JP3870818B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表示デバイス等に用いるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関し、特にフロート法で製造されたガラス基板に銀を含む電極を形成した場合のガラス基板の着色を抑え、パネルの製造歩留まりを向上させることができる製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
高品位テレビジョン画像を大画面で表示するためのディスプレイ装置として、プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと呼ぶ）を使用した装置への期待が高まっている。
【０００３】
ＰＤＰは、基本的には、前面板と背面板とで構成されている。前面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状の透明電極およびバス電極よりなる表示電極と、この表示電極を覆ってコンデンサとしての働きをする誘電体膜と、この誘電体膜上に形成されたＭｇＯ保護層とで構成されている。
【０００４】
ガラス基板としては大面積化が容易で平坦性に優れたガラスの製造に適したフロート法によるガラス基板を用い、薄膜プロセスにより透明電極を形成しその上に導電性を確保するために銀材料を含むペーストをパターン化した後焼成し、バス電極を形成している。さらに、コントラストを向上させるための遮光層用ペーストをパターン化した後、焼成して形成し、これら全体を覆うように誘電体膜ペーストを塗布し焼成して形成し、最後にＭｇＯ保護層を広く知られている薄膜形成後術を用いて形成している。
【０００５】
一方、背面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状のアドレス電極と、このアドレス電極を覆う誘電体膜と、その上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された、赤色、緑色および青色でそれぞれ発光する蛍光体層とで構成されている。
【０００６】
前面板と背面板とはその電極形成面側を対向させて気密封着され、隔壁によって形成された放電空間にはＮｅ−Ｘｅ等の放電ガスが４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒの圧力で封入されている。表示電極に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電ガスを放電させ、それによって発生した紫外線が各色蛍光体層を励起して赤色、緑色、青色の発光をさせて、カラー画像表示を実現している。
【０００７】
前面板にフロート法により製造されたガラス基板を用い、その上に銀材料を用いた電極を形成するとガラス基板の表面に着色層が形成されて黄色に変化することが知られている（特開平１０−２５５６６９号公報、特開平１１−２４６２３８号公報）。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
このような、フロートガラスが銀電極により着色あるいは発色する現象は、フロートガラス上に存在する還元性の錫（Ｓｎ）と銀イオン（Ａｇ⁺）との酸化還元反応により銀コロイドが生成し、波長３５０ｎｍから４５０ｎｍ付近に光吸収が生じることに起因すると考えられている。
【０００９】
すなわち、フロートガラスは、成形過程で水素雰囲気にさらされるため、ガラス表面に厚さ数ミクロンの還元層が生成し、この層には溶融錫（Ｓｎ）由来の錫イオン（Ｓｎ⁺⁺）が存在する。ガラス基板に透明電極を介して銀（Ａｇ）のバス電極を形成する際の熱処理により、バス電極から銀イオン（Ａｇ⁺）が離脱し、この銀イオン（Ａｇ⁺）が透明電極上を拡散してガラス表面に到達し、ガラス中に含まれるアルカリ金属のイオンとの間でイオン交換が生じ、ガラス中に銀イオン（Ａｇ⁺）が侵入する。侵入した銀イオン（Ａｇ⁺）は還元層に存在する錫イオン（Ｓｎ⁺⁺）によって還元され、金属銀（Ａｇ）のコロイドを生成する。この銀（Ａｇ）コロイドによって、ガラス基板は黄色く着色あるいは発色する。フロート法はＰＤＰのような大型表示装置に用いるガラス基板の製造に最も優れている方法であるが、溶融した錫（Ｓｎ）上で形成するために、ガラス基板への錫（Ｓｎ）の付着を避けることができない。
