JP4305485B2 - 液晶装置、液晶装置の駆動方法、プロジェクタ及び電子機器 - Google Patents

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Description

本発明は、液晶装置、液晶装置の駆動方法、プロジェクタ及び電子機器に関する。
液晶テレビジョンや液晶プロジェクタに代表される液晶装置の分野では、静止画はもとより動画の画質向上が求められている。動画の画質向上のためには、液晶装置の応答速度を高くすることが不可欠である。近年では、応答速度の高いOCB(Optical Compensated Bend)モードの液晶装置が注目されている。
OCBモードの液晶装置は、初期状態と表示動作状態とで液晶分子の配向が変化するようになっている。初期状態では液晶分子の配向が2枚の基板間でスプレイ状に開くように規制される(スプレイ配向)。表示動作状態では液晶分子の配向が2枚の基板間で弓なりに曲がるように規制される(ベンド配向)。
OCBモードの液晶装置で画像表示や光変調を行う場合には、ベンド配向の状態で駆動電圧を印加する。ベンド配向の状態では、電圧を印加したときに液晶分子の配向が切り替わるまでの時間がTNモードやSTNモードの場合に比べて短くなるので、液晶層の光透過率を短時間で変化させることができ、高速応答が可能となる。
OCBモードの液晶装置では、液晶分子の配向をスプレイ配向からベンド配向に変化させる際、ある閾値電圧以上の電圧を液晶層に印加する必要がある(初期転移操作)。初期転移操作が不十分な場合には、スプレイ配向からベンド配向への変化が不十分となり、表示不良が生じたり応答速度が低くなったりする。これに対して、初期転移を円滑にするため、隣接する画素電極の間に配線を設け、この配線と画素電極との間で強い横電界を発生させることでベンド転移を促進し、ベンド転移を高速化する技術が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。
特開2002−350902号公報
しかしながら、特許文献1に記載の手法では、駆動用の配線とは別に配線を設ける必要があり、画素電極間を広くする必要があるため、開口率を十分に確保できないという問題がある。
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、ベンド転移を高速に行うことができ、開口率を十分に確保することができる液晶装置、液晶装置の駆動方法、プロジェクタ及び電子機器を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明に係る液晶装置は、対向配置された第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とで挟持された液晶層とを備え、前記液晶層の液晶分子の配向状態をスプレイ配向からベンド配向へと転移させて光変調を行う液晶装置であって、前記第1基板に設けられた画素電極と、前記第2基板に設けられ、前記画素電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な第1対向電極と、前記第2基板に設けられ、少なくとも前記第1対向電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な第2対向電極とを具備することを特徴とする。
本発明によれば、画素電極が設けられた第1基板に対向する第2基板に、画素電極との間で液晶層に電界を印加可能な第1対向電極と、第2基板に設けられ少なくとも第1対向電極との間で液晶層に電界を印加可能な第2対向電極とを具備するので、画素電極間に別途配線を設けなくても、第2基板側の第1対向電極と第2対向電極との間で液晶層に電界を印加することができ、この電界によってベンド転移を促進することができる。これにより、ベンド転移を高速に行うことができ、開口率を十分に確保することができる。なお、第2対向電極は、画素電極との間に電界を印加可能な構成にしても良い。
上記液晶装置は、前記第1対向電極が、平面視で前記画素電極の設けられた領域を含む領域に設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、第1対向電極が平面視で画素電極の設けられた領域を含む領域に設けられているので、第1対向電極と画素電極との間で電界を印加したときに液晶層に十分に電界を印加することができる。
上記液晶装置は、前記第2対向電極が、平面視で前記画素電極の周辺領域に重なる領域に設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、第2対向電極が平面視で画素電極の周辺領域内の領域に設けられているので、画像の表示に与える影響を極力抑えることができる。ここで、画素電極の周辺領域については、画素電極の外側の領域であって、画素電極の輪郭に沿った領域をいうものとする。例えば画素電極が複数設けられている場合には、画素電極の間の領域(画素電極間領域)などが挙げられる。
