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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の画素を有し、画素単位で発光する自発光型の表示装置に関し、特にプラズマディスプレイパネル等の平板型表示装置に関している。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大型のフラットパネルディスプレイとして希ガス放電による紫外線で蛍光体を励起発光させて画像・映像表示に利用するプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと記す）の開発が加速しており、コンピューター等に代表される情報処理装置の表示機器として、あるいは大型のテレビジョン受信機や公衆表示用モニターとしての社会的要望が増大している。
【０００３】
ＰＤＰには交流駆動方式と直流駆動方式があるが、ここでは一般的な交流駆動方式のＰＤＰ（以下、交流駆動方式のＰＤＰをＡＣ−ＰＤＰと記す）の構造を図１に示した。ＡＣ−ＰＤＰにも各種の方式があるが、図１（ａ）は面放電型と呼ばれる方式の構造を１例として、その一部を立体的に描いた斜視図で示している。ＰＤＰは、ガラス製の前面基板１、背面基板２、にそれぞれ行電極、列電極が直交配置され、画素（ピクセル）となる行・列両電極の交点および両基板間にある隔壁により放電空間３を形成する構造となっている。
【０００４】
面放電型のＡＣ−ＰＤＰでは図１（ａ）に示したように、前面基板１には、前面基板ガラス１０上に放電の維持信号を入力するための維持電極１３および順次表示用の走査信号を入力するための走査電極１４がそれぞれ対をなして平行に複数形成されて行電極を構成し、これら行電極上に放電による壁電荷を形成するための誘電体層１１、さらにその上にＭｇＯからなる保護膜１２が形成されている。また、隣り合う維持電極・走査電極対間には、表示面のコントラストを高めるため、遮光層となるブラックマトリクス１５を必要に応じて形成することもある。
【０００５】
一方背面基板２には、背面ガラス基板１６上に複数の表示データ信号を入力するための列電極となるアドレス電極１９が、前面基板１の行電極を構成する維持電極１３および走査電極１４とそれぞれ交差する方向に複数形成されている。アドレス電極１９の上にやはり放電による壁電荷を形成するための下地誘電体層１７、さらにその上にアドレス電極１９と平行して隔壁１８が形成され、隔壁１８上には赤、青、緑に発光する蛍光体層２０が設けられている。
【０００６】
そして、前面基板１と背面基板２を貼りあわせて放電空間３を形成し、その中にＮｅを主体とする希ガスを封入してＰＤＰが作製される。維持電極１３および走査電極１４、アドレス電極１９に所定の信号の電圧パルスを印加することにより封入された希ガスが励起され紫外線を放出し、その紫外線により隔壁１８上に設けられた蛍光体層２０が可視光を励起発光し、情報を表示することができる。
【０００７】
また、電極材料としてはＡｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属を含む材料が使用され、各種有機材料と混合されてペーストとしてあるいは保護フィルム上に転写シートとして成形されて用いられる。誘電体や隔壁材料としては低軟化点ガラス等が用いられ、電極と同様にペーストやシートの形で供される。
【０００８】
各構成部材の製造方法としては、電極形成およびブラックマトリクス形成については、感光性材料を用いたフォトリソ法や薄膜形成法等により形成され、蛍光体層、誘電体層についてはスクリーン印刷や各種コーターを用いて塗布する方法等により形成される。電極や誘電体の形成については、使用材料をシート状に加工して貼りつける工法等も利用される。形成後は所定の温度にて焼成を行い、各種構成部材を基板に固着させて完成する。
【０００９】
図１（ｂ）は、図１（ａ）の前面基板ガラス１０に形成される行電極を構成する維持電極１３と走査電極１４のＡ−Ａ’断面における詳細構造を示す。維持電極１３および走査電極１４は、透明電極１００と透明電極１００上に形成されるバス電極となる銀導電層１０１から構成されている。バス電極の電極材料に銀を使用するのは、電気抵抗が低く、パターン形成後、基板に固着するための焼成工程において大気焼成が可能であることが大きな理由である。銅やアルミニウムも銀と同様に低い電気抵抗値を得ることは可能であるが、大気焼成を行った場合に酸化が起きて、本来の電気抵抗から抵抗値が増大してしまうので、使用されることが少ない。また、表示面のコントラストを高めるため、図１（ｃ）に示すように、銀導電層１０１の下層に黒色層１０２を設けて維持電極１３および走査電極１４を形成することもある。
【００１０】
ところで、ＰＤＰ用ガラス基板をはじめ大面積を必要とする基板用ガラス材は、一般に溶融した錫（Ｓｎ）上に溶融ガラスを流して成形するフロート法で作製されている。これは、フロート法が平面が平滑なガラス材を容易に量産できるという特長を有しているからである。
【００１１】
そして、図８に概略的に示したように、フロート法で成形された前面基板ガラス１０に黒色顔料を含有した黒色層１０２とバス電極となる銀導電層１０１を積層形成した場合、透明電極の有無にかかわらず工程中の熱処理過程で、銀導電層１０１直下の前面基板ガラス１０の表面に着色層１０５が形成されて黄色に変化することが知られている（例：特開平１０−２５５６６９号公報）。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
このような、フロートガラスが銀電極により着色あるいは発色する現象は、フロートガラス上に存在する還元性の錫（Ｓｎ）と銀イオンとの酸化還元反応により銀コロイドが生成し、波長３００ｎｍから４００ｎｍ付近に光吸収が生じることに起因すると考えられている。
【００１３】
すなわち、フロートガラスは、成形過程で水素雰囲気にさらされるため、ガラス表面に厚さ数ミクロンの還元層が生成し、この層には溶融錫（Ｓｎ）由来の錫イオン（Ｓｎ++）が存在する。ガラス基板に透明電極を介して銀（Ａｇ）のバス電極を形成する際の熱処理により、銀（Ａｇ）が銀イオン（Ａｇ+）に変化し、この銀イオン（Ａｇ+）が透明電極を拡散してガラス表面にいたり、ガラス中に含まれるアルカリ金属のイオンとの間でイオン交換が生じ、ガラス中に銀イオン（Ａｇ+）が侵入する。侵入した銀イオン（Ａｇ+）は還元層に存在する錫イオン（Ｓｎ++）によって還元され、金属銀（Ａｇ）のコロイドを生成する。この銀（Ａｇ）コロイドによって、基板ガラスは黄色く着色あるいは発色する。フロート法はＰＤＰのような大型表示装置に用いるガラス基板の製造に最も優れている方法であるが、溶融した錫（Ｓｎ）上で形成するために、ガラスへの錫（Ｓｎ）の付着を避けることができない。
【００１４】
また、ガラス基板がこのように黄色に発色あるいは着色した場合、ＰＤＰのような表示デバイスにとっては致命的な欠陥となる。なぜなら、基板ガラスの着色により発光色度が変化し、その結果画像表示の輝度の低下を引き起こし、コントラストを向上する上で障害となるからである。また、パネル全体が黄色く着色して見え、商品価値を下げるためでもある。このような銀を含む電極の使用によって生じるガラス基板の発色あるいは着色を、このガラス基板の電極形成面側を研磨し、その表面に形成された還元性の層を除くことによって抑制できることが明らかにされている（例：特開平１０−２５５６６９号公報）。これによれば、発色度合いの小さいガラス基板を作製することができるものの、ＰＤＰ用ガラス基板の製造工程に適用しようとしたとき、表面層の除去という工程を必要とすることから、その量産性向上が新たな課題となっている。
【００１５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、フロートガラスを用いるＰＤＰ等の表示装置に用いる基板ガラス上に銀を含む材料で電極を形成する場合の銀イオンによる基板ガラスの着色（黄変）を低減した表示装置提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明の表示装置は、フロート法で成形されたガラス基板と、前記ガラス基板の一方の表面上に形成された複数の層を備えた電極層とを有し、前記電極層の少なくとも１層が銀を含む導電層であり、銀コロイド生成を防止するために、銀よりもイオン化傾向の大きい元素と黒色顔料を含む層を、前記銀を含む導電層とガラス基板の間に形成している。また、本発明の表示装置は、前記銀よりイオン化傾向の大きい元素が、銅、鉄、錫、ニッケル、コバルト、クロム、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、カルシウムおよびカリウムのうちの少なくとも１つであって、前記元素を金属あるいは金属酸化物の状態で含むことを特徴とする。
【００１７】
これらの構成により、本発明の表示装置は銀を含む導電体層の直下の層に銀よりイオン化傾向の大きい元素を含む層からなる着色抑制層を設けて、製造工程における熱処理の過程で銀が銀イオンに変化し、この銀イオンが基板側に拡散していく過程で、イオン化傾向の大きい元素がイオン化され、放出された電子を銀イオンが受け取り金属銀となって拡散が中断し、基板ガラスに銀イオンが拡散することがなくなり、着色あるいは発色を抑制することができ、あわせて、黒色層を設けることでコントラストの高い高輝度なＰＤＰを実現することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
