JP4278983B2 - グルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体及びその医薬用途 - Google Patents

グルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体及びその医薬用途 Download PDF

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Description

技術分野
本発明は、医薬品として有用なグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩、およびその医薬用途に関するものである。
さらに詳しく述べれば、本発明は、糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症等の予防又は治療剤として有用な、ヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を有する、一般式
Figure 0004278983
〔式中のＲは水素原子、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、シアノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式ＨＯ−Ａ１−（式中のＡ１は単結合、低級アルキレン基または低級アルキレンオキシ基である）で表される基であり、Ｒ２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ０は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式ＨＯ−Ａ２−（式中のＡ２は低級アルキレン基、低級アルキレンオキシ基、低級アルキレンチオ基または低級アルケニレン基である）で表される基であり、但し、Ｒ０が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基の場合、ＲとＲ２は同時に水素原子ではない〕で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体を活性本体とする、一般式
Figure 0004278983
〔式中のＰは水素原子またはプロドラッグを構成する基であり、Ｒ１は水素原子、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、シアノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ１−Ｏ−Ａ１−（式中のＰ１は水素原子またはプロドラッグを構成する基であり、Ａ１は単結合、低級アルキレン基または低級アルキレンオキシ基である）で表される基であり、Ｒ２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ２−Ｏ−Ａ２−（式中のＰ２は水素原子またはプロドラッグを構成する基であり、Ａ２は低級アルキレン基、低級アルキレンオキシ基、低級アルキレンチオ基または低級アルケニレン基である）で表される基であり、但し、Ｐ、Ｐ１およびＰ２のうち少なくとも一つにプロドラッグを構成する基を有しており、かつＲ３が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基の場合、Ｒ１とＲ２は同時に水素原子ではない〕で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩、及びその医薬用途に関するものである。
背景技術
糖尿病は食生活の変化や運動不足を背景とした生活習慣病の一つである。それ故、糖尿病患者には食事療法や運動療法が実施されているが、充分なコントロールや継続的実施が困難な場合、薬物療法が併用されている。現在、抗糖尿病薬としては、ビグアナイド薬、スルホニルウレア薬やインスリン感受性増強薬などが使用されている。しかしながら、ビグアナイド薬には乳酸アシドーシス、スルホニルウレア薬には低血糖、インスリン感受性増強薬には浮腫などの副作用が認められることがある上、肥満化を促進させることが懸念されている。そのため、このような問題を解消すべく新しい作用機序による抗糖尿病薬の開発が嘱望されている。
近年、腎臓において過剰な糖の再吸収を阻害することで尿糖の排泄を促進させて血糖値を低下させる、新しいタイプの抗糖尿病薬の研究開発が推進されている（Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．，Ｖｏｌ．７９，ｐｐ．１５１０−１５１５（１９８７））。また、腎臓の近位尿細管のＳ１領域にＳＧＬＴ２（ナトリウム依存性グルコース輸送体２）が存在し、このＳＧＬＴ２が糸球体ろ過された糖の再吸収に主として関与していることが報告されている（Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．，Ｖｏｌ．９３，ｐｐ．３９７−４０４（１９９４））。それ故、ヒトＳＧＬＴ２を阻害することにより腎臓での過剰な糖の再吸収を抑制し、尿から過剰な糖を排泄させて血糖値を正常化することができる。従って、強力なヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を有し、新しい作用機序による抗糖尿病薬の早期開発が待望される。また、このような尿糖排泄促進薬は過剰な血糖を尿から排泄させるため、体内での糖の蓄積が減少することから、肥満症の防止又は軽減効果や利尿効果も期待できる。更には、高血糖症に起因し、糖尿病や肥満症の進展に伴い発症する各種の関連疾患にも有用であると考えられる。
発明の開示
本発明者らは、ヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記の如く生体内において活性本体である前記一般式（ＩＩ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体に変換されて優れたヒトＳＧＬＴ２阻害活性を示すという知見を得、本発明を成すに至った。
本発明は、生体内においてヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を発揮し、腎臓での糖の再吸収を抑制し過剰な糖を尿中に排泄させることにより、優れた血糖低下作用を発現する、下記のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体およびその薬理学的に許容される塩並びにその医薬用途を提供するものである。
即ち、本発明は、一般式
Figure 0004278983
〔式中のＰは水素原子またはプロドラッグを構成する基であり、Ｒ１は水素原子、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、シアノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ１−Ｏ−Ａ１−（式中のＰ１は水素原子またはプロドラッグを構成する基であり、Ａ１は単結合、低級アルキレン基または低級アルキレンオキシ基である）で表される基であり、Ｒ２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ２−Ｏ−Ａ２−（式中のＰ２は水素原子またはプロドラッグを構成する基であり、Ａ２は低級アルキレン基、低級アルキレンオキシ基、低級アルキレンチオ基または低級アルケニレン基である）で表される基であり、但し、Ｐ、Ｐ１およびＰ２のうち少なくとも一つにプロドラッグを構成する基を有しており、かつＲ３が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基の場合、Ｒ１とＲ２は同時に水素原子ではない〕で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩に関するものである。
また、本発明は、前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬組成物、ヒトＳＧＬＴ２活性阻害薬および高血糖症に起因する疾患の予防又は治療薬に関するものである。
本発明は、前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効量投与することからなる、高血糖症に起因する疾患の予防又は治療方法に関するものである。
本発明は、高血糖症に起因する疾患の予防又は治療用の医薬組成物を製造するための、前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用に関するものである。
更には、本発明は、（Ａ）前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩、および（Ｂ）インスリン感受性増強薬、糖吸収阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬、インスリン製剤、グルカゴン受容体アンタゴニスト、インスリン受容体キナーゼ刺激薬、トリペプチジルペプチダーゼＩＩ阻害薬、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬、プロテインチロシンホスファターゼ−１Ｂ阻害薬、グリコゲンホスホリラーゼ阻害薬、グルコース−６−ホスファターゼ阻害薬、フルクトース−ビスホスファターゼ阻害薬、ピルビン酸デヒドロゲナーゼ阻害薬、肝糖新生阻害薬、Ｄ−カイロイノシトール、グリコゲン合成酵素キナーゼ−３阻害薬、グルカゴン様ペプチド−１、グルカゴン様ペプチド１−類縁体、グルカゴン様ペプチド−１アゴニスト、アミリン、アミリン類縁体、アミリンアゴニスト、アルドース還元酵素阻害薬、終末糖化産物生成阻害薬、プロテインキナーゼＣ阻害薬、γ−アミノ酪酸受容体アンタゴニスト、ナトリウムチャンネルアンタゴニスト、転写因子ＮＦ−κＢ阻害薬、脂質過酸化酵素阻害薬、Ｎ−アセチル化−α−リンクト−アシッド−ジペプチダーゼ阻害薬、インスリン様成長因子−Ｉ、血小板由来成長因子、血小板由来成長因子類縁体、上皮増殖因子、神経成長因子、カルニチン誘導体、ウリジン、５−ヒドロキシ−１−メチルヒダントイン、ＥＧＢ−７６１、ビモクロモル、スロデキシド、Ｙ−１２８、ヒドロキシメチルグルタリルコエンザイムＡ還元酵素阻害薬、フィブラート系化合物、β３−アドレナリン受容体アゴニスト、アシルコエンザイムＡ：コレステロールアシル基転移酵素阻害薬、プロブコール、甲状腺ホルモン受容体アゴニスト、コレステロール吸収阻害薬、リパーゼ阻害薬、ミクロソームトリグリセリドトランスファープロテイン阻害薬、リポキシゲナーゼ阻害薬、カルニチンパルミトイルトランスフェラーゼ阻害薬、スクアレン合成酵素阻害薬、低比重リポ蛋白受容体増強薬、ニコチン酸誘導体、胆汁酸吸着薬、ナトリウム共役胆汁酸トランスポーター阻害薬、コレステロールエステル転送タンパク阻害薬、食欲抑制薬、アンジオテンシン変換酵素阻害薬、中性エンドペプチダーゼ阻害薬、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬、エンドセリン変換酵素阻害薬、エンドセリン受容体アンタゴニスト、利尿薬、カルシウム拮抗薬、血管拡張性降圧薬、交換神経遮断薬、中枢性降圧薬、α２−アドレナリン受容体アゴニスト、抗血小板薬、尿酸生成阻害薬、尿酸排泄促進薬および尿アルカリ化薬からなる群より選択される少なくとも１種の薬剤を組合わせてなる医薬に関するものである。
本発明は、（Ａ）前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩、および（Ｂ）インスリン感受性増強薬、糖吸収阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬、インスリン製剤、グルカゴン受容体アンタゴニスト、インスリン受容体キナーゼ刺激薬、トリペプチジルペプチダーゼＩＩ阻害薬、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬、プロテインチロシンホスファターゼ−１Ｂ阻害薬、グリコゲンホスホリラーゼ阻害薬、グルコース−６−ホスファターゼ阻害薬、フルクトース−ビスホスファターゼ阻害薬、ピルビン酸デヒドロゲナーゼ阻害薬、肝糖新生阻害薬、Ｄ−カイロイノシトール、グリコゲン合成酵素キナーゼ−３阻害薬、グルカゴン様ペプチド−１、グルカゴン様ペプチド−１類縁体、グルカゴン様ペプチド−１アゴニスト、アミリン、アミリン類縁体、アミリンアゴニスト、アルドース還元酵素阻害薬、終末糖化産物生成阻害薬、プロテインキナーゼＣ阻害薬、γ−アミノ酪酸受容体アンタゴニスト、ナトリウムチャンネルアンタゴニスト、転写因子ＮＦ−κＢ阻害薬、脂質過酸化酵素阻害薬、Ｎ−アセチル化−α−リンクト−アシッド−ジペプチダーゼ阻害薬、インスリン様成長因子−Ｉ、血小板由来成長因子、血小板由来成長因子類縁体、上皮増殖因子、神経成長因子、カルニチン誘導体、ウリジン、５−ヒドロキシ−１−メチルヒダントイン、ＥＧＢ−７６１、ビモクロモル、スロデキシド、Ｙ−１２８、ヒドロキシメチルグルタリルコエンザイムＡ還元酵素阻害薬、フィブラート系化合物、β３−アドレナリン受容体アゴニスト、アシルコエンザイムＡ：コレステロールアシル基転移酵素阻害薬、プロブコール、甲状腺ホルモン受容体アゴニスト、コレステロール吸収阻害薬、リパーゼ阻害薬、ミクロソームトリグリセリドトランスファープロテイン阻害薬、リポキシゲナーゼ阻害薬、カルニチンパルミトイルトランスフェラーゼ阻害薬、スクアレン合成酵素阻害薬、低比重リポ蛋白受容体増強薬、ニコチン酸誘導体、胆汁酸吸着薬、ナトリウム共役胆汁酸トランスポーター阻害薬、コレステロールエステル転送タンパク阻害薬、食欲抑制薬、アンジオテンシン変換酵素阻害薬、中性エンドペプチダーゼ阻害薬、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬、エンドセリン変換酵素阻害薬、エンドセリン受容体アンタゴニスト、利尿薬、カルシウム拮抗薬、血管拡張性降圧薬、交換神経遮断薬、中枢性降圧薬、α２−アドレナリン受容体アゴニスト、抗血小板薬、尿酸生成阻害薬、尿酸排泄促進薬および尿アルカリ化薬からなる群より選択される少なくとも１種の薬剤を有効量投与することからなる、高血糖症に起因する疾患の予防又は治療方法に関するものである。
本発明は、高血糖症に起因する疾患の予防又は治療用の医薬組成物を製造するための、（Ａ）前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩、および（Ｂ）インスリン感受性増強薬、糖吸収阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬、インスリン製剤、グルカゴン受容体アンタゴニスト、インスリン受容体キナーゼ刺激薬、トリペプチジルペプチダーゼＩＩ阻害薬、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬、プロテインチロシンホスファターゼ−１Ｂ阻害薬、グリコゲンホスホリラーゼ阻害薬、グルコース−６−ホスファターゼ阻害薬、フルクトース−ビスホスファターゼ阻害薬、ピルビン酸デヒドロゲナーゼ阻害薬、肝糖新生阻害薬、Ｄ−カイロイノシトール、グリコゲン合成酵素キナーゼ−３阻害薬、グルカゴン様ペプチド−１、グルカゴン様ペプチド−１類縁体、グルカゴン様ペプチド−１アゴニスト、アミリン、アミリン類縁体、アミリンアゴニスト、アルドース還元酵素阻害薬、終末糖化産物生成阻害薬、プロテインキナーゼＣ阻害薬、γ−アミノ酪酸受容体アンタゴニスト、ナトリウムチャンネルアンタゴニスト、転写因子ＮＦ−κＢ阻害薬、脂質過酸化酵素阻害薬、Ｎ−アセチル化−α−リンクト−アシッド−ジペプチダーゼ阻害薬、インスリン様成長因子−Ｉ、血小板由来成長因子、血小板由来成長因子類縁体、上皮増殖因子、神経成長因子、カルニチン誘導体、ウリジン、５−ヒドロキシ−１−メチルヒダントイン、ＥＧＢ−７６１、ビモクロモル、スロデキシド、Ｙ−１２８、ヒドロキシメチルグルタリルコエンザイムＡ還元酵素阻害薬、フィブラート系化合物、β３−アドレナリン受容体アゴニスト、アシルコエンザイムＡ：コレステロールアシル基転移酵素阻害薬、プロブコール、甲状腺ホルモン受容体アゴニスト、コレステロール吸収阻害薬、リパーゼ阻害薬、ミクロソームトリグリセリドトランスファープロテイン阻害薬、リポキシゲナーゼ阻害薬、カルニチンパルミトイルトランスフェラーゼ阻害薬、スクアレン合成酵素阻害薬、低比重リポ蛋白受容体増強薬、ニコチン酸誘導体、胆汁酸吸着薬、ナトリウム共役胆汁酸トランスポーター阻害薬、コレステロールエステル転送タンパク阻害薬、食欲抑制薬、アンジオテンシン変換酵素阻害薬、中性エンドペプチダーゼ阻害薬、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬、エンドセリン変換酵素阻害薬、エンドセリン受容体アンタゴニスト、利尿薬、カルシウム拮抗薬、血管拡張性降圧薬、交換神経遮断薬、中枢性降圧薬、α２−アドレナリン受容体アゴニスト、抗血小板薬、尿酸生成阻害薬、尿酸排泄促進薬および尿アルカリ化薬からなる群より選択される少なくとも１種の薬剤の使用に関するものである。
本発明において、プロドラッグとは、生体内において活性本体である前記一般式（ＩＩ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体に変換される化合物をいう。プロドラッグを構成する基としては、例えば、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基等のプロドラッグにおいて通常使用することができる水酸基の保護基を挙げることができる。
前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体としては、例えば、一般式
Figure 0004278983
〔式中のＰ１０は水素原子、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基であり、Ｒ１１は水素原子、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、シアノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ１１−Ｏ−Ａ１−（式中のＰ１１は水素原子、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基であり、Ａ１は単結合、低級アルキレン基または低級アルキレンオキシ基である）で表される基であり、Ｒ２は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ１３は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ１２−Ｏ−Ａ２−（式中のＰ１２は水素原子、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基であり、Ａ２は低級アルキレン基、低級アルキレンオキシ基、低級アルキレンチオ基または低級アルケニレン基である）で表される基であり、但し、Ｐ１０、Ｐ１１およびＰ１２のうち少なくとも一つに低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基を有しており、かつＲ１３が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基の場合、Ｒ１１とＲ２は同時に水素原子ではない〕で表される化合物またはその薬理学的に許容される塩を挙げることができる。
本発明において、低級アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルキル基をいい、低級アルコキシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルコキシ基をいい、低級アルキルチオ基とは、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ネオペンチルチオ基、ｔｅｒｔ−ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等の炭素数１〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルキルチオ基をいう。低級アルコキシ低級アルキル基とは、上記低級アルコキシ基で置換された上記低級アルキル基をいい、低級アルコキシ低級アルコキシ基とは、上記低級アルコキシ基で置換された上記低級アルコキシ基をいい、低級アルコキシ低級アルキルチオ基とは、上記低級アルコキシ基で置換された上記低級アルキルチオ基をいう。低級アルキレン基とは、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基等の炭素数１〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルキレン基をいい、低級アルキレンオキシ基とは、炭素数１〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルキレンオキシ基をいい、低級アルキレンチオ基とは、炭素数１〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルキレンチオ基をいい、低級アルケニレン基とは、１−プロペニレン基等の炭素数３〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルケニレン基をいう。低級アルケニルオキシ基とは、アリルオキシ基等の炭素数２〜６の直鎖状または枝分かれ状のアルケニルオキシ基をいい、アルアルキルオキシ基とは、ベンジルオキシ基等のフェニル基、ナフチル基等のアリール基で置換された上記低級アルコキシ基をいい、アルアルキルオキシ低級アルキル基とは、上記アルアルキルオキシ基で置換された上記低級アルキル基をいい、シアノ低級アルキル基とは、シアノ基で置換された上記低級アルキル基をいい、カルバモイル低級アルキル基とは、カルバモイル基で置換された上記低級アルキル基をいい、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基とは、上記低級アルキル基でモノ又はジ置換されたアミノ基をいう。低級アルコキシカルボニル基とは、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２〜７の直鎖状、枝分かれ状または環状のアルコキシカルボニル基をいい、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基とは、上記低級アルコキシカルボニル基で置換された上記低級アルキル基をいい、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基とは、上記低級アルコキシカルボニル基で置換された上記低級アルコキシ基をいい、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基とは、２−メトキシエトキシカルボニル基等の上記低級アルコキシ基で置換された上記低級アルコキシカルボニル基をいう。カルボキシ低級アルキル基とは、カルボキシ基で置換された上記低級アルキル基をいい、カルボキシ低級アルコキシ基とは、カルボキシ基で置換された上記低級アルコキシ基をいう。低級アシル基とは、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキシルカルボニル基等の炭素数２〜７の直鎖状、枝分かれ状または環状のアシル基をいい、低級アルコキシ低級アシル基とは、上記低級アルコキシ基で置換された上記低級アシル基をいい、低級アルコキシカルボニル低級アシル基とは、３−（エトキシカルボニル）プロピオニル基等の上記低級アルコキシカルボニル基で置換された上記低級アシル基をいう。
本発明において、プロドラッグを構成する基としては、低級アシル基又は低級アルコキシカルボニル基が好ましい。本発明の化合物としては、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ピバロイルオキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−ブチリル−β−Ｄ−グルコピラノシド、５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−（エトキシカルボニルオキシメチル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−ヘキサノイル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−ピバロイル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−イソブチルオキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−イソプロピルオキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−〔４−（２−アセトキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド等の、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド又は２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシドのプロドラッグが好ましい。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体の水酸基に、以下の方法又はそれに準じた方法に従いプロドラッグにおいて使用可能な水酸基の保護基を導入することにより製造することができる。
Figure 0004278983
〔式中のＰ０はプロドラッグを構成する基であり、Ｒ４は水素原子、保護基を有していてもよいアミノ基、保護基を有していてもよいモノ（低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基、シアノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ３１−Ｏ−Ａ１−（式中のＰ３１は水素原子または水酸基の保護基であり、Ａ１は単結合、低級アルキレン基または低級アルキレンオキシ基である）で表される基であり、Ｒ５は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、保護基を有していてもよいアミノ基、保護基を有していてもよいモノ（低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ３２−Ｏ−Ａ２−（式中のＰ３２は水素原子または水酸基の保護基であり、Ａ２は低級アルキレン基、低級アルキレンオキシ基、低級アルキレンチオ基または低級アルケニレン基である）で表される基であり、Ｘは臭素原子、塩素原子等の脱離基であり、Ｐ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は前記と同じ意味をもつ〕
前記一般式（ＩＩＩ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体の水酸基を前記一般式（ＩＶ）で表される保護化試薬を用いて、不活性溶媒中又は無溶媒下、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピコリン、ルチジン、コリジン、キヌクリジン、１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、１，４−ジアザビシクロ〔２．２．２〕オクタン等の塩基の存在下にプロドラッグ化した後、必要に応じ、クロマトグラフィー等を用いて所望の化合物を分離するか、或いは既存の水酸基および／またはアミノ基の保護基を常法に従い除去することにより前記一般式（Ｉ）で表されるプロドラッグを製造することができる。プロドラッグ化の反応に用いられる溶媒としては、例えば、塩化メチレン、アセトニトリル、酢酸エチル、ジイソプロピルエーテル、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、アセトン、ｔｅｒｔ−ブタノール、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常−４０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜２日間である。
前記製造方法において出発物質として用いられる前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、例えば、以下の方法に従い製造することができる。
Figure 0004278983
（式中のＭは水酸基の保護基であり、Ｘ１はトリクロロアセトイミドイルオキシ基、アセトキシ基、臭素原子、フッ素原子等の脱離基であり、ＹおよびＺはどちらか一方がＭｇＢｒ、ＭｇＣｌ、ＭｇＩまたはリチウム原子であり、他方がホルミル基であり、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５は前記と同じ意味をもつ）
工程１
前記一般式（Ｖ）で表されるベンズアルデヒド誘導体と前記一般式（ＶＩ）で表されるグリニャール試薬またはリチウム試薬、若しくは前記一般式（Ｖ）で表されるグリニャール試薬またはリチウム試薬と前記一般式（ＶＩ）で表されるベンズアルデヒド誘導体を、不活性溶媒中、縮合させることにより前記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造することができる。用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常−７８℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分間〜１日間である。
工程２
前記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を、不活性溶媒中、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬を用いて酸化することにより前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物を製造することができる。用いられる溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１時間〜１日間である。
工程３
前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の保護基Ｍを常法に従い除去した後、不活性溶媒中、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の塩基の存在下、クロロギ酸メチルと縮合し、得られた炭酸エステル誘導体を水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤を用いて還元することにより、前記一般式（ＩＸ）で表される化合物を製造することができる。縮合反応において用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、アセトニトリル、酢酸エチル、ジエチルエーテル、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜１日間である。還元反応において用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフランと水との混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１時間〜１日間である。また、前記一般式（ＩＸ）の化合物は、常法に従いナトリウム塩、カリウム塩等の塩に変換することができる。
工程４
前記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を、不活性溶媒中、塩酸等の酸の存在下または非存在下、パラジウム炭素粉末等のパラジウム系触媒を用いて接触還元した後、必要に応じて保護基Ｍを常法に従い除去することにより前記一般式（ＩＸ）で表される化合物を製造することができる。接触還元において用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸、イソプロパノール、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常室温〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜１日間である。また、前記一般式（ＩＸ）の化合物は、常法に従いナトリウム塩、カリウム塩等の塩に変換することができる。
尚、前記工程１〜４において、前記一般式（Ｖ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）及び（ＩＸ）で表される化合物の中、Ｒ４が保護基を有していてもよいアミノ基、保護基を有していてもよいモノ（低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基、シアノ基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基または一般式Ｐ３１−Ｏ−Ａ１１−（式中のＰ３１は水素原子または水酸基の保護基であり、Ａ１１は低級アルキレン基である）であり、及び／又はＲ５がシアノ基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、保護基を有していてもよいアミノ基、保護基を有していてもよいモノ（低級アルキル）アミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基または一般式Ｐ３２−Ｏ−Ａ１２−（式中のＰ３２は水素原子または水酸基の保護基であり、Ａ１２は低級アルキレン基または低級アルケニレン基である）である化合物は、置換基として低級アルコキシカルボニル基を有する相当する化合物を常法に従い適宜変換して製造した後、次工程（工程１〜６）に供することもできる。
工程５
前記一般式（ＩＸ）で表されるベンジルフェノール誘導体またはその塩を２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−α−Ｄ−グルコピラノース、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−β−Ｄ−グルコピラノース、１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グルコピラノシルブロミド、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシルフルオリド等の前記一般式（Ｘ）で表される糖供与体を用いて、不活性溶媒中、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体、トリフルオロメタンスルホン酸銀、塩化第二すず、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルなどの活性化剤の存在下に配糖化させることにより前記一般式（ＸＩ）で表される配糖体を製造することができる。用いられる溶媒としては、例えば、塩化メチレン、トルエン、アセトニトリル、ニトロメタン、酢酸エチル、ジエチルエーテル、クロロホルム、それらの混合溶媒などを挙げることができ、反応温度は通常−３０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常１０分間〜１日間である。
尚、前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の中、Ｒ４が保護基を有するモノ（低級アルキル）アミノ基である化合物は、上記工程５により得られる相当するＲ４が保護基を有するアミノ基である化合物と低級アルキルハライド、メシル酸エステル、トシル酸エステル等の適当な低級アルキル基導入試薬とを、水素化ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基性物質の存在下、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、それらの混合溶媒等の溶媒中で反応させることにより製造することもできる。