【００１０】
また、ガラス基板がこのように黄色に発色あるいは着色した場合、ＰＤＰのような表示デバイスにとっては致命的な欠陥となる。なぜなら、ガラス基板の着色により青色の表示輝度が低下するため表示色度が変化し、特に白色表示時には色温度が低下する等の画質が劣化するからである。また、パネル全体が黄色く着色して見え、商品価値を下げるためでもある。このような銀を含む電極の使用によって生じるガラス基板の発色あるいは着色を、このガラス基板の電極形成面側を研磨し、その表面に形成された還元性の層を除くことによって抑制できることが明らかにされている（例：特開平１０−２５５６６９号公報）。これによれば、発色度合いの小さいガラス基板を作製することができるものの、ＰＤＰ用ガラス基板の製造工程に適用しようとしたとき、表面層の除去という工程を必要とすることから、その量産性向上が新たな課題となっている。
【００１１】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、フロートガラスを用いたＰＤＰ等の表示装置に用いるガラス基板上に銀（Ａｇ）を含む材料で電極を形成する場合の銀イオン（Ａｇ⁺）によるガラス基板の着色（黄変）を低減できるＰＤＰの製造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
ガラス基板の着色（黄変）には銀イオン（Ａｇ⁺）が必須であり、室温では銀イオンは電極表面に生成した酸化銀（Ａｇ₂Ｏ）と硫黄を含有する銀化合物（例えば硫化銀（Ａｇ₂Ｓ）や亜硫酸銀（Ａｇ₂ＳＯ₃））の形で存在する。焼成工程でこれらの銀化合物が分解する時に銀イオン（Ａｇ⁺）として電極から離脱し、この銀イオン（Ａｇ⁺）が透明電極を拡散してガラス表面に至り、ガラス中に含まれるナトリウムイオン（Ｎａ⁺）等とイオン交換してガラス中に銀イオン（Ａｇ⁺）が侵入する。侵入した銀イオン（Ａｇ⁺）は還元層に存在する錫イオン（Ｓｎ⁺⁺）によって還元され、金属銀（Ａｇ）のコロイドを形成してガラス基板表面が着色される。
【００１３】
本発明のＰＤＰの製造方法は、フロート法により作製されたガラス基板に銀材料を含有する電極パターンを形成する電極形成工程と、電極パターンを含むガラス基板に誘電体膜を形成する誘電体膜形成工程と、誘電体膜に保護膜を形成する工程とを有するＰＤＰの製造方法であって、少なくとも誘電体膜形成工程の前に電極パターンの表面層を除去する表面除去工程を有している。この製造方法によれば、誘電体膜が形成される前に、大気中の硫黄化合物と反応して電極表面に生成した硫黄を含有する硫化銀（Ａｇ₂Ｓ）や亜硫酸銀（Ａｇ₂ＳＯ₃）等の銀化合物を除去することにより、誘電体膜の焼成工程でのこれら化合物の分解を抑制することができる。
【００１４】
また本発明のＰＤＰの製造方法においては、さらに電極形成工程後にＰＤＰのコントラストを向上させるための遮光層を形成するための遮光層形成工程と、遮光層を焼成するための遮光層焼成工程とを含み、遮光層焼成工程の前に表面除去工程を有している。そのため、遮光層の形成過程で電極表面に生成する銀化合物を除去し、ガラス基板への銀イオン（Ａｇ⁺）の拡散を抑制することができる。
【００１５】
さらに本発明のＰＤＰの製造方法は、表面除去工程が電極表面に生成した硫黄を含む銀化合物の除去工程を有する。常温・常圧の大気中の硫化水素と硫黄酸化物の濃度は通常高々０．０２ｐｐｍと極めて低いため、硫黄を含有する銀化合物の生成速度は比較的小さい。それゆえ、硫黄化合物の生成量制御および生成物除去は容易に行うことができ、本製造方法により大気中に放置した際に電極表面に生成される硫黄化合物を除去し、基板への銀イオン拡散量の増加を抑制することができる。
【００１６】
さらに本発明のＰＤＰの製造方法は、表面除去の方法として、銀イオンの還元反応を用いる方法や研磨方法を用いる方法としており、プロセス中に導入することが容易で確実に着色現象を抑制することができる。
【００１７】
さらに本発明のＰＤＰの製造方法は、表面除去工程を雰囲気温度が硫化銀（Ａｇ₂Ｓ）の分解反応が促進される５２０℃以下の環境下で行うこととしているため、硫黄化合物の分解を抑制した条件下で電極表面に生成した硫黄化合物を確実に除去できる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００１９】