上記液晶装置は、前記第2対向電極が、平面視で前記画素電極の中央部を含む領域に設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、第2対向電極が平面視で画素電極の中央部を含む領域に設けられているので、光変調に与える影響が大きい画素電極中央部を確実にベンド転移させることができる。これにより、光変調の性能を向上させることができる。
上記液晶装置は、前記第1対向電極と前記第2対向電極とが同一の層に設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、第1対向電極と第2対向電極とが同一の層に設けられているので、第1対向電極と第2対向電極とを一の工程で形成することができる。
上記液晶装置は、前記第1対向電極と前記第2対向電極とが異なる層に設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、第1対向電極と第2対向電極とが異なる層に設けられているので、第1対向電極及び第2対向電極のそれぞれを所望の平面領域に形成することができる。これにより、対向電極の設計の幅が広がることになる。また、第1対向電極及び第2対向電極を大面積に形成することもできるため、第1対向電極及び第2対向電極を低抵抗にすることができ、電位のムラを抑えることもできる。
本発明に係る液晶装置の駆動方法は、対向配置された第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とで挟持された液晶層とを備え、前記液晶層の液晶分子の配向状態をスプレイ配向からベンド配向へと転移させて光変調を行う液晶装置の駆動方法であって、前記液晶装置が、前記第1基板に設けられた画素電極と、前記第2基板に設けられ、前記画素電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な第1対向電極と、前記第2基板に設けられ、少なくとも前記第1対向電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な第2対向電極とを具備し、前記液晶層の液晶分子の配向状態をスプレイ配向からベンド配向へと転移させるベンド転移時に、前記第1対向電極と前記第2対向電極との間で前記液晶層に電界を印加することを特徴とする。
本発明によれば、第1基板に設けられた画素電極と、第2基板に設けられ画素電極との間で液晶層に電界を印加可能な第1対向電極と、第2基板に設けられ少なくとも第1対向電極との間で液晶層に電界を印加可能な第2対向電極とを具備するOCBモードの液晶装置を、液晶層の液晶分子の配向状態をスプレイ配向からベンド配向へと転移させるベンド転移時に、第1対向電極と第2対向電極との間で液晶層に電界を印加するように駆動するので、液晶層のうち電界が印加された部分の液晶分子をベンド配向に転移させることができ、当該液晶分子を中心にベンド転移が伝播することになる。これにより、ベンド転移を高速に行うことができる。
本発明に係る液晶装置の駆動方法は、対向配置された第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とで挟持された液晶層とを備え、前記液晶層の液晶分子の配向状態をスプレイ配向からベンド配向へと転移させて光変調を行う液晶装置の駆動方法であって、前記液晶装置が、前記第1基板に設けられた画素電極と、前記第2基板に設けられ、前記画素電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な第1対向電極と、前記第2基板に設けられ、前記画素電極及び前記第1対向電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な第2対向電極とを具備し、前記液晶層の液晶分子の配向状態がベンド配向になっている時に、前記画素電極と前記第2対向電極との間で前記液晶層に電界を印加することを特徴とする。
いわゆるOCBモードの液晶装置において、液晶分子の配向をベンド配向にした状態で駆動する際に、駆動電圧の影響などによって液晶分子の配向がベンド配向からスプレイ配向に戻る(逆転移)ことがある。本発明によれば、第1基板に設けられた画素電極と、第2基板に設けられ画素電極との間で液晶層に電界を印加可能な第1対向電極と、第2基板に設けられ画素電極及び第1対向電極との間で液晶層に電界を印加可能な第2対向電極とを具備するOCBモードの液晶装置を、液晶層の液晶分子の配向状態がベンド配向になっている時に、画素電極と第2対向電極との間で液晶層に電界を印加するように駆動するので、液晶層の液晶分子の配向状態がベンド配向になっている時であっても液晶分子のベンド配向を強めることができる。これにより、逆転移を防ぐことができる。