工程６
前記一般式（ＸＩ）で表される配糖体をアルカリ加水分解させてアセチル基を除去することにより前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を製造することができる。用いられる溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、それらの混合溶媒などを挙げることができ、塩基性物質としては、例えば、水酸化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどを使用することができる。処理温度は通常０℃〜還流温度であり、処理時間は使用する原料物質や溶媒、処理温度などにより異なるが、通常３０分間〜６時間である。尚、置換基Ｒ４又は／及びＲ５において水酸基やアミノ基の保護基を有する場合、当該保護基の種類に応じ、上記処理方法を常法に従い適宜変更して実施することもでき、または上記工程の反応終了後に別途保護基の除去を常法に従い実施することにより所望の前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物に誘導することもできる。
前記製造方法において、水酸基の保護基とは、ベンジル基、メトキシメチル基、アセチル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基等の一般的な有機合成反応において用いられる水酸基の保護基をいい、アミノ基の保護基とは、ベンジルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、フタロイル基、ベンジル基、アセチル基等の一般的な有機合成反応において用いられるアミノ基の保護基をいう。
また、前記製造方法において用いられる前記一般式（ＩＸ）で表される化合物は、以下の方法に従い製造することもできる。
Figure 0004278983
（式中のＸ２は塩素原子等の脱離基であり、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５は前記と同じ意味をもつ）
工程７
前記一般式（ＸＩＩ）で表されるフェノール誘導体を、前記一般式（ＸＩＩＩ）で表されるベンジル誘導体を用いて、無溶媒中、水酸化リチウム等の塩基性物質の存在下にベンジル化することにより前記一般式（ＩＸ）で表される化合物を製造することができる。反応温度は通常５０〜２００℃であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜１日間である。
前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の中、下記一般式（ＩＩＩａ）で表される化合物は、例えば、下記一般式（ＸＩＶ）で表されるカルボン酸誘導体を用いて、以下の方法に従い製造することもできる。
Figure 0004278983
（式中のＡは炭素数１〜５の直鎖状または枝分かれ状のアルキル基、または炭素数２〜５の直鎖状または枝分かれ状のアルケニル基であり、Ｒ６は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ２およびＲ４は前記と同じ意味をもつ）
工程８
前記一般式（ＸＩＶ）で表されるカルボン酸誘導体を、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、メタノール、エタノール、それらの混合溶媒等の溶媒中、水素化リチウムアルミニウム、ボラン、水素化ホウ素リチウム等の還元剤を用いて還元することにより前記一般式（ＩＩＩａ）で表される化合物を製造することができる。反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜１日間である。
また、前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の中、下記一般式（ＩＩＩｂ）で表される化合物は、例えば、下記一般式（ＩＩＩｃ）で表されるフェノール誘導体を用いて、以下の方法に従い製造することもできる。
Figure 0004278983
（式中のＲ７は低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ３１−Ｏ−Ａ２１−（式中のＰ３１は水素原子または水酸基の保護基であり、Ａ２１は低級アルキレンオキシ基である）であり、Ｒ８は低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基または一般式Ｐ３１−Ｏ−Ａ３１−（式中のＰ３１は水素原子または水酸基の保護基であり、Ａ３１は低級アルキレン基である）であり、Ｘ３は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メシルオキシ、トシルオキシ基等の脱離基であり、Ｒ２およびＲ５は前記と同じ意味をもつ）
工程９
前記一般式（ＩＩＩｃ）で表されるフェノール誘導体を、水素化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム等の塩基性物質の存在下、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、それらの混合溶媒等の溶媒中で前記一般式（ＸＶ）で表されるアルキル化剤を用いてＯ−アルキル化した後、所望に応じ常法に従い保護基を除去することにより前記一般式（ＩＩＩｂ）で表される化合物を製造することができる。反応温度は通常０℃〜還流温度であり、反応時間は使用する原料物質や溶媒、反応温度などにより異なるが、通常３０分間〜１日間である。
前記製造方法において得られる本発明の化合物は、慣用の分離手段である分別再結晶法、クロマトグラフィーを用いた精製法、溶媒抽出法、固相抽出法等により単離精製することができる。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体は、常法により、その薬理学的に許容される塩とすることができる。
このような塩としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の鉱酸との酸付加塩、ギ酸、酢酸、アジピン酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、オレイン酸、乳酸、ステアリン酸、コハク酸、酒石酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、マロン酸、リンゴ酸、炭酸、グルタミン酸、アスパラギン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸との酸付加塩、２−アミノエタノール、ピペリジン、モルホリン、ピロリジン等の有機アミンとの塩、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等の無機塩基との塩を挙げることができる。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物には、水和物やエタノール等の医薬品として許容される溶媒との溶媒和物も含まれる。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、不飽和結合を有する化合物には、２つの幾何異性体が存在するが、本発明においてはシス（Ｚ）体の化合物またはトランス（Ｅ）体の化合物のいずれの化合物を使用してもよい。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、グルコピラノシルオキシ部分を除き不斉炭素原子を有する化合物には、Ｒ配置の化合物とＳ配置の化合物の２種類の光学異性体が存在するが、本発明においてはいずれの光学異性体を使用してもよく、それらの光学異性体の混合物であっても構わない。
前記一般式（Ｉ）で表される本発明のプロドラッグは、生体内で活性本体である前記一般式（ＩＩ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体に変換され、優れたヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を発揮することができる。また、前記一般式（Ｉ）で表される本発明のプロドラッグは、経口吸収性が改善されており、当該プロドラッグまたはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬組成物は、経口投与製剤としても高い有用性を有する。それ故、本発明のプロドラッグは、糖尿病、糖尿病性合併症（例えば、網膜症、神経障害、腎症、潰瘍、大血管症）、肥満症、高インスリン血症、糖代謝異常、高脂質血症、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、脂質代謝異常、アテローム性動脈硬化症、高血圧、うっ血性心不全、浮腫、高尿酸血症、痛風等の高血糖症に起因する疾患の予防または治療薬として極めて有用である。
また、本発明の化合物は、ＳＧＬＴ２活性阻害薬以外の少なくとも１種の薬剤と適宜組み合わせて使用することもできる。本発明の化合物と組み合わせて使用できる薬剤としては、例えば、インスリン感受性増強薬、糖吸収阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬、インスリン製剤、グルカゴン受容体アンタゴニスト、インスリン受容体キナーゼ刺激薬、トリペプチジルペプチダーゼＩＩ阻害薬、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬、プロテインチロシンホスファターゼ−１Ｂ阻害薬、グリコゲンホスホリラーゼ阻害薬、グルコース−６−ホスファターゼ阻害薬、フルクトース−ビスホスファターゼ阻害薬、ピルビン酸デヒドロゲナーゼ阻害薬、肝糖新生阻害薬、Ｄ−カイロイノシトール（Ｄ−ｃｈｉｒｏｉｎｏｓｉｔｏｌ）、グリコゲン合成酵素キナーゼ−３阻害薬、グルカゴン様ペプチド−１、グルカゴン様ペプチド−１類縁体、グルカゴン様ペプチド−１アゴニスト、アミリン、アミリン類縁体、アミリンアゴニスト、アルドース還元酵素阻害薬、終末糖化産物（ａｄｖａｎｃｅｄ ｇｌｙｃａｔｉｏｎ ｅｎｄｐｒｏｄｕｃｔｓ）生成阻害薬、プロテインキナーゼＣ阻害薬、γ−アミノ酪酸受容体アンタゴニスト、ナトリウムチャンネルアンタゴニスト、転写因子ＮＦ−κＢ阻害薬、脂質過酸化酵素阻害薬、Ｎ−アセチル化−α−リンクト−アシッド−ジペプチダーゼ（Ｎ−ａｃｅｔｙｌａｔｅｄ−α−ｌｉｎｋｅｄ−ａｃｉｄ−ｄｉｐｅｐｔｉｄａｓｅ）阻害薬、インスリン様成長因子−Ｉ、血小板由来成長因子（ＰＤＧＦ）、血小板由来成長因子（ＰＤＧＦ）類縁体（例えば、ＰＤＧＦ−ＡＡ、ＰＤＧＦ−ＢＢ、ＰＤＧＦ−ＡＢ）、上皮増殖因子（ＥＧＦ）、神経成長因子、カルニチン誘導体、ウリジン、５−ヒドロキシ−１−メチルヒダントイン、ＥＧＢ−７６１、ビモクロモル（ｂｉｍｏｃｌｏｍｏｌ）、スロデキシド（ｓｕｌｏｄｅｘｉｄｅ）、Ｙ−１２８、ヒドロキシメチルグルタリルコエンザイムＡ還元酵素阻害薬、フィブラート系化合物、β３−アドレナリン受容体アゴニスト、アシルコエンザイムＡ：コレステロールアシル基転移酵素阻害薬、プロブコール、甲状腺ホルモン受容体アゴニスト、コレステロール吸収阻害薬、リパーゼ阻害薬、ミクロソームトリグリセリドトランスファープロテイン阻害薬、リポキシゲナーゼ阻害薬、カルニチンパルミトイルトランスフェラーゼ阻害薬、スクアレン合成酵素阻害薬、低比重リポ蛋白受容体増強薬、ニコチン酸誘導体、胆汁酸吸着薬、ナトリウム共役胆汁酸トランスポーター阻害薬、コレステロールエステル転送タンパク阻害薬、食欲抑制薬、アンジオテンシン変換酵素阻害薬、中性エンドペプチダーゼ阻害薬、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬、エンドセリン変換酵素阻害薬、エンドセリン受容体アンタゴニスト、利尿薬、カルシウム拮抗薬、血管拡張性降圧薬、交換神経遮断薬、中枢性降圧薬、α２−アドレナリン受容体アゴニスト、抗血小板薬、尿酸生成阻害薬、尿酸排泄促進薬、尿アルカリ化薬等を挙げることができる。
本発明の化合物と上記の薬剤を１種類又はそれ以上組合わせて使用する場合、本発明は、単一の製剤としての同時投与、別個の製剤としての同一又は異なる投与経路による同時投与、及び別個の製剤としての同一又は異なる投与経路による間隔をずらした投与のいずれの投与形態を含み、本発明の化合物と上記の薬剤を組合わせてなる医薬とは、上記の如く単一製剤としての投与形態や別個の製剤を組み合わせた投与形態を含む。
本発明の化合物は、１種類又はそれ以上の上記薬剤と適宜組合わせて使用することにより、上記疾患の予防又は治療上相加効果以上の有利な効果を得ることができる。または、同様に、単独に使用する場合に比較してその使用量を減少させたり、或いは併用するＳＧＬＴ２活性阻害薬以外の薬剤の副作用を回避又は軽減させることができる。
組合わせて使用される薬剤の具体的な化合物や処置すべき好適な疾患について下記の通り例示するが、本発明の内容はこれらに限定されるものではなく、具体的な化合物においてはそのフリー体、及びその又は他の薬理学的に許容される塩を含む。
インスリン感受性増強薬としては、トログリタゾン、塩酸ピオグリタゾン、マレイン酸ロシグリタゾン、ダルグリタゾンナトリウム、ＧＩ−２６２５７０、イサグリタゾン（ｉｓａｇｌｉｔａｚｏｎｅ）、ＬＧ−１００６４１、ＮＣ−２１００、Ｔ−１７４、ＤＲＦ−２１８９、ＣＬＸ−０９２１、ＣＳ−０１１、ＧＷ−１９２９、シグリタゾン、エングリタゾンナトリウム、ＮＩＰ−２２１等のペルオキシソーム増殖薬活性化受容体γアゴニスト、ＧＷ−９５７８、ＢＭ−１７０７４４等のペルオキシソーム増殖薬活性化受容体αアゴニスト、ＧＷ−４０９５４４、ＫＲＰ−２９７、ＮＮ−６２２、ＣＬＸ−０９４０、ＬＲ−９０、ＳＢ−２１９９９４、ＤＲＦ−４１５８、ＤＲＦ−ＭＤＸ８等のペルオキシソーム増殖薬活性化受容体α／γアゴニスト、ＡＬＲＴ−２６８、ＡＧＮ−４２０４、ＭＸ−６０５４、ＡＧＮ−１９４２０４、ＬＧ−１００７５４、ベクサロテン（ｂｅｘａｒｏｔｅｎｅ）等のレチノイドＸ受容体アゴニスト、及びレグリキサン、ＯＮＯ−５８１６、ＭＢＸ−１０２、ＣＲＥ−１６２５、ＦＫ−６１４、ＣＬＸ−０９０１、ＣＲＥ−１６３３、ＮＮ−２３４４、ＢＭ−１３１２５、ＢＭ−５０１０５０、ＨＱＬ−９７５、ＣＬＸ−０９００、ＭＢＸ−６６８、ＭＢＸ−６７５、Ｓ−１５２６１、ＧＷ−５４４、ＡＺ−２４２、ＬＹ−５１０９２９、ＡＲ−Ｈ０４９０２０、ＧＷ−５０１５１６等のその他のインスリン感受性増強薬が挙げられる。インスリン感受性増強薬は、特には糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症、高インスリン血症、糖代謝異常、高脂質血症、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、脂質代謝異常、アテローム性動脈硬化症症の処置に好ましく、また抹消におけるインスリン刺激伝達機構の異常を改善することにより、血中グルコースの組織への取り込みを亢進し血糖値を低下させることから、糖尿病、高インスリン血症、糖代謝異常の処置に更に好ましい。
糖吸収阻害薬としては、アカルボース、ボグリボース、ミグリトール、ＣＫＤ−７１１、エミグリテート、ＭＤＬ−２５，６３７、カミグリボース、ＭＤＬ−７３，９４５等のα−グルコシダーゼ阻害薬、ＡＺＭ−１２７等のα−アミラーゼ阻害薬等が挙げられる。糖吸収阻害剤は、特には糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症、高インスリン血症、糖代謝異常の処置に好ましく、また食物中に含まれる炭水化物の消化管における酵素消化を阻害し、体内へのグルコースの吸収を遅延または阻害することから、糖尿病、糖代謝異常の処置に更に好ましい。
ビグアナイド薬としては、フェンホルミン、塩酸ブホルミン、塩酸メトホルミン等が挙げられる。ビグアナイド剤は、特には糖尿病、糖尿病性合併症、高インスリン血症、糖代謝異常の処置に好ましく、また肝臓における糖新生抑制作用や組織での嫌気的解糖促進作用あるいは抹消におけるインスリン抵抗性改善作用などにより、血糖値を低下させることから、糖尿病、高インスリン血症、糖代謝異常の処置に更に好ましい。
インスリン分泌促進薬としては、トルブタミド、クロルプロパミド、トラザミド、アセトヘキサミド、グリクロピラミド、グリブリド（グリベンクラミド）、グリクラジド、１−ブチル−３−メタニリルウレア、カルブタミド、グリボルヌリド、グリピジド、グリキドン、グリソキセピド、グリブチアゾール、グリブゾール、グリヘキサミド、グリミジンナトリウム、グリピナミド、フェンブタミド、トルシクラミド、グリメピリド、ナテグリニド、ミチグリニドカルシウム水和物、レパグリニド等が挙げられる。インスリン分泌促進薬は、特には糖尿病、糖尿病性合併症、糖代謝異常の処置に好ましく、また膵臓β細胞に作用しインスリン分泌を増加させることにより血糖値を低下させることから、糖尿病、糖代謝異常の処置に更に好ましい。
インスリン製剤としては、ヒトインスリン、ヒトインスリン類縁体、動物由来のインスリンが挙げられる。インスリン製剤は、特には糖尿病、糖尿病性合併症、糖代謝異常の処置に好ましく、糖尿病、糖代謝異常の処置に更に好ましい。
グルカゴン受容体アンタゴニストとしては、ＢＡＹ−２７−９９５５、ＮＮＣ−９２−１６８７等が挙げられ、インスリン受容体キナーゼ刺激薬としては、ＴＥＲ−１７４１１、Ｌ−７８３２８１、ＫＲＸ−６１３等が挙げられ、トリペプチジルペプチダーゼＩＩ阻害薬としては、ＵＣＬ−１３９７等が挙げられ、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬としては、ＮＶＰ−ＤＰＰ７２８Ａ、ＴＳＬ−２２５、Ｐ−３２／９８等が挙げられ、プロテインチロシンホスファターゼ−１Ｂ阻害薬としては、ＰＴＰ−１１２、ＯＣ−８６８３９、ＰＮＵ−１７７４９６等が挙げられ、グリコゲンホスホリラーゼ阻害薬としては、ＮＮ−４２０１、ＣＰ−３６８２９６等が挙げられ、フルクトース−ビスホスファターゼ阻害薬としては、Ｒ−１３２９１７等が挙げられ、ピルビン酸デヒドロゲナーゼ阻害薬としては、ＡＺＤ−７５４５等が挙げられ、肝糖新生阻害薬としては、ＦＲ−２２５６５９等が挙げられ、グルカゴン様ペプチド−１類縁体としては、エキセンジン−４（ｅｘｅｎｄｉｎ−４）、ＣＪＣ−１１３１等が挙げられ、グルカゴン様ペプチド−１アゴニストとしては、ＡＺＭ−１３４、ＬＹ−３１５９０２が挙げられ、アミリン、アミリン類縁体またはアミリンアゴニストとしては、酢酸プラムリンチド等が挙げられる。これらの薬剤、グルコース−６−ホスファターゼ阻害薬、Ｄ−カイロイノシトール、グリコゲン合成酵素キナーゼ−３阻害薬及びグルカゴン様ペプチド−１は、特には糖尿病、糖尿病性合併症、高インスリン血症、糖代謝異常の処置に好ましく、糖尿病、糖代謝異常の処置に更に好ましい。
アルドース還元酵素阻害薬としては、ガモレン酸アスコルビル、トルレスタット、エパルレスタット、ＡＤＮ−１３８、ＢＡＬ−ＡＲＩ８、ＺＤ−５５２２、ＡＤＮ−３１１、ＧＰ−１４４７、ＩＤＤ−５９８、フィダレスタット、ソルビニール、ポナルレスタット（ｐｏｎａｌｒｅｓｔａｔ）、リサレスタット（ｒｉｓａｒｅｓｔａｔ）、ゼナレスタット（ｚｅｎａｒｅｓｔａｔ）、ミナルレスタット（ｍｉｎａｌｒｅｓｔａｔ）、メトソルビニール、ＡＬ−１５６７、イミレスタット（ｉｍｉｒｅｓｔａｔ）、Ｍ−１６２０９、ＴＡＴ、ＡＤ−５４６７、ゾポルレスタット、ＡＳ−３２０１、ＮＺ−３１４、ＳＧ−２１０、ＪＴＴ−８１１、リンドルレスタット（ｌｉｎｄｏｌｒｅｓｔａｔ）が挙げられる。アルドース還元酵素阻害薬は、糖尿病性合併症組織において認められる持続的高血糖状態におけるポリオール代謝経路の亢進により過剰に蓄積される細胞内ソルビトールをアルドース還元酵素を阻害することにより低下させることから、特には糖尿病性合併症の処理に好ましい。
終末糖化産物生成阻害薬としては、ピリドキサミン、ＯＰＢ−９１９５、ＡＬＴ−９４６、ＡＬＴ−７１１、塩酸ピマゲジン等が挙げられる。終末糖化産物生成阻害薬は、糖尿病状態における持続的高血糖により亢進される終末糖化産物生成を阻害することにより細胞障害を軽減させるため、特には糖尿病性合併症の処置に好ましい。
プロテインキナーゼＣ阻害薬としては、ＬＹ−３３３５３１、ミドスタウリン等が挙げられる。プロテインキナーゼＣ阻害薬は、糖尿病状態における持続的高血糖により認められるプロテインキナーゼＣ活性の亢進を抑制するため、特には糖尿病性合併症の処置に好ましい。
γ−アミノ酪酸受容体アンタゴニストとしては、トピラマート等が挙げられ、ナトリウムチャンネルアンタゴニストとしては、塩酸メキシレチン、オクスカルバゼピン等が挙げられ、転写因子ＮＦ−κＢ阻害薬としては、デクスリポタム（ｄｅｘｌｉｐｏｔａｍ）等が挙げられ、脂質過酸化酵素阻害薬としては、メシル酸チリラザド等が挙げられ、Ｎ−アセチル化−α−リンクト−アシッド−ジペプチダーゼ阻害薬としては、ＧＰＩ−５６９３等が挙げられ、カルニチン誘導体としては、カルニチン、塩酸レバセカルニン、塩化レボカルニチン、レボカルニチン、ＳＴ−２６１等が挙げられる。これらの薬剤、インスリン様成長因子−Ｉ、血小板由来成長因子、血小板由来成長因子類縁体、上皮増殖因子、神経成長因子、ウリジン、５−ヒドロキシ−１−メチルヒダントイン、ＥＧＢ−７６１、ビモクロモル、スロデキシド及びＹ−１２８は、特には糖尿病性合併症の処置に好ましい。
ヒドロキシメチルグルタリルコエンザイムＡ還元酵素阻害薬としては、セリバスタチンナトリウム、プラバスタチンナトリウム、ロバスタチン（ｌｏｖａｓｔａｔｉｎ）、シンバスタチン、フルバスタチンナトリウム、アトルバスタチンカルシウム水和物、ＳＣ−４５３５５、ＳＱ−３３６００、ＣＰ−８３１０１、ＢＢ−４７６、Ｌ−６６９２６２、Ｓ−２４６８、ＤＭＰ−５６５、Ｕ−２０６８５、ＢＡＹ−ｘ−２６７８、ＢＡＹ−１０−２９８７、ピタバスタチンカルシウム、ロスバスタチンカルシウム、コレストロン（ｃｏｌｅｓｔｏｌｏｎｅ）、ダルバスタチン（ｄａｌｖａｓｔａｔｉｎ）、アシテメート、メバスタチン、クリルバスタチン（ｃｒｉｌｖａｓｔａｔｉｎ）、ＢＭＳ−１８０４３１、ＢＭＹ−２１９５０、グレンバスタチン、カルバスタチン、ＢＭＹ−２２０８９、ベルバスタチン（ｂｅｒｖａｓｔａｔｉｎ）等が挙げられる。ヒドロキシメチルグルタリルコエンザイムＡ還元酵素阻害薬は、特には高脂質血症、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、脂質代謝異常、アテローム性動脈硬化症症の処置に好ましく、またヒドロキシメチルグルタリルコエンザイムＡ還元酵素を阻害することにより血中コレステロールを低下させることから、高脂質血症、高コレステロール血症、アテローム性動脈硬化症症の処置に更に好ましい。
フィブラート系化合物としては、ベザフィブラート、ベクロブラート、ビニフィブラート、シプロフィブラート、クリノフィブラート、クロフィブラート、クロフィブラートアルミニウム、クロフィブリン酸、エトフィブラート、フェノフィブラート、ゲムフィブロジル、ニコフィブラート、ピリフィブラート、ロニフィブラート、シムフィブラート、テオフィブラート、ＡＨＬ−１５７等が挙げられる。フィブラート系化合物は、特には高インスリン血症、高脂質血症、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、脂質代謝異常、アテローム性動脈硬化症症の処置に好ましく、また肝臓におけるリポ蛋白リパーゼの活性化や脂肪酸酸化亢進により血中トリグリセリドを低下させることから、高脂質血症、高トリグリセリド血症、アテローム性動脈硬化症の処置に更に好ましい。
β３−アドレナリン受容体アゴニストとしては、ＢＲＬ−２８４１０、ＳＲ−５８６１１Ａ、ＩＣＩ−１９８１５７、ＺＤ−２０７９、ＢＭＳ−１９４４４９、ＢＲＬ−３７３４４、ＣＰ−３３１６７９、ＣＰ−１１４２７１、Ｌ−７５０３５５、ＢＭＳ−１８７４１３、ＳＲ−５９０６２Ａ、ＢＭＳ−２１０２８５、ＬＹ−３７７６０４、ＳＷＲ−０３４２ＳＡ、ＡＺ−４０１４０、ＳＢ−２２６５５２、Ｄ−７１１４、ＢＲＬ−３５１３５、ＦＲ−１４９１７５、ＢＲＬ−２６８３０Ａ、ＣＬ−３１６２４３、ＡＪ−９６７７、ＧＷ−４２７３５３、Ｎ−５９８４、ＧＷ−２６９６等が挙げられる。β３−アドレナリン受容体アゴニストは、特には肥満症、高インスリン血症、高脂質血症、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、脂質代謝異常の処置に好ましく、また脂肪におけるβ３−アドレナリン受容体を刺激し脂肪酸酸化の亢進によりエネルギーを消費させることから、肥満症、高インスリン血症の処置に更に好ましい。
アシルコエンザイムＡ：コレステロールアシル基転移酵素阻害薬としては、ＮＴＥ−１２２、ＭＣＣ−１４７、ＰＤ−１３２３０１−２、ＤＵＰ−１２９、Ｕ−７３４８２、Ｕ−７６８０７、ＲＰ−７０６７６、Ｐ−０６１３９、ＣＰ−１１３８１８、ＲＰ−７３１６３、ＦＲ−１２９１６９、ＦＹ−０３８、ＥＡＢ−３０９、ＫＹ−４５５、ＬＳ−３１１５、ＦＲ−１４５２３７、Ｔ−２５９１、Ｊ−１０４１２７、Ｒ−７５５、ＦＣＥ−２８６５４、ＹＩＣ−Ｃ８−４３４、アバシミブ（ａｖａｓｉｍｉｂｅ）、ＣＩ−９７６、ＲＰ−６４４７７、Ｆ−１３９４、エルダシミブ（ｅｌｄａｃｉｍｉｂｅ）、ＣＳ−５０５、ＣＬ−２８３５４６、ＹＭ−１７Ｅ、レシミビデ（ｌｅｃｉｍｉｂｉｄｅ）、４４７Ｃ８８、ＹＭ−７５０、Ｅ−５３２４、ＫＷ−３０３３、ＨＬ−００４、エフルシミブ（ｅｆｌｕｃｉｍｉｂｅ）等が挙げられる。アシルコエンザイムＡ：コレステロールアシル基転移酵素阻害薬は、特には高脂質血症、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、脂質代謝異常の処置に好ましく、またアシルコエンザイムＡ：コレステロールアシル基転移酵素を阻害することにより血中コレステロールを低下させることから、高脂質血症、高コレステロール血症の処置に更に好ましい。
甲状腺ホルモン受容体アゴニストとしては、リオチロニンナトリウム、レボチロキシンナトリウム、ＫＢ−２６１１等が挙げられ、コレステロール吸収阻害薬としては、エゼチミブ、ＳＣＨ−４８４６１等が挙げられ、リパーゼ阻害薬としては、オルリスタット、ＡＴＬ−９６２、ＡＺＭ−１３１、ＲＥＤ−１０３００４等が挙げられ、カルニチンパルミトイルトランスフェラーゼ阻害薬としては、エトモキシル等が挙げられ、スクアレン合成酵素阻害薬としては、ＳＤＺ−２６８−１９８、ＢＭＳ−１８８４９４、Ａ−８７０４９、ＲＰＲ−１０１８２１、ＺＤ−９７２０、ＲＰＲ−１０７３９３、ＥＲ−２７８５６等が挙げられ、ニコチン酸誘導体としては、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、ニコモール、ニセリトロール、アシピモクス、ニコランジル等が挙げられ、胆汁酸吸着薬としては、コレスチラミン、コレスチラン、塩酸コレセベラム、ＧＴ−１０２−２７９等が挙げられ、ナトリウム共役胆汁酸トランスポーター阻害薬としては、２６４Ｗ９４、Ｓ−８９２１、ＳＤ−５６１３等が挙げられ、コレステロールエステル転送タンパク阻害薬としては、ＰＮＵ−１０７３６８Ｅ、ＳＣ−７９５、ＪＴＴ−７０５、ＣＰ−５２９４１４等が挙げられる。これらの薬剤、プロブコール、ミクロソームトリグリセリドトランスファープロテイン阻害薬、リポキシゲナーゼ阻害薬及び低比重リポ蛋白受容体増強薬は、特には高脂質血症、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、脂質代謝異常の処置に好ましい。
食欲抑制薬としては、モノアミン再吸収阻害薬、セロトニン再吸収阻害薬、セロトニン放出刺激薬、セロトニンアゴニスト（特に５ＨＴ２Ｃ−アゴニスト）、ノルアドレナリン再吸収阻害薬、ノルアドレナリン放出刺激薬、α１−アドレナリン受容体アゴニスト、β２−アドレナリン受容体アゴニスト、ドーパミンアゴニスト、カンナビノイド受容体アンタゴニスト、γ−アミノ酪酸受容体アンタゴニスト、Ｈ３−ヒスタミンアンタゴニスト、Ｌ−ヒスチジン、レプチン、レプチン類縁体、レプチン受容体アゴニスト、メラノコルチン受容体アゴニスト（特にＭＣ３−Ｒアゴニスト、ＭＣ４−Ｒアゴニスト）、α−メラニン細胞刺激ホルモン、コカイン−アンドアンフェタミン−レギュレーテドトランスクリプト、マホガニータンパク、エンテロスタチンアゴニスト、カルシトニン、カルシトニン遺伝子関連ペプチド、ボンベシン、コレシストキニンアゴニスト（特にＣＣＫ−Ａアゴニスト）、コルチコトロピン放出ホルモン、コルチコトロピン放出ホルモン類縁体、コルチコトロピン放出ホルモンアゴニスト、ウロコルチン、ソマトスタチン、ソマトスタチン類縁体、ソマトスタチン受容体アゴニスト、下垂体アデニレートシクラーゼ活性化ペプチド、脳由来神経成長因子、シリアリーニュートロピックファクター、サイロトロピン放出ホルモン、ニューロテンシン、ソーバジン、ニューロペプチドＹアンタゴニスト、オピオイドペプチドアンタゴニスト、ガラニンアンタゴニスト、メラニン−コンセントレイティングホルモン受容体アンタゴニスト、アグーチ関連蛋白阻害薬、オレキシン受容体アンタゴニスト等が挙げられる。具体的には、モノアミン再吸収阻害薬としては、マジンドール等が挙げられ、セロトニン再吸収阻害薬としては、塩酸デクスフェンフルラミン、フェンフルラミン、塩酸シブトラミン、マレイン酸フルボキサミン、塩酸セルトラリン等が挙げられ、セロトニンアゴニストとしては、イノトリプタン、（＋）ノルフェンフルラミン等が挙げられ、ノルアドレナリン再吸収阻害薬としては、ブプロピオン、ＧＷ−３２０６５９等が挙げられ、ノルアドレナリン放出刺激薬としては、ロリプラム、ＹＭ−９９２等が挙げられ、β２−アドレナリン受容体アゴニストとしては、アンフェタミン、デキストロアンフェタミン、フェンテルミン、ベンズフェタミン、メタアンフェタミン、フェンジメトラジン、フェンメトラジン、ジエチルプロピオン、フェニルプロパノールアミン、クロベンゾレックス等が挙げられ、ドーパミンアゴニストとしては、ＥＲ−２３０、ドプレキシン、メシル酸ブロモクリプチンが挙げられ、カンナビノイド受容体アンタゴニストとしては、リモナバント等が挙げられ、γ−アミノ酪酸受容体アンタゴニストとしては、トピラマート等が挙げられ、Ｈ３−ヒスタミンアンタゴニストとしてはＧＴ−２３９４等が挙げられ、レプチン、レプチン類縁体またはレプチン受容体アゴニストとしては、ＬＹ−３５５１０１等が挙げられ、コレシストキニンアゴニスト（特にＣＣＫ−Ａアゴニスト）としては、ＳＲ−１４６１３１、ＳＳＲ−１２５１８０、ＢＰ−３．２００、Ａ−７１６２３、ＦＰＬ−１５８４９、ＧＩ−２４８５７３、ＧＷ−７１７８、ＧＩ−１８１７７１、ＧＷ−７８５４、Ａ−７１３７８等が挙げられ、ニューロペプチドＹアンタゴニストとしては、ＳＲ−１２０８１９−Ａ、ＰＤ−１６０１７０、ＮＧＤ−９５−１、ＢＩＢＰ−３２２６、１２２９−Ｕ−９１、ＣＧＰ−７１６８３、ＢＩＢＯ−３３０４、ＣＰ−６７１９０６−０１、Ｊ−１１５８１４等が挙げられる。食欲抑制薬は、特には糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症、糖代謝異常、高脂血症、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、脂質代謝異常、アテローム性動脈硬化症症、高血圧、うっ血性心不全、浮腫、高尿酸血症、痛風の処置に好ましく、また中枢の食欲調節系における脳内モノアミンや生理活性ペプチドの作用を促進あるいは阻害することによって食欲を抑制し、摂取エネルギーを減少させることから、肥満症の処置に更に好ましい。
アンジオテンシン変換酵素阻害薬としては、カプトプリル、マレイン酸エナラプリル、アラセプリル、塩酸デラプリル、ラミプリル、リシノプリル、塩酸イミダプリル、塩酸ベナゼプリル、セロナプリル一水和物、シラザプリル、フォシノプリルナトリウム、ペリンドプリルエルブミン、モベルチプリルカルシウム、塩酸キナプリル、塩酸スピラプリル、塩酸テモカプリル、トランドラプリル、ゾフェノプリルカルシウム、塩酸モエキシプリル（ｍｏｅｘｉｐｒｉｌ）、レンチアプリル、等が挙げられる。アンジオテンシン変換酵素阻害薬は、特には糖尿病性合併症、高血圧の処置に好ましい。
中性エンドペプチダーゼ阻害薬としては、オマパトリラート、ＭＤＬ−１００２４０、ファシドトリル（ｆａｓｉｄｏｔｒｉｌ）、サムパトリラート、ＧＷ−６６０５１１Ｘ、ミキサンプリル（ｍｉｘａｎｐｒｉｌ）、ＳＡ−７０６０、Ｅ−４０３０、ＳＬＶ−３０６、エカドトリル等が挙げられる。中性エンドペプチダーゼ阻害薬は、特には糖尿病性合併症、高血圧の処置に好ましい。
アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬としては、カンデサルタンシレキセチル、カンデサルタンシレキセチル／ヒドロクロロチアジド、ロサルタンカリウム、メシル酸エプロサルタン、バルサルタン、テルミサルタン、イルベサルタン、ＥＸＰ−３１７４、Ｌ−１５８８０９、ＥＸＰ−３３１２、オルメサルタン、タソサルタン、ＫＴ−３−６７１、ＧＡ−０１１３、ＲＵ−６４２７６、ＥＭＤ−９０４２３、ＢＲ−９７０１等が挙げられる。アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬は、特には糖尿病性合併症、高血圧の処置に好ましい。
エンドセリン変換酵素阻害薬としては、ＣＧＳ−３１４４７、ＣＧＳ−３５０６６、ＳＭ−１９７１２等が挙げられ、エンドセリン受容体アンタゴニストとしては、Ｌ−７４９８０５、ＴＢＣ−３２１４、ＢＭＳ−１８２８７４、ＢＱ−６１０、ＴＡ−０２０１、ＳＢ−２１５３５５、ＰＤ−１８０９８８、シタクセンタンナトリウム（ｓｉｔａｘｓｅｎｔａｎ）、ＢＭＳ−１９３８８４、ダルセンタン（ｄａｒｕｓｅｎｔａｎ）、ＴＢＣ−３７１１、ボセンタン、テゾセンタンナトリウム（ｔｅｚｏｓｅｎｔａｎ）、Ｊ−１０４１３２、ＹＭ−５９８、Ｓ−０１３９、ＳＢ−２３４５５１、ＲＰＲ−１１８０３１Ａ、ＡＴＺ−１９９３、ＲＯ−６１−１７９０、ＡＢＴ−５４６、エンラセンタン、ＢＭＳ−２０７９４０等が挙げられる。これらの薬剤は、特には糖尿病性合併症、高血圧の処置に好ましく、高血圧の処置に更に好ましい。
利尿薬としては、クロルタリドン、メトラゾン、シクロペンチアジド、トリクロルメチアジド、ヒドロクロロチアジド、ヒドロフルメチアジド、ベンチルヒドロクロロチアジド、ペンフルチジド、メチクロチアジド、インダパミド、トリパミド、メフルシド、アゾセミド、エタクリン酸、トラセミド、ピレタニド、フロセミド、ブメタニド、メチクラン、カンレノ酸カリウム、スピロノラクトン、トリアムテレン、アミノフィリン、塩酸シクレタニン、ＬＬＵ−α、ＰＮＵ−８０８７３Ａ、イソソルビド、Ｄ−マンニトール、Ｄ−ソルビトール、フルクトース、グリセリン、アセトゾラミド、メタゾラミド、ＦＲ−１７９５４４、ＯＰＣ−３１２６０、リキシバプタン（ｌｉｘｉｖａｐｔａｎ）、塩酸コニバプタンが挙げられる。利尿薬は、特には糖尿病性合併症、高血圧、うっ血性心不全、浮腫の処置に好ましく、また尿排泄量を増加させることにより血圧を低下させたり、浮腫を改善するため、高血圧、うっ血性心不全、浮腫の処置に更に好ましい。
カルシウム拮抗薬としては、アラニジピン、塩酸エホニジピン、塩酸ニカルジピン、塩酸バルニジピン、塩酸ベニジピン、塩酸マニジピン、シルニジピン、ニソルジピン、ニトレンジピン、ニフェジピン、ニルバジピン、フェロジピン、ベシル酸アムロジピン、プラニジピン、塩酸レルカニジピン、イスラジピン、エルゴジピン、アゼルニジピン、ラシジピン、塩酸バタニジピン、レミルジピン、塩酸ジルチアゼム、マレイン酸クレンチアゼム、塩酸ベラパミール、Ｓ−ベラパミール、塩酸ファスジル、塩酸ベプリジル、塩酸ガロパミル等が挙げられ、血管拡張性降圧薬としては、インダパミド、塩酸トドララジン、塩酸ヒドララジン、カドララジン、ブドララジン等が挙げられ、交換神経遮断薬としては、塩酸アモスラロール、塩酸テラゾシン、塩酸ブナゾシン、塩酸プラゾシン、メシル酸ドキサゾシン、塩酸プロプラノロール、アテノロール、酒石酸メトプロロール、カルベジロール、ニプラジロール、塩酸セリプロロール、ネビボロール、塩酸ベタキソロール、ピンドロール、塩酸タータトロール、塩酸ベバントロール、マレイン酸チモロール、塩酸カルテオロール、フマル酸ビソプロロール、マロン酸ボピンドロール、ニプラジロール、硫酸ペンブトロール、塩酸アセブトロール、塩酸チリソロール、ナドロール、ウラピジル、インドラミン等が挙げられ、中枢性降圧薬としては、レセルピン等が挙げられ、α２−アドレナリン受容体アゴニストとしては、塩酸クロニジン、メチルドパ、ＣＨＦ−１０３５、酢酸グアナベンズ、塩酸グアンファシン、モクソニジン（ｍｏｘｏｎｉｄｉｎｅ）、ロフェキシジン（ｌｏｆｅｘｉｄｉｎｅ）、塩酸タリペキソール等が挙げられる。これらの薬剤は、特には高血圧の処置に好ましい。