上記のように、本発明の表示装置の前面基板は、形成される電極として銀を含む導電体層の直下の層に銀よりイオン化傾向の大きい元素を含む層からなる着色抑制層を設けた構成を有している。発明の実施の形態の詳細を説明する前に、着色抑制層形成用の具体的材料について少し詳しく述べる。
【００２０】
基板ガラスが黄色く着色あるいは発色するのは、銀導電層の銀（Ａｇ）が製造工程における熱処理の過程で銀イオン（Ａｇ+）に変化し、この銀イオン（Ａｇ+）がガラス中に侵入して、フロートガラス表面の還元層に存在する錫イオン（Ｓｎ++）によって還元され、金属銀（Ａｇ）のコロイドを生成することに起因するのであるから、バス電極の銀導電層の銀（Ａｇ）を形成する際の熱処理により、銀イオン（Ａｇ+）が透明電極を拡散して基板ガラス表面にいたり、基板ガラス中に銀イオン（Ａｇ+）が侵入するのを抑えることができるのであれば、基板ガラスが黄色く着色あるいは発色することがなくなるのである。このためには、バス電極の銀導電層の銀（Ａｇ）を形成する際の熱処理により、銀イオン（Ａｇ+）が前面基板ガラス上の透明電極を拡散する前に銀イオン（Ａｇ+）をコロイドではない金属銀に還元させてやればよい。銀イオン（Ａｇ+）は銀よりもイオン化傾向の大きい元素が存在すれば金属銀に還元されるので、銀導電層と基板ガラスの間に銀よりもイオン化傾向の大きい元素を含む層を着色抑制層として設ければ、前面基板の製造工程の処理により発生する銀導電層からの銀イオンは着色抑制層に含まれる銀よりもイオン化傾向の大きい元素によりコロイド状ではない金属銀に還元され、その結果、黄色に着色することが抑えられると考えられる。
【００２１】
一般に、銀（Ａｇ）よりイオン化傾向の大きい元素として、銅（２価）、鉄（３価）、錫（２価）、ニッケル、コバルト（２価）、鉄（２価）、クロム（３価）、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、カリウム等が知られている。したがって、上記の銀よりイオン化傾向の大きい金属元素の単体、合金、金属化合物や複合化合物を含む材料で着色抑制層を形成して前面基板を作製すれば、前面基板ガラスの着色や発色を抑制できるという効果が期待できる。
【００２２】
以下に、本発明の実施の形態について図１から図７を参照して詳しく説明する。本発明の実施の形態におけるＰＤＰの構成、構造を示す図２、図４、図６は既に従来の技術において図１（ａ）を用いて説明したＡＣ−ＰＤＰの構成、構造を踏襲している。
【００２３】
（実施の形態１）
図２は本発明の実施の形態１におけるＰＤＰの電極構造の１例を概略的に示している。図２には前面基板の行電極に垂直な方向に切断した断面が図１（ａ）、（ｂ）と同様に前面基板ガラスの電極形成面側を下に向けて示されている。
【００２４】
図２において、フロート法で形成された前面基板ガラス１０に、透明電極１００、着色抑制層１０３、銀導電層１０１をこの順に積層して電極を形成している。透明電極１００はＩＴＯで、幅３００μｍ、厚み１０００Åにパターン形成している。透明電極１００に続けて電気抵抗が低い銀を含む材料でバス電極を形成する。電極形成時の熱処理工程において、バス電極となる銀導電層１０１に含まれる金属元素の銀が銀イオンに変化し、この生起した銀イオンがフロート法で形成された前面基板ガラス１０を着色するので、着色を抑えるため銀導電層１０１と透明電極１００の間に着色抑制層１０３を形成している。着色抑制層１０３を形成する材料は、先に説明したように銀よりイオン化傾向の大きい元素を用いることが重要であるが、入手が容易で安価なことが好ましい。ここでは透明電極１００のＩＴＯと相性がよく、電極形成が容易な２価の錫（Ｓｎ）の酸化物であるＳｎＯを選択して着色抑制層１０３を形成した。銀導電層１０１と着色抑制層１０３は、両者とも幅１２０μｍで厚み３μｍにパターン形成した。
【００２５】
次に、本発明の実施の形態１におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成する製造工程の手順を簡単に説明する。図３は本発明の実施の形態１におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成するための製造工程の１例を概略的に示す流れ図である。図３の右側には、実際の処理内容を理解するために、それぞれの工程における前面基板１の断面を図示している。ここでは、図２における断面図と異なり、工程における処理の状態と同じようにするため、基板ガラスの電極形成面側を上に向けて示している。図３において、第１の工程Ａ１は、フロート法で形成された前面基板ガラス１０上に透明電極１００をパターニングする工程である。ここでは透明電極形成工程の詳細を示さず、前面基板ガラス１０上に透明電極１００がパターニングされた状態のみを示している。
【００２６】
第２の工程Ａ２は、着色抑制層１０３となる２価の錫（Ｓｎ）の酸化物であるＳｎＯを含んで調合された感光性ペースト２０１を塗布、乾燥する工程である。ＳｎＯを含む感光性ペースト２０１を例えばスクリーン印刷で塗布した後、温風乾燥炉等にて例えば８０℃３０分の条件で乾燥を行う。
【００２７】
また、塗布方法はスクリーン印刷のほかにスリットコート等も可能である。また、着色抑制層を形成する方法は、上記の印刷やコーティングにより全面に塗布した感光性の層を露光・現像してパターンニングする方法のほかに、あらかじめ所定のパターンをシート状に成形して基板に貼り付ける方法も可能である。また、乾燥は温風乾燥炉のほかに赤外（ＩＲ）乾燥炉等も使用可能である。乾燥温度や乾燥時間等の処理条件も用いる方法、手段、材料により異なるが、それぞれの条件に適した条件を任意に設定することができる。
【００２８】
図３に示した流れ図における第３の工程Ａ３は、着色抑制層１０３を形成するために２価の錫（Ｓｎ）の酸化物ＳｎＯを含む感光性のペーストを塗布、乾燥した膜に、露光マスク２０２を介しての紫外線露光を行う工程である。所定の電極パターンが形成されたネガ型の露光マスク２０２をセットして、例えば超高圧水銀ランプ光源から導いた紫外線２０３を、例えば３００ｍＪ／ｃｍ2の露光エネルギーで照射することで露光する。なお、ポジ型の感光性ペーストを使用する場合は、パターン化部分が未露光になるような露光マスクを用いればよい。また、露光エネルギーも用いる感光性ペーストの特性に合わせて適宜選択すればよく、具体的に示した上記の条件に限定されるものではない。
【００２９】
第４の工程Ａ４は、着色抑制層となる露光済みのＳｎＯを含む感光性ペースト膜を、例えばアルカリ性水溶液（０．３ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液）で現像してパターン形成を行い、例えば６００℃の大気中で焼成を行って基板に固着させる工程である。
【００３０】
現像液は用いる感光性材料によって有機溶剤も使用可能であり、その濃度も適宜変化させることが可能である。また、焼成温度も感光性ペーストに応じて変化させることができ、本発明の実施の形態１で説明した条件に限定されるものではない。
【００３１】
図３における第５の工程Ａ５、第６の工程Ａ６、第７の工程Ａ７は、それぞれ先に説明した第２の工程Ａ２、第３の工程Ａ３、第４の工程Ａ４に対応しており、用いる感光性ペーストが着色抑制層１０３を形成するための２価の錫（Ｓｎ）の酸化物ＳｎＯを含む感光性のペーストからなる着色抑制層材料を含む層２０１でなく銀導電層１０１を形成するための銀を含む感光性ペーストからなる銀を含む層２０４であることを除いて、ほとんど同じ工程を繰り返す。重複を避けるため、これら第５の工程Ａ５から第７の工程Ａ７までの説明を省略する。
【００３２】
以上説明してきたようなＡ１からＡ７の工程により、高精度の平滑性が要求されるＰＤＰ用ガラス基板の黄色着色を抑制できる電極を形成した前面基板１を製造することができる。
【００３３】
本発明の実施の形態におけるＰＤＰの電極構造の例として図２、図４、図６に示した各構造で電極を形成した前面基板について、６００℃で焼成した際のガラス基板の黄色着色度を計測した。結果を表１に示す。
【００３４】
【表１】
【００３５】
比較例として、一般的なＰＤＰの電極構造で着色抑制層を有しない従来の電極構造、つまり図１（ｂ）および図１（ｃ）に示した構造の前面基板１を用いた。比較例の前面基板の電極の幅、各層の厚み、焼成温度は本発明の実施の形態１で例示した前面基板に準じた。
【００３６】
黄色着色度は、形成した電極の色調を試作した各前面基板の表面側から計測した。具体的には、市販の測色計を用い、Ｃ光源下（標準光源の一種）におけるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系（ＣＩＥ１９７６）のｂ＊の値を計測した。Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系はＣＩＥＬａｂ表色系ともいい、色を数値化して表現するためにＣＩＥ（国際照明委員会）が１９７６年に定めた均等色空間の１つで、三次元直交座標を用いる色空間を用いた表色系のことである。赤−緑（ａ＊）、黄−青（ｂ＊）の２本の直行軸と、明度を表す軸（Ｌ＊）の計３本の軸によって色を表現している。Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系では、ｂ＊の値が大きいほど、より黄色に着色していることを示すことになる。黄色着色度の測定値ｂ＊の値が５を超えると、透明（ｂ＊値が０）なガラス基板が黄色に着色して見えるようになり、表示装置用の基板として適さなくなる。