本発明に係るプロジェクタは、上記の液晶装置を搭載したことを特徴とする。
本発明によれば、ベンド転移を高速に行うことができ、開口率を十分に確保することができる液晶装置を搭載したので、表示特性が高く、応答速度の高いプロジェクタを得ることができる。
本発明に係る電子機器は、上記の液晶装置を搭載したことを特徴とする。
本発明によれば、ベンド転移を高速に行うことができ、開口率を十分に確保することができる液晶装置を搭載したので、表示特性が高く、応答速度の高い表示部を有する電子機器を得ることができる。
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下の説明に用いる各図では、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を適宜変更している。
[第1実施形態]
本発明の第1実施形態を説明する。図1は本実施形態における液晶装置を示す平面図である。本実施形態では、TFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)を画素スイッチング素子として用いたTFT方式アクティブマトリクス型、OCBモードの液晶装置を例に挙げて説明する。
図1に示すように、液晶装置1は、TFTアレイ基板2及び対向基板3と、当該TFTアレイ基板2と対向基板3とで挟持された液晶層5とを主体として構成されている。この液晶装置1は、TFTアレイ基板2と対向基板3とが両者の間に設けられたシール材4により貼り合わされ、シール材4によって囲まれた領域内に液晶層5が封入された構成になっている。TFTアレイ基板2及び対向基板3は、例えばガラスなどの透明な材料からなる透明基板である。
シール材4の内側には、遮光性材料からなる周辺見切り6が形成されている。周辺見切り6によって囲まれた領域は、外部からの光が変調される光変調領域12になっている。光変調領域12内には、光を透過可能なサブ画素13がマトリクス状に配列されている。サブ画素13の間の領域は、光が遮光される画素間領域14である。
シール材4の外側の領域には、データ線駆動回路7および外部回路実装端子8がTFTアレイ基板2の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する2辺に沿って走査線駆動回路9が形成されている。TFTアレイ基板2の残る一辺には、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路9の間を接続するための複数の配線10が設けられている。対向基板3の角部においては、TFTアレイ基板2と対向基板3との間で電気的導通をとるための基板間導通材11が配設されている。
図2は、図1におけるA−A断面に沿った構成の一部を示す図である。
同図に示すように、TFTアレイ基板2には、走査線16と、容量線17と、絶縁膜18と、TFT21と、層間絶縁膜23と、画素電極24と、配向膜25と、偏光板26とが設けられている。また、図示しないデータ線が設けられている。走査線16及び容量線17は、TFTアレイ基板2の内面(対向基板3との対向面)に形成されている。走査線16及び図示しないデータ線は、光変調領域12の外側の領域にも設けられている。光変調領域12の外側の領域に設けられたデータ線及び走査線は光変調に寄与しないダミーの配線となる。絶縁膜18は、TFTアレイ基板2の内面に当該走査線16及び容量線17を覆うように形成されている。絶縁膜18上には、TFT21が設けられている。TFT21は、半導体薄膜21a、ソース電極21b及びドレイン電極21cを主体として構成されている。半導体薄膜21aは、例えばシリコンなどからなる薄膜であり、ソース領域及びドレイン領域を有している。ソース電極21bは、半導体薄膜21aのソース領域に一部乗り上げるように形成されている。ドレイン電極21cは、半導体薄膜21aのドレイン領域に一部乗り上げるように形成されている。層間絶縁膜23は、TFT21を覆うように絶縁膜18上に設けられている。
層間絶縁膜23上には、画素電極24が形成されている。画素電極24は、例えばITO(Indium Tin Oxide)などの透明な導電材料からなり、上述のサブ画素13に平面視で一致する領域に形成されている。層間絶縁膜23の一部には、当該層間絶縁膜23を貫通しドレイン電極21cに達するコンタクトホール27が設けられている。画素電極24とドレイン電極21cとは当該コンタクトホール27を介して電気的に接続されている。画素電極24上には配向膜25が設けられている。偏光板26は、TFTアレイ基板2の外面に貼付されている。
