能である。パーティクル即ち粒子36はドープしたシリコン単結晶等の導電性結晶を有することが可能である。その他の導電性物質を使用することが可能である。更に、導電性粒子36は、各々、薄い外側の誘電体コーティングを具備する導電性コアを具備するパーティクル(粒子)を有することが可能である。例えば、導電性粒子36は、各々が外部表面を画定する薄い酸化アルミニウム膜を有するアルミニウムの球とすることが可能である。
【0016】
保護コーティング34に対する好適な厚さは10乃至20ミクロンである。このような厚さは、その製造上の能力及びその応力分散能力のみならず、良好な画像感度及び分解能のために望ましいものである。好適には、良好な画像感度及び分解能を達成するために、保護コーティング34の厚さはアレイ10の検知要素12の間の中心間間隔の半分を超えるべきではない。
【0017】
ほぼ一様に分布されている導電性粒子36を具備する保護コーティング34は、従来のウエハ製造の最終段階において適用することが可能である。共通の基板上に形成されている複数個のセンサー装置を具備するウエハを、装置表面上のボンディングパッドをマスクし、保護コーティング上にスプレイし、該コーティングを硬化させ、ウエハをチップにスライスし、ボンディングパッドを露出させ、各チップを保護ハウジング即ち「パッケージ」内にマウントし、チップのボンディングパッドをパッケージ内の端子へワイヤボンドさせ、検知表面を露出させたままパッケージを封止することによって製造することが可能である。同様の技術は半導体装置の製造において一般的に実施されている。
【0018】
導電性粒子36は大略寸法が一様であり且つ保護コーティング34の厚さよりも著しく小さい直径(又は非球状粒子の場合最大寸法)とすべきである。例えば、15ミクロン厚さである保護コーティング34の場合には、導電性粒子36は典型的に約5ミクロンの直径を有すべきである。即ち、導電性粒子36の直径又は最大寸法は、理想的には、保護コーティング34の厚さの約3分の1とすべきである。このような粒子36の全てがほぼ同一の寸法であることは必要ではないが、より大きな粒子が保護コーティング34の厚さの3分の1を超えることのない直径又は最大寸法を有する場合に最善の結果が達成される。粒子36の90%を超えるものが、それらの最大寸法が保護コーティング34の厚さの4分の1乃至3分の1であるような寸法を有している場合に最善の結果が達成されるものと思われる。
【0019】
次に、図4を参照して、懸濁されている導電性粒子36の電気的効果について説明する。図4は複数個のコンデンサが直列のストリングの形態に配列されている簡単化した等価回路を示しており、多数のこのようなストリングがピクセル当たり並列して配列されている。プレート38に対応するピクセルに対して各々3個のコンデンサからなる3個のストリングが示されているが、通常、このようなストリングが多数存在しており、且つ各ピクセル位置においてストリング当たり3個を超えるか又は3個未満のコンデンサが存在する場合がある。コンデンサストリングは上側コンデンサプレート38(図3に示してある)から検知表面14(図2に示してある)へ延在している。図4におけるコンデンサは図2及び3に示した導電性粒子36によって形成されている。電気的な観点からは、上側プレート38、その上方に配設されている導電性粒子36、検知表面14が検知コンデンサCsを形成している。導電性粒子36は検知表面14をそれらの間の実際の分離距離よりも上側プレート38に対して一層近く見えるものとさせる電気的効果を有している。コンデンサCsの容量は各ピクセルの上側プレート38直上の検知表面14へ適用される指紋を担持する皮膚18の特性と共に変化する。特定の検知要素12上方の検知表面14に谷22が存在する場合よりも山20が存在する場合に容量は一層大きい。
【0020】
図5を参照して、本発明検知要素12のアクティブ回路の実現例について説明する。1個のピクセルに専用の回路は入力ノード52、出力ノード54、それらの間の回路要素を包含している。入力回路56は入力ノード52を選択的に基準電圧供給源Vrヘ接続させる。出力ノード54は、周期的にピクセルから出力信号を検知する出力回路58へ接続されている。
【0021】
ノード54におけるピクセルの出力は反転増幅器即ち電荷積分器Iによって発生され、それは以下に説明するように異なるフィードバック構成を具備する米国特許第6,114,862号の反転用増幅器に類似している。電荷積分器Iはその負(−)入力に表われる電荷を積分し且つ対応する増幅されたアナログ出力を発生する。直列接続されているコンデンサC1及びC2が電荷積分器の負(−)入力に対応するノード60をピクセルの入力ノード52と相互接続している。電荷積分器の正(+)入力が接地等の電圧供給源へ接続している。コンデンサC1及びC2の間の接続部は電気的にフローティングしたノード62を画定しており、それは、又、コンデンサCs及びCpの間の接続点を画定している。コンデンサCpはフローティングノード62と接地ノードとの間に存在する寄生容量を表わしている。図5における接地記号は指紋検知装置の実際の接地端子を表わすことが可能であり又はチップ内部の仮想接地バスを表わすことが可能である。