【００３７】
表１において、比較例として示した、着色抑制層を有しない電極構造、つまり一般的なＰＤＰの電極構造として図１（ｂ）および図１（ｃ）に示した構造の電極は明らかに黄色に着色しており、どちらもｂ＊の値が５を超えていることが確認できた。一方、本発明の実施の形態１における電極構造例として示した、図２に示した構造の電極、つまり着色抑制層を有する電極では、ｂ＊の値は５以下であり、黄色の着色を視認検査で認めることができなかった。したがって、ＳｎＯの着色抑制層１０３により、前面基板１の製造工程の処理により発生する銀導電層１０１からの銀イオンはコロイド状ではない金属銀に還元され、その結果、黄色に着色することが抑えられたと考えられる。それゆえ、着色抑制層を設けることでガラス基板の黄色着色を抑制できたことは明らかである。
【００３８】
なお、本発明の実施の形態１では、透明電極１００の材料としてＩＴＯを用いる例で説明したが、本発明はＩＴＯに限定されるものではなく、例えば、アンチモン（Ｓｂ）をドープした酸化錫（ＳｎＯ）等を含めて、ほかの透明電極用材料を使用しても問題がないことを言い添えておく。
【００３９】
また、本発明の実施の形態１で図示・説明した透明電極１００、銀導電層１０１、着色抑制層１０３の幅や厚み等の寸法・形状も１例であり、本発明はこれらの寸法・形状例に限定されるものではなく、適切な寸法・計上に任意に設定できることは自明である。
【００４０】
（実施の形態２）
本発明の実施の形態２における表示装置は、実施の形態１において説明した図２の装置構成、図３の製造工程を踏襲した。重複を避けるため詳しい説明を省略し、相違点の説明に留める。
【００４１】
本発明の実施の形態２における表示装置では、図２における着色抑制層１０３を形成するのに、図３に示した製造工程における着色抑制層１０３の形成用材料として、錫（２価）の酸化物ＳｎＯに代えて銀よりイオン化傾向の大きい元素である亜鉛、鉄、クロム、銅（２価）それぞれの金属酸化物ＺｎＯ、ＦｅＯ、ＣｒＯ、ＣｕＯを含む感光性ペーストを使用して形成し、前面基板１を作製した。
【００４２】
着色抑制層１０３に上記の金属酸化物を含む４種類の完成した前面基板１を外部自然光および室内蛍光灯照明下で視認検査検査を行った。その結果、４種類の前面基板ガラス１０には着色や発色が認められなかった。したがって、銀導電層１０１と前面基板ガラス１０の間に銀よりもイオン化傾向の大きい金属元素またはその金属酸化物を含む材料で着色抑制層を形成することは、前面基板の着色や発色を抑制していることは明らかである。
【００４３】
（実施の形態３）
図４は本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの電極構造の１例を概略的に示している。図４（ａ）には前面基板の行電極に垂直な方向に切断した断面の一部分が図２と同様に拡大して、前面基板ガラスの電極形成面側を下に向けて示されている。
【００４４】
本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの電極構造は、図４（ａ）から明らかなように、透明電極１００と着色抑制層１０３の間に黒色層１０２を銀導電層１０１、着色抑制層１０３と同じ幅１２０μｍで積層形成していることを除いて実施の形態１と同様な構成を有している。図４（ａ）において、図２と同じ部材には同じ符号を付している。重複を避けるため、本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの電極構造については、本発明の実施の形態１と同じ構成部材についての詳しい説明を省略する。
【００４５】
図４（ａ）において、黒色層１０２はコントラストを向上させることを目的とし、黒色顔料を含む材料で透明電極１００の直上に形成する。黒色層１０２の厚みは銀導電層１０１、着色抑制層１０３と同じ３μｍでパターン形成して積層している。銀導電層１０１の下に銀よりもイオン化傾向の大きい金属元素またはその金属酸化物を含む材料で着色抑制層を形成して前面基板の着色を抑える構成は同じである。実施の形態１と異なって黒色層１０２を着色抑制層１０３と透明電極１００の間に形成しても、電極の色調を市販の測色計を用いて計測した黄色着色度を表すｂ＊が最も小さい値を表１に示しているように、着色抑制層１０３の着色を抑える効果が大きいことは明らかである。
【００４６】
次に、本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成する製造工程の手順を簡単に説明する。図５は本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成するための製造工程の１例を概略的に示す流れ図である。図５の右側には、実際の処理内容を理解するために、それぞれの工程における前面基板１の断面を基板ガラスの電極形成面側を上に向けて図示している。
【００４７】
本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの電極形成する工程の手順は、実施の形態１における工程と同じ透明電極形成のための第１の工程Ｂ１と、実施の形態１における第２の工程に相当する銀よりイオン化傾向の大きい元素を含む材料の塗布・乾燥をするための実施の形態２の第５の工程Ｂ５の間に、黒色層１０２を着色抑制層１０３と透明電極１００の間に形成するための第２の工程Ｂ２、第３の工程Ｂ３、第４の工程Ｂ４の各工程が付加されているほかはほとんど同様である。
【００４８】
図５において、本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの前面基板１の各部材を形成するための第２の工程Ｂ２は、黒色層１０２を黒色顔料を含む材料で調合された感光性ペーストからなる黒色顔料材料層４０１を塗布・乾燥する工程である。この工程では、黒色顔料を含む材料で調合した感光性ペーストからなる黒色顔料材料層４０１を例えばスクリーン印刷で塗布した後、温風乾燥炉等にて例えば８０℃３０分の条件で乾燥を行う。
【００４９】
本発明の実施の形態３において、第３の工程Ｂ３は、塗布した黒色顔料を含む材料で調合した感光性ペースト４０１の上に所定の電極パターンが形成されたネガ型の露光マスク２０２をセットして、例えば超高圧水銀ランプ光源から導いた紫外線２０３を、例えば３００ｍＪ／ｃｍ2の露光エネルギーで照射することで露光する。そして、第４の工程Ｂ４は、露光済みの黒色顔料を含む材料で調合した感光性ペースト４０１膜を、例えば、アルカリ性水溶液（０．３ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液）で現像してパターン形成を行い、例えば、６００℃の大気中で焼成を行って基板に固着させる工程である。これらの露光および現像・焼成の工程は実施の形態１で説明したのと同じ工程を使うことができる。このようにして、図５に示すようにコントラストを向上させることを目的とする黒色層１０２が、黒色顔料を含む材料で透明電極１００の直上に形成される。
【００５０】
図５において、第５の工程Ｂ５から第１０の工程Ｂ１０までは、本発明の実施の形態１における第２の工程Ａ２から第７の工程Ａ７にそれぞれ対応している。重複を避けるため、実施の形態１と同じ工程の詳しい説明は省略する。
【００５１】
なお、本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの前面基板１の各部材を形成するための製造工程において説明した、各種材料、装置、処理条件等は、黒色層１０２を形成する工程を除き、本発明の実施の形態１で例示したものがそのまま利用できる。しかし本発明はこれらの例に限定されるものではなく、各種材料、装置、処理条件等を適切に選定・設定できることは言うまでもない。
【００５２】
このようにして、図５に示した工程にしたがって、銀導電層１０１による前面基板ガラス１０の黄色着色を抑制する着色抑制層１０３に加えて、表示面のコントラストを向上させる黒色層１０３を部材として有する前面基板１を形成することができる。
【００５３】
なお、本発明の実施の形態３は図４（ｂ）に示すように図４（ａ）の黒色層１０２と着色抑制層１０３を一層化して複合層１０４で構成してもよい。この場合、図５に示す製造工程は、第２の工程Ｂ２から第４の工程Ｂ４までを省き、第５の工程Ｂ５を黒色顔料と銀よりもイオン化傾向の大きい元素を含む材料とを混合して調合された感光性ペーストを塗布・乾燥する工程とすればよい。以下この感光性ペーストを露光する第６の工程Ｂ６、現像・焼成する第７の工程と続く。最終的に第１０の工程Ｂ１０まで進めて、表示面のコントラストを向上させる効果に加えて、銀導電層１０１による前面基板ガラス１０の黄色着色を抑制する複合層１０４を部材として有する前面基板１を形成することができる。図４（ｂ）に示す構成の前面基板ガラス１０の製造工程では、感光性ペーストを塗布・乾燥させて、露光、現像・焼成するサイクルを一回省くことになり製造工数を削減できるという効果も大きい。
【００５４】
また、本発明の実施の形態３においては、前面基板ガラス１０、透明電極１００、着色抑制層１０３、銀導電層１０１等の前面基板を構成する各部材について、それぞれの材料は実施の形態１で説明した材料をそのまま使用することが可能である。一方、黒色層１０２は、その材料としては一般的な黒色顔料を用いた材料であればいずれも使用可能であり、本発明の実施の形態３における説明に限定されるものではない。
【００５５】