対向基板3には、対向電極34と、配向膜35と、偏光板36とが設けられている。対向電極34は、対向基板3の内面(TFTアレイ基板2との対向面)に設けられており、第1対向電極37と、第2対向電極38とを有している。第1対向電極37は、例えばITOなどの透明な導電材料からなり、画素電極24との間で電界を印加可能に設けられている。第2対向電極38は、例えばアルミニウムやクロム、銅などの金属や、ITOなどの透明な導電材料からなり、画素電極24及び第1対向電極37との間で電界を印加可能に設けられている。第1対向電極37と第2対向電極38とは同一層に形成されている。配向膜35は、対向電極34を覆うように対向基板3の内面に形成されている。配向膜35の配向規制方向(ラビング方向)と、上述したTFTアレイ基板2側の配向膜25の配向規制方向とは平行になっている。偏光板36は、対向基板3の外面に貼付されている。
図3は、対向基板3に設けられた対向電極34のパターンを示す平面図である。
同図に示すように、第1対向電極37は、対向基板3の内面のうち平面視で画素電極24を含む領域、すなわち、サブ画素13を含む領域に設けられている。第1対向電極37は、サブ画素13に一致する領域には主部分37aが形成されており、画素間領域14には、主部分37a同士を接続する接続部分37bが形成されている。このように第1対向電極37は、全体で同一電位になるように構成されている。
第2対向電極38は、サブ画素13を囲むように画素電極24の周辺領域に設けられている。画素電極24の周辺領域については、画素電極24の外側の領域であって当該画素電極24の輪郭に沿った領域をいうものとする。画素電極24の周辺領域として、例えば画素間領域14が挙げられる。ここでは、第2対向電極38は、画素電極24の周辺領域である画素間領域14に設けられている。画素間領域14のうち第1対向電極37の接続部分37bが設けられた領域に接触しないように、当該領域を空けるように形成されている。このように第2対向電極38についても、全体で同一電位になるように構成されている。
図4は、OCBモードの液晶装置における液晶の配向状態の説明図である。OCBモードの液晶装置では、その初期状態(非動作時)において、図4(a)に示すように液晶分子51の配向がスプレイ状に開いた状態(スプレイ配向)になっており、表示動作時には、図4(b)に示すように液晶分子51の配向が弓なりに曲がった状態(ベンド配向)になっている。
次に、上記のように構成された液晶装置1の駆動方法を説明する。図5及び図6は、液晶装置1の駆動のタイミングを示すタイミングチャートである。
図5に示すように、初期状態から表示動作状態へと移行するベンド転移期間には、第1対向電極37の電位を7Vにし、第2対向電極38の電位を12Vにする。画素電極24には、7Vの電位を中心として12V(プラス極性)の電位と2V(マイナス極性)の電位とを交互に形成する。この結果、第1対向電極37と第2対向電極38との間に5Vの電位差が生じ、液晶層5内に横電界が発生する。この横電界によって、液晶層5内の液晶分子の配向状態が初期状態の均一なスプレイ配向状態から乱される。また、第1対向電極37と画素電極との間に5Vの電位差が生じ、電界が発生する。この電界によって、液晶層5内にベンド核が形成される。このベンド核を中心として、ベンド配向がサブ画素13内及び画素間領域14内に拡散していく。液晶層5内の液晶分子がベンド配向になったら、画素電極に画像信号を供給して表示動作を行う。
液晶装置1の駆動は、図6に示すように、画素電極24に画素信号を書き込むことによって行う。画素信号は、時間毎に区切られたフレーム毎に供給される。1フレームは1秒の60分の1の期間である。各フレームでは、光変調領域12に形成された走査線16に画素信号を供給する書き込み期間と、光変調領域12の外側に形成されたダミーの走査線16に画素信号を供給する帰線期間とが設けられている。ダミーの走査線16は光変調領域12の外側に設けられているので、帰線期間は1フレームの最後になる。この帰線期間には、光変調領域12の走査線16には画素信号の供給が行われないため、画素電極24には書き込みされないようになっている。データ線についても同様である。
本実施形態では、このような表示動作時において第1対向電極37と第2対向電極38との間に電位差を形成することも可能である。この電位差は液晶装置1の表示動作中であればどこで形成しても良いが、本実施形態では例えば上記の帰線期間を利用してこの電位差を形成するものとして説明する。