【0022】
図5を図3と比較すると、コンデンサC1がプレート40及びその上側に存在するプレート38の部分によって形成されており、且つコンデンサC2がプレート42とその上側に存在するプレート38の部分とによって形成されている。コンデンサCsはピクセルの検知用コンデンサであり、それは上側プレート38と検知表面14(図2に示されている)の間に形成されている。コンデンサCsの容量は、検知動作期間中に検知表面14へ適用されるユーザの指の皮膚の山及び谷の存在によって変化する。検知動作直前に、リセットスイッチ64(図5に示してある)が開かれて、検知動作期間中に正確な出力信号を発生させるために電荷積分器Iを準備させる。リセットスイッチ64は例えばNMOSトランジスタ等の従来のトランジスタとすることが可能であり、且つ電荷積分器の入力ノード60及び出力ノード54を相互接続させる。
【0023】
再度図5を参照すると、フィードバックコンデンサCfbが該回路内に包含されており且つ電荷積分器の出力ノード54をその入力ノード60と結合させている。装置の設計者は、電荷積分器Iの利得を所定のレベルに調節するためにフィードバックコンデンサCfbの容量値を選択することが可能である。コンデンサCfbは任意の適宜の態様で形成することが可能であり、且つ、例えば、2つの異なるレベルにあるメタルプレート、又は導電性ポリシリコン層の上方に配設したメタルプレート、又は基板24のエピタキシャル層26内の高度にドープした表面領域の上方に配設した導電性ポリシリコン層を有することが可能である。どのような形態においても、コンデンサCfbは厳しいトリランス内に維持された所定の値を有するべきである。
【0024】
更に、コンデンサCinが電荷積分器の入力ノード60と接地との間に接続されており、且つコンデンサCoutが電荷積分器の出力ノード54と接地との間に接続されている。これら2つの付加的なコンデンサは寄生容量を表わしているが、それらが該回路内に存在することは電荷積分器Iの利得に影響を与えるものではない。電荷積分器Iの利得は可変コンデンサCsのみならず固定値コンデンサC1,C2,Cfb,Cpの関数である。
【0025】
図5のピクセルは2つのステージを有しているものと考えることが可能であり、即ちコンデンサCs,C1,C2,Cpからなる容量性検知ステージと、電荷積分器I、フィードバックコンデンサCfb、リセットトランジスタスイッチ64、寄生コンデンサCin,Coutからなる増幅器ステージである。基準電圧供給源Vr、入力回路56、出力回路58は指紋センサーアレイの種々のピクセルによって共用される。
【0026】
動作について説明すると、ピクセルが周期的に検査され即ち順番に「読取られ」、このような多数のピクセルからなるアレイ全体における各ピクセルを個別的に検査する。アレイ10は、行デコーダー及び列デコーダーを使用してランダムアクセスメモリチップがアドレスされるのと同様の態様でアドレスすることが可能である。アドレスデコーダー回路(不図示)は所定のシーケンスで一度に1個検査するために個別的なピクセルを選択することが可能である。基準電圧供給Vrによって発生される入力パルス信号ΔVがコンデンサC1ヘ印加される場合にアドレッシングシーケンスにおいてそのピクセルの順番となる。パルスΔVは直列接続されているコンデンサC1及びC2を介してノード60へ伝播し、そこで電荷積分器Iへ入力される電荷における過渡的増加として表われる。電荷積分器のノード54における出力信号は基準電圧入力パルスΔVと電荷積分器Iの利得との積である。ピクセルの出力がアレイ検査シーケンス期間中における出力回路58によって検知される場合に、出力回路58はノード54に表われるアナログ出力のデジタル化した値を形成する。理解されるように、システムプロセッサ又はコンピュータによる処理のためにチップ外部へ出力するためにアナログピクセル出力をデジタル信号へ変換するためのアナログ・デジタル変換器(不図示)が出力回路58に設けられている。
【0027】
該検知アレイの各個別的なピクセルは、典型的に、約50ミクロン×50ミクロンの面積を占有する。典型的な指紋センサーにおいては、表面14が一部である全体的な検知表面は矩形状であり且つ12.8mm×18.0mmの寸法を有している。従って、典型的な指紋センサーにおいては90,000個を超える数のピクセルが存在することが可能であり、そのことは非常に高い分解能のデジタル化した指紋画像を得ることを可能とする。個別的なピクセルをアドレスすることが可能であり且つその出力は1マイクロ秒未満で読取ることが可能であるので、指紋画像全体は1秒の10分の1未満でキャプチャ即ち捕獲することが可能である。ピクセル出力のデジタル化した値の各々はメモリ内に格納することが可能であり又はメモリ内の前に格納した指紋データと比較することが可能である。検知したか又は前に格納した指紋のグレイスケール画像を、視覚的検査のために所望する場合にはディスプレイスクリーンへ出力させることが可能である。