図１は、実施の形態に係るＰＤＰの主要構成を示す要部断面斜視図である。図において、ｚ方向がＰＤＰの厚み方向に、またｘｙ面がＰＤＰ面に平行な平面に相当する。図２は図１のＡ−Ａ断面矢視図である。
【００２０】
図１に示すように、ＰＤＰは、互いに対向させて配置された前面板１および背面板２で構成される。前面板１において、前面ガラス基板３の背面板２側の面上に、ストライプ状の透明電極４がｘ方向を長手方向として複数本平行に形成されている。さらに透明電極４よりも幅が狭く、導電性に優れたバス電極５が、図２に示すように、奇数番目の透明電極４については長手方向の一方の端縁に沿って、また偶数番目の透明電極４については長手方向の他方の端縁に沿ってそれぞれ透明電極４上に配設されて、表示電極６が構成されている。隣接する表示電極６の、バス電極５に覆われている端縁側の間それぞれには、遮光層７が設けられている。この遮光層７は非発光時に蛍光体層８からの白色を遮蔽し、コントラストを向上させるためのものである。
【００２１】
そして、前面ガラス基板３の、表示電極６と遮光層７とを配設した面上に、表示電極６上および遮光層７上を含めて、誘電体膜９が形成され、さらに誘電体膜９上全域に保護膜１０が積層されている。
【００２２】
表示電極６は相隣り合う遮光層７の間に形成された表示電極６Ａと同６Ｂとで構成され、一つの表示画素に対応している。
【００２３】
背面板２において、背面ガラス基板１１の、前面板１側の面上に、複数のアドレス電極１２がｙ方向を長手方向としてストライプ状に並設され、さらにアドレス電極１２を覆って背面板誘電体層１３が形成されている。そして、ストライプ状の隔壁１４が、背面板誘電体層１３面の、アドレス電極１２間の領域の直上に位置するよう配設されている。隔壁１４と背面板誘電体層１３とで構成されるストライプ状の凹部には、赤色、緑色および青色で発光する蛍光体層８が規則的に配置、形成されている。
【００２４】
このような構成を有する前面板１と背面板２とは、図１に示すように、アドレス電極１２と表示電極６とが直交するように対向させて配置され、背面板２の隔壁１４および背面板誘電体層１３で構成されたストライプ状凹部と、前面板１の保護膜１０とで囲まれた空間には、放電ガスが充填され、前面板１および背面板２の外周縁部が封着ガラスで封止されている。
【００２５】
これにより、隣接する隔壁１４間に放電空間１５が形成され、図２に示すように、隣り合う一対の表示電極６Ａ、６Ｂと１本のアドレス電極１２とが交叉する領域が放電空間１５となり、画像表示にかかわるセルとなる。放電空間１５には、Ｈｅ、ＸｅまたはＮｅ等の希ガス成分からなる放電ガス（封入ガス）が４００Ｔｏｒｒ〜６００Ｔｏｒｒ程度の圧力で封入されている。
【００２６】
ＰＤＰ駆動時には各セルにおいて、アドレス電極１２と表示電極６、あるいは一対の表示電極６Ａ、同６Ｂ同士での放電によって短波長の紫外線（波長約１４７ｎｍ）が発生し、蛍光体層８が発光して画像表示がなされる。
【００２７】
本実施の形態における前面板１の具体的な製造方法について説明する。図３および図４は本発明の実施の形態に係る電極およびそれを用いたＰＤＰの前面板の製造工程の一例を概略的に示す流れ図であり、図３は前面板１の遮光層７の形成プロセスの途中までを示し、それ以降を図４に示している。図３において、第１の工程Ａ１は、フロート法で形成された前面ガラス基板３上にＩＴＯや酸化錫（ＳｎＯ₂）等からなる透明電極材料膜１６をスパッタ法等により一様に成膜する工程である。工程Ａ２はフォトリソグラフィー法を用いて透明電極材料膜１６を所望の形状にパターニングし透明電極４を形成する工程である。このときノボラック樹脂を主成分とするポジ型レジスト１７を１．５μｍ〜２μｍの膜厚で塗布し、所望のパターンの露光乾板１８を介して紫外線を露光し、レジストを硬化させる。前記紫外線の光源１９は超高圧水銀ランプであり、光量は３００ｍＪ／ｃｍ²である。次にアルカリ水溶液で現像を行い、レジストパターンを形成する。その後工程Ａ３にて、塩酸を主成分とする溶液に基板を浸積させてエッチングを行い、不要部分の除去を行い、最後にレジストを剥離した後、乾燥工程を経てパターンニングされた透明電極４が形成される。工程Ａ４は金属電極材料膜２０を透明電極４上に形成する工程である。