例えばNフレーム目においては、第1対向電極37の電位を7Vとし、第2対向電極38の電位を12V(プラス極性)とする。次のフレームである(N+1)フレーム目には、第1対向電極37の電位を7Vとし、第2対向電極38の電位を2V(マイナス極性)とする。このようにフレームの最後に第1対向電極37と第2対向電極38との間で極性を反転させながら電位差を形成することにより、1フレーム毎に画素電極24と第2対向電極38との間に強電界が発生する。この強電界によって、液晶分子の配向は1フレーム毎にベンド配向に矯正されることになる。
このように、本実施形態によれば、画素電極24が設けられたTFTアレイ基板2に対向する対向基板3に、画素電極24との間で液晶層5に電界を印加可能な第1対向電極37と、この第1対向電極37との間で液晶層5に横電界を印加可能に設けられた第2対向電極38とを具備するので、画素電極24の間の領域に別途配線を設けなくても、対向基板3側の第1対向電極37と第2対向電極38との間で液晶層5に横電界を印加することができる。これにより、ベンド転移を高速に行うことができ、開口率を十分に確保することができる。
また、本実施形態のようにいわゆるOCBモードの液晶装置において、液晶分子の配向をベンド配向にした状態で駆動する際に、駆動電圧の影響などによって液晶分子の配向がベンド配向からスプレイ配向に戻る(逆転移)ことがある。本実施形態では、液晶装置1を、液晶層5の液晶分子の配向状態がベンド配向になっている表示動作時に、画素電極24と第2対向電極38との間で液晶層5に強電界を印加するように駆動するので、表示動作時であっても液晶分子のベンド配向を強めることができる。これにより、逆転移を防ぐことができる。
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態を説明する。第1実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第1実施形態と同一の構成要素については、その説明を省略する。本実施形態では、対向電極の構成が第1実施形態とは異なっているので、かかる点を中心に説明する。
図7は、本実施形態に係る液晶装置101の対向基板の構成を示す平面図であり、第1実施形態における図3に対応している。
同図に示すように、本実施形態における液晶装置101の対向基板103は、第1対向電極137が複数のサブ画素113に跨るように形成されている点で、第1実施形態とは異なっている。具体的には、第1対向電極137の主部分137aが行方向に配列された複数のサブ画素113を含むように形成されており、このような主部分137aが列方向にストライプ状に形成されている。主部分137aの幅(列方向の寸法)はサブ画素113の列方向の寸法とほぼ等しくなっている。各主部分137aの一端には、主部分137a同士を接続する接続部137bが設けられている。第2対向電極138は、第1対向電極137の主部分137aの間の部分、すなわち、画素領域114のうち行方向に延在する部分に延在するように形成されている。なお、TFTアレイ基板側のサブ画素113には、画素電極124が設けられている。
このように、本実施形態によれば、第1対向電極が平面視で複数のサブ画素113を覆うように設けられているので、サブ画素113に設けられた画素電極124と第1対向電極137との間で電界を印加したときに液晶層に十分に電界を印加することができる。
[第3実施形態]
次に、本発明の第3実施形態を説明する。第1実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第1実施形態と同一の構成要素については、その説明を省略する。本実施形態では、対向電極の構成が第1実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
図8は、本実施形態に係る液晶装置201のうち1つのサブ画素213の断面構成を示す図であり、第1実施形態における図2に対応している。
同図に示すように、本実施形態における液晶装置201は、対向電極234のうち、第2対向電極238が画素電極224の中央部に平面視で重なる位置に設けられている点で、第1実施形態とは異なっている。他の構成は、第1実施形態と同様である。
このように、本実施形態によれば、第2対向電極238が平面視で画素電極の中央部を含む領域に設けられているので、光変調に与える影響が大きい画素電極224の中央部を確実にベンド転移させることができる。これにより、光変調の性能を向上させることができる。
[第4実施形態]
次に、本発明の第4実施形態を説明する。第1実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第1実施形態と同一の構成要素については、その説明を省略する。本実施形態では、対向電極の構成が第1実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