さらにまた、本発明の実施の形態３で図示・説明した透明電極１００、銀導電層１０１、着色抑制層１０３の幅や厚み等の寸法・形状も黒色層１０２を除き、本発明の実施の形態１で例示したものがそのまま利用できる。しかし本発明はこれらの寸法・形状例に限定されるものではなく、寸法・形状を適切に設計・設定できることは言を俟たない。
【００５６】
（実施の形態４）
図６は本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの電極構造の１例を概略的に示している。図６には前面基板の行電極に垂直な方向に切断した断面の一部分が図２、図４と同様に拡大して、前面基板ガラスの電極形成面側を下に向けて示されている。
【００５７】
本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの電極構造は、図６から明らかなように、透明電極１００を形成せずに、直接前面基板ガラス上に電極部材を積層形成していることが実施の形態１、実施の形態２と異なっている。また、維持電極１３、走査電極１４とからなる各行電極の層構成は図４に示した本発明の実施の形態２におけるＰＤＰの前面基板１と同様に黒色層１０２、着色抑制層１０３、銀導電層１０１をこの順にパターン形成で積層している。
【００５８】
しかしながら、図６において、図２、図４と大きく異なるのは、行電極となる維持電極１３、走査電極１４を幅の狭い複数の単位電極１０６に分割して構成していることである。すなわち、１つ１つの単位電極１０６を構成する黒色層１０２、着色抑制層１０３、銀導電層１０１は図６に示すように、全て同じ幅４５μｍ、全て同じ厚み３μｍでパターン形成している。そして、行電極となる維持電極１３および走査電極１４は４０μｍの間隔で４本づつ配置した単位電極１０６を１組としてそれぞれを構成している。図６において、図２、図４と同じ部材には、やはり同じ符号を付している。そして、重複を避けるため、本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの電極構造については、本発明の実施の形態１、実施の形態３と同じ構成部材についての詳しい説明を省略する。
【００５９】
本発明の実施の形態４において、透明電極１００を形成せずに、直接前面基板ガラス１０上に直接電極部材を積層形成し、さらに、行電極となる維持電極１３、走査電極１４を幅の狭い複数の単位電極１０６に分割して構成していることの要点は、透明電極１００を設けずに各放電セルの表示の開口率を確保して表示品位を保持したうえで、安定にＰＤＰを放電駆動させるとともに、透明電極１００の材料コストや工程工数を省いて低価格のＰＤＰ装置の実現することにある。
【００６０】
本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの電極構造においては、実施の形態３と同様にコントラストを向上させることを目的として、黒色層１０２を黒色顔料を含む材料で前面基板ガラス１０の直上に形成する。黒色層１０２の厚みは銀導電層１０１、着色抑制層１０３と同じ３μｍの厚みでパターン形成して積層している。銀導電層１０１の下に銀よりもイオン化傾向の大きい金属元素またはその金属酸化物を含む材料で着色抑制層を形成して前面基板の着色を抑える構成は同じである。
【００６１】
黒色層１０２を前面基板ガラス１０の直上に形成した前面基板については、目視による外観チェックでは、前面基板ガラスの電極部分が黄色に変色する現象は認められなかった。本発明の実施の形態４における電極構造を有する前面基板ガラスも、電極の色調を市販の測色計を用いて計測した。結果を表１に示したように、黄色着色度を表すｂ＊が実施の形態１よりも小さい値を示しており、透明電極がなくても、また電極を細分化しても着色抑制層１０３の着色を抑える効果が大きいことは明らかである。
【００６２】
次に、本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成する製造工程の手順を簡単に説明する。図７は本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成するための製造工程の１例を概略的に示す流れ図である。
【００６３】
本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの電極形成する工程の手順は、実施の形態１、実施の形態３における工程と異なり、透明電極形成のための工程が省かれる。実施の形態４における黒色層１０２を形成するために黒色顔料を含む材料の塗布・乾燥を行う第１の工程Ｃ１から銀導電膜１０１を形成するための現像・焼成を行う第９の工程Ｃ９までは、実施の形態３における第２の工程Ｂ２から第１０の工程Ｂ１０とほとんど同様である。各工程については、重複を避けるため、実施の形態１、実施の形態３と同様の工程の詳しい説明は省略し、異なる内容についてのみ説明する。
【００６４】
電極構造について既に説明したように、本発明の実施の形態４では行電極となる維持電極１３、走査電極１４を幅の狭い複数の単位電極１０６に分割して構成しているために、図７における第２の工程Ｃ２、第５の工程Ｃ５、第８の工程Ｃ８に相当する各露光の工程での各部材の層を形成するときのパターンニングのための露光マスク４０２が異なっている。工程的には実施の形態３とほとんど同様の手順を経て、行電極となる維持電極１３および走査電極１４が幅４５μｍに細分化した単位電極１０６を４０μｍの間隔で４本づつ１組としてそれぞれ配置し、前面基板１が形成される。
【００６５】
このようにして、図７に示した工程にしたがって、銀導電層１０１による前面基板ガラス１０の黄色着色を抑制する着色抑制層１０３に加えて、表示面のコントラストを向上させる黒色層１０２を各部材として有する前面基板１を形成することができる。
【００６６】
また、本発明の実施の形態４においても実施の形態３において説明したのと同様に、黒色層１０２と着色抑制層１０３を一層化して複合層で構成してもよい（図示せず）。この場合は、図７に示す製造工程は、第１の工程Ｃ１から第３の工程Ｃ３までを省き、第４の工程Ｃ４を黒色顔料と銀よりもイオン化傾向の大きい元素を含む材料とを混合して調合された感光性ペーストを塗布・乾燥する工程とすればよい。この場合も、表示面のコントラストを向上させる効果に加えて、銀導電層１０１による前面基板ガラス１０の黄色着色を抑制する複合層１０４を各部材として有する前面基板１を形成することができる。
【００６７】
なお、本発明の実施の形態４においては、前面基板ガラス１０、着色抑制層１０３、銀導電層１０１、黒色層１０２等の前面基板１を構成する各部材について、それぞれの材料は実施の形態３で説明した材料をそのまま使用することができる。また、ＰＤＰの前面基板１の各部材を形成するための製造工程において説明した、各種材料、装置、処理条件等は、本発明の実施の形態３で例示したものがそのまま利用できる。しかし、本発明はこれらの例に限定されるものではなく、寸法・形状、各種材料、装置、処理条件等を適切に設計・設定、選定できることは言うまでもないことである。
【００６８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電極および電極の製造方法によれば、フロートガラス製のＰＤＰの前面基板上に銀を含む材料を用いて高精度の平滑性が要求されるＰＤＰ用電極を形成した際の銀イオンによる基板ガラスの黄色着色を低減することが可能であり、輝度低下がなく、コントラストが高く、表示品質の高いＰＤＰを提供する事ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）ＡＣ型ＰＤＰの一般的な構造を示す断面斜視図
（ｂ）ＡＣ型ＰＤＰ前面基板の構造の１例を示す拡大断面図
（ｃ）ＡＣ型ＰＤＰ前面基板の構造の別の例を示す拡大断面図
【図２】本発明の実施の形態１および実施の形態２におけるＰＤＰ前面基板の構造を示す拡大断面図
【図３】本発明の実施の形態１および実施の形態２におけるＰＤＰ前面基板の製造工程の１例を示す流れ図
【図４】本発明の実施の形態３におけるＰＤＰ前面基板の構造を示す拡大断面図
【図５】本発明の実施の形態３におけるＰＤＰ前面基板の製造工程の１例を示す流れ図
【図６】本発明の実施の形態４におけるＰＤＰ前面基板の構造を示す拡大断面図
【図７】本発明の実施の形態４におけるＰＤＰ前面基板の製造工程の１例を示す流れ図
【図８】銀を含むバス電極によるフロートガラスの黄色着色を説明する断面図
【符号の説明】
１ 前面基板
２ 背面基板
３ 放電空間
１０ 前面基板ガラス
１１ 誘電体層
１２ 保護層
１３ 維持電極
１４ 走査電極
１５ ブラックマトリクス
１６ 背面基板ガラス
１７ 下地誘電体層
１８ 隔壁
１９ アドレス電極
２０ 蛍光体層
１００ 透明電極
１０１ 銀導電層
１０２ 黒色層
１０３ 着色抑制層
１０４ 複合層
１０５ 着色層
１０６ 単位電極
２０１ 着色抑制層材料を含む層
２０２，４０２ 露光マスク
２０３ 紫外光
２０４ 銀を含む層
４０１ 黒色顔料材料層
Ａ１，Ｂ１，Ｃ１ 第１の工程
Ａ２，Ｂ２，Ｃ２ 第２の工程
Ａ３，Ｂ３，Ｃ３ 第３の工程
Ａ４，Ｂ４，Ｃ４ 第４の工程
Ａ５，Ｂ５，Ｃ５ 第５の工程
Ａ６，Ｂ６，Ｃ６ 第６の工程
Ａ７，Ｂ７，Ｃ７ 第７の工程
Ｂ８，Ｃ８ 第８の工程
Ｂ９，Ｃ９ 第９の工程
Ｂ１０ 第１０の工程