抗血小板薬としては、塩酸チクロピジン、ジピリダモール、シロスタゾール、イコサペント酸エチル、塩酸サルポグレラート、塩酸ジラゼプ、トラピジル、ベラプロストナトリウム、アスピリン等が挙げられる。抗血小板薬は、特にはアテローム性動脈硬化症症、うっ血性心不全の処置に好ましい。
尿酸生成阻害薬としては、アロプリノール、オキシプリノール等が挙げられ、尿酸排泄促進薬としては、ベンズブロマロン、プロベネシド等が挙げられ、尿アルカリ化薬としては、炭酸水素ナトリウム、クエン酸カリウム、クエン酸ナトリウム等が挙げられる。これらの薬剤は、特には高尿酸血症、痛風の処置に好ましい。
例えば、ＳＧＬＴ２活性阻害薬以外の薬剤と組合わせて使用する場合、糖尿病の処置においては、インスリン感受性増強薬、糖吸収阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬、インスリン製剤、グルカゴン受容体アンタゴニスト、インスリン受容体キナーゼ刺激薬、トリペプチジルペプチダーゼＩＩ阻害薬、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬、プロテインチロシンホスファターゼ−１Ｂ阻害薬、グリコゲンホスホリラーゼ阻害薬、グルコース−６−ホスファターゼ阻害薬、フルクトース−ビスホスファターゼ阻害薬、ピルビン酸デヒドロゲナーゼ阻害薬、肝糖新生阻害薬、Ｄ−カイロイノシトール、グリコゲン合成酵素キナーゼ−３阻害薬、グルカゴン様ペプチド−１、グルカゴン様ペプチド−１類縁体、グルカゴン様ペプチド−１アゴニスト、アミリン、アミリン類縁体、アミリンアゴニストおよび食欲抑制薬からなる群より選択される少なくとも１種の薬剤と組合わせるのが好ましく、インスリン感受性増強薬、糖吸収阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬、インスリン製剤、グルカゴン受容体アンタゴニスト、インスリン受容体キナーゼ刺激薬、トリペプチジルペプチダーゼＩＩ阻害薬、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬、プロテインチロシンホスファターゼ−１Ｂ阻害薬、グリコゲンホスホリラーゼ阻害薬、グルコース−６−ホスファターゼ阻害薬、フルクトース−ビスホスファターゼ阻害薬、ピルビン酸デヒドロゲナーゼ阻害薬、肝糖新生阻害薬、Ｄ−カイロイノシトール、グリコゲン合成酵素キナーゼ−３阻害薬、グルカゴン様ペプチド−１、グルカゴン様ペプチド−１類縁体、グルカゴン様ペプチド−１アゴニスト、アミリン、アミリン類縁体およびアミリンアゴニストからなる群より選択される少なくとも１種の薬剤と組合わせるのが更に好ましく、インスリン感受性増強薬、糖吸収阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬およびインスリン製剤からなる群より選択される少なくとも１種の薬剤と組合わせるのが最も好ましい。同様に、糖尿病性合併症の処置においては、インスリン感受性増強薬、糖吸収阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬、インスリン製剤、グルカゴン受容体アンタゴニスト、インスリン受容体キナーゼ刺激薬、トリペプチジルペプチダーゼＩＩ阻害薬、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬、プロテインチロシンホスファターゼ−１Ｂ阻害薬、グリコゲンホスホリラーゼ阻害薬、グルコース−６−ホスファターゼ阻害薬、フルクトース−ビスホスファターゼ阻害薬、ピルビン酸デヒドロゲナーゼ阻害薬、肝糖新生阻害薬、Ｄ−カイロイノシトール、グリコゲン合成酵素キナーゼ−３阻害薬、グルカゴン様ペプチド−１、グルカゴン様ペプチド−１類縁体、グルカゴン様ペプチド−１アゴニスト、アミリン、アミリン類縁体、アミリンアゴニスト、アルドース還元酵素阻害薬、終末糖化産物生成阻害薬、プロテインキナーゼＣ阻害薬、γ−アミノ酪酸受容体アンタゴニスト、ナトリウムチャンネルアンタゴニスト、転写因子ＮＦ−κＢ阻害薬、脂質過酸化酵素阻害薬、Ｎ−アセチル化−α−リンクト−アシッド−ジペプチダーゼ阻害薬、インスリン様成長因子−Ｉ、血小板由来成長因子、血小板由来成長因子類縁体、上皮増殖因子、神経成長因子、カルニチン誘導体、ウリジン、５−ヒドロキシ−１−メチルヒダントイン、ＥＧＢ−７６１、ビモクロモル、スロデキシド、Ｙ−１２８、アンジオテンシン変換酵素阻害薬、中性エンドペプチダーゼ阻害薬、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬、エンドセリン変換酵素阻害薬、エンドセリン受容体アンタゴニストおよび利尿薬からなる群より選択される少なくとも１種の薬剤と組合わせるのが好ましく、アルドース還元酵素阻害薬、アンジオテンシン変換酵素阻害薬、中性エンドペプチダーゼ阻害薬およびアンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬からなる群より選択される少なくとも１種の薬剤と組合わせるのが更に好ましい。また、肥満症の処置においては、インスリン感受性増強薬、糖吸収阻害薬、ビグアナイド薬、インスリン分泌促進薬、インスリン製剤、グルカゴン受容体アンタゴニスト、インスリン受容体キナーゼ刺激薬、トリペプチジルペプチダーゼＩＩ阻害薬、ジペプチジルペプチダーゼＩＶ阻害薬、プロテインチロシンホスファターゼ−１Ｂ阻害薬、グリコゲンホスホリラーゼ阻害薬、グルコース−６−ホスファターゼ阻害薬、フルクトース−ビスホスファターゼ阻害薬、ピルビン酸デヒドロゲナーゼ阻害薬、肝糖新生阻害薬、Ｄ−カイロイノシトール、グリコゲン合成酵素キナーゼ−３阻害薬、グルカゴン様ペプチド−１、グルカゴン様ペプチド−１類縁体、グルカゴン様ペプチド−１アゴニスト、アミリン、アミリン類縁体、アミリンアゴニスト、β３−アドレナリン受容体アゴニストおよび食欲抑制薬からなる群より選択される少なくとも１種の薬剤と組み合わせるのが好ましく、β３−アドレナリン受容体アゴニストおよび食欲抑制薬からなる群より選択される少なくとも１種の薬剤と組合わせるのが更に好ましい。
本発明の医薬組成物を実際の治療に用いる場合、用法に応じ種々の剤型のものが使用される。このような剤型としては、例えば、散剤、顆粒剤、細粒剤、ドライシロップ剤、錠剤、カプセル剤、注射剤、液剤、軟膏剤、坐剤、貼付剤などを挙げることができ、経口または非経口的に投与される。
これらの医薬組成物は、その剤型に応じ調剤学上使用される手法により適当な賦形剤、崩壊剤、結合剤、滑沢剤、希釈剤、緩衝剤、等張化剤、防腐剤、湿潤剤、乳化剤、分散剤、安定化剤、溶解補助剤などの医薬品添加物と適宜混合または希釈・溶解し、常法に従い調剤することにより製造することができる。また、ＳＧＬＴ２活性阻害薬以外の薬剤と組合わせて使用する場合は、それぞれの活性成分を同時に或いは別個に上記同様に製剤化することにより製造することができる。
本発明の医薬組成物を実際の治療に用いる場合、その有効成分である前記一般式（Ｉ）で表される化合物またはその薬理学的に許容される塩の投与量は患者の年齢、性別、体重、疾患および治療の程度等により適宜決定されるが、経口投与の場合成人１日当たり概ね０．１〜１０００ｍｇの範囲で、非経口投与の場合は、成人１日当たり概ね０．０１〜３００ｍｇの範囲で、一回または数回に分けて適宜投与することができる。また、ＳＧＬＴ２活性阻害薬以外の薬剤と組合わせて使用する場合、本発明の化合物の投与量は、ＳＧＬＴ２活性阻害薬以外の薬剤の投与量に応じて減量することができる。
実施例
本発明の内容を以下の参考例、実施例および試験例でさらに詳細に説明するが、本発明はその内容に限定されるものではない。
参考例１
４−（３−ベンジルオキシプロピル）ブロモベンゼン
水素化ナトリウム（６０％、０．９７ｇ）、３−（４−ブロモフェニル）−１−プロパノール（１．０ｇ）及びベンジルブロミド（０．６９ｍＬ）のベンゼン（２４ｍＬ）懸濁液を、加熱還流下７時間撹拌した。室温に冷却後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液（５０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ）で抽出した。有機層を水（４０ｍＬ）、飽和食塩水（４０ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）にて精製し、４−（３−ベンジルオキシプロピル）ブロモベンゼン（１．４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．８５−２．００（２Ｈ，ｍ），２．６０−２．７５（２Ｈ，ｍ），３．４７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），４．５０（２Ｈ，ｓ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．４５（７Ｈ，ｍ）
参考例２
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチル
アルゴン雰囲気下１−ブロモ−４−エチルベンゼン（０．４１ｍＬ）のテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液に、−７８℃にて１．４５ｍｏｌ／Ｌの ｔｅｒｔ−ブチルリチウムｎ−ペンタン溶液（２．３ｍＬ）を加えた。−７８℃にて１０分間撹拌後、反応混合物に４−ホルミル−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（０．１８ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液を加えた。氷冷下４５分間撹拌後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液および水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、ジフェニルメタノール体（０．２７ｇ）を得た。得られたジフェニルメタノール体（０．２７ｇ）をメタノール（５ｍＬ）に溶解し、濃塩酸（０．０８ｍＬ）および１０％パラジウムカーボン粉末（５４ｍｇ）を加えた。水素雰囲気下室温にて１８時間撹拌した後、触媒をろ去し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（０．２０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８９（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｓ），５．０１（１Ｈ，ｓ），７．０５−７．２５（５Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，７．８Ｈｚ）
参考例３
３−ヒドロキシ−４−（４−プロポキシベンジル）安息香酸メチル
アルゴン雰囲気下１−アリルオキシ−４−ブロモベンゼン（３．１ｇ）のテトラヒドロフラン（７０ｍＬ）溶液に、−７８℃にて１．４５ｍｏｌ／Ｌの ｔｅｒｔ−ブチルリチウムｎ−ペンタン溶液（１１ｍＬ）を加えた。−７８℃にて５分間撹拌後、反応混合物に４−ホルミル−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（０．８９ｇ）のテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液を加えた。氷冷下３０分間撹拌後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液および水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、ジフェニルメタノール体（０．９９ｇ）を得た。得られたジフェニルメタノール体（０．９９ｇ）をメタノール（１０ｍＬ）に溶解し、１０％パラジウムカーボン粉末（０．３０ｇ）を加えた。水素雰囲気下室温にて２４時間撹拌した後、触媒をろ去し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、３−ヒドロキシ−４−（４−プロポキシベンジル）安息香酸メチル（０．５０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．０２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．７０−１．８５（２Ｈ，ｍ），３．８０−３．９５（５Ｈ，ｍ），３．９７（２Ｈ，ｓ），４．９９（１Ｈ，ｓ），６．７５−６．９０（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（３Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．８Ｈｚ）
参考例４
３−ヒドロキシ−４−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕安息香酸メチル
アルゴン雰囲気下２−（４−ブロモフェニル）エチルアルコール（１．７ｇ）のテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）溶液に、−７８℃にて１．４５ｍｏｌ／Ｌのｔｅｒｔ−ブチルリチウムｎ−ペンタン溶液（１２．６ｍＬ）を加えた。−７８℃にて１０分間撹拌後、反応混合物に４−ホルミル−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（０．５０ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液を加えた。氷冷下３０分間撹拌後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液および水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／３）で精製し、ジフェニルメタノール体（０．２８ｇ）を得た。得られたジフェニルメタノール体（０．２８ｇ）をメタノール（５ｍＬ）に溶解し、１０％パラジウムカーボン粉末（０．１４ｇ）を加えた。水素雰囲気下室温にて１４時間撹拌した後、触媒をろ去し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、３−ヒドロキシ−４−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕安息香酸メチル（０．２６ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．３７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），２．８４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．７５−３．９５（５Ｈ，ｍ），４．０１（２Ｈ，ｓ），５．１０（１Ｈ，ｓ），７．０５−７．２５（５Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，７．８Ｈｚ）
参考例５
２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕フェノール
４−（３−ベンジルオキシプロピル）ブロモベンゼン（３．２ｇ）、金属マグネシウム（０．２５ｇ）、触媒量のヨウ素及びテトラヒドロフラン（１０．５ｍＬ）よりグリニャール試薬を調製した。得られたグリニャール試薬溶液に２−（メトキシメトキシ）ベンズアルデヒド（１．１ｇ）のテトラヒドロフラン（２４ｍＬ）溶液を加え６５℃で２５分間撹拌した。室温に冷却後、飽和塩化アンモニウム水溶液（１０ｍＬ）及び水（２０ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１００ｍＬ）で抽出した。抽出液を水（２０ｍＬ）及び飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）にて精製し、ジフェニルメタノール体（２．５ｇ）を得た。得られたジフェニルメタノール体（２．５ｇ）をエタノール（４２ｍＬ）に溶解し、触媒量の１０％パラジウムカーボン粉末を加え、水素雰囲気下、室温で７．５時間撹拌した。触媒をろ去し、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／２）にて精製し、フェニルプロパノール体（１．６ｇ）を得た。得られたフェニルプロパノール体（１．６ｇ）を塩化メチレン（２９ｍＬ）に溶解し、４−（ジメチルアミノ）ピリジン（０．０６９ｇ）、トリエチルアミン（１．０ｍＬ）及びベンゾイルクロリド（０．７９ｍＬ）を加え、室温で３時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル（１００ｍＬ）及び水（３０ｍＬ）を加え有機層を分取した。抽出液を飽和食塩水（３０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）にて精製し、エステル体（２．２ｇ）を得た。得られたエステル体（２．２ｇ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．２１ｇ）及びメタノール（２８ｍＬ）の混合物を室温で２４時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）にて精製し、２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕フェノール（１．８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．００−２．１５（２Ｈ，ｍ），２．７０−２．８０（２Ｈ，ｍ），３．９６（２Ｈ，ｓ），４．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），４．７４（１Ｈ，ｂｒｓ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（６Ｈ，ｍ），７．３５−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６５（１Ｈ，ｍ），８．００−８．１０（２Ｈ，ｍ）
参考例６
２−〔４−（２−ベンゾイルオキシエチル）ベンジル〕フェノール
４−（３−ベンジルオキシプロピル）ブロモベンゼンの代わりに４−（２−ベンジルオキシエチル）ブロモベンゼンを用いて、参考例５と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．０４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．９８（２Ｈ，ｓ），４．５１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．６６（１Ｈ，ｓ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２５（６Ｈ，ｍ），７．３５−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６０（１Ｈ，ｍ），７．９５−８．０５（２Ｈ，ｍ）
参考例７
５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェノール
水素化リチウムアルミニウム（９５ｍｇ）のジエチルエーテル（１０ｍＬ）懸濁液に、４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（０．２７ｇ）のジエチルエーテル（５ｍＬ）溶液を氷冷下加えた。４５分間加熱還流した後、氷冷下水（０．１ｍＬ）、１５％水酸化ナトリウム水溶液（０．１ｍＬ）、水（０．３ｍＬ）の順に反応混合物に加えた。室温にて５分間撹拌後、混合物を０．５ｍｏｌ／Ｌの塩酸中にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、還元体（０．２２ｇ）を得た。得られた還元体（０．２２ｇ）をテトラヒドロフラン（２ｍＬ）に溶解し、酢酸ビニル（２ｍＬ）およびビス（ジブチル塩化すず）オキシド（２４ｍｇ）を加え、３０℃にて１９時間撹拌した。反応混合物を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェノール（０．２１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．０９（３Ｈ，ｓ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．９５（２Ｈ，ｓ），４．７４（１Ｈ，ｓ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），６．８０−６．９０（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（５Ｈ，ｍ）
参考例８
５−アセトキシメチル−２−（４−プロポキシベンジル）フェノール
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチルの代わりに３−ヒドロキシ−４−（４−プロポキシベンジル）安息香酸メチルを用いて、参考例７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．０２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．７０−１．８５（２Ｈ，ｍ），２．０９（３Ｈ，ｓ），３．８８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．９１（２Ｈ，ｓ），５．０２（２Ｈ，ｓ），５．２８（１Ｈ，ｓ），６．７０−６．９０（４Ｈ，ｍ），７．００−７．２０（３Ｈ，ｍ）
参考例９
２−〔４−（２−アセトキシエチル）ベンジル〕−５−アセトキシメチルフェノール
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチルの代わりに３−ヒドロキシ−４−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕安息香酸メチルを用いて、参考例７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），２．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．９６（２Ｈ，ｓ），４．２５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．８２（１Ｈ，ｓ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），６．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．７Ｈｚ），７．０５−７．２０（５Ｈ，ｍ）
参考例１０
５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェノール（０．５９ｇ）と２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−α−Ｄ−グルコピラノース（１．１ｇ）の塩化メチレン（１５ｍＬ）溶液に、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．３１ｍＬ）を加え、０℃で３０分間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜３／２）で精製し、５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（１．０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．８８（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），２．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８０−３．９５（３Ｈ，ｍ），４．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，１２．３Ｈｚ），４．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１２．３Ｈｚ），５．００−５．１０（２Ｈ，ｍ），５．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），５．１５−５．４０（３Ｈ，ｍ），６．９５−７．１５（７Ｈ，ｍ）
参考例１１
５−アセトキシメチル−２−（４−プロポキシベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェノールの代わりに５−アセトキシメチル−２−（４−プロポキシベンジル）フェノールを用いて、参考例１０と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．７０−１．８５（２Ｈ，ｍ），１．９２（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），３．８０−３．９５（５Ｈ，ｍ），４．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，１２．３Ｈｚ），４．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１２．３Ｈｚ），５．００−５．１０（２Ｈ，ｍ），５．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），５．１５−５．４０（３Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（５Ｈ，ｍ）
参考例１２
２−〔４−（２−アセトキシエチル）ベンジル〕−５−アセトキシメチルフェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェノールの代わりに２−〔４−（２−アセトキシエチル）ベンジル〕−５−アセトキシメチルフェノールを用いて、参考例１０と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．８９（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），２．８８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．８５−３．９５（３Ｈ，ｍ），４．１５−４．３５（４Ｈ，ｍ），５．００−５．１０（２Ｈ，ｍ），５．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），５．１５−５．４０（３Ｈ，ｍ），６．９５−７．１５（７Ｈ，ｍ）
参考例１３
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（１．０ｇ）のメタノール（１２ｍＬ）溶液に、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．３ｍＬ）を加え、室温にて４０分間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝７／１）で精製し、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．６８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６５−３．７５（１Ｈ，ｍ），３．８５−４．００（２Ｈ，ｍ），４．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．５４（２Ｈ，ｓ），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１０−７．２０（３Ｈ，ｍ）
参考例１４
５−ヒドロキシメチル−２−（４−プロポキシベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに５−アセトキシメチル−２−（４−プロポキシベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例１３と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．０２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．７０−１．８５（２Ｈ，ｍ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６５−３．７５（１Ｈ，ｍ），３．８０−３．９５（４Ｈ，ｍ），４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．５４（２Ｈ，ｓ），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．７０−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．０５−７．２０（３Ｈ，ｍ）
参考例１５
２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕−５−ヒドロキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−〔４−（２−アセトキシエチル）ベンジル〕−５−アセトキシメチルフェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例１３と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
２．７６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（３Ｈ，ｍ），３．８５−４．００（２Ｈ，ｍ），４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ），４．５４（２Ｈ，ｓ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．１０−７．２０（３Ｈ，ｍ）
参考例１６
２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（２−ベンゾイルオキシエチル）ベンジル〕フェノール（０．４９ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（１．７ｇ）のトルエン（５．２ｍＬ）及び塩化メチレン（２．２ｍＬ）溶液に、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．５６ｍＬ）を加え、２５℃で８時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル（７０ｍＬ）と飽和重曹水（２５ｍＬ）を加え、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水（２５ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をメタノール（５ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（２．５ｍＬ）に溶解し、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．１４ｍＬ）を加え、２５℃で１２．５時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル（７５ｍＬ）と水（２０ｍＬ）を加え、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水（２０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をメタノール（７．５ｍＬ）に溶解し、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．０８５ｍＬ）を加え、２５℃で５時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝４／１）にて精製した。溶媒を減圧下留去し、残渣にジエチルエーテルを加えて、析出物をろ取した。得られた固体をジエチルエーテルで洗浄後、減圧下乾燥し、２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
２．７６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６５−３．７５（３Ｈ，ｍ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，１１．８Ｈｚ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ），４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ），４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．２０（７Ｈ，ｍ）
参考例１７
２−〔４−（３−ヒドロキシプロピル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（２−ベンゾイルオキシエチル）ベンジル〕フェノールの代わりに２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕フェノールを用いて、参考例１６と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．７０−１．８５（２Ｈ，ｍ），２．５５−２．６５（２Ｈ，ｍ），３．３０−３．６０（６Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，１１．９Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１１．９Ｈｚ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．２０（７Ｈ，ｍ）
参考例１８
４−〔（２−ベンジルオキシフェニル）ヒドロキシメチル〕安息香酸メチル
２−ベンジルオキシブロモベンゼン（５．３ｇ）、金属マグネシウム（０．４９ｇ）及びテトラヒドロフラン（１６０ｍＬ）よりグリニャール試薬を調製した。得られたグリニャール試薬をテレフタルアルデヒド酸メチル（３．３ｇ）のテトラヒドロフラン（６０ｍＬ）溶液に加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物に水及び希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をアミノプロピルシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、４−〔（２−ベンジルオキシフェニル）ヒドロキシメチル〕安息香酸メチル（２．６ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．９１（３Ｈ，ｓ），５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），６．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．９０−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．３５（７Ｈ，ｍ），７．３５−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．９０−８．００（２Ｈ，ｍ）
参考例１９
４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチル
４−〔（２−ベンジルオキシフェニル）ヒドロキシメチル〕安息香酸メチル（２．６ｇ）のエタノール（１５ｍＬ）溶液に、１０％パラジウムカーボン粉末（０．５０ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で１８時間撹拌した。不溶物をろ去後、ろ液の溶媒を減圧下留去し、４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチル（１．７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．８９（３Ｈ，ｓ），４．０４（２Ｈ，ｓ），４．８０（１Ｈ，ｓ），６．７５−６．８０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．９０−８．００（２Ｈ，ｍ）
参考例２０
４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸メチル
４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチル（１．５ｇ）及び炭酸カリウム（０．９４ｇ）のジメチルホルムアミド（２００ｍＬ）懸濁液に、ベンジルブロミド（０．８１ｍＬ）を加え、５０℃で５時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液に水及び希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸メチル（２．１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．８９（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｓ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．４０（９Ｈ，ｍ），７．８５−７．９５（２Ｈ，ｍ）
参考例２１
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルアルコール
水素化リチウムアルミニウム（０．４７ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）懸濁液に、０℃で４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸メチル（２．１ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液を滴下し、同温度で１時間撹拌した後、酢酸エチル（１０ｍＬ）を加えて更に３０分撹拌した。反応混合物に水及び希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルアルコール（１．９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
４．０２（２Ｈ，ｓ），４．６５（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．４０（１１Ｈ，ｍ）
参考例２２
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアルデヒド
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルアルコール（１．０ｇ）の塩化メチレン（５０ｍＬ）溶液に二酸化マンガン（１０ｇ）を加え、室温にて３時間撹拌した。不溶物をろ去後、ろ液の溶媒を減圧下留去し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアルデヒド（０．９７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
４．０８（２Ｈ，ｓ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．９０−７．００（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．４０（９Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ），９．９６（１Ｈ，ｓ）
参考例２３
（Ｅ）−３−〔４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕アクリル酸エチル
トリエチルホスホノアセテート（０．８９ｍＬ）のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）溶液にｔｅｒｔ−ブトキシカリウム（０．５０ｇ）を加え、室温にて１５分間撹拌した。反応混合物に４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアルデヒド（１．０ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液を加え、室温にて６時間撹拌した。反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製し、（Ｅ）−３−〔４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル〕アクリル酸エチル（０．８６ｇ）を得た。得られた（Ｅ）−３−〔４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル〕アクリル酸エチル（０．８６ｇ）にトリフルオロ酢酸（９．５ｍＬ）、水（０．５ｍＬ）及びジメチルスルフィド（１．０ｍＬ）を加え、室温にて一晩撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）にて精製し、（Ｅ）−３−〔４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕アクリル酸エチル（０．５１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．３３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．０１（２Ｈ，ｓ），４．２６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．９６（１Ｈ，ｓ），６．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ），６．７５−６．８０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３０（２Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ）
参考例２４
（Ｅ）−２−〔４−（２−エトキシカルボニルビニル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
（Ｅ）−３−〔４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕アクリル酸エチル（０．３４ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（１．４ｇ）の塩化メチレン（３ｍＬ）及びトルエン（９ｍＬ）懸濁液に、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．４５ｍＬ）を加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、（Ｅ）−２−〔４−（２−エトキシカルボニルビニル）ベンジル〕フェニル２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４７ｇ）を得た。得られた（Ｅ）−２−〔４−（２−エトキシカルボニルビニル）ベンジル〕フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４６ｇ）のメタノール（５ｍＬ）溶液に、ナトリウムメトキシド（０．０１０ｇ）を加え、室温にて３０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル）で精製し、（Ｅ）−２−〔４−（２−エトキシカルボニルビニル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．３１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．３１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１２．０Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，１２．０Ｈｚ），４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ），６．９０−７．００（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（３Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４５−７．５５（２Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ）
参考例２５
２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチル（０．０５３ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（０．２６ｇ）の塩化メチレン（１ｍＬ）及びトルエン（３ｍＬ）懸濁液に、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．０８３ｍＬ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０６７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．８７（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），３．８０−４．０５（６Ｈ，ｍ），４．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，１２．４Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８，１２．４Ｈｚ），５．１０−５．２０（２Ｈ，ｍ），５．２５−５．３５（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（３Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（３Ｈ，ｍ），７．９０−７．９５（２Ｈ，ｍ）
参考例２６
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール
４−アリルオキシブロモベンゼン（１．７ｇ）、金属マグネシウム（０．１９ｇ）、触媒量のヨウ素及びテトラヒドロフラン（３ｍＬ）よりグリニャール試薬を調製した。得られたグリニャール試薬に２−（メトキシメチルオキシ）ベンズアルデヒド（０．８８ｇ）のテトラヒドロフラン（１９ｍＬ）溶液を加え、室温で３０分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール（１．２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．３１（３Ｈ，ｓ），４．４５−４．５５（２Ｈ，ｍ），５．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．２０−５．３０（１Ｈ，ｍ），５．３５−５．４５（１Ｈ，ｍ），５．９５−６．１０（２Ｈ，ｍ），６．８０−６．９０（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，８．２Ｈｚ），７．２０−７．３５（３Ｈ，ｍ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，７．７Ｈｚ）
参考例２７
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール（１．２ｇ）の塩化メチレン（２０ｍＬ）溶液に、０℃でＤｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬（１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズイオドキソール−３（１Ｈ）−オン）（２．１ｇ）を加え、１時間撹拌した後、室温に昇温して更に一晩撹拌した。反応混合物にジエチルエーテル及び１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノン（１．１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．３３（３Ｈ，ｓ），４．５５−４．６５（２Ｈ，ｍ），５．０８（２Ｈ，ｓ），５．２５−５．３５（１Ｈ，ｍ），５．３５−５．５０（１Ｈ，ｍ），６．００−６．１５（１Ｈ，ｍ），６．８５−７．００（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（１Ｈ，ｍ），７．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．７Ｈｚ），７．３５−７．５０（１Ｈ，ｍ），７．７５−７．８５（２Ｈ，ｍ）
参考例２８
４−アリルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノン（１．１ｇ）のエタノール（１５ｍＬ）溶液に濃塩酸（０．９６ｍＬ）を加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１５／１）で精製し、４−アリルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノン（０．８７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
４．６０−４．７０（２Ｈ，ｍ），５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ），５．４０−５．５０（１Ｈ，ｍ），６．００−６．１５（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０，８．４Ｈｚ），７．４５−７．５５（１Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．０Ｈｚ），７．６５−７．７５（２Ｈ，ｍ），１１．９６（１Ｈ，ｓ）
参考例２９
２−（４−アリルオキシベンジル）フェノール
４−アリルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノン（０．８７ｇ）のテトラヒドロフラン（１４ｍＬ）溶液に、０℃でトリエチルアミン（０．５３ｍＬ）及びクロロギ酸メチル（０．２９ｍＬ）を加え、室温に昇温した後、１．５時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣のテトラヒドロフラン（１８ｍＬ）及び水（９ｍＬ）溶液に、０℃で水素化ホウ素ナトリウム（０．５２ｇ）を加え、室温に昇温した後、２．５時間撹拌した。反応混合物に０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）で精製し、２−（４−アリルオキシベンジル）フェノール（０．７２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．９３（２Ｈ，ｓ），４．４５−４．５５（２Ｈ，ｍ），４．７３（１Ｈ，ｂｒｓ），５．２０−５．３０（１Ｈ，ｍ），５．３５−５．４５（１Ｈ，ｍ），５．９５−６．１０（１Ｈ，ｍ），６．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．３，７．９Ｈｚ），６．８０−６．９５（３Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例３０
２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−アリルオキシベンジル）フェノール（０．２０ｇ）及び２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−α−Ｄ−グルコピラノース（０．４５ｇ）の塩化メチレン（８．５ｍＬ）溶液に三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．１２ｇ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．９０（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），３．８０−３．９５（３Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．３Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１２．３Ｈｚ），４．４５−４．５５（２Ｈ，ｍ），５．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），５．１０−５．４５（５Ｈ，ｍ），５．９５−６．１０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（５Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（１Ｈ，ｍ）
参考例３１
４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール
４−アリルオキシブロモベンゼンの代わりに４−（２−ベンジルオキシエチル）ブロモベンゼンを用いて、参考例２６と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），２．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．３０（３Ｈ，ｓ），３．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．５１（２Ｈ，ｓ），５．１０−５．２０（２Ｈ，ｍ），６．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），６．９５−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（９Ｈ，ｍ）
参考例３２
４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノールの代わりに４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノールを用いて、参考例２７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．９８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．２９（３Ｈ，ｓ），３．７２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．５１（２Ｈ，ｓ），５．０５（２Ｈ，ｓ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（８Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（１Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ）
参考例３３
４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−ヒドロキシベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノンの代わりに４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノンを用いて、参考例２８と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．０２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．７５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．５５（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９０（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（７Ｈ，ｍ），７．４５−７．５５（１Ｈ，ｍ），７．５５−７．６５（３Ｈ，ｍ），１２．０２（１Ｈ，ｓ）
参考例３４
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェノール
４−アリルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノンの代わりに４−（２−ベンジルオキシエチル）−２’−ヒドロキシベンゾフェノンを用いて、参考例２９と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．９７（２Ｈ，ｓ），４．５２（２Ｈ，ｓ），４．６２（１Ｈ，ｓ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（６Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ）
参考例３５
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルクロリド
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルアルコール（０．６７ｇ）の塩化メチレン（３０ｍＬ）溶液にチオニルクロリド（０．４８ｍＬ）を加え、１時間加熱還流した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルクロリド（０．６８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
４．０１（２Ｈ，ｓ），４．５６（２Ｈ，ｓ），５．０４（２Ｈ，ｓ），６．８５−７．４０（１３Ｈ，ｍ）
参考例３６
〔４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル〕アセトニトリル
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンジルクロリド（０．６６ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）溶液にシアン化カリウム（０．４０ｇ）を加え、６０℃にて１８時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜３／１）で精製し、〔４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル〕アセトニトリル（０．５４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．７０（２Ｈ，ｓ），４．０１（２Ｈ，ｓ），５．０４（２Ｈ，ｓ），６．８５−７．４０（１３Ｈ，ｍ）
参考例３７
〔４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕アセトニトリル
〔４−（２−ベンジルオキシベンジル）フェニル〕アセトニトリル（０．４１ｇ）にトリフルオロ酢酸（１７ｍＬ）、水（１ｍＬ）及びジメチルスルフィド（２ｍＬ）を加え、室温にて一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、〔４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニル〕アセトニトリル（０．２６ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．７１（２Ｈ，ｓ），３．９９（２Ｈ，ｓ），４．７６（１Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，７．９Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｄｔ，１．１，７．５Ｈｚ），７．０５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３０（４Ｈ，ｍ）
参考例３８
４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸
４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸メチル（１．０ｇ）のメタノール（２０ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（７．５ｍＬ）を加え、６０℃で５時間撹拌した。残渣に希塩酸を加えて酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸（０．７２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ ｐｐｍ：
４．０１（２Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．４０（９Ｈ，ｍ），７．７５−７．８５（２Ｈ，ｍ），１２．７７（１Ｈ，ｂｒｓ）
参考例３９
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアミド
４−（２−ベンジルオキシベンジル）安息香酸（０．７０ｇ）の塩化メチレン（１０ｍＬ）懸濁液にチオニルクロリド（０．４８ｍＬ）を加え、５０℃にて３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に２８％アンモニア水溶液（５０ｍＬ）を加え、室温にて３０分撹拌した。不溶物をろ取し、水及びヘキサンで洗浄後、減圧下乾燥し、４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアミド（０．６２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ ｐｐｍ：
３．９８（２Ｈ，ｓ），５．１０（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．４０（１０Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ），７．８８（１Ｈ，ｂｒｓ）
参考例４０
４−（２−ヒドロキシベンジル）ベンズアミド
４−（２−ベンジルオキシベンジル）ベンズアミド（０．５０ｇ）のエタノール（１０ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．１０ｇ）を加え、水素雰囲気下室温で１時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去し、４−（２−ヒドロキシベンジル）ベンズアミド（０．３１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ ｐｐｍ：
３．９０（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７５（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３０（３Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｂｒｓ），９．４０（１Ｈ，ｓ）
参考例４１
２−ベンジルオキシ−４’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジフェニルメタノール
４−アリルオキシブロモベンゼンの代わりに２−ベンジルオキシブロモベンゼン、２−（メトキシメチルオキシ）ベンズアルデヒドの代わりに４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンズアルデヒドを用いて、参考例２６と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），２．９３（６Ｈ，ｓ），５．０４（２Ｈ，ｓ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），６．６５−６．７５（２Ｈ，ｍ），６．８５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．４５（９Ｈ，ｍ）
参考例４２
２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェノール
２−ベンジルオキシ−４’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ジフェニルメタノール（０．８５ｇ）のエタノール（２５ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．３４ｇ）を加え、水素雰囲気下室温にて２２時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェノール（０．３５ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．９１（６Ｈ，ｓ），３．９１（２Ｈ，ｓ），４．７３（１Ｈ，ｓ），６．６５−６．７５（２Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例４３
２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−アリルオキシベンジル）フェノールの代わりに２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェノールを用いて、参考例３０と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．９２（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０８（３Ｈ，ｓ），２．８９（６Ｈ，ｓ），３．８０−３．９０（３Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１２．２Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．２Ｈｚ），５．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），５．１５−５．２５（１Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．６０−６．７０（２Ｈ，ｍ），６．９０−７．１０（５Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（１Ｈ，ｍ）
参考例４４
４−ベンジルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール
４−アリルオキシブロモベンゼンの代わりに２−（メトキシメチルオキシ）ブロモベンゼン、２−（メトキシメチルオキシ）ベンズアルデヒドの代わりに４−ベンジルオキシベンズアルデヒドを用いて、参考例２６と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．２９（３Ｈ，ｓ），５．０４（２Ｈ，ｓ），５．１０−５．２０（２Ｈ，ｍ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．４５（９Ｈ，ｍ）
参考例４５
４−ベンジルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノールの代わりに４−ベンジルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノールを用いて参考例２７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．３１（３Ｈ，ｓ），５．０７（２Ｈ，ｓ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．９５−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２５（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．５０（７Ｈ，ｍ），７．７５−７．８５（２Ｈ，ｍ）
参考例４６
４−ベンジルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノン
４−アリルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノンの代わりに４−ベンジルオキシ−２’−（メトキシメチルオキシ）ベンゾフェノンを用いて、参考例２８と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
５．１６（２Ｈ，ｓ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（３Ｈ，ｍ），７．３０−７．５５（６Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，８．２Ｈｚ），７．６５−７．７５（２Ｈ，ｍ），１１．９５（１Ｈ，ｓ）
参考例４７
２−〔（４−ベンジルオキシ）ベンジル〕フェノール
４−アリルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノンの代わりに４−ベンジルオキシ−２’−ヒドロキシベンゾフェノンを用いて、参考例２９と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．９４（２Ｈ，ｓ），４．７０（１Ｈ，ｓ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．７５−６．８０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（３Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ），７．２５−７．４５（５Ｈ，ｍ）
参考例４８
２−〔（４−ベンジルオキシ）ベンジル〕フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−アリルオキシベンジル）フェノールの代わりに２−〔（４−ベンジルオキシ）ベンジル〕フェノールを用いて、参考例３０と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．８８（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），３．８０−３．９０（３Ｈ，ｍ），４．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，１２．３Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．３Ｈｚ），５．０３（２Ｈ，ｓ），５．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．１５−５．２５（１Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．８５−６．９０（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（５Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（１Ｈ，ｍ），７．２５−７．４５（５Ｈ，ｍ）