図9は、本実施形態に係る液晶装置301の断面構成を示す図であり、第1実施形態における図2に対応している。
同図に示すように、本実施形態における液晶装置301は、対向電極334のうち第1対向電極337が第2対向電極338の上層に形成されている点で、第1実施形態とは異なっている。図9では第1対向電極337が第2対向電極338の図中下側に示されているが、これについては、対向基板303の表面303aが図中下側に向いているため、対向基板303においては図中下側が上層になる。
具体的構成としては、対向基板303の表面303a上に第2対向電極338が形成されており、絶縁層333を介して第1対向電極337が形成されている。第1対向電極337はサブ画素313と画素間領域314の一部に設けられており、第2対向電極338は、画素間領域314に設けられている。第1対向電極337と第2対向電極338とは、平面視で一部が重なるように配置されている。
このように、本実施形態によれば、第1対向電極337が第2対向電極338の上層に形成されており、当該第1対向電極337はサブ画素313をはみ出して第2対向電極338に一部平面視で重なる領域にまで形成されているので、サブ画素313を確実にカバーすることができる。しかも、第1対向電極337と第2対向電極338とを異なる層に設けることにより、主部分や接続部分といった複雑な構成が不要になる。加えて、これらの電極を広い面積に形成することもできるため、第1対向電極337及び第2対向電極338全体で低抵抗にすることができ、第1対向電極337内及び第2対向電極338内における電位のムラを抑えることができる。
[第5実施形態]
次に、本発明の第5実施形態を説明する。第1実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第1実施形態と同一の構成要素については、その説明を省略する。本実施形態では、対向電極の構成が第1実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
図10は、本実施形態に係る液晶装置401の断面構成を示す図であり、第1実施形態における図2に対応している。
同図に示すように、本実施形態における液晶装置401は、対向電極434のうち第1対向電極437が第2対向電極438の下層に形成されている点で、第1実施形態とは異なっている。図10では第1対向電極437が第2対向電極438の上側に示されているが、これについては、第4実施形態と同様、対向基板403の表面403aが図中下向きになっているため、対向基板403については図中上側が下層になる。
具体的構成としては、対向基板403の表面403a上に第1対向電極437が形成されており、絶縁層433を介して第2対向電極438が形成されている。第1対向電極437は、対向基板403の表面403aに全面に設けられている。第2対向電極438は、画素間領域414に設けられている。
このように、本実施形態によれば、第1対向電極437が対向基板403の表面403aの全面に形成されているので、サブ画素413を確実にカバーすることができる。しかも、第1対向電極437と第2対向電極438とを異なる層に設けることにより、主部分や接続部分といった複雑な構成が不要になる。加えて、これらの電極を広い面積に形成することもできるため、第1対向電極437及び第2対向電極438全体で低抵抗にすることができ、第1対向電極437内及び第2対向電極438内における電位のムラを抑えることができる。
[第6実施形態]
次に、上記実施形態の液晶装置を光変調手段として備えた投射型表示装置(プロジェクタ)の構成について、図11を参照して説明する。図11は、上記実施形態の液晶装置を光変調装置として用いた投射型表示装置の要部を示す概略構成図である。図11において、510は光源、513、514はダイクロイックミラー、515、516、517は反射ミラー、518は入射レンズ、519はリレーレンズ、520は出射レンズ、522、523、524は液晶光変調装置、525はクロスダイクロイックプリズム、526は投写レンズを示す。
光源510はメタルハライド等のランプ511とランプの光を反射するリフレクタ512とからなる。青色光、緑色光反射のダイクロイックミラー513は、光源510からの光束のうちの赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー517で反射されて、上述の本発明の一例たる液晶装置を備えた赤色光用液晶光変調装置522に入射される。