この工程は用いられる材料が銀（Ａｇ）を材料に含有する導電性材料、ガラスフリット（ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系やＢｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系等）、重合開始剤、光硬化性モノマー、有機溶剤を成分として含有するネガ型感光性ペーストである。形成方法としてはスクリーン印刷法やシート法等が用いられ、スクリーン印刷法の場合には乾燥工程を経て次工程に進む。工程Ａ５は金属電極材料膜２０をパターン化して表示電極となるバス電極５を形成する工程であり、金属電極材料膜２０に所望のパターンの露光乾板２１を介して紫外線を照射し露光部を硬化させる。このときの紫外線の光源２２は超高圧水銀ランプであり、光量は３００ｍＪ／ｃｍ²である。次に工程Ａ６において、アルカリ性現像液（０．３ｗｔ％の炭酸ナトリウム水溶液）を用いて現像してパターンを形成し、乾燥後空気中でガラス材料の軟化点以上の温度で焼成を行い銀材料よりなる導電性に優れたバス電極５を前面ガラス基板３上に形成された透明電極４上に固着させる。
【００２８】
本実施の形態では、バス電極５として一層の電極で説明しているが、この電極部でのコントラストを向上させるために透明電極４上に黒色の電極を形成し、さらにその上に銀材料よりなるバス電極５を形成しても良い。
【００２９】
工程Ａ７は、バス電極５間からの背面板２の蛍光体層８から白色反射を抑制しコントラストを向上させるために設ける遮光層材料膜２３の形成工程である。この工程で用いられる材料は黒色顔料、ガラスフリット（ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系やＢｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系等）、重合開始剤、光硬化性モノマー、有機溶剤を成分として含有するネガ型感光性ペーストである。ここで黒色顔料は例えば銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、コバルト（Ｃｏ）の酸化物の２種類以上を主成分として含む金属酸化物顔料を用いている。形成方法としてはスクリーン印刷法やシート法等が用いられ、スクリーン印刷法の場合には乾燥工程を経て次工程に進む。
【００３０】
工程Ａ８は、遮光層７を形成する工程である。この工程は銀電極形成の工程Ａ５と同様の露光プロセスであり、露光照度等の条件は異なるが工程としては同一であるので説明は省略する。
【００３１】
次に図４について説明する。図４の工程は図３の工程と連続している。工程Ａ９において、アルカリ性現像液を用いて現像して遮光層７のパターンを形成し、乾燥処理をする。
【００３２】
前述のように、ガラス基板の着色（黄変）は特に電極表面に生成した酸化銀（Ａｇ₂Ｏ）と硫黄を含有する銀化合物（例えば硫化銀（Ａｇ₂Ｓ）や亜硫酸銀（Ａｇ₂ＳＯ₃））とに起因しており、焼成工程でこれらの銀化合物が分解する時に銀イオン（Ａｇ⁺）がガラス基板へ拡散することによって発生する。したがって、バス電極５が形成された工程Ａ６から遮光層７が形成され焼成工程に入るまでの時間の中で、大気中の酸素あるいは硫黄成分と銀（Ａｇ）との化合物が形成されている。したがって、本実施の形態では、これらのうち、電極表面に形成される硫黄との銀化合物除去を目的として、工程Ａ１０を設けている。
【００３３】
工程Ａ１０のバス電極５の表面に生成した硫黄を含む銀化合物を除去する工程である。この工程では槽２４内で０．１ｗｔ％に相当するアルミニウム（Ａｌ）を溶解させた２ｗｔ％、８０℃の炭酸水素ナトリウム水溶液からなる処理液２５にバス電極５を形成し、遮光層７は乾燥工程まで経た前面板仕掛品２６を１５分間侵積させて、バス電極表面に生成した硫黄を含む銀化合物を除去する。その後、水洗を行い基板表面に残留した銀イオン（Ａｇ⁺）やナトリウムイオン（Ｎａ⁺）等を除去している。この時、銀イオンとアルミニウムイオンとの間の還元反応によりバス電極表面に生成した硫黄を含む銀化合物を除去している。なお、本実施の形態では用いたアルミニウム金属以外に、銀（Ａｇ）よりもイオン化傾向の低い他の金属を用いても良いことは言うまでもない。