参考例４９
（Ｅ）−２−〔４−（３−ヒドロキシ−１−プロパ−１−エン−１−イル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
水素化リチウムアルミニウム（０．０３６ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）懸濁液に０℃で、（Ｅ）−２−〔４−（２−エトキシカルボニルビニル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０３５ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液を加え、１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル（１０ｍＬ）を加え、さらに３０分間撹拌した。反応混合物に水及び希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、（Ｅ）−２−〔４−（３−ヒドロキシ−１−プロパ−１−エン−１−イル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１２．０Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，１２．０Ｈｚ），３．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．１５−４．２５（２Ｈ，ｍ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．３０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５．９，１６．０Ｈｚ），６．５０−６．６０（１Ｈ，ｍ），６．８５−７．２５（６Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ）
参考例５０
２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０６６ｇ）のメタノール（５ｍＬ）溶液にナトリウムメトキシド（０．００６ｇ）を加え、室温で３０分撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル）で精製し、２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０４０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，５．４，１１．９Ｈｚ），３．８５−３．９５（４Ｈ，ｍ），４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．９０−７．００（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．８５−７．９５（２Ｈ，ｍ）
参考例５１
２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４４ｇ）のメタノール（２．５ｍＬ）およびテトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）溶液に、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．０３０ｍＬ）を加え、室温で４時間撹拌した。反応混合物の溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）で精製し、２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．２３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９，１１．９Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１１．９Ｈｚ），３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．４５−４．５５（２Ｈ，ｍ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），５．１５−５．２５（１Ｈ，ｍ），５．３０−５．４０（１Ｈ，ｍ），５．９５−６．１０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例５２
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェノール（３．２ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（１２ｇ）のトルエン（３４ｍＬ）及び塩化メチレン（１７ｍＬ）溶液に、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（３．８ｍＬ）を加え、室温で１４時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をメタノール（５０ｍＬ）に溶解し、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．３９ｍＬ）を加え、室温で２．５時間撹拌した。反応混合物の溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）で精製し、２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（３．４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
２．８４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（３Ｈ，ｍ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１２．０Ｈｚ），３．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．４８（２Ｈ，ｓ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．２０（７Ｈ，ｍ），７．２０−７．３５（５Ｈ，ｍ）
参考例５３
２−（４−カルボキシベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（メトキシカルボニル）ベンジル〕フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０５０ｇ）のメタノール（１ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．２６ｍＬ）を加え、室温にて１時間撹拌した。反応混合物を（ベンゼンスルホニルプロピル）シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：メタノール）で精製し、２−（４−カルボキシベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０３８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，１２．１Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１２．１Ｈｚ），４．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．８５−５．００（１Ｈ，ｍ），６．８５−７．００（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．８５−７．９５（２Ｈ，ｍ）
参考例５４
２−（４−シアノメチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
４−（２−ヒドロキシベンジル）安息香酸メチルの代わりに４−（２−ヒドロキシベンジル）フェニルアセトニトリルを用いて、参考例２５と同様の方法で２−（４−シアノメチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを合成した。ついで２−（４−メトキシカルボニルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−（４−シアノメチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例５０と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１２．１Ｈｚ），３．８２（２Ｈ，ｓ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，１２．１Ｈｚ），３．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．８５−７．００（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．３０（４Ｈ，ｍ）
参考例５５
２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
４−（２−ヒドロキシベンジル）ベンズアミド（０．０６３ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（０．３３ｇ）のトルエン（３ｍＬ）懸濁液に三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．１１ｍＬ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを得た。得られた２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドのメタノール（５ｍＬ）溶液にナトリウムメトキシド（０．００５ｇ）を加え、室温で３０分撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル／エタノール＝５／１）で精製し、２−（４−カルバモイルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０６８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１１．９Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，１１．９Ｈｚ），４．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．９０−７．００（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．４０（２Ｈ，ｍ），７．７０−７．８０（２Ｈ，ｍ）
参考例５６
２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１０ｇ）のメタノール（２ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（１ｍＬ）溶液にナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．００７ｍＬ）を加え、室温で７０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をアミノプロピルシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝８／１）で精製し、２−〔４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０６９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
２．８５（６Ｈ，ｓ），３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，１２．０Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，１２．０Ｈｚ），３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．６５−６．７５（２Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．１５（２Ｈ，ｍ）
参考例５７
２−〔４−（ベンジルオキシ）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−アリルオキシベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−〔４−（ベンジルオキシ）ベンジル〕フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例５１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１２．０Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１２．０Ｈｚ），３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．０３（２Ｈ，ｓ），６．８０−６．９５（３Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（４Ｈ，ｍ），７．２５−７．４５（５Ｈ，ｍ）
参考例５８
４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ブロモベンゼン
２−（４−ブロモフェニル）エタノール（１．０ｇ）及びジイソプロピルエチルアミン（１．３ｍＬ）の塩化メチレン（５ｍＬ）溶液に、クロロメチルメチルエーテル（０．７５ｍＬ）を加え、室温にて２時間撹拌した。反応混合物に水を加え、有機層を分取し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１５／１〜１０／１）で精製し、４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ブロモベンゼン（１．２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．２８（３Ｈ，ｓ），３．７４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），７．０５−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．４５（２Ｈ，ｍ）
参考例５９
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ジフェニルメタノール
４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ブロモベンゼン（０．６１ｇ）のテトラヒドロフラン（１２ｍＬ）溶液にアルゴン雰囲気下、−７８℃にてｔｅｒｔ−ブチルリチウム（１．５ｍｏｌ／Ｌペンタン溶液、１．８ｍＬ）を加え、３０分間撹拌した。反応混合物に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド（０．１５ｇ）のテトラヒドロフラン（６ｍＬ）溶液を加え、混合物を０℃に昇温して２５分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えてジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ジフェニルメタノール（０．３１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），２．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．２９（３Ｈ，ｓ），３．７０−３．８０（５Ｈ，ｍ），４．６１（２Ｈ，ｓ），５．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ），６．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．５Ｈｚ），６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．２０−７．３５（４Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｓ）
参考例６０
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノール
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ジフェニルメタノール（０．３１ｇ）のエタノール（１０ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．０６１ｇ）を加えて水素雰囲気下室温にて１時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／２）で精製し、５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノール（０．１９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．８６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．２９（３Ｈ，ｓ），３．７４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．７６（３Ｈ，ｓ），３．９０（２Ｈ，ｓ），４．６１（２Ｈ，ｓ），４．７７（１Ｈ，ｓ），６．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．５Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．１０−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例６１
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノール（０．１９ｇ）及び２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−α−Ｄ−グルコピラノース（０．４０ｇ）の塩化メチレン（１５ｍＬ）溶液に０℃で三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．０８８ｍＬ）を加えて２０分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水索ナトリウム水溶液を加えて有機層を分取した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．３３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．８５（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．１０（３Ｈ，ｓ），２．８５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．３０（３Ｈ，ｓ），３．７２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．７７（３Ｈ，ｓ），３．７５−３．８５（２Ｈ，ｍ），３．８０−３．９５（１Ｈ，ｍ），４．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，１２．２Ｈｚ），４．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，１２．２Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），５．１０−５．２０（１Ｈ，ｍ），５．２５−５．３５（２Ｈ，ｍ），６．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．７Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．００−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例６２
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸メチル
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（１．２８ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１４ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（０．９８ｇ）及びベンジルブロミド（０．６２ｍＬ）を加え、室温で１９時間撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ、ジエチルエーテルで２回抽出した。有機層を合わせて水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸メチル（１．６ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．９０（３Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｓ），５．１１（２Ｈ，ｓ），７．００−７．２０（５Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（５Ｈ，ｍ），７．５５−７．６５（２Ｈ，ｍ）
参考例６３
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸メチル（１．６ｇ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）とエタノール（５ｍＬ）の混合溶媒に溶解し、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、８０℃にて１時間撹拌した。反応液を室温に冷却し、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液にて酸性とし、氷冷下３０分間撹拌した。析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥して３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸（１．４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ ｐｐｍ：
１．１４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．９６（２Ｈ，ｓ），５．１８（２Ｈ，ｓ），７．０５−７．１５（４Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（６Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．９Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），１２．８４（１Ｈ，ｓ）
参考例６４
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェノール
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）安息香酸（１．４ｇ）及びトリエチルアミン（１．３ｍＬ）の１，４−ジオキサン（１０ｍＬ）溶液にジフェニルホスホリルアジド（１．３ｇ）の１，４−ジオキサン（１０ｍＬ）溶液を加え、１００℃で１時間撹拌した。反応混合物にベンジルアルコール（１．６ｍＬ）を加え、同温度でさらに７時間撹拌した。反応混合物の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、Ｎ−〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕カルバミン酸ベンジル（１．４ｇ）を得た。得られたＮ−〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕カルバミン酸ベンジル（１．４ｇ）のメタノール（１５ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．２８ｇ）を加え、水素雰囲気下、１１時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェノール（０．５４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．５６（２Ｈ，ｂｒｓ），３．８５（２Ｈ，ｓ），４．５７（１Ｈ，ｓ），６．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．１Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０５−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例６５
Ｎ−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕カルバミン酸ベンジル
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェノール（０．２５ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液に、Ｎ−ベンジルオキシカルボニルオキシスクシンイミド（０．４１ｇ）を加え、室温にて２２時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製し、Ｎ−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕カルバミン酸ベンジル（０．４０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．９０（２Ｈ，ｓ），５．００（１Ｈ，ｂｒｓ），５．１９（２Ｈ，ｓ），６．５９（１Ｈ，ｂｒｓ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．２Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０５−７．２０（５Ｈ，ｍ），７．３０−７．４５（５Ｈ，ｍ）
参考例６６
５−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりにＮ−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕カルバミン酸ベンジルを用いて、参考例６１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．８５（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．７０−３．９５（３Ｈ，ｍ），４．１０−４．４０（２Ｈ，ｍ），５．００−５．４０（６Ｈ，ｍ），６．６３（１Ｈ，ｂｒｓ），６．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，８．２Ｈｚ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），６．９５−７．１０（４Ｈ，ｍ），７．２０−７．６０（６Ｈ，ｍ）
参考例６７
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．３５ｇ）のテトラヒドロフラン（４ｍＬ）溶液に、１０％パラジウムカーボン粉末（０．０７ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で８時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／３〜塩化メチレン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．８４（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），２．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．５９（２Ｈ，ｂｒｓ），３．７０−３．９０（３Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．２Ｈｚ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１２．２Ｈｚ），５．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），５．１０−５．３５（３Ｈ，ｍ），６．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，８．０Ｈｚ），６．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），６．９５−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例６８
２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルベンズアルデヒド
２−ヒドロキシ−４，６−ジメチルベンズアルデヒド（０．７５ｇ）及びジイソプロピルエチルアミン（１．４ｍＬ）の塩化メチレン（２０ｍＬ）溶液にクロロメチルメチルエーテル（０．５７ｍＬ）を加え、室温で２４時間撹拌した。反応混合物に水を加えてジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）で精製し、２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルベンズアルデヒド（０．５７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．３４（３Ｈ，ｓ），２．５５（３Ｈ，ｓ），３．５１（３Ｈ，ｓ），５．２６（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９０（１Ｈ，ｍ），１０．６１（１Ｈ，ｓ）
参考例６９
４’−（３−ベンジルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノール
４−（３−ベンジルオキシプロピル）ブロモベンゼン（１．３ｇ）、金属マグネシウム（０．１１ｇ）、触媒量のヨウ素及びテトラヒドロフラン（４．４ｍＬ）よりグリニャール試薬を調製した。得られたグリニャール試薬溶液に２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルベンズアルデヒド（０．５７ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液を加え２０分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、４’−（３−ベンジルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノール（１．１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．８０−１．９５（２Ｈ，ｍ），２．３１（３Ｈ，ｓ），２．３２（３Ｈ，ｓ），２．６０−２．７５（２Ｈ，ｍ），３．１２（３Ｈ，ｓ），３．４６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），３．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），４．４９（２Ｈ，ｓ），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），５．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０，７Ｈｚ），６．７０−６．７５（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８０（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１５−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ）
参考例７０
４’−（３−ヒドロキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン
４’−（３−ベンジルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノール（１．１ｇ）のエタノール（２７ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．４６ｇ）を加えて水素雰囲気下室温にて１７時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去し、４’−（３−ヒドロキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン（０．８５ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．８０−１．９０（２Ｈ，ｍ），２．２０（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．６０−２．７０（２Ｈ，ｍ），３．３６（３Ｈ，ｓ），３．６０−３．７０（２Ｈ，ｍ），４．００（２Ｈ，ｓ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（４Ｈ，ｍ）
参考例７１
４’−（３−ベンゾイルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン
４’−（３−ヒドロキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン（０．８５ｇ）、トリエチルアミン（０．４９ｍＬ）及び４−（ジメチルアミノ）ピリジン（０．０３３ｇ）の塩化メチレン（１４ｍＬ）溶液に、ベンゾイルクロリド（０．３８ｍＬ）を加え、室温で１８時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）で精製し、４’−（３−ベンゾイルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン（１．１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．００−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．２０（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．６５−２．７５（２Ｈ，ｍ），３．３６（３Ｈ，ｓ），４．００（２Ｈ，ｓ），４．２５−４．３５（２Ｈ，ｍ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（４Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６０（１Ｈ，ｍ），８．００−８．１０（２Ｈ，ｍ）
参考例７２
２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノール
４’−（３−ベンゾイルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン（１．１ｇ）のメタノール（１３ｍＬ）溶液にｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．０９６ｇ）を加え、６０℃で４時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝６／１）で精製し、２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノール（０．８９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．００−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．２３（３Ｈ，ｓ），２．２６（３Ｈ，ｓ），２．６５−２．８０（２Ｈ，ｍ），３．９８（２Ｈ，ｓ），４．２５−４．３５（２Ｈ，ｍ），４．５３（１Ｈ，ｓ），６．４５−６．５５（１Ｈ，ｍ），６．６０−６．７０（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ），７．４０−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６０（１Ｈ，ｍ），８．００−８．１０（２Ｈ，ｍ）
参考例７３
４’−（２−ベンジルオキシエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノール
４−（３−ベンジルオキシプロピル）ブロモベンゼンの代わりに４−（２−ベンジルオキシエチル）ブロモベンゼンを用いて、参考例６９と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．３０（３Ｈ，ｓ），２．３２（３Ｈ，ｓ），２．８９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．１３（３Ｈ，ｓ），３．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），４．５０（２Ｈ，ｓ），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），６．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），６．７０−６．７５（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８０（１Ｈ，ｍ），７．１０−７．３５（９Ｈ，ｍ）
参考例７４
４’−（２−ヒドロキシエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン
４’−（３−ベンジルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノールの代わりに４’−（２−ベンジルオキシエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタノールを用いて、参考例７０と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．３１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），２．８０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．７５−３．８５（２Ｈ，ｍ），４．０１（２Ｈ，ｓ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．１０（４Ｈ，ｍ）
参考例７５
４’−（２−ベンゾイルオキシエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタン
４’−（３−ヒドロキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタンの代わりに４’−（２−ヒドロキエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタンを用いて、参考例７１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．１９（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），３．０１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．３３（３Ｈ，ｓ），４．０１（２Ｈ，ｓ），４．４７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），５．１１（２Ｈ，ｓ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．３５−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６０（１Ｈ，ｍ），７．９５−８．０５（２Ｈ，ｍ）
参考例７６
２−〔４−（２−ベンゾイルオキシエチル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノール
４’−（３−ベンゾイルオキシプロピル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタンの代わりに４’−（２−ベンゾイルオキシエチル）−２−（メトキシメチルオキシ）−４，６−ジメチルジフェニルメタンを用いて、参考例７２と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．２２（３Ｈ，ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），３．０２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．９９（２Ｈ，ｓ），４．４９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．６０（１Ｈ，ｂｒｓ），６．４５−６．５５（１Ｈ，ｍ），６．６０−６．６５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ），７．３５−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．６０（１Ｈ，ｍ），７．９５−８．０５（２Ｈ，ｍ）
参考例７７
２−（４−エチルベンジル）−５−メチルアミノフェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−ベンジルオキシカルボニルアミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．４２ｇ）及びヨウ化メチル（０．０６７ｍＬ）のテトラヒドロフラン（７ｍＬ）溶液に、０℃で水素化ナトリウム（６０％、０．０３４ｇ）を加えた。反応混合物を室温に昇温し、さらに５時間撹拌した。反応混合物にヨウ化メチル（０．１３ｍＬ）及び水素化ナトリウム（６０％、０．０２０ｇ）を加え、室温にてさらに１時間撹拌した。反応混合物を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をアミノプロピルシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．３０ｇ）を得た。得られた５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ−メチル）アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．３０ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．０６０ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温にて６時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、２−（４−エチルベンジル）−５−メチルアミノフェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１５ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．８４（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０４（３Ｈ，ｓ），２．０６（３Ｈ，ｓ），２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．８１（３Ｈ，ｓ），３．６５（１Ｈ，ｂｒｓ），３．７０−３．９５（３Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．３Ｈｚ），４．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１２．３Ｈｚ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），５．１０−５．２０（１Ｈ，ｍ），５．２０−５．３５（２Ｈ，ｍ），６．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．２Ｈｚ），６．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．００−７．１０（４Ｈ，ｍ）
参考例７８
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシベンズアミド
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（０．２０ｇ）及び２８％アンモニア水溶液（６ｍＬ）のエタノール（３ｍＬ）混合物に、アンモニウムクロリド（０．０７９ｇ）を加え、封管中１００℃で１４時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣に塩化メチレンとメタノールの１０：１の混合溶媒を加え、不溶物をろ取、乾燥して、４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシベンズアミド（０．０６５ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ ｐｐｍ：
１．１４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８５（２Ｈ，ｓ），７．００−７．１５（６Ｈ，ｍ），７．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７，７．８Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ），７．７２（１Ｈ，ｂｒｓ），９．５６（１Ｈ，ｓ）
参考例７９
５−カルバモイル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシベンズアミドを用いて、参考例６１と同様の方法で標記化合物を合成した
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．８５（３Ｈ，ｓ），１．９９（３Ｈ，ｓ），２．０４（６Ｈ，ｓ），２．５６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８０−４．００（２Ｈ，ｍ），４．００−４．３５（３Ｈ，ｍ），５．０５−５．２０（１Ｈ，ｍ），５．２０−５．３０（１Ｈ，ｍ），５．３０−５．４５（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．２０（５Ｈ，ｍ），７．４０−７．５５（１Ｈ，ｍ），７．５５−７．６５（１Ｈ，ｍ）
参考例８０
２−ヒドロキシ−４−（メトキシメチルオキシ）ベンズアルデヒド
２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド（０．８３ｇ）及び炭酸セシウム（１．７ｇ）のアセトニトリル（３０ｍＬ）懸濁液に、クロロメチルメチルエーテル（０．５５ｍＬ）を加え、室温にて３０分間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−ヒドロキシ−４−（メトキシメチルオキシ）ベンズアルデヒド（０．８４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．４８（３Ｈ，ｓ），５．２２（２Ｈ，ｓ），６．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．６Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），９．７４（１Ｈ，ｓ），１１．３７（１Ｈ，ｓ）
参考例８１
４’−エチル−２−ヒドロキシ−４−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール
１−ブロモ−４−エチルベンゼン（０．４６ｇ）のテトラヒドロフラン（１２ｍＬ）溶液に、−７８℃、アルゴン雰囲気下ｔｅｒｔ−ブチルリチウム（１．４５ｍｏｌ／Ｌペンタン溶液、１．９ｍＬ）を加え３０分間撹拌した。反応混合物に２−ヒドロキシ−４−メトキシメチルオキシベンズアルデヒド（０．１８ｇ）のテトラヒドロフラン（６ｍＬ）溶液を加えた。混合物を０℃に昇温し、さらに１５分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、４’−エチル−２−ヒドロキシ−４−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール（０．３０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．６４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），３．４５（３Ｈ，ｓ），５．１２（２Ｈ，ｓ），５．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），６．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．５Ｈｚ），６．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．７２（１Ｈ，ｄ，８．５Ｈｚ），７．１５−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），８．０７（１Ｈ，ｓ）
参考例８２
２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェノール
４’−エチル−２−ヒドロキシ−４−（メトキシメチルオキシ）ジフェニルメタノール（０．１４ｇ）のエタノール（５ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．０５８ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温にて１時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）で精製し、２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェノール（０．１２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．４７（３Ｈ，ｓ），３．９０（２Ｈ，ｓ），４．７３（１Ｈ，ｓ），５．１３（２Ｈ，ｓ），６．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．１Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１０−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例８３
２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェノールを用いて、参考例６１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．８５（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．１０（３Ｈ，ｓ），２．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．４６（３Ｈ，ｓ），３．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），３．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），３．８５−３．９５（１Ｈ，ｍ），４．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１２．２Ｈｚ），４．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１２．２Ｈｚ），５．０５−５．２５（４Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．４Ｈｚ），６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例８４
２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェノール
３，５−ジメチルフェノール（１２ｇ）に８５℃で水酸化リチウム一水和物（４．２ｇ）及び４−メトキシベンジルクロリド（１４ｍＬ）を加え、１．５時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製し、２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェノール（５．１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．２４（３Ｈ，ｓ），２．２６（３Ｈ，ｓ），３．７７（３Ｈ，ｓ），３．９４（２Ｈ，ｓ），４．５３（１Ｈ，ｓ），６．４５−６．５５（１Ｈ，ｍ），６．５５−６．６５（１Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ）
参考例８５
２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェノール（４．０ｇ）、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−トリクロロアセトイミドイル−α−Ｄ−グルコピラノース（８．９ｇ）の塩化メチレン（１００ｍＬ）溶液に０℃で三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（２．５ｍＬ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物をアミノプロピルシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製した。溶媒を減圧下留去し、残渣にエタノールを加え、結晶をろ取した。得られた結晶を減圧下乾燥し、２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（７．８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．６５（３Ｈ，ｓ），２．００（３Ｈ，ｓ），２．０４（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），２．１２（３Ｈ，ｓ），２．３０（３Ｈ，ｓ），３．７４（３Ｈ，ｓ），３．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），３．８０−３．９５（１Ｈ，ｍ），４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．２Ｈｚ），４．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８，１２．２Ｈｚ），５．００−５．２０（２Ｈ，ｍ），５．２０−５．３５（２Ｈ，ｍ），６．７０−６．８０（４Ｈ，ｍ），６．８５−７．００（２Ｈ，ｍ）
参考例８６
３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）ベンズアミド
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチルの代わりに３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）安息香酸メチルを用いて参考例７８と同様の方法で標記化合物を合成した。精製はシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝８／１）にて行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．７４（３Ｈ，ｓ），３．８９（２Ｈ，ｓ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０５−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，７．８Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）
参考例８７
３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）ベンゾニトリル
３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）ベンズアミド（０．０４７ｇ）及びトリエチルアミン（０．３０ｍＬ）の塩化メチレン（１．８ｍＬ）溶液にトリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．３４ｍＬ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝９／１）で精製し、３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）ベンゾニトリル（０．０１４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．８０（３Ｈ，ｓ），４．０６（２Ｈ，ｓ），６．８０−６．９０（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６，８．０Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）
参考例８８
５−シアノ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに３−ヒドロキシ−４−（４−メトキシベンジル）ベンゾニトリルを用いて、参考例６１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．９３（３Ｈ，ｓ），２．０４（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），２．１４（３Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．８７（２Ｈ，ｓ），３．９０−４．００（１Ｈ，ｍ），４．１５−４．３０（２Ｈ，ｍ），５．０５−５．２０（２Ｈ，ｍ），５．２５−５．４５（２Ｈ，ｍ），６．７５−６．９０（２Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（１Ｈ，ｍ），７．２０−７．３５（２Ｈ，ｍ）
参考例８９
２−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシジフェニルメタノール
４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ブロモベンゼンの代わりに４−ブロモアニソールを用いて、参考例５９と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），３．７７（３Ｈ，ｓ），３．８１（３Ｈ，ｓ），５．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），６．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６，８．５Ｈｚ），６．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ），６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．８５−６．９５（２Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），８．１０（１Ｈ，ｓ）
参考例９０
５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェノール
２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ジフェニルメタノールの代わりに２−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシジフェニルメタノールを用いて、参考例６０と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．７７（３Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．８７（２Ｈ，ｓ），４．６７（１Ｈ，ｓ），６．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．３Ｈｚ），６．７５−６．９０（２Ｈ，ｍ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０５−７．２０（２Ｈ，ｍ）
参考例９１
５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェノールを用いて、参考例６１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．８８（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０９（３Ｈ，ｓ），３．７０−３．９５（９Ｈ，ｍ），４．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．２Ｈｚ），４．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，１２．２Ｈｚ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），５．１０−５．４０（３Ｈ，ｍ），６．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．４Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ）
参考例９２
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）ベンジルアルコール
４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシ安息香酸メチル（１．３ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（０．７９ｇ）及びベンジルブロミド（０．６２ｍＬ）を加え、室温で１３時間撹拌した。反応混合物に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をジエチルエーテル（１０ｍＬ）に溶解し、水素化リチウムアルミニウム（０．５７ｇ）のジエチルエーテル（５０ｍＬ）懸濁液に０℃で加え、１．５時間加熱還流した。反応混合物を０℃に冷却し、水（０．６０ｍＬ）、１５％水酸化ナトリウム水溶液（０．６０ｍＬ）及び水（１．８ｍＬ）を順次加え、５分間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し、３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）ベンジルアルコール（１．３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．５７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．９８（２Ｈ，ｓ），４．６５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ），５．０７（２Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，７．５Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ），７．０５−７．１５（５Ｈ，ｍ），７．２５−７．４０（５Ｈ，ｍ）
参考例９３
〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトニトリル
３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）ベンジルアルコール（０．８７ｇ）の塩化メチレン（２０ｍＬ）溶液に、０℃でトリエチルアミン（０．４４ｍＬ）及びメタンスルホニルクロリド（０．２２ｍＬ）を加え、２時間撹拌した。反応混合物に０．５ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をジメチルスルホキシド（１０ｍＬ）に溶解し、シアン化カリウム（０．６８ｇ）及び触媒量のヨウ化ナトリウムを加え、８０℃で１２時間撹拌した。反応混合物に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜３／１）で精製し、〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトニトリル（０．４１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．７０（２Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｓ），５．０７（２Ｈ，ｓ），６．８０−６．９０（２Ｈ，ｍ），７．０５−７．１５（５Ｈ，ｍ），７．２５−７．４５（５Ｈ，ｍ）
参考例９４
２−〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトアミド
〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトニトリル（０．４１ｇ）のエタノール（５ｍＬ）及び水（１０ｍＬ）混合物に、水酸化カリウム（０．６８ｇ）を加え４時間加熱還流した。反応混合物に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加えて酸性とし、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕酢酸（０．４１ｇ）を得た。得られた〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕酢酸（０．４１ｇ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液にピリジン（０．１９ｍＬ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（０．５０ｇ）及び炭酸水素アンモニウム（０．１８ｇ）を加え、室温で１８時間撹拌した。反応混合物に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）で精製し、２−〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトアミド（０．３８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ ｐｐｍ：
１．１４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．５３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．２５−３．４０（２Ｈ，ｍ），３．８５（２Ｈ，ｓ），５．０６（２Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０，７．９Ｈｚ），６．８４（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ），７．００−７．１０（５Ｈ，ｍ），７．２５−７．４５（６Ｈ，ｍ）
参考例９５
２−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕アセトアミド
２−〔３−ベンジルオキシ−４−（４−エチルベンジル）フェニル〕アセトアミド（０．３８ｇ）のメタノール（５ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．０７５ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温にて４時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝３０／１〜２０／１）で精製し、２−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕アセトアミド（０．１６ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ ｐｐｍ：
１．１３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．２２（２Ｈ，ｓ），３．７７（２Ｈ，ｓ），６．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．７Ｈｚ），６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ），７．３７（１Ｈ，ｂｒｓ），９．２７（１Ｈ，ｓ）
参考例９６
５−カルバモイルメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに２−〔４−（４−エチルベンジル）−３−ヒドロキシフェニル〕アセトアミドを用いて、参考例６１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．８８（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０６（３Ｈ，ｓ），２．０７（３Ｈ，ｓ），２．６０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．５３（２Ｈ，ｓ），３．８０−３．９５（３Ｈ，ｍ），４．１５−４．３０（２Ｈ，ｍ），５．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），５．１５−５．２５（１Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（３Ｈ，ｍ），５．４８（１Ｈ，ｂｒｓ），６．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．９Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ），７．００−７．１５（５Ｈ，ｍ）
参考例９７
２−ヒドロキシ−４’−メトキシ−４−（メトキシメチル）ジフェニルメタノール
４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ブロモベンゼンの代わりに４−ブロモアニソール、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒドの代わりに２−ヒドロキシ−４−メトキシメチルベンズアルデヒドを用いて参考例５９と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