一方、ダイクロイックミラー513で反射された色光のうち緑色光は緑色光反射のダイクロイックミラー514によって反射され、上述の本発明の一例たる液晶装置を備えた緑色光用液晶光変調装置523に入射される。なお、青色光は第2のダイクロイックミラー514も透過する。青色光に対しては、光路長が緑色光、赤色光と異なるのを補償するために、入射レンズ518、リレーレンズ519、出射レンズ520を含むリレーレンズ系からなる導光手段521が設けられ、これを介して青色光が上述の本発明の一例たる液晶装置を備えた青色光用液晶光変調装置524に入射される。
各光変調装置により変調された3つの色光はクロスダイクロイックプリズム525に入射する。このプリズムは4つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投写光学系である投写レンズ526によってスクリーン527上に投写され、画像が拡大されて表示される。
本実施形態によれば、ベンド転移を高速に行うことができ、開口率を十分に確保することができ、駆動時の液晶分子の配向の逆転移を防ぐことができる液晶装置1〜401を搭載したので、表示特性が高く、応答速度の高い表示が可能なプロジェクタ501を得ることができる。
[第7実施形態]
次に、本発明の第7実施形態を説明する。第1実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第1実施形態と同一の構成要素については、その説明を省略する。本実施形態では、突起部の構成が第1実施形態と異なっているため、この点を中心に説明する。
図12は、本実施形態に係る液晶装置601の断面構成を示す図であり、第1実施形態における図3に対応している。
同図に示すように、本実施形態における液晶装置601は、ディスプレイなどの表示部に用いられる液晶装置であり、対向基板603側にカラーフィルタ層630が設けられている点で、第1実施形態とは異なっている。カラーフィルタ630の間には遮光部631が設けられている。他の構成、例えば第1対向電極及び第2対向電極の構成等については、第1実施形態と同様である。このように、カラーフィルタ層630が設けられた表示用の液晶装置601においても本発明の適用が可能である。なお、第2実施形態〜第4実施形態における第1対向電極及び第2対向電極の構成を本実施形態に採用しても勿論構わない。
[第8実施形態]
次に、本発明の第8実施形態を説明する。本実施形態では携帯電話を例に挙げて説明する。
図13は、携帯電話700の全体構成を示す斜視図である。
携帯電話700は、筺体701、複数の操作ボタンが設けられた操作部702、画像や動画、文字等を表示する表示部703を主体として構成されている。表示部703には、上記第7実施形態に係る液晶装置601が搭載される。
このように、本実施形態では、ベンド転移を高速に行うことができ、開口率を十分に確保することができ、駆動時の液晶分子の配向の逆転移を防ぐことができる液晶装置601を搭載したので、表示特性が高く、応答速度の高い表示部を有する電子機器を得ることができる。
上記各実施の形態の液晶表示装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、明るく、高コントラストの表示が可能になっている。
本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更を加えることができる。
画素間領域に設けられる第2対向電極をアルミニウムや銅などの金属からなるようにし、遮光部を兼ねる構成としても構わない。
本発明の第1実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図。 本実施形態に係る液晶装置の構成を示す断面図。 本実施形態に係る液晶装置の一部の構成を示す平面図。 OCBモードの液晶装置の液晶分子の配向を示す断面図。 本実施形態に係る液晶装置の駆動のタイミングを示すタイミングチャート。 同、タイミングチャート。 本発明の第2実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図。 本発明の第3実施形態に係る液晶装置の構成を示す断面図。 本発明の第4実施形態に係る液晶装置の構成を示す断面図。 本発明の第5実施形態に係る液晶装置の構成を示す断面図。 本発明の第6実施形態に係るプロジェクタの構成を示す図。 本発明の第7実施形態に係る液晶装置の構成を示す断面図。 本発明の第8実施形態に係る携帯電話の構成を示す斜視図。
符号の説明
1、101、201、301、401、601…液晶装置 2…TFTアレイ基板 3…対向基板 5…液晶層 12…光変調領域 13…サブ画素 14…画素間領域 24…画素電極 34…対向電極 37…第1対向電極 37a…主部分 37b…接続部分38…第2対向電極 51…液晶分子 501…プロジェクタ 700…携帯電話

Claims (11)