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の画素を有し、画素単位で発光する自発光型の表示装置に関し、特にプラズマディスプレイパネル等の平板型表示装置に関している。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大型のフラットパネルディスプレイとして希ガス放電による紫外線で蛍光体を励起発光させて画像・映像表示に利用するプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと記す）の開発が加速しており、コンピューター等に代表される情報処理装置の表示機器として、あるいは大型のテレビジョン受信機や公衆表示用モニターとしての社会的要望が増大している。
【０００３】
ＰＤＰには交流駆動方式と直流駆動方式があるが、ここでは一般的な交流駆動方式のＰＤＰ（以下、交流駆動方式のＰＤＰをＡＣ−ＰＤＰと記す）の構造を図１に示した。ＡＣ−ＰＤＰにも各種の方式があるが、図１（ａ）は面放電型と呼ばれる方式の構造を１例として、その一部を立体的に描いた斜視図で示している。ＰＤＰは、ガラス製の前面基板１、背面基板２、にそれぞれ行電極、列電極が直交配置され、画素（ピクセル）となる行・列両電極の交点および両基板間にある隔壁により放電空間３を形成する構造となっている。
【０００４】
面放電型のＡＣ−ＰＤＰでは図１（ａ）に示したように、前面基板１には、前面基板ガラス１０上に放電の維持信号を入力するための維持電極１３および順次表示用の走査信号を入力するための走査電極１４がそれぞれ対をなして平行に複数形成されて行電極を構成し、これら行電極上に放電による壁電荷を形成するための誘電体層１１、さらにその上にＭｇＯからなる保護膜１２が形成されている。また、隣り合う維持電極・走査電極対間には、表示面のコントラストを高めるため、遮光層となるブラックマトリクス１５を必要に応じて形成することもある。
【０００５】
一方背面基板２には、背面ガラス基板１６上に複数の表示データ信号を入力するための列電極となるアドレス電極１９が、前面基板１の行電極を構成する維持電極１３および走査電極１４とそれぞれ交差する方向に複数形成されている。アドレス電極１９の上にやはり放電による壁電荷を形成するための下地誘電体層１７、さらにその上にアドレス電極１９と平行して隔壁１８が形成され、隔壁１８上には赤、青、緑に発光する蛍光体層２０が設けられている。
【０００６】
そして、前面基板１と背面基板２を貼りあわせて放電空間３を形成し、その中にＮｅを主体とする希ガスを封入してＰＤＰが作製される。維持電極１３および走査電極１４、アドレス電極１９に所定の信号の電圧パルスを印加することにより封入された希ガスが励起され紫外線を放出し、その紫外線により隔壁１８上に設けられた蛍光体層２０が可視光を励起発光し、情報を表示することができる。
【０００７】
また、電極材料としてはＡｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属を含む材料が使用され、各種有機材料と混合されてペーストとしてあるいは保護フィルム上に転写シートとして成形されて用いられる。誘電体や隔壁材料としては低軟化点ガラス等が用いられ、電極と同様にペーストやシートの形で供される。
【０００８】
各構成部材の製造方法としては、電極形成およびブラックマトリクス形成については、感光性材料を用いたフォトリソ法や薄膜形成法等により形成され、蛍光体層、誘電体層についてはスクリーン印刷や各種コーターを用いて塗布する方法等により形成される。電極や誘電体の形成については、使用材料をシート状に加工して貼りつける工法等も利用される。形成後は所定の温度にて焼成を行い、各種構成部材を基板に固着させて完成する。
【０００９】
図１（ｂ）は、図１（ａ）の前面基板ガラス１０に形成される行電極を構成する維持電極１３と走査電極１４のＡ−Ａ’断面における詳細構造を示す。維持電極１３および走査電極１４は、透明電極１００と透明電極１００上に形成されるバス電極となる銀導電層１０１から構成されている。バス電極の電極材料に銀を使用するのは、電気抵抗が低く、パターン形成後、基板に固着するための焼成工程において大気焼成が可能であることが大きな理由である。銅やアルミニウムも銀と同様に低い電気抵抗値を得ることは可能であるが、大気焼成を行った場合に酸化が起きて、本来の電気抵抗から抵抗値が増大してしまうので、使用されることが少ない。また、表示面のコントラストを高めるため、図１（ｃ）に示すように、銀導電層１０１の下層に黒色層１０２を設けて維持電極１３および走査電極１４を形成することもある。
【００１０】
ところで、ＰＤＰ用ガラス基板をはじめ大面積を必要とする基板用ガラス材は、一般に溶融した錫（Ｓｎ）上に溶融ガラスを流して成形するフロート法で作製されている。これは、フロート法が平面が平滑なガラス材を容易に量産できるという特長を有しているからである。
【００１１】
そして、図８に概略的に示したように、フロート法で成形された前面基板ガラス１０に黒色顔料を含有した黒色層１０２とバス電極となる銀導電層１０１を積層形成した場合、透明電極の有無にかかわらず工程中の熱処理過程で、銀導電層１０１直下の前面基板ガラス１０の表面に着色層１０５が形成されて黄色に変化することが知られている（例：特開平１０−２５５６６９号公報）。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
このような、フロートガラスが銀電極により着色あるいは発色する現象は、フロートガラス上に存在する還元性の錫（Ｓｎ）と銀イオンとの酸化還元反応により銀コロイドが生成し、波長３００ｎｍから４００ｎｍ付近に光吸収が生じることに起因すると考えられている。
【００１３】
すなわち、フロートガラスは、成形過程で水素雰囲気にさらされるため、ガラス表面に厚さ数ミクロンの還元層が生成し、この層には溶融錫（Ｓｎ）由来の錫イオン（Ｓｎ++）が存在する。ガラス基板に透明電極を介して銀（Ａｇ）のバス電極を形成する際の熱処理により、銀（Ａｇ）が銀イオン（Ａｇ+）に変化し、この銀イオン（Ａｇ+）が透明電極を拡散してガラス表面にいたり、ガラス中に含まれるアルカリ金属のイオンとの間でイオン交換が生じ、ガラス中に銀イオン（Ａｇ+）が侵入する。侵入した銀イオン（Ａｇ+）は還元層に存在する錫イオン（Ｓｎ++）によって還元され、金属銀（Ａｇ）のコロイドを生成する。この銀（Ａｇ）コロイドによって、基板ガラスは黄色く着色あるいは発色する。フロート法はＰＤＰのような大型表示装置に用いるガラス基板の製造に最も優れている方法であるが、溶融した錫（Ｓｎ）上で形成するために、ガラスへの錫（Ｓｎ）の付着を避けることができない。
【００１４】
また、ガラス基板がこのように黄色に発色あるいは着色した場合、ＰＤＰのような表示デバイスにとっては致命的な欠陥となる。なぜなら、基板ガラスの着色により発光色度が変化し、その結果画像表示の輝度の低下を引き起こし、コントラストを向上する上で障害となるからである。また、パネル全体が黄色く着色して見え、商品価値を下げるためでもある。このような銀を含む電極の使用によって生じるガラス基板の発色あるいは着色を、このガラス基板の電極形成面側を研磨し、その表面に形成された還元性の層を除くことによって抑制できることが明らかにされている（例：特開平１０−２５５６６９号公報）。これによれば、発色度合いの小さいガラス基板を作製することができるものの、ＰＤＰ用ガラス基板の製造工程に適用しようとしたとき、表面層の除去という工程を必要とすることから、その量産性向上が新たな課題となっている。
【００１５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、フロートガラスを用いるＰＤＰ等の表示装置に用いる基板ガラス上に銀を含む材料で電極を形成する場合の銀イオンによる基板ガラスの着色（黄変）を低減した表示装置提供することを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明の表示装置は、フロート法で成形されたガラス基板と、前記ガラス基板の一方の表面上に形成された複数の層を備えた電極層とを有し、前記電極層の少なくとも１層が銀を含む導電層であり、銀コロイド生成を防止するために、銀よりもイオン化傾向の大きい元素と黒色顔料を含む層を、前記銀を含む導電層とガラス基板の間に形成している。また、本発明の表示装置は、前記銀よりイオン化傾向の大きい元素が、銅、鉄、錫、ニッケル、コバルト、クロム、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、カルシウムおよびカリウムのうちの少なくとも１つであって、前記元素を金属あるいは金属酸化物の状態で含むことを特徴とする。
【００１７】
これらの構成により、本発明の表示装置は銀を含む導電体層の直下の層に銀よりイオン化傾向の大きい元素を含む層からなる着色抑制層を設けて、製造工程における熱処理の過程で銀が銀イオンに変化し、この銀イオンが基板側に拡散していく過程で、イオン化傾向の大きい元素がイオン化され、放出された電子を銀イオンが受け取り金属銀となって拡散が中断し、基板ガラスに銀イオンが拡散することがなくなり、着色あるいは発色を抑制することができ、あわせて、黒色層を設けることでコントラストの高い高輝度なＰＤＰを実現することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
上記のように、本発明の表示装置の前面基板は、形成される電極として銀を含む導電体層の直下の層に銀よりイオン化傾向の大きい元素を含む層からなる着色抑制層を設けた構成を有している。発明の実施の形態の詳細を説明する前に、着色抑制層形成用の具体的材料について少し詳しく述べる。
【００２０】