２．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．８０（３Ｈ，ｓ），４．３９（２Ｈ，ｓ），５．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．１Ｈｚ），６．７０−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（３Ｈ，ｍ），７．２５−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．９８（１Ｈ，ｓ）
参考例９８
２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェノール
２−ヒドロキシ−４’−メトキシ−４−（メトキシメチル）ジフェニルメタノール（０．１７ｇ）のエタノール（１１ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．０５１ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で３０分間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝３／１〜２／１）で精製し、２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェノール（０．０８２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
３．３８（３Ｈ，ｓ），３．７８（３Ｈ，ｓ），３．９２（２Ｈ，ｓ），４．３９（２Ｈ，ｓ），４．７７（１Ｈ，ｓ），６．７５−６．９０（４Ｈ，ｍ），７．００−７．２０（３Ｈ，ｍ）
参考例９９
２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェノールの代わりに２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェノールを用いて、参考例６１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ ｐｐｍ：
１．９０（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０８（３Ｈ，ｓ），３．３７（３Ｈ，ｓ），３．７７（３Ｈ，ｓ），３．８４（２Ｈ，ｓ），３．８５−３．９５（１Ｈ，ｍ），４．１０−４．３０（２Ｈ，ｍ），４．３０−４．５０（２Ｈ，ｍ），５．１０−５．２５（２Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．９０−７．１０（５Ｈ，ｍ）
参考例１００
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１３ｇ）のメタノール（８ｍＬ）溶液に２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．５０ｍＬ）を加えて室温にて２５分間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝７／１）で精製し、５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０５３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
２．８１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．２４（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（３Ｈ，ｍ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），３．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１２．０Ｈｚ），４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．５７（２Ｈ，ｓ），４．８５−４．９５（１Ｈ，ｍ），６．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．３Ｈｚ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例１０１
５−〔２−（ベンジルオキシ）エチルオキシ〕−２−（４−エチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０３９ｇ）及び炭酸セシウム（０．０９８ｇ）のジメチルホルムアミド（１ｍＬ）懸濁液に、（２−ブロモエチル）ベンジルエーテル（０．０２５ｍＬ）を加え、５０℃にて３．５時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝６／１）で精製し、５−〔２−（ベンジルオキシ）エチルオキシ〕−２−（４−エチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１２．１Ｈｚ），３．７５−３．８５（２Ｈ，ｍ），３．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），３．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１２．１Ｈｚ），３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．０５−４．１５（２Ｈ，ｍ），４．５８（２Ｈ，ｓ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．５Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．００−７．２０（４Ｈ，ｍ），７．２０−７．４０（５Ｈ，ｍ）
参考例１０２
２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕−５−メトキシフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０５３ｇ）のメタノール（２．３ｍＬ）溶液にｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．０３２ｇ）を加え、５０℃にて３時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、トリエチルアミン（０．５ｍＬ）を加え、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝６／１）で精製し、２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕−５−メトキシフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
２．７６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（３Ｈ，ｍ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），３．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，１２．２Ｈｚ），３．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．８５−４．９５（１Ｈ，ｍ），６．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，８．３Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．０５−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例１０３
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１９ｇ）のメタノール（３．５ｍＬ）溶液にナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液：０．０６４ｍＬ）を加え、室温にて５０分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残渣に水を加えた。析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥して５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），３．３０−３．５０（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１２．０Ｈｚ），３．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），３．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，１２．０Ｈｚ），３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．８０−４．９５（１Ｈ，ｍ），６．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．１Ｈｚ），６．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例１０４
２−〔４−（３−ヒドロキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノール（０．７２ｇ）及び１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース（２．３ｇ）のトルエン（７ｍＬ）及び塩化メチレン（３ｍＬ）溶液に、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体（０．７３ｍＬ）を加え、室温で１０時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルと飽和重曹水を加え、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をメタノール（６ｍＬ）及びテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解し、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．１９ｍＬ）を加え、３０℃で７．５時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルと水を加え、有機層を分取した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去した。残渣をメタノール（１０ｍＬ）に溶解し、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．０７５ｍＬ）を加え、３０℃で１４時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝８／１）にて精製した。溶媒を減圧下留去し、残渣にジエチルエーテルを加えて、析出物をろ取した。得られた固体をジエチルエーテルで洗浄後、減圧下乾燥し、２−〔４−（３−ヒドロキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．５８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．７０−１．８５（２Ｈ，ｍ），２．１３（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），２．５５−２．６５（２Ｈ，ｍ），３．３０−３．４５（４Ｈ，ｍ），３．４５−３．６０（２Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１１．９Ｈｚ），３．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１１．９Ｈｚ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），４．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．５Ｈｚ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），６．９５−７．１０（４Ｈ，ｍ）
参考例１０５
２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（３−ベンゾイルオキシプロピル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノールの代わりに２−〔４−（２−ベンゾイルオキシエチル）ベンジル〕−３，５−ジメチルフェノールを用いて、参考例１０４と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
２．１３（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），２．７４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．３０−３．４５（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（３Ｈ，ｍ），３．８６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１１．９Ｈｚ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ），４．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．６５−６．７０（１Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（４Ｈ，ｍ）
参考例１０６
２−（４−エチルベンジル）−５−メチルアミノフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−（４−エチルベンジル）−５−メチルアミノフェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例１０３と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．７３（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．１Ｈｚ），３．７５−４．００（３Ｈ，ｍ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，８．２Ｈｚ），６．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例１０７
５−カルバモイル−２−（４−エチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−カルバモイル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１３ｇ）のメタノール（３ｍＬ）溶液に、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．０４３ｍＬ）を加え、室温にて３０分間撹拌した。反応混合物を（ベンゼンスルホニルプロピル）シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：メタノール）で精製した。得られた化合物にジエチルエーテルを加え、析出した固体をろ取し、減圧下乾燥する事により５−カルバモイル−２−（４−エチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０７９ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．６０（４Ｈ，ｍ），３．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１２．１Ｈｚ），３．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１２．１Ｈｚ），４．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），５．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．０５−７．２０（５Ｈ，ｍ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７，７．９Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）
参考例１０８
２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例１００と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３５−３．５５（７Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１２．２Ｈｚ），３．８０−３．９５（２Ｈ，ｍ），３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），４．８０−４．９５（１Ｈ，ｍ），５．０５−５．２０（２Ｈ，ｍ），６．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．４Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．００−７．２０（４Ｈ，ｍ）
参考例１０９
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−（４−エチルベンジル）−５−（メトキシメチルオキシ）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例１０２と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６５−３．７５（１Ｈ，ｍ），３．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），３．８５−３．９５（１Ｈ，ｍ），３．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．２Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例１１０
２−（４−エチルベンジル）−５−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−〔２−（ベンジルオキシ）エチルオキシ〕−２−（４−エチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２２ｇ）のエタノール（１ｍＬ）溶液に１０％パラジウムカーボン粉末（０．００８２ｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で１時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝６／１）で精製し、２−（４−エチルベンジル）−５−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０１３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１２．１Ｈｚ），３．８０−３．９５（４Ｈ，ｍ），３．９５−４．０５（３Ｈ，ｍ），４．８５−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，８．４Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例１１１
２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（７．４ｇ）のエタノール（１５０ｍＬ）懸濁液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（６５ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、２−（４−メトキシベンジル）−３，５−ジメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（５．２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
２．１３（３Ｈ，ｓ），２．２７（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．５０（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７５（４Ｈ，ｍ），３．８０−４．００（２Ｈ，ｍ），４．００−４．２０（１Ｈ，ｍ），４．８０−４．９０（１Ｈ，ｍ），６．６０−６．８０（３Ｈ，ｍ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．１０（２Ｈ，ｍ）
参考例１１２
５−シアノ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−メトキシ−２−｛４−〔２−（メトキシメチルオキシ）エチル〕ベンジル｝フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに５−シアノ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例１００と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．３０−３．４５（１Ｈ，ｍ），３．４５−３．６０（３Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，１２．２Ｈｚ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１２．２Ｈｚ），３．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．７Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ）
参考例１１３
５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−アミノ−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに５−メトキシ−２−（４−メトキシベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例１０３と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８，１２．０Ｈｚ），３．７４（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），３．８０−４．００（３Ｈ，ｍ），４．８０−４．９５（１Ｈ，ｍ），６．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．４Ｈｚ），６．７０−６．８５（３Ｈ，ｍ），６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．０５−７．２０（２Ｈ，ｍ）
参考例１１４
５−カルバモイルメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
５−カルバモイル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに５−カルバモイルメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、参考例１０７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．３０−３．５５（６Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．２Ｈｚ），３．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１２．２Ｈｚ），３．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ），４．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．６Ｈｚ），４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．６Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．００−７．２０（５Ｈ，ｍ）
参考例１１５
５−〔３−（エトキシカルボニル）プロピルオキシ〕−２−（４−エチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０５１ｇ）及び炭酸セシウム（０．１３ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）懸濁液に、４−ブロモ酪酸エチル（０．０２８ｍＬ）を加え、５０℃で１時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝９／１）で精製し、５−〔３−（エトキシカルボニル）プロピルオキシ〕−２−（４−エチルベンジル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．９５−２．１０（２Ｈ，ｍ），２．４８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．１Ｈｚ），３．８０−４．０５（５Ｈ，ｍ），４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．８Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．００−７．１５（４Ｈ，ｍ）
参考例１１６
２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェニル ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１４ｇ）のメタノール（３ｍＬ）溶液に、ナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液、０．０４７ｍＬ）を加え、室温にて３時間撹拌した。反応液を（ベンゼンスルホニルプロピル）シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：メタノール）で精製し、２−（４−メトキシベンジル）−５−メトキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０８４ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
３．３５（３Ｈ，ｓ），３．３０−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５，１２．１Ｈｚ），３．７４（３Ｈ，ｓ），３．８０−３．９５（２Ｈ，ｍ），４．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．３５−４．４５（２Ｈ，ｍ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．７５−６．８５（２Ｈ，ｍ），６．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．７Ｈｚ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．１０−７．２０（３Ｈ，ｍ）
実施例１
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０７５ｇ）の２，４，６−トリメチルピリジン（２ｍＬ）溶液に、室温にてクロロギ酸エチル（０．０３７ｍＬ、２モル当量）を加えた。室温にて１７時間撹拌後、反応混合物に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出物を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液及び水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲル分取薄相クロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１０／１）で精製した後、再結晶して（再結晶溶媒：アセトン／ヘキサン＝１／１）２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．０２０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．２０−１．３０（３Ｈ，ｍ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．３０−３．５５（３Ｈ，ｍ），３．５５−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．０５−４．２０（２Ｈ，ｍ），４．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１１．７Ｈｚ），４．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１１．７Ｈｚ），４．５０−４．６０（２Ｈ，ｍ），４．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．９０−７．１５（７Ｈ，ｍ）
実施例２〜２７
実施例１と同様の方法に従い、対応する原料化合物より表１の化合物を合成した。
Figure 0004278983
実施例２８
２−（４−エチルベンジル）−５−ピバロイルオキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
クロロギ酸エチルの代わりにピバリン酸クロリド（１．５モル当量）を用いて、実施例１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１５−１．２５（１２Ｈ，ｍ），２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．６５−３．７５（１Ｈ，ｍ），３．８５−３．９５（１Ｈ，ｍ），３．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），５．０５（２Ｈ，ｓ），６．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１，７．８Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ）
実施例２９
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−ブチリル−β−Ｄ−グルコピラノシド
クロロギ酸エチルの代わりにブチリルクロリド（２．５モル当量）を用いて、実施例１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．５０−１．６５（２Ｈ，ｍ），２．２５−２．３５（２Ｈ，ｍ），２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．５５（３Ｈ，ｍ），３．５５−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．４，１１．８Ｈｚ），４．３５−４．５０（１Ｈ，ｍ），４．５５（２Ｈ，ｓ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９０−７．１５（７Ｈ，ｍ）
実施例３０
５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
クロロギ酸エチルの代わりにアセチルクロリド（２．５モル当量）を用いて、実施例１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０６（３Ｈ，ｓ），２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．５５（３Ｈ，ｍ），３．５５−３．７０（１Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．４，１１．９Ｈｚ），４．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１１．９Ｈｚ），４．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．００−５．１０（２Ｈ，ｍ），６．９０−７．１５（７Ｈ，ｍ）
実施例３１
２−（４−エチルベンジル）−５−（エトキシカルボニルオキシメチル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド
実施例１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．５８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３５−３．５５（４Ｈ，ｍ），３．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１２．０Ｈｚ），３．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，１２．０Ｈｚ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），５．００−５．１５（２Ｈ，ｍ），６．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４，７．７Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ）
実施例３２
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−ヘキサノイル−β−Ｄ−グルコピラノシド
クロロギ酸エチルの代わりにヘキサノイルクロリド（２．５モル当量）を用いて、実施例１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
０．８６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２０−１．３５（４Ｈ，ｍ），１．５０−１．６５（２Ｈ，ｍ），２．２５−２．４０（２Ｈ，ｍ），２．５０−２．６５（２Ｈ，ｍ），３．３０−３．５５（３Ｈ，ｍ），３．５５−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，１１．９Ｈｚ），４．３５−４．５０（１Ｈ，ｍ），４．５５（２Ｈ，ｓ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），６．８５−７．２０（７Ｈ，ｍ）
実施例３３
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−ピバロイル−β−Ｄ−グルコピラノシド
クロロギ酸エチルの代わりにピバリン酸クロリド（１．５モル当量）を用いて、実施例１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１４（９Ｈ，ｓ），１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．３０−３．５０（３Ｈ，ｍ），３．５０−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ），４．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，１１．８Ｈｚ），４．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１１．８Ｈｚ），４．５４（２Ｈ，ｓ），４．９０−５．００（１Ｈ，ｍ），６．９０−７．１５（７Ｈ，ｍ）