【0028】
上述した保護コーティング34は種々の形態の検知要素及び検知回路と共に使用することが可能である。薄いポリマーコーティング内に導電性粒子を設けることは上述したように容量性指紋センサーにおいて特に有用である。上述したことから、当業者は本発明の基本的概念のその他の適用例をもくろむことが可能である。
【0029】
以上、本発明の具体的実施の態様について詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ制限されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱することなしに種々の変形が可能であることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 装置内のピクセル位置における容量性検知のレイアウトを模式的に例示した指紋センサー装置の部分的概略平面図。
【図2】 図1の2−2線に沿って取った図1の装置の概略断面図。
【図3】 検知要素内のコンデンサプレートの1つの可能な配置を示した図2の一部の拡大概略図。
【図4】 検知表面と装置の1つのピクセルの検知プレートとを相互接続する直列コンデンサからなる並列ストリングの等価回路を示した概略図。
【図5】 本発明に基づくピクセル及び検知回路の1実施例を示した概略回路図。
【符号の説明】
10 アレイ
12 検知要素
14 検知表面
16 ユーザの指
18 皮膚
20 山
22 谷
24 半導体基板
26 エピタキシャル層
30 複合誘電体本体
32 上表面
40 第一下側コンデンサプレート
42 第二下側コンデンサプレート
44 薄い誘電体層
46 ギャップ
48,50 導体
Claims (20)
- センサー装置において、
半導体基板、
前記基板上に配設されており且つ平坦な上表面を有している誘電体本体、
前記誘電体本体内にその上表面に近接して形成されている検知要素からなるアレイ、
前記検知要素にわたって前記誘電体本体の前記上表面上に配設されている第一保護コーティング、
前記誘電体本体と前記第一保護コーティングとの間に介在している第二保護コーティング、
を有しており、前記第一保護コーティングが前記装置の検知表面を画定する平坦な上表面を有しており、前記第一保護コーティングがその中に懸濁されている導電性粒子を有しており、前記導電性粒子は前記検知表面とその下側の各検知要素との間に多数のコンデンサを画定するために前記第一保護コーティング内に分布されており、一方前記第二保護コーディング内には存在しない、ことを特徴とするセンサー装置。 - 請求項1において、各検知要素が前記誘電体本体の前記上表面に配設されているコンデンサプレートを具備している容量性検知要素であることを特徴とするセンサー装置。
- 請求項1において、前記第一保護コーティングがフルオロポリマーを有していることを特徴とするセンサー装置。
- 請求項3において、前記第一保護コーティングが10乃至20ミクロンの厚さであることを特徴とするセンサー装置。
- 請求項3において、前記導電性粒子が炭素、グラファイト、珪素、アルミニウム、銅、銀からなるグループから選択した導電性物質を有していることを特徴とするセンサー装置。
- 指紋センサー装置において、
各々が可変コンデンサの一方のプレートを画定するコンデンサプレートを有している容量性検知要素からなるアレイ、
前記コンデンサプレートにわたって配設されておりユーザの指の指紋を担持する皮膚によって接触するための上部検知表面を具備している第一保護コーティング、
前記第一保護コーディングと前記検知要素との間に介在している第二保護コーディング、
を有しており、
前記第一保護コーティングがその中に懸濁されている導電性粒子を具備しているポリマー物質を有しており、前記第一保護コーティングは一様な厚さを有しており、前記導電性粒子の大部分は前記第一保護コーティングの厚さの半分未満の最大寸法を有しており、
前記導電性粒子は前記上部検知表面とその下側の各コンデンサプレートとの間に多数のコンデンサを画定するために前記第一保護コーティング内に充分な密度で分布されており、一方前記第二保護コーティング内には存在していない、