基板ガラスが黄色く着色あるいは発色するのは、銀導電層の銀（Ａｇ）が製造工程における熱処理の過程で銀イオン（Ａｇ+）に変化し、この銀イオン（Ａｇ+）がガラス中に侵入して、フロートガラス表面の還元層に存在する錫イオン（Ｓｎ++）によって還元され、金属銀（Ａｇ）のコロイドを生成することに起因するのであるから、バス電極の銀導電層の銀（Ａｇ）を形成する際の熱処理により、銀イオン（Ａｇ+）が透明電極を拡散して基板ガラス表面にいたり、基板ガラス中に銀イオン（Ａｇ+）が侵入するのを抑えることができるのであれば、基板ガラスが黄色く着色あるいは発色することがなくなるのである。このためには、バス電極の銀導電層の銀（Ａｇ）を形成する際の熱処理により、銀イオン（Ａｇ+）が前面基板ガラス上の透明電極を拡散する前に銀イオン（Ａｇ+）をコロイドではない金属銀に還元させてやればよい。銀イオン（Ａｇ+）は銀よりもイオン化傾向の大きい元素が存在すれば金属銀に還元されるので、銀導電層と基板ガラスの間に銀よりもイオン化傾向の大きい元素を含む層を着色抑制層として設ければ、前面基板の製造工程の処理により発生する銀導電層からの銀イオンは着色抑制層に含まれる銀よりもイオン化傾向の大きい元素によりコロイド状ではない金属銀に還元され、その結果、黄色に着色することが抑えられると考えられる。
【００２１】
一般に、銀（Ａｇ）よりイオン化傾向の大きい元素として、銅（２価）、鉄（３価）、錫（２価）、ニッケル、コバルト（２価）、鉄（２価）、クロム（３価）、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、カリウム等が知られている。したがって、上記の銀よりイオン化傾向の大きい金属元素の単体、合金、金属化合物や複合化合物を含む材料で着色抑制層を形成して前面基板を作製すれば、前面基板ガラスの着色や発色を抑制できるという効果が期待できる。
【００２２】
以下に、本発明の実施の形態について図１から図７を参照して詳しく説明する。本発明の実施の形態におけるＰＤＰの構成、構造を示す図２、図４、図６は既に従来の技術において図１（ａ）を用いて説明したＡＣ−ＰＤＰの構成、構造を踏襲している。
【００２３】
（実施の形態１）
図２は本発明の実施の形態１におけるＰＤＰの電極構造の１例を概略的に示している。図２には前面基板の行電極に垂直な方向に切断した断面が図１（ａ）、（ｂ）と同様に前面基板ガラスの電極形成面側を下に向けて示されている。
【００２４】
図２において、フロート法で形成された前面基板ガラス１０に、透明電極１００、着色抑制層１０３、銀導電層１０１をこの順に積層して電極を形成している。透明電極１００はＩＴＯで、幅３００μｍ、厚み１０００Åにパターン形成している。透明電極１００に続けて電気抵抗が低い銀を含む材料でバス電極を形成する。電極形成時の熱処理工程において、バス電極となる銀導電層１０１に含まれる金属元素の銀が銀イオンに変化し、この生起した銀イオンがフロート法で形成された前面基板ガラス１０を着色するので、着色を抑えるため銀導電層１０１と透明電極１００の間に着色抑制層１０３を形成している。着色抑制層１０３を形成する材料は、先に説明したように銀よりイオン化傾向の大きい元素を用いることが重要であるが、入手が容易で安価なことが好ましい。ここでは透明電極１００のＩＴＯと相性がよく、電極形成が容易な２価の錫（Ｓｎ）の酸化物であるＳｎＯを選択して着色抑制層１０３を形成した。銀導電層１０１と着色抑制層１０３は、両者とも幅１２０μｍで厚み３μｍにパターン形成した。
【００２５】
次に、本発明の実施の形態１におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成する製造工程の手順を簡単に説明する。図３は本発明の実施の形態１におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成するための製造工程の１例を概略的に示す流れ図である。図３の右側には、実際の処理内容を理解するために、それぞれの工程における前面基板１の断面を図示している。ここでは、図２における断面図と異なり、工程における処理の状態と同じようにするため、基板ガラスの電極形成面側を上に向けて示している。図３において、第１の工程Ａ１は、フロート法で形成された前面基板ガラス１０上に透明電極１００をパターニングする工程である。ここでは透明電極形成工程の詳細を示さず、前面基板ガラス１０上に透明電極１００がパターニングされた状態のみを示している。
【００２６】
第２の工程Ａ２は、着色抑制層１０３となる２価の錫（Ｓｎ）の酸化物であるＳｎＯを含んで調合された感光性ペースト２０１を塗布、乾燥する工程である。ＳｎＯを含む感光性ペースト２０１を例えばスクリーン印刷で塗布した後、温風乾燥炉等にて例えば８０℃３０分の条件で乾燥を行う。
【００２７】
また、塗布方法はスクリーン印刷のほかにスリットコート等も可能である。また、着色抑制層を形成する方法は、上記の印刷やコーティングにより全面に塗布した感光性の層を露光・現像してパターンニングする方法のほかに、あらかじめ所定のパターンをシート状に成形して基板に貼り付ける方法も可能である。また、乾燥は温風乾燥炉のほかに赤外（ＩＲ）乾燥炉等も使用可能である。乾燥温度や乾燥時間等の処理条件も用いる方法、手段、材料により異なるが、それぞれの条件に適した条件を任意に設定することができる。
【００２８】
図３に示した流れ図における第３の工程Ａ３は、着色抑制層１０３を形成するために２価の錫（Ｓｎ）の酸化物ＳｎＯを含む感光性のペーストを塗布、乾燥した膜に、露光マスク２０２を介しての紫外線露光を行う工程である。所定の電極パターンが形成されたネガ型の露光マスク２０２をセットして、例えば超高圧水銀ランプ光源から導いた紫外線２０３を、例えば３００ｍＪ／ｃｍ2の露光エネルギーで照射することで露光する。なお、ポジ型の感光性ペーストを使用する場合は、パターン化部分が未露光になるような露光マスクを用いればよい。また、露光エネルギーも用いる感光性ペーストの特性に合わせて適宜選択すればよく、具体的に示した上記の条件に限定されるものではない。
【００２９】
第４の工程Ａ４は、着色抑制層となる露光済みのＳｎＯを含む感光性ペースト膜を、例えばアルカリ性水溶液（０．３ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液）で現像してパターン形成を行い、例えば６００℃の大気中で焼成を行って基板に固着させる工程である。
【００３０】
現像液は用いる感光性材料によって有機溶剤も使用可能であり、その濃度も適宜変化させることが可能である。また、焼成温度も感光性ペーストに応じて変化させることができ、本発明の実施の形態１で説明した条件に限定されるものではない。
【００３１】
図３における第５の工程Ａ５、第６の工程Ａ６、第７の工程Ａ７は、それぞれ先に説明した第２の工程Ａ２、第３の工程Ａ３、第４の工程Ａ４に対応しており、用いる感光性ペーストが着色抑制層１０３を形成するための２価の錫（Ｓｎ）の酸化物ＳｎＯを含む感光性のペーストからなる着色抑制層材料を含む層２０１でなく銀導電層１０１を形成するための銀を含む感光性ペーストからなる銀を含む層２０４であることを除いて、ほとんど同じ工程を繰り返す。重複を避けるため、これら第５の工程Ａ５から第７の工程Ａ７までの説明を省略する。
【００３２】
以上説明してきたようなＡ１からＡ７の工程により、高精度の平滑性が要求されるＰＤＰ用ガラス基板の黄色着色を抑制できる電極を形成した前面基板１を製造することができる。
【００３３】
本発明の実施の形態におけるＰＤＰの電極構造の例として図２、図４、図６に示した各構造で電極を形成した前面基板について、６００℃で焼成した際のガラス基板の黄色着色度を計測した。結果を表１に示す。
【００３４】
【表１】
比較例として、一般的なＰＤＰの電極構造で着色抑制層を有しない従来の電極構造、つまり図１（ｂ）および図１（ｃ）に示した構造の前面基板１を用いた。比較例の前面基板の電極の幅、各層の厚み、焼成温度は本発明の実施の形態１で例示した前面基板に準じた。
【００３６】
黄色着色度は、形成した電極の色調を試作した各前面基板の表面側から計測した。具体的には、市販の測色計を用い、Ｃ光源下（標準光源の一種）におけるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系（ＣＩＥ１９７６）のｂ＊の値を計測した。Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系はＣＩＥＬａｂ表色系ともいい、色を数値化して表現するためにＣＩＥ（国際照明委員会）が１９７６年に定めた均等色空間の１つで、三次元直交座標を用いる色空間を用いた表色系のことである。赤−緑（ａ＊）、黄−青（ｂ＊）の２本の直行軸と、明度を表す軸（Ｌ＊）の計３本の軸によって色を表現している。Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系では、ｂ＊の値が大きいほど、より黄色に着色していることを示すことになる。黄色着色度の測定値ｂ＊の値が５を超えると、透明（ｂ＊値が０）なガラス基板が黄色に着色して見えるようになり、表示装置用の基板として適さなくなる。
【００３７】