また、バス電極表面に生成した硫黄を含む銀化合物の除去は、本実施の形態で示すアルミニウム（Ａｌ）を溶解させた２ｗｔ％、８０℃の炭酸水素ナトリウム水溶液を用いる方法以外に、例えば、水素（Ｈ₂）等還元性雰囲気中で前面板仕掛品２６を加熱して除去を行っても良いし、その他にもバフ研磨法等の機械的手段によって除去しても良く、本実施の形態に限定されるものではない。また、バフ研磨等を用いて表面除去を行う場合、その除去深さは工程の環境条件によっても変化するが、一般的な常温常圧の大気環境中ではその表面から２０ｎｍまで除去することにより硫黄を含む銀化合物を除去することが可能である。そのため、簡易な機械的研磨の方法によっても、他の構成要素に影響を与えることなく硫黄を含む銀化合物の除去が可能であった。
【００３４】
工程Ａ１１は、バス電極５表面の硫黄を含む銀化合物を除去した後の、遮光層７を焼成するプロセスである。硫黄を含む銀化合物がその前工程である工程Ａ１０で除去されているため、焼成工程でこれらの銀化合物が分解する時に銀イオン（Ａｇ⁺）に変化することがなくなる。したがって、この銀イオン（Ａｇ⁺）が透明電極４を拡散してガラス表面に至り、ガラス中に含まれるナトリウムイオン（Ｎａ⁺）等とイオン交換してガラス中に銀イオン（Ａｇ⁺）が侵入する。侵入した銀イオン（Ａｇ⁺）は還元層に存在する錫イオン（Ｓｎ⁺⁺）によって還元され、金属銀（Ａｇ）のコロイドを形成してガラス基板表面が着色されることもなくなる。
【００３５】
遮光層７を形成した後、誘電体膜９と保護膜１０を形成して前面板１が完成するが、誘電体膜９を形成するまでに、大気中に放置しておくとバス電極５の表面に硫黄との化合物が生成される。製造ラインとして一定時間経過後に誘電体膜が形成される場合は硫黄との化合物の制御が可能であるが、着色が発生しないレベルとするには１時間〜２時間程度の放置時間しか許せない。そこで本実施の形態では、工程Ａ１２に再度の銀電極表面除去工程を付加している。工程はＡ１０と同様であるので説明を省略する。
【００３６】
工程Ａ１３は誘電体膜９を形成する工程である。誘電体ガラス粉末を含むペーストをスクリーン印刷法等を用いて画面表示領域の全面に塗布する。その後、赤外線乾燥炉を用いた１００℃、１０分間の乾燥工程によりペーストに含まれる溶剤は塗膜から除去される。スクリーン印刷法では一度の印刷では所望の膜厚の塗膜が形成されないため、この印刷および乾燥工程を複数回繰り返し所望の膜厚の誘電体材料膜を形成する。その後６００℃程度の温度で焼成して誘電体膜９を形成する。なお、このときの誘電体膜９の膜厚は約３０μｍである。
【００３７】
工程Ａ１４は保護膜１０の形成する工程である。保護層はＭｇＯからなり電子ビーム蒸着法により、膜厚約６００ｎｍでパネルに一様に成膜される。このようにして前面板１が完成する。この前面板１が背面板２と貼り合わされてＰＤＰが完成する。
【００３８】
なお、本実施の形態では、銀電極表面に生成される硫黄を含む銀化合物除去を遮光層の焼成工程前と誘電体膜形成工程前との２回行っているが、誘電体膜形成工程前の一回だけで行うことでも着色を抑制する効果はある。すなわち、銀電極と環境中に存在する硫黄分との反応によって生成する化合物を焼成工程で分解される前に除去することによって着色を抑制できる。
【００３９】
また、図５には空気中の硫化銀（Ａｇ₂Ｓ）の熱分解特性を示す。バス電極５の電極表面に生成される硫化銀（Ａｇ₂Ｓ）は、温度が５２０℃を超えると急激に分解が進む。そこで本実施の形態によれば、前述の銀電極表面除去工程を５２０℃以下で行うことでその化合物の分解を抑制しながら効率的な化合物の除去が可能となる。
【００４０】
表１には本実施の形態における図３、図４に示す一連の工程により作成した場合と、従来の工程すなわち硫黄を含む銀化合物を除去する工程がない場合との、前面板の着色度および工程途中での電極表面の硫黄化合物層の厚みを示している。
【００４１】
【表１】

【００４２】
表中の硫黄の検出深さは、図４の工程Ａ１０の硫黄を含む銀化合物の銀電極表面除去工程の直後にバス電極の表面の組成をオージェ電子分光法により深さ方向分析した。
【００４３】
また、完成した前面板の黄色着色度は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系（ＣＩＥ１９７６）のｂ＊の値を計測して比較した。なお、このとき光源はＤ６５光源を用いた。