  1. 対向配置された第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とで挟持された液晶層とを備え、前記液晶層の液晶分子の配向状態をスプレイ配向からベンド配向へと転移させて光変調を行う液晶装置であって、
    前記第1基板に設けられた複数の画素電極と、
    前記第2基板に設けられ、複数の前記画素電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な単一電位を有する第1対向電極と、
    前記第2基板に設けられ、少なくとも前記第1対向電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な単一電位を有する第2対向電極と
    を具備することを特徴とする液晶装置。
  2. 前記第1対向電極が、平面視で前記画素電極の設けられた領域を含む領域に設けられている
    ことを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
  3. 前記第2対向電極が、平面視で前記画素電極の周辺領域に重なる領域に設けられている
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の液晶装置。
  4. 前記第2対向電極が、平面視で前記画素電極の中央部を含む領域に設けられている
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の液晶装置。
  5. 前記第1対向電極と前記第2対向電極とが同一の層に設けられている
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載の液晶装置。
  6. 前記第1対向電極と前記第2対向電極とが異なる層に設けられている
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のうちいずれか一項に記載の液晶装置。
  7. 前記第1対向電極の一辺は、前記画素電極の一辺の延長線に沿って連続して設けられ、
    前記第2対向電極は、前記第1対向電極の前記一辺に沿って設けられている
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項のうちいずれか一項に記載の液晶装置。
  8. 対向配置された第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とで挟持された液晶層とを備え、前記液晶層の液晶分子の配向状態をスプレイ配向からベンド配向へと転移させて光変調を行う液晶装置の駆動方法であって、
    前記液晶装置が、
    前記第1基板に設けられた複数の画素電極と、
    前記第2基板に設けられ、複数の前記画素電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な単一電位を有する第1対向電極と、
    前記第2基板に設けられ、少なくとも前記第1対向電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な単一電位を有する第2対向電極と
    を具備し、
    前記液晶層の液晶分子の配向状態をスプレイ配向からベンド配向へと転移させるベンド転移時に、前記第1対向電極と前記第2対向電極との間で前記液晶層に電界を印加する
    ことを特徴とする液晶装置の駆動方法。
  9. 対向配置された第1基板及び第2基板と、前記第1基板と前記第2基板とで挟持された液晶層とを備え、前記液晶層の液晶分子の配向状態をスプレイ配向からベンド配向へと転移させて光変調を行う液晶装置の駆動方法であって、
    前記液晶装置が、
    前記第1基板に設けられた複数の画素電極と、
    前記第2基板に設けられ、複数の前記画素電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な単一電位を有する第1対向電極と、
    前記第2基板に設けられ、前記画素電極及び前記第1対向電極との間で前記液晶層に電界を印加可能な単一電位を有する第2対向電極と
    を具備し、
    前記液晶層の液晶分子の配向状態がベンド配向になっている時に、前記画素電極と前記第2対向電極との間で前記液晶層に電界を印加する
    ことを特徴とする液晶装置の駆動方法。
  10. 請求項1乃至請求項のうちいずれか一項に記載の液晶装置を搭載したことを特徴とするプロジェクタ。
  11. 請求項1乃至請求項のうちいずれか一項に記載の液晶装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
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