表１において、比較例として示した、着色抑制層を有しない電極構造、つまり一般的なＰＤＰの電極構造として図１（ｂ）および図１（ｃ）に示した構造の電極は明らかに黄色に着色しており、どちらもｂ＊の値が５を超えていることが確認できた。一方、本発明の実施の形態１における電極構造例として示した、図２に示した構造の電極、つまり着色抑制層を有する電極では、ｂ＊の値は５以下であり、黄色の着色を視認検査で認めることができなかった。したがって、ＳｎＯの着色抑制層１０３により、前面基板１の製造工程の処理により発生する銀導電層１０１からの銀イオンはコロイド状ではない金属銀に還元され、その結果、黄色に着色することが抑えられたと考えられる。それゆえ、着色抑制層を設けることでガラス基板の黄色着色を抑制できたことは明らかである。
【００３８】
なお、本発明の実施の形態１では、透明電極１００の材料としてＩＴＯを用いる例で説明したが、本発明はＩＴＯに限定されるものではなく、例えば、アンチモン（Ｓｂ）をドープした酸化錫（ＳｎＯ）等を含めて、ほかの透明電極用材料を使用しても問題がないことを言い添えておく。
【００３９】
また、本発明の実施の形態１で図示・説明した透明電極１００、銀導電層１０１、着色抑制層１０３の幅や厚み等の寸法・形状も１例であり、本発明はこれらの寸法・形状例に限定されるものではなく、適切な寸法・計上に任意に設定できることは自明である。
【００４０】
（実施の形態２）
本発明の実施の形態２における表示装置は、実施の形態１において説明した図２の装置構成、図３の製造工程を踏襲した。重複を避けるため詳しい説明を省略し、相違点の説明に留める。
【００４１】
本発明の実施の形態２における表示装置では、図２における着色抑制層１０３を形成するのに、図３に示した製造工程における着色抑制層１０３の形成用材料として、錫（２価）の酸化物ＳｎＯに代えて銀よりイオン化傾向の大きい元素である亜鉛、鉄、クロム、銅（２価）それぞれの金属酸化物ＺｎＯ、ＦｅＯ、ＣｒＯ、ＣｕＯを含む感光性ペーストを使用して形成し、前面基板１を作製した。
【００４２】
着色抑制層１０３に上記の金属酸化物を含む４種類の完成した前面基板１を外部自然光および室内蛍光灯照明下で視認検査検査を行った。その結果、４種類の前面基板ガラス１０には着色や発色が認められなかった。したがって、銀導電層１０１と前面基板ガラス１０の間に銀よりもイオン化傾向の大きい金属元素またはその金属酸化物を含む材料で着色抑制層を形成することは、前面基板の着色や発色を抑制していることは明らかである。
【００４３】
（実施の形態３）
図４は本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの電極構造の１例を概略的に示している。図４（ａ）には前面基板の行電極に垂直な方向に切断した断面の一部分が図２と同様に拡大して、前面基板ガラスの電極形成面側を下に向けて示されている。
【００４４】
本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの電極構造は、図４（ａ）から明らかなように、透明電極１００と着色抑制層１０３の間に黒色層１０２を銀導電層１０１、着色抑制層１０３と同じ幅１２０μｍで積層形成していることを除いて実施の形態１と同様な構成を有している。図４（ａ）において、図２と同じ部材には同じ符号を付している。重複を避けるため、本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの電極構造については、本発明の実施の形態１と同じ構成部材についての詳しい説明を省略する。
【００４５】
図４（ａ）において、黒色層１０２はコントラストを向上させることを目的とし、黒色顔料を含む材料で透明電極１００の直上に形成する。黒色層１０２の厚みは銀導電層１０１、着色抑制層１０３と同じ３μｍでパターン形成して積層している。銀導電層１０１の下に銀よりもイオン化傾向の大きい金属元素またはその金属酸化物を含む材料で着色抑制層を形成して前面基板の着色を抑える構成は同じである。実施の形態１と異なって黒色層１０２を着色抑制層１０３と透明電極１００の間に形成しても、電極の色調を市販の測色計を用いて計測した黄色着色度を表すｂ＊が最も小さい値を表１に示しているように、着色抑制層１０３の着色を抑える効果が大きいことは明らかである。
【００４６】
次に、本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成する製造工程の手順を簡単に説明する。図５は本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成するための製造工程の１例を概略的に示す流れ図である。図５の右側には、実際の処理内容を理解するために、それぞれの工程における前面基板１の断面を基板ガラスの電極形成面側を上に向けて図示している。
【００４７】
本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの電極形成する工程の手順は、実施の形態１における工程と同じ透明電極形成のための第１の工程Ｂ１と、実施の形態１における第２の工程に相当する銀よりイオン化傾向の大きい元素を含む材料の塗布・乾燥をするための実施の形態２の第５の工程Ｂ５の間に、黒色層１０２を着色抑制層１０３と透明電極１００の間に形成するための第２の工程Ｂ２、第３の工程Ｂ３、第４の工程Ｂ４の各工程が付加されているほかはほとんど同様である。
【００４８】
図５において、本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの前面基板１の各部材を形成するための第２の工程Ｂ２は、黒色層１０２を黒色顔料を含む材料で調合された感光性ペーストからなる黒色顔料材料層４０１を塗布・乾燥する工程である。この工程では、黒色顔料を含む材料で調合した感光性ペーストからなる黒色顔料材料層４０１を例えばスクリーン印刷で塗布した後、温風乾燥炉等にて例えば８０℃３０分の条件で乾燥を行う。
【００４９】
本発明の実施の形態３において、第３の工程Ｂ３は、塗布した黒色顔料を含む材料で調合した感光性ペースト４０１の上に所定の電極パターンが形成されたネガ型の露光マスク２０２をセットして、例えば超高圧水銀ランプ光源から導いた紫外線２０３を、例えば３００ｍＪ／ｃｍ2の露光エネルギーで照射することで露光する。そして、第４の工程Ｂ４は、露光済みの黒色顔料を含む材料で調合した感光性ペースト４０１膜を、例えば、アルカリ性水溶液（０．３ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液）で現像してパターン形成を行い、例えば、６００℃の大気中で焼成を行って基板に固着させる工程である。これらの露光および現像・焼成の工程は実施の形態１で説明したのと同じ工程を使うことができる。このようにして、図５に示すようにコントラストを向上させることを目的とする黒色層１０２が、黒色顔料を含む材料で透明電極１００の直上に形成される。
【００５０】
図５において、第５の工程Ｂ５から第１０の工程Ｂ１０までは、本発明の実施の形態１における第２の工程Ａ２から第７の工程Ａ７にそれぞれ対応している。重複を避けるため、実施の形態１と同じ工程の詳しい説明は省略する。
【００５１】
なお、本発明の実施の形態３におけるＰＤＰの前面基板１の各部材を形成するための製造工程において説明した、各種材料、装置、処理条件等は、黒色層１０２を形成する工程を除き、本発明の実施の形態１で例示したものがそのまま利用できる。しかし本発明はこれらの例に限定されるものではなく、各種材料、装置、処理条件等を適切に選定・設定できることは言うまでもない。
【００５２】
このようにして、図５に示した工程にしたがって、銀導電層１０１による前面基板ガラス１０の黄色着色を抑制する着色抑制層１０３に加えて、表示面のコントラストを向上させる黒色層１０３を部材として有する前面基板１を形成することができる。
【００５３】
なお、本発明の実施の形態３は図４（ｂ）に示すように図４（ａ）の黒色層１０２と着色抑制層１０３を一層化して複合層１０４で構成してもよい。この場合、図５に示す製造工程は、第２の工程Ｂ２から第４の工程Ｂ４までを省き、第５の工程Ｂ５を黒色顔料と銀よりもイオン化傾向の大きい元素を含む材料とを混合して調合された感光性ペーストを塗布・乾燥する工程とすればよい。以下この感光性ペーストを露光する第６の工程Ｂ６、現像・焼成する第７の工程と続く。最終的に第１０の工程Ｂ１０まで進めて、表示面のコントラストを向上させる効果に加えて、銀導電層１０１による前面基板ガラス１０の黄色着色を抑制する複合層１０４を部材として有する前面基板１を形成することができる。図４（ｂ）に示す構成の前面基板ガラス１０の製造工程では、感光性ペーストを塗布・乾燥させて、露光、現像・焼成するサイクルを一回省くことになり製造工数を削減できるという効果も大きい。
【００５４】
また、本発明の実施の形態３においては、前面基板ガラス１０、透明電極１００、着色抑制層１０３、銀導電層１０１等の前面基板を構成する各部材について、それぞれの材料は実施の形態１で説明した材料をそのまま使用することが可能である。一方、黒色層１０２は、その材料としては一般的な黒色顔料を用いた材料であればいずれも使用可能であり、本発明の実施の形態３における説明に限定されるものではない。
【００５５】
さらにまた、本発明の実施の形態３で図示・説明した透明電極１００、銀導電層１０１、着色抑制層１０３の幅や厚み等の寸法・形状も黒色層１０２を除き、本発明の実施の形態１で例示したものがそのまま利用できる。しかし本発明はこれらの寸法・形状例に限定されるものではなく、寸法・形状を適切に設計・設定できることは言を俟たない。
【００５６】
（実施の形態４）
図６は本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの電極構造の１例を概略的に示している。図６には前面基板の行電極に垂直な方向に切断した断面の一部分が図２、図４と同様に拡大して、前面基板ガラスの電極形成面側を下に向けて示されている。