【００４４】
その結果、従来品では５ｎｍの深さまで硫黄を含む銀化合物が検出されたのに対して、本実施の形態による工程品からは検出されず、この工程で電極表面の硫黄を含む銀化合物が除去されていることが確認された。また、着色度合いを示すｂ＊は本実施の形態による前面板では０．４であったのに対して、従来品では２．０であり、本実施の形態による前面板が従来品よりも着色強度が低いことを示している。
【００４５】
このように、硫黄を含む銀化合物の除去することでガラス基板の黄色着色を防止することができた。
【００４６】
【発明の効果】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、フロート法により作製されたガラス基板に銀材料を含有する電極パターンを形成する電極形成工程と、電極パターンを含むガラス基板に誘電体膜を形成する誘電体膜形成工程と、誘電体膜に保護膜を形成する工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法の、少なくとも誘電体膜形成工程の前に電極パターンの電極表面を除去する表面除去工程を有しているため、誘電体が形成される前に、大気中の硫黄と反応して電極表面に沿って生成した硫黄を含有する銀化合物、例えば硫化銀（Ａｇ₂Ｓ）や亜硫酸銀（Ａｇ₂ＳＯ₃）等を含む層を除去することにより、誘電体膜の焼成工程でのこれら化合物の分解を抑制することができる。そのため、導電性の優れた銀材料を用いた電極の場合でも、ガラス基板の黄色着色を防止することが可能であり、輝度低下のない高品質のプラズマディスプレイパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ＰＤＰの主要構成を示す要部断面斜視図
【図２】図１におけるＡ−Ａ断面矢視図
【図３】本発明の実施の形態を示す遮光層形成の露光工程までの工程流れ図
【図４】本発明の実施の形態を示す保護膜形成工程までの工程流れ図
【図５】Ａｇ₂Ｓの熱分解特性図
【符号の説明】
１ 前面板
２ 背面板
３ 前面ガラス基板
４ 透明電極
５ バス電極
６，６Ａ，６Ｂ 表示電極
７ 遮光層
８ 蛍光体層
９ 誘電体膜
１０ 保護膜
１１ 背面ガラス基板
１２ アドレス電極
１３ 背面板誘電体層
１４ 隔壁
１５ 放電空間
１６ 透明電極材料膜
１７ ポジ型レジスト
１８，２１ 露光乾板
１９，２２ 光源
２０ 金属電極材料膜
２３ 遮光層材料膜
２４ 槽
２５ 処理液
２６ 前面板仕掛品

Claims (6)

1. フロート法によって作製されたガラス基板の一方の主面に銀材料を含有する表示電極となる電極パターンを形成する電極形成工程と、前記電極パターンの表面層を除去する表面除去工程と、前記電極パターン上を含む前記ガラス基板の一方の主面上に誘電体膜を形成する誘電体膜形成工程と、前記誘電体膜上に保護膜を形成する保護膜形成工程とを有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
2. 前記電極形成工程の後にさらに遮光層形成工程と遮光層焼成工程とを有し、前記遮光層焼成工程の前に前記電極パターンの表面層を除去する表面除去工程を有することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
3. 前記表面除去工程は前記電極パターンの表面に生成した硫黄を含む銀化合物の除去工程であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
4. 前記表面除去工程が銀イオンの還元反応を含む工程であることを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
5. 前記表面除去工程が前記電極パターンの表面を機械的に研磨する研磨工程であることを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
6. 前記表面除去工程は５２０℃以下の雰囲気中で行われることを特徴とする請求項２から請求項５のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。

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