実施例３４
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−イソブチルオキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド
クロロギ酸エチルの代わりにクロロギ酸イソブチル（２．０モル当量）を用いて、実施例１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
０．８９（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．１７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．８０−１．９５（１Ｈ，ｍ），２．５６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．４０−３．６０（３Ｈ，ｍ），３．６０−３．７０（１Ｈ，ｍ），３．８０−３．９０（２Ｈ，ｍ），３．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，１１．７Ｈｚ），４．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，１１．７Ｈｚ），４．５６（２Ｈ，ｓ），４．８０−５．００（１Ｈ，ｍ），６．９０−７．２０（７Ｈ，ｍ）
実施例３５
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−イソプロピルオキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド
クロロギ酸エチルの代わりにクロロギ酸イソプロピル（２．０モル当量）を用いて、実施例１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．１９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．２２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），１．２４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ），２．５７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），３．３０−３．５５（３Ｈ，ｍ），３．５５−３．７０（１Ｈ，ｍ），３．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，１１．７Ｈｚ），４．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３，１１．７Ｈｚ），４．５０−４．６０（２Ｈ，ｍ），４．７０−４．８５（１Ｈ，ｍ），４．８５−４．９５（１Ｈ，ｍ），６．９０−７．２０（７Ｈ，ｍ）
実施例３６
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、実施例１と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．８４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．３５−３．４０（１Ｈ，ｍ），３．４０−３．５５（２Ｈ，ｍ），３．５５−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），４．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．３Ｈｚ），４．０５−４．２０（２Ｈ，ｍ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．１，１１．７Ｈｚ），４．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，１１．７Ｈｚ），４．４８（２Ｈ，ｓ），４．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（６Ｈ，ｍ），７．２０−７．３５（５Ｈ，ｍ）
実施例３７
２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１８ｇ）の酢酸エチル（４ｍＬ）及びエタノール（１ｍＬ）溶液に、１０％パラジウムカーボン粉末（０．０７２ｇ）を加え、水素雰囲気下室温で１８時間撹拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン／メタノール＝２０／１〜１０／１）で精製し、２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド（０．１１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．２３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．７６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．３０−３．５５（３Ｈ，ｍ），３．５５−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．７１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．０５−４．２０（２Ｈ，ｍ），４．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５，１１．７Ｈｚ），４．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１１．７Ｈｚ），４．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（６Ｈ，ｍ）
実施例３８
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
クロロギ酸エチルの代わりにアセチルクロリドを用いて、実施例３６と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
２．０１（３Ｈ，ｓ），２．８４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．３０−３．５５（３Ｈ，ｍ），３．５５−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ），４．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．４，１１．９Ｈｚ），４．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１１．９Ｈｚ），４．４８（２Ｈ，ｓ），４．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．０５（１Ｈ，ｍ），７．０５−７．２０（６Ｈ，ｍ），７．２０−７．３５（５Ｈ，ｍ）
実施例３９
２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、実施例３７と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
２．０２（３Ｈ，ｓ），２．７６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．３０−３．５５（３Ｈ，ｍ），３．５５−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．７１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．０Ｈｚ），４．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．４，１１．８Ｈｚ），４．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１１．８Ｈｚ），４．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），６．９０−６．９５（１Ｈ，ｍ），７．００−７．２０（７Ｈ，ｍ）
実施例４０
２−〔４−（２−アセトキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド
２−〔４−（２−ベンジルオキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドの代わりに２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドを用いて、実施例３８と同様の方法で標記化合物を合成した。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ ｐｐｍ：
１．９８（３Ｈ，ｓ），２．０２（３Ｈ，ｓ），２．８６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．３０−３．５５（３Ｈ，ｍ），３．５５−３．６５（１Ｈ，ｍ），３．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．１Ｈｚ），４．１５−４．３０（３Ｈ，ｍ），４．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１２．２Ｈｚ），４．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．９０−７．００（１Ｈ，ｍ），７．００−７．２０（７Ｈ，ｍ）
試験例１
ヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用確認試験
１）ヒトＳＧＬＴ２発現プラスミドベクターの作製
ＳＵＰＥＲＳＣＲＩＰＴ Ｐｒｅａｍｐｌｉｆｉｃａｔｉｏｎ ｓｙｓｔｅｍ（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ：ＬＩＦＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ）を用いて、ヒト腎臓由来のｔｏｔａｌ ＲＮＡ（Ｏｒｉ ｇｅｎｅ）をオリゴｄＴをプライマーとして逆転写し、ＰＣＲ増幅用ｃＤＮＡライブラリーを作製した。上記ヒト腎ｃＤＮＡライブラリーを鋳型として、配列番号１及び２で示される下記のオリゴヌクレオチド０７０２Ｆ及び０７１２Ｒをプライマーに用い、ＰＣＲ反応によりヒトＳＧＬＴ２をコードするＤＮＡ断片を増幅した。増幅されたＤＮＡ断片をクローニング用ベクターｐＣＲ−Ｂｌｕｎｔ（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ）にこのキットの標準法に従いライゲーションした。常法により大腸菌ＨＢ１０１株に導入した後、形質転換株をカナマイシン５０μｇ／ｍＬを含むＬＢ寒天培地で選択した。この形質転換株の１つからプラスミドＤＮＡを抽出精製し、配列番号３及び４で示される下記のオリゴヌクレオチド、０７１４Ｆおよび０７１５Ｒをプライマーとして用い、ＰＣＲ反応によりヒトＳＧＬＴ２をコードするＤＮＡ断片を増幅した。増幅されたＤＮＡ断片を制限酵素ＸｈｏＩ及びＨｉｎｄＩＩＩで消化した後、Ｗｉｚａｒｄ Ｐｕｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ（Ｐｒｏｍｅｇａ）により精製した。この精製したＤＮＡ断片を融合化蛋白質発現用ベクターｐｃＤＮＡ３．１（−）Ｍｙｃ／Ｈｉｓ−Ｂ（Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ）の対応する制限酵素部位に組み込んだ。常法により大腸菌ＨＢ１０１株に導入した後、形質転換株をアンピシリン５０μｇ／ｍＬを含むＬＢ寒天培地で選択した。この形質転換株からプラスミドＤＮＡを抽出精製し、ベクターｐｃＤＮＡ３．１（−）Ｍｙｃ／Ｈｉｓ−Ｂのマルチクローニング部位に挿入されたＤＮＡ断片の塩基配列を調べた。Ｗｅｌｌｓらにより報告されたヒトＳＧＬＴ２（Ａｍ．Ｊ．Ｐｈｙｓｉｏｌ．，Ｖｏｌ．２６３，ｐｐ．４５９−４６５（１９９２））に対し、このクローンは１塩基の置換（４３３番目のイソロイシンをコードするＡＴＣがＧＴＣに置換）を有していた。この結果４３３番目の残基のイソロイシンがバリンに置換したクローンを得た。このカルボキシ末端側最終残基のアラニンの次から配列番号５で示されるペプチドを融合化したヒトＳＧＬＴ２を発現するプラスミドベクターをＫＬ２９とした。
Figure 0004278983
２）ヒトＳＧＬＴ２一過性発現細胞の調製
ヒトＳＧＬＴ２発現プラスミドＫＬ２９を電気穿孔法によりＣＯＳ−７細胞（ＲＩＫＥＮ ＣＥＬＬ ＢＡＮＫ ＲＣＢ０５３９）に導入した。電気穿孔法はジーンパルサーＩＩ（Ｂｉｏ−Ｒａｄ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ）を用い、ＯＰＴＩ−ＭＥＭ Ｉ培地（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ：ＬＩＦＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ）５００μＬに対しＣＯＳ−７細胞２×１０６個とＫＬ２９ ２０μｇを含む０．４ｃｍキュベット内で０．２９０ｋＶ、９７５μＦの条件下行った。遺伝子導入後、細胞を遠心分離により回収し細胞１キュベット分に対し１ｍＬのＯＰＴＩ−ＭＥＭ Ｉ培地を加え懸濁した。この細胞懸濁液を９６ウェルプレートの１ウェルあたり１２５μＬずつ分注した。３７℃、５％ＣＯ２の条件下一晩培養した後、１０％ウシ胎仔血清（三光純薬（株））、１００ｕｎｉｔｓ／ｍＬペニシリンＧナトリウム（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ：ＬＩＦＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ）、１００μｇ／ｍＬ硫酸ストレプトマイシン（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ：ＬＩＦＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ）を含むＤＭＥＭ培地（Ｇｉｂｃｏ−ＢＲＬ：ＬＩＦＥ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＩＥＳ）を１ウェルあたり１２５μＬずつ加えた。翌日まで培養しメチル−α−Ｄ−グルコピラノシド取り込み阻害活性の測定に供した。
３）メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド取り込み阻害活性の測定
試験化合物をジメチルスルホキシドに溶解し、取り込み用緩衝液（１４０ｍＭ塩化ナトリウム、２ｍＭ塩化カリウム、１ｍＭ塩化カルシウム、１ｍＭ塩化マグネシウム、５ｍＭメチル−α−Ｄ−グルコピラノシド、１０ｍＭ２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル〕エタンスルホン酸、５ｍＭトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液ｐＨ７．４）で希釈し、阻害活性測定用の検体とした。ヒトＳＧＬＴ２一過性発現ＣＯＳ−７細胞の培地を除去し、１ウェルあたり前処置用緩衝液（１４０ｍＭ塩化コリン、２ｍＭ塩化カリウム、１ｍＭ塩化カルシウム、１ｍＭ塩化マグネシウム、１０ｍＭ２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル〕エタンスルホン酸、５ｍＭトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液ｐＨ７．４）を２００μＬ加え、３７℃で１０分間静置した。前処置用緩衝液を除去し、再度同一緩衝液を２００μＬ加え、３７℃で１０分間静置した。作製した検体５２５μＬに７μＬのメチル−α−Ｄ−（Ｕ−１４Ｃ）グルコピラノシド（Ａｍｅｒｓｈａｍ Ｐｈａｒｍａｃｉａ Ｂｉｏｔｅｃｈ）を加え混合し、測定用緩衝液とした。対照群用に試験化合物を含まない測定用緩衝液を調製した。また試験化合物非存在下並びにナトリウム非存在下の基礎取り込み測定用に塩化ナトリウムに替えて１４０ｍＭの塩化コリンを含む基礎取り込み測定用緩衝液を同様に調製した。前処置用緩衝液を除去し、測定用緩衝液を１ウェルあたり７５μＬずつ加え３７℃で２時間静置した。測定用緩衝液を除去し、洗浄用緩衝液（１４０ｍＭ塩化コリン、２ｍＭ塩化カリウム、１ｍＭ塩化カルシウム、１ｍＭ塩化マグネシウム、１０ｍＭメチル−α−Ｄ−グルコピラノシド、１０ｍＭ２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジニル〕エタンスルホン酸、５ｍＭトリス（ヒドロキシメチル）アミノメタンを含む緩衝液ｐＨ７．４）を１ウェルあたり２００μＬずつ加えすぐに除去した。この洗浄操作をさらに２回行い、０．２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウムを１ウェルあたり７５μＬずつ加え細胞を可溶化した。可溶化液をピコプレート（Ｐａｃｋａｒｄ）に移し、１５０μＬのマイクロシンチ４０（Ｐａｃｋａｒｄ）を加えマイクロプレートシンチレーションカウンター トップカウント（Ｐａｃｋａｒｄ）にて放射活性を計測した。対照群の取り込み量から基礎取り込み量を差し引いた値を１００％とし、取り込み量の５０％阻害する濃度（ＩＣ５０値）を濃度−阻害曲線から最小二乗法により算出した。その結果は以下の表２の通りである。
Figure 0004278983
試験例２
試験例２
経口吸収性確認試験
１）尾静脈内投与による薬物濃度測定用検体の作製
実験動物として一晩絶食したＳＤ系ラット（日本クレア、雄性５週齢、１３５〜１８０ｇ）を用いた。試験化合物６０ｍｇに対し、エタノール１．８ｍＬ、ポリエチレングリコール４００ ７．２ｍＬおよび生理食塩水９ｍＬの割合で加え溶解し、３．３ｍｇ／ｍＬ溶液を調製した。ラットの体重を測定し、試験化合物溶液を３ｍＬ／ｋｇの用量（１０ｍｇ／ｋｇ）で無麻酔下尾静脈内投与した。尾静脈内投与は２６Ｇ注射針および１ｍＬシリンジを用いて行った。採血時間は尾静脈内投与後２、５、１０、２０、３０、６０、１２０分とした。血液を遠心分離し血漿を血中薬物濃度測定用検体とした。
２）経口投与による薬物濃度測定用検体の作製
実験動物として一晩絶食したＳＤ系ラット（日本クレア、雄性５週齢、１３５〜１８０ｇ）を用いた。試験化合物を活性本体として１ｍｇ／ｍＬになるように０．５％カルボキシメチルセルロースナトリウム水溶液に懸濁または溶解させた。ラットの体重を測定し、上記試験化合物液を１０ｍＬ／ｋｇの用量（活性本体として１０ｍｇ／ｋｇ）で経口投与した。経口投与はラット用ゾンデおよび２．５ｍＬシリンジを用いて行った。採血時間は経口投与後１５、３０、６０、１２０、２４０分とした。血液を遠心分離し血漿を血中薬物濃度測定用検体とした。
３）薬物濃度の測定
上記１）および２）により得られた血漿０．１ｍＬに常法に従い適当な内部標準物質を適量添加した後、メタノール１ｍＬを加え、除タンパクを行った。遠心分離後、メタノール層を窒素気流下で蒸発乾固した。下記の移動相（１）又は（２）３００μＬで希釈し、その３０μＬをＨＰＬＣに注入した。血中薬物濃度はＨＰＬＣ法により以下の条件にて測定した。尚、検量線はブランク血漿０．１ｍＬに常法に従い適当な内部標準物質と種々の濃度の活性本体に相当する化合物を適宜添加し、上記と同様に操作することにより作成した。
カラム：Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−２（４．６×２５０ｍｍ）
移動相（１）：アセトニトリル／１０ｍＭリン酸緩衝液（ｐＨ３．０）＝２６：７４（ｖ／ｖ）
移動相（２）：アセトニトリル／１０ｍＭリン酸緩衝液（ｐＨ３．０）＝２２：７８（ｖ／ｖ）
カラム温度：５０℃
流量：１．０ｍＬ／分
測定波長：ＵＶ２３２ｎｍ
バイオアベイラビリティー（％）は、上記ＨＰＬＣにより得られた各時間の血中薬物濃度より、Ｐｈａｒｓｉｇｈｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製ＷｉｎＮｏｎｌｉｎ Ｓｔａｎｄａｒｄを用いて、試験化合物の尾静脈内投与および経口投与による血漿中濃度−時間曲線下面積を求め、下記式に基づき算出した。その結果は以下の表３の通りである。
バイオアベイラビリティー（％）＝（経口投与での血中薬物濃度−時間曲線下面積／尾静脈内投与での血中薬物濃度−時間曲線下面積）×１００
Figure 0004278983
試験例３
尿糖排泄促進作用確認試験
実験動物として一晩絶食したＳＤ系ラット（日本エスエルシー、雄性７〜８週齢、２０５〜２７２ｇ）を用いた。試験化合物を２ｍｇ／ｍＬになるように０．５％カルボキシメチルセルロースナトリウム水溶液に懸濁させた。この条件で均一に懸濁できない場合は試験化合物を１００ｍｇ／ｍＬになるようにエタノールで溶解し、４９倍量の０．５％カルボキシメチルセルロースナトリウム水溶液に加え２ｍｇ／ｍＬの懸濁液とした。この懸濁液の一部を０．５％カルボキシメチルセルロースナトリウム水溶液にて希釈し、０．６、０．２ｍｇ／ｍＬの各濃度の懸濁液を調製した。ラットの体重を測定し、試験化合物懸濁液を５ｍＬ／ｋｇの用量（１、３、１０ｍｇ／ｋｇ）で経口投与した。対照群用に０．５％カルボキシメチルセルロースナトリウム水溶液のみを５ｍＬ／ｋｇの用量で経口投与した。経口投与直後に、５００ｇ／Ｌスクロース水溶液を５ｍＬ／ｋｇの用量（２．５ｇ／ｋｇ）で経口投与した。経口投与はラット用ゾンデおよび２．５ｍＬシリンジを用いて行った。１群あたりの頭数は３頭とした。スクロース投与終了後から代謝ケージにて採尿を行った。採尿時間はスクロース投与後２４時間とした。採尿終了後、尿量を記録し、尿中に含まれるグルコース濃度を測定した。グルコース濃度は臨床検査キット：グルコースＢテストワコー（和光純薬）にて定量した。尿量、尿中グルコース濃度および体重から２４時間での体重２００ｇあたりの尿糖排泄量を求めた。その結果は以下の表４の通りである。
Figure 0004278983
試験例４
急性毒性試験
試験化合物に０．５％カルボキシメチルセルロースナトリウム水溶液を加え、１００ｍｇ／ｍＬの懸濁液とした。実験動物としては一晩絶食した雄性５週齢ＳＤ系ラット（日本クレア、１２４〜１２８ｇ、１群５例）を用いた。上記懸濁液を１０ｍＬ／ｋｇ（１０００ｍｇ／ｋｇ）の用量で上記実験動物に経口投与し、２４時間観察した。その結果は以下の表５の通りである。
Figure 0004278983
産業上の利用可能性
本発明の前記一般式（Ｉ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩は、経口吸収性が改善されており、経口吸収後体内において活性本体である前記一般式（ＩＩ）で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体に変換されて強力なヒトＳＧＬＴ２活性阻害作用を発現し、腎臓での糖の再吸収を抑制し過剰な糖を尿中に排泄させることにより、優れた血糖低下作用を発揮する。本発明により経口投与製剤としても好適な、糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症等の高血糖症に起因する疾患の予防または治療薬を提供することができる。
「配列表フリーテキスト」
配列番号１：合成ＤＮＡプライマー
配列番号２：合成ＤＮＡプライマー
配列番号３：合成ＤＮＡプライマー
配列番号４：合成ＤＮＡプライマー
配列番号５：ヒトＳＧＬＴ２のカルボキシル末端アラニン残基に融合したペプチド
【配列表】
Figure 0004278983
Figure 0004278983

Claims (20)

  1. 一般式
    Figure 0004278983
    〔式中のＰ10は水素原子、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基であり、Ｒ11は水素原子、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、シアノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ11−Ｏ−Ａ1−（式中のＰ11は水素原子、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基であり、Ａ1は単結合、低級アルキレン基または低級アルキレンオキシ基である）で表される基であり、Ｒ2は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ13は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ12−Ｏ−Ａ2−（式中のＰ12は水素原子、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基であり、Ａ2は低級アルキレン基、低級アルキレンオキシ基、低級アルキレンチオ基または低級アルケニレン基である）で表される基であり、但し、Ｐ10、Ｐ11およびＰ12のうち少なくとも一つに低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基を有しており、かつＲ13が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基の場合、Ｒ11とＲ2は同時に水素原子ではない〕で表されるグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  2. Ｒ11が一般式Ｐ11−Ｏ−Ａ1−（式中のＰ11は水素原子、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基であり、Ａ1は単結合、低級アルキレン基または低級アルキレンオキシ基である）で表される基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ13が低級アルキル基である、請求項１記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  3. Ｒ11が水素原子であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ13が一般式Ｐ12−Ｏ−Ａ2−（式中のＰ12は水素原子、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基であり、Ａ2は低級アルキレン基、低級アルキレンオキシ基、低級アルキレンチオ基または低級アルケニレン基である）で表される基である、請求項１記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  4. Ｒ11が一般式Ｐ11−Ｏ−ＣＨ2−（式中のＰ11は水素原子、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基である）で表される基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ13がエチル基である、請求項２記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  5. Ｒ11が水素原子であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ13が一般式Ｐ12−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−（式中のＰ12は水素原子、低級アシル基、低級アルコキシ低級アシル基、低級アルコキシカルボニル低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基または低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル基である）で表される基である、請求項３記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  6. 一般式
    Figure 0004278983
    〔式中のＰ20は水素原子、低級アシル基または低級アルコキシカルボニル基であり、Ｒ21は水素原子、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、シアノ基、カルバモイル基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、カルバモイル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ21−Ｏ−Ａ1−（式中のＰ21は水素原子、低級アシル基または低級アルコキシカルボニル基であり、Ａ1は単結合、低級アルキレン基または低級アルキレンオキシ基である）で表される基であり、Ｒ2は水素原子または低級アルキル基であり、Ｒ23は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルケニルオキシ基、アルアルキルオキシ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基、低級アルコキシ低級アルキルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、シアノ基、アルアルキルオキシ低級アルキル基、シアノ低級アルキル基、カルバモイル基、カルバモイル低級アルキル基、アミノ基、モノ又はジ（低級アルキル）アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキシ基、カルボキシ低級アルキル基、カルボキシ低級アルコキシ基または一般式Ｐ22−Ｏ−Ａ2−（式中のＰ22は水素原子、低級アシル基または低級アルコキシカルボニル基であり、Ａ2は低級アルキレン基、低級アルキレンオキシ基、低級アルキレンチオ基または低級アルケニレン基である）で表される基であり、但し、Ｐ20、Ｐ21およびＰ22のうち少なくとも一つに低級アシル基または低級アルコキシカルボニル基を有しており、かつＲ23が低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルコキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ基または低級アルコキシ低級アルキルチオ基の場合、Ｒ21とＲ2は同時に水素原子ではない〕で表される請求項１記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  7. Ｒ21が一般式Ｐ21−Ｏ−Ａ1−（式中のＰ21は水素原子、低級アシル基または低級アルコキシカルボニル基であり、Ａ1は単結合、低級アルキレン基または低級アルキレンオキシ基である）で表される基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ23が低級アルキル基である、請求項６記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  8. Ｒ21が水素原子であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ23が一般式Ｐ22−Ｏ−Ａ2−（式中のＰ12は水素原子、低級アシル基または低級アルコキシカルボニル基であり、Ａ2は低級アルキレン基、低級アルキレンオキシ基、低級アルキレンチオ基または低級アルケニレン基である）で表される基である、請求項６記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  9. Ｒ21が一般式Ｐ21−Ｏ−ＣＨ2−（式中のＰ21は水素原子、低級アシル基または低級アルコキシカルボニル基である）で表される基であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ23がエチル基である、請求項７記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  10. Ｒ21が水素原子であり、Ｒ2が水素原子であり、Ｒ23が一般式Ｐ22−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2−（式中のＰ22は水素原子、低級アシル基または低級アルコキシカルボニル基である）で表される基である、請求項８記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  11. ２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ピバロイルオキシメチルフェニル β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−ブチリル−β−Ｄ−グルコピラノシド、５−アセトキシメチル−２−（４−エチルベンジル）フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−（エトキシカルボニルオキシメチル）フェニル β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−ヘキサノイル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−ピバロイル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−イソブチルオキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−（４−エチルベンジル）−５−ヒドロキシメチルフェニル ６−Ｏ−イソプロピルオキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−エトキシカルボニル−β−Ｄ−グルコピラノシド、２−〔４−（２−ヒドロキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドおよび２−〔４−（２−アセトキシエチル）ベンジル〕フェニル ６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシドからなる群より選択される、請求項６記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
  12. 請求項１〜１１記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬組成物。
  13. ヒトＳＧＬＴ２活性阻害剤である請求項１２記載の医薬組成物。
  14. 高血糖症に起因する疾患の予防又は治療薬である請求項１２又は１３記載の医薬組成物。
  15. 高血糖症に起因する疾患が糖尿病、糖尿病性合併症、肥満症、高インスリン血症、糖代謝異常、高脂質血症、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、脂質代謝異常、アテローム性動脈硬化症、高血圧、うっ血性心不全、浮腫、高尿酸血症および痛風からなる群より選択される疾患である、請求項１４記載の医薬組成物。
  16. 高血糖症に起因する疾患が糖尿病である、請求項１５記載の医薬組成物。
  17. 高血糖症に起因する疾患が糖尿病性合併症である、請求項１５記載の医薬組成物。
  18. 高血糖症に起因する疾患が肥満症である、請求項１５記載の医薬組成物。
  19. 経口投与形態である請求項１２〜１８記載の医薬組成物。
  20. 高血糖症に起因する疾患の予防又は治療用の医薬組成物を製造するための、請求項１〜１１記載のグルコピラノシルオキシベンジルベンゼン誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
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