【００５７】
本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの電極構造は、図６から明らかなように、透明電極１００を形成せずに、直接前面基板ガラス上に電極部材を積層形成していることが実施の形態１、実施の形態２と異なっている。また、維持電極１３、走査電極１４とからなる各行電極の層構成は図４に示した本発明の実施の形態２におけるＰＤＰの前面基板１と同様に黒色層１０２、着色抑制層１０３、銀導電層１０１をこの順にパターン形成で積層している。
【００５８】
しかしながら、図６において、図２、図４と大きく異なるのは、行電極となる維持電極１３、走査電極１４を幅の狭い複数の単位電極１０６に分割して構成していることである。すなわち、１つ１つの単位電極１０６を構成する黒色層１０２、着色抑制層１０３、銀導電層１０１は図６に示すように、全て同じ幅４５μｍ、全て同じ厚み３μｍでパターン形成している。そして、行電極となる維持電極１３および走査電極１４は４０μｍの間隔で４本づつ配置した単位電極１０６を１組としてそれぞれを構成している。図６において、図２、図４と同じ部材には、やはり同じ符号を付している。そして、重複を避けるため、本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの電極構造については、本発明の実施の形態１、実施の形態３と同じ構成部材についての詳しい説明を省略する。
【００５９】
本発明の実施の形態４において、透明電極１００を形成せずに、直接前面基板ガラス１０上に直接電極部材を積層形成し、さらに、行電極となる維持電極１３、走査電極１４を幅の狭い複数の単位電極１０６に分割して構成していることの要点は、透明電極１００を設けずに各放電セルの表示の開口率を確保して表示品位を保持したうえで、安定にＰＤＰを放電駆動させるとともに、透明電極１００の材料コストや工程工数を省いて低価格のＰＤＰ装置の実現することにある。
【００６０】
本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの電極構造においては、実施の形態３と同様にコントラストを向上させることを目的として、黒色層１０２を黒色顔料を含む材料で前面基板ガラス１０の直上に形成する。黒色層１０２の厚みは銀導電層１０１、着色抑制層１０３と同じ３μｍの厚みでパターン形成して積層している。銀導電層１０１の下に銀よりもイオン化傾向の大きい金属元素またはその金属酸化物を含む材料で着色抑制層を形成して前面基板の着色を抑える構成は同じである。
【００６１】
黒色層１０２を前面基板ガラス１０の直上に形成した前面基板については、目視による外観チェックでは、前面基板ガラスの電極部分が黄色に変色する現象は認められなかった。本発明の実施の形態４における電極構造を有する前面基板ガラスも、電極の色調を市販の測色計を用いて計測した。結果を表１に示したように、黄色着色度を表すｂ＊が実施の形態１よりも小さい値を示しており、透明電極がなくても、また電極を細分化しても着色抑制層１０３の着色を抑える効果が大きいことは明らかである。
【００６２】
次に、本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成する製造工程の手順を簡単に説明する。図７は本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの前面基板１の電極を形成するための製造工程の１例を概略的に示す流れ図である。
【００６３】
本発明の実施の形態４におけるＰＤＰの電極形成する工程の手順は、実施の形態１、実施の形態３における工程と異なり、透明電極形成のための工程が省かれる。実施の形態４における黒色層１０２を形成するために黒色顔料を含む材料の塗布・乾燥を行う第１の工程Ｃ１から銀導電膜１０１を形成するための現像・焼成を行う第９の工程Ｃ９までは、実施の形態３における第２の工程Ｂ２から第１０の工程Ｂ１０とほとんど同様である。各工程については、重複を避けるため、実施の形態１、実施の形態３と同様の工程の詳しい説明は省略し、異なる内容についてのみ説明する。
【００６４】
電極構造について既に説明したように、本発明の実施の形態４では行電極となる維持電極１３、走査電極１４を幅の狭い複数の単位電極１０６に分割して構成しているために、図７における第２の工程Ｃ２、第５の工程Ｃ５、第８の工程Ｃ８に相当する各露光の工程での各部材の層を形成するときのパターンニングのための露光マスク４０２が異なっている。工程的には実施の形態３とほとんど同様の手順を経て、行電極となる維持電極１３および走査電極１４が幅４５μｍに細分化した単位電極１０６を４０μｍの間隔で４本づつ１組としてそれぞれ配置し、前面基板１が形成される。
【００６５】
このようにして、図７に示した工程にしたがって、銀導電層１０１による前面基板ガラス１０の黄色着色を抑制する着色抑制層１０３に加えて、表示面のコントラストを向上させる黒色層１０２を各部材として有する前面基板１を形成することができる。
【００６６】
また、本発明の実施の形態４においても実施の形態３において説明したのと同様に、黒色層１０２と着色抑制層１０３を一層化して複合層で構成してもよい（図示せず）。この場合は、図７に示す製造工程は、第１の工程Ｃ１から第３の工程Ｃ３までを省き、第４の工程Ｃ４を黒色顔料と銀よりもイオン化傾向の大きい元素を含む材料とを混合して調合された感光性ペーストを塗布・乾燥する工程とすればよい。この場合も、表示面のコントラストを向上させる効果に加えて、銀導電層１０１による前面基板ガラス１０の黄色着色を抑制する複合層１０４を各部材として有する前面基板１を形成することができる。
【００６７】
なお、本発明の実施の形態４においては、前面基板ガラス１０、着色抑制層１０３、銀導電層１０１、黒色層１０２等の前面基板１を構成する各部材について、それぞれの材料は実施の形態３で説明した材料をそのまま使用することができる。また、ＰＤＰの前面基板１の各部材を形成するための製造工程において説明した、各種材料、装置、処理条件等は、本発明の実施の形態３で例示したものがそのまま利用できる。しかし、本発明はこれらの例に限定されるものではなく、寸法・形状、各種材料、装置、処理条件等を適切に設計・設定、選定できることは言うまでもないことである。
【００６８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電極および電極の製造方法によれば、フロートガラス製のＰＤＰの前面基板上に銀を含む材料を用いて高精度の平滑性が要求されるＰＤＰ用電極を形成した際の銀イオンによる基板ガラスの黄色着色を低減することが可能であり、輝度低下がなく、コントラストが高く、表示品質の高いＰＤＰを提供する事ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）ＡＣ型ＰＤＰの一般的な構造を示す断面斜視図
（ｂ）ＡＣ型ＰＤＰ前面基板の構造の１例を示す拡大断面図
（ｃ）ＡＣ型ＰＤＰ前面基板の構造の別の例を示す拡大断面図
【図２】本発明の実施の形態１および実施の形態２におけるＰＤＰ前面基板の構造を示す拡大断面図
【図３】本発明の実施の形態１および実施の形態２におけるＰＤＰ前面基板の製造工程の１例を示す流れ図
【図４】本発明の実施の形態３におけるＰＤＰ前面基板の構造を示す拡大断面図
【図５】本発明の実施の形態３におけるＰＤＰ前面基板の製造工程の１例を示す流れ図
【図６】本発明の実施の形態４におけるＰＤＰ前面基板の構造を示す拡大断面図
【図７】本発明の実施の形態４におけるＰＤＰ前面基板の製造工程の１例を示す流れ図
【図８】銀を含むバス電極によるフロートガラスの黄色着色を説明する断面図
【符号の説明】
１ 前面基板
２ 背面基板
３ 放電空間
１０ 前面基板ガラス
１１ 誘電体層
１２ 保護層
１３ 維持電極
１４ 走査電極
１５ ブラックマトリクス
１６ 背面基板ガラス
１７ 下地誘電体層
１８ 隔壁
１９ アドレス電極
２０ 蛍光体層
１００ 透明電極
１０１ 銀導電層
１０２ 黒色層
１０３ 着色抑制層
１０４ 複合層
１０５ 着色層
１０６ 単位電極
２０１ 着色抑制層材料を含む層
２０２，４０２ 露光マスク
２０３ 紫外光
２０４ 銀を含む層
４０１ 黒色顔料材料層
Ａ１，Ｂ１，Ｃ１ 第１の工程
Ａ２，Ｂ２，Ｃ２ 第２の工程
Ａ３，Ｂ３，Ｃ３ 第３の工程
Ａ４，Ｂ４，Ｃ４ 第４の工程
Ａ５，Ｂ５，Ｃ５ 第５の工程
Ａ６，Ｂ６，Ｃ６ 第６の工程
Ａ７，Ｂ７，Ｃ７ 第７の工程
Ｂ８，Ｃ８ 第８の工程
Ｂ９，Ｃ９ 第９の工程
Ｂ１０ 第１０の工程
Claims (2)
- フロート法で成形されたガラス基板と、前記ガラス基板の一方の表面上に形成された複数の層を備えた電極層とを有し、前記電極層の少なくとも１層が銀を含む導電層であり、銀コロイド生成を防止するために、銀よりもイオン化傾向の大きい元素と黒色顔料を含む層を、前記銀を含む導電層とガラス基板の間に形成したことを特徴とする表示装置。
- 前記銀よりイオン化傾向の大きい元素は、銅、鉄、錫、ニッケル、コバルト、クロム、亜鉛、アルミニウム、マグネシウム、カルシウムおよびカリウムのうちの少なくとも１つであって、前記元素を金属あるいは金属酸化物の状態で含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
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