ことを特徴とする指紋センサー装置。 - 請求項6において、前記導電性粒子の大部分は前記第一保護コーティングの4分の1乃至3分の1の厚さである最大寸法を有していることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項7において、前記第一保護コーティングの厚さは10乃至20ミクロンであることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項6において、前記ポリマー物質がフルオロポリマーを有していることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項6において、前記ポリマー物質がフッ素化エチレンプロピレンを有していることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項6において、前記導電性粒子が大略球状の形状をしていることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項6において、前記導電性粒子が炭素、グラファイト、珪素、アルミニウム、銅、銀からなるグループから選択した導電性物質を有していることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項6において、前記第二保護コーティングは2ミクロン未満の厚さであることを特徴とする指紋センサー装置。
- ユーザの指の指紋を担持する皮膚を検知し且つそれから指紋の画像を作成することが可能なデジタル化信号を発生する指紋センサー装置において、
半導体基板、
前記基板の上方の位置に形成されており所定の中心間距離だけ一様に離隔されている複数個のピクセル、
前記基板上に配設されており且つ上表面を有しており且つその中にコンデンサプレートが埋め込まれており、前記コンデンサプレートは前記上表面に存在する上側コンデンサプレートを包含しており、各上側コンデンサプレートはピクセル位置に対応しており且つ各ピクセルに対する容量性検知ステージの一部を画定している誘電体本体、
前記基板内に形成されており各ピクセルに対する増幅器ステージを包含しており、各増幅器ステージがユーザの指が本装置に適用される場合に夫々のピクセルにおいて発生する指紋特性の関数である増幅された出力信号を発生するためのそのピクセルの容量性検知ステージへ接続されている活性回路、
前記誘電体本体の上に配設されている第一保護コーティング、
前記第一保護コーティングと前記誘電体本体との間に介在している第二保護コーティング、
を有しており、前記第一保護コーティングが一様な厚さを有しており且つその中に分布されて複数個の導電性粒子を有しており、検知動作期間中にユーザの指の指紋を担持する皮膚が適用される本装置の検知表面を画定する上表面を有しており、前記導電性粒子の大多数の寸法が前記保護コーティングの厚さの半分未満であり、前記第一保護コーティング内の前記導電性粒子の密度は充分に大きくて本装置の各ピクセル位置において前記第一保護コーティング内に多数のコンデンサを形成して前記検知表面へ付与されるユーザの皮膚によって画定される容量をその下側のピクセルの容量性検知ステージと結合させ、一方前記導電性粒子は前記第二保護コーティング内には存在していない、
ことを特徴とする指紋センサー装置。 - 請求項14において、各ピクセルの容量性検知ステージが直列接続されている第一及び第二コンデンサを包含しており、前記第一及び第二コンデンサが上側コンデンサプレート及び前記上側コンデンサプレート下側の前記誘電体本体内に埋め込まれている夫々の第一及び第二の下側プレートによって画定されており、前記上側コンデンサプレートは直列第一及び第二コンデンサの共通ノードを画定しており、前記上側コンデンサプレート及び前記導電性粒子は夫々のピクセル位置において前記検知表面へ適用されるユーザの指の指紋特性と共に容量が変化する検知コンデンサを画定していることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項14において、前記第一保護コーティングがフルオロポリマーを有しており、且つ前記第一保護コーティングの厚さが中心間ピクセル間隔の半分未満であることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項16において、前記第一保護コーティングの厚さが10乃至20ミクロンであることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項16において、前記導電性粒子の少なくとも90%が前記第一保護コーティングの厚さの4分の1乃至3分の1である最大寸法を有していることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項14において、前記第一保護コーティングがフッ素化エチレンプロピレンを有していることを特徴とする指紋センサー装置。
- 請求項14において、前記導電性粒子が薄い外側誘電体コーティングによって被覆されている導電性コアを有していることを特徴とする指紋センサー装置。
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