JP4274867B2 - IC tag - Google Patents

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JP4274867B2
JP4274867B2 JP2003206190A JP2003206190A JP4274867B2 JP 4274867 B2 JP4274867 B2 JP 4274867B2 JP 2003206190 A JP2003206190 A JP 2003206190A JP 2003206190 A JP2003206190 A JP 2003206190A JP 4274867 B2 JP4274867 B2 JP 4274867B2
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Description

【0001】
【発明が属する技術分野】
本発明は、封じ込められた電子回路が破断し難いICタグに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、商品、貯蔵物、荷物などの物品にICタグを取り付けて、物品を管理することが行われている。例えば、商品に製造条件、仕入れ状況、価格情報、使用状況などの情報が記録されたICタグを貼付し、必要に応じてインテロゲーター(質問器)などにより、記録情報を確認して、管理することが行われている。
従来のICタグとしては、ポリエチレンテレフタレート等の弾性率の高い基材シートの一方の表面に、回路線から成る電子回路及び該電子回路に接続するICチップが設けられ、該電子回路及びICチップを覆う接着剤層が積層されている構造を有する電子回路付き基材接着シートが、2枚の封止用樹脂シートで挟まれ、加熱圧縮成形され、電子回路付き基材接着シートが樹脂により封じ込まれているICタグが知られている(例えば、特許文献1参照)。
しかし、このICタグは、加熱圧縮成形時に基材シートに応力が残り、その応力が緩和されずに集中し、その応力集中部の電子回路が破断するという問題点がある。
また、ICタグが、物品への取り付けた際にも、応力がかかり、その応力が緩和されずに集中し、その応力集中部の電子回路が破断するという問題点がある。
【0003】
【特許文献1】
特開2003−68775号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上記問題点を解決する方法として、封じ込められた電子回路が破断し難いICタグを用いて、物品の管理を正確に行うことが求められている。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、弾性率がいくら低くても、応力緩和率がある領域を越えて低くなれば、内部応力がたまり、電子回路の断線を引き起こしてしまう。また、応力緩和率が高くても、弾性率がある領域を越えて高くなれば、表面層で覆う際に強い応力を受けるために電子回路の断線を引き起こすことを突きとめた。その結果、基材シートの一方の表面に、回路線及び該回路線に接続するICチップからなる電子回路が設けられた電子回路付き基材シートの両面に、23℃における弾性率が1×10Pa以下、かつ23℃における1000秒後の応力緩和率が60%以上の緩衝材を介して、表面層で覆うことにより、上記課題を解決できることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【0006】
すなわち、本発明は、基材シートの一方の表面に、回路線及び該回路線に接続するICチップからなる電子回路が設けられた電子回路付き基材シートが、その両面に23℃における弾性率が1×10Pa以下、かつ23℃における1000秒後の応力緩和率が60%以上の緩衝材及び表面層で順次覆われていることを特徴とするICタグを提供するものである。
また、本発明は、上記ICタグにおいて、23℃における弾性率が1×10 Pa以上で1×10 Pa以下であるICタグを提供するものである。
また、本発明は、上記ICタグにおいて、23℃における弾性率が1×10 Pa以上で1×10 Pa以下であるICタグを提供するものである。
また、本発明は、上記ICタグにおいて、緩衝材がウレタン系樹脂からなるICタグを提供するものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明のICタグを図面に基づいて説明する。図1には、本発明のICタグの一態様の製造過程において、各層を積層した状態の概略断面図が示され、図2には、同様の本発明のICタグの電子回路の概略平面図が示されている。
本発明において、電子回路付き基材シートは、基材シートの一方の表面に、回路線及び該回路線に接続するICチップからなる電子回路が設けられている。
【0008】
基材シート1は、好ましくは熱可塑性樹脂からなるシートである。熱可塑性樹脂のシートとしては、例えば、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン等のポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン等のポリプロピレン系樹脂、ポリメチル−1−ペンテン/エチレン/環状オレフィン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体などのポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素系樹脂、またはこれらのいずれかを含む共重合体、ポリマーブレンド、ポリマーアロイなどの各種合成樹脂からなるシートが使用できるが、特に、ポリエステル系樹脂から成るシートが好ましく用いられる。基材シート1は、一軸延伸または二軸延伸されたものであってもよい。基材シート1は、単層であってもよいし、同種又は異種の2層以上の多層であってもよい。
基材シート1の厚みは、特に制限ないが、通常30〜300μmであればよく、好ましくは50〜200μmである。
【0009】
本発明のICタグにおいては、基材シート1の表面に電子回路3が設けられている。
電子回路3は、導電性物質で形成された回路線4で構成されている。導電性物質としては、例えば、金属箔、蒸着膜、スパッタリングによる薄膜等の金属単体等が好ましく挙げられる。金属単体としては金、銀、ニッケル、銅、アルミニウムなどや、これらの金属の粒子をバインダーに分散させた導電性ペーストが使用できる。
金属粒子の平均粒径は、1〜15μmが好ましく、2〜10μmが特に好ましい。バインダーとしては、紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂が挙げられ、例えば、ポリエステル樹脂系、ポリウレタン樹脂系、エポキシ樹脂系、フェノール樹脂系などの紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂が挙げられる。
金属粒子の含有量は、20〜99質量%が好ましく、50〜99質量%がより好ましく、70〜99質量%が特に好ましい。
【0010】
電子回路3を構成する回路線4の厚みは、特に制限されないが、金属箔の場合は5〜50μm、蒸着膜やスパッタリングによる金属膜の場合は0.01〜1μm、導電ペーストの場合は5〜30μmであることが好ましい。
回路線4の幅は、特に制限ないが、0.01〜10mmが好ましく、0.1〜3mmが特に好ましい。
基材シート1の表面に電子回路3の回路線4を形成するには、例えば、金属箔を接着剤層2で基材シート1に貼り合わせ、金属箔をエッチング処理して回路以外の部分を除去することにより、電子回路3の回路線4を形成する方法等が挙げられる。エッチング処理は、通常のエッチング処理と同様な処理により行うことができる。また、基材シートの表面への又はその表面に設けられた接着剤層2の表面への電子回路3の回路線4の形成は、導電性ペーストを、印刷、塗布などの手段により電子回路3の回路線4の形状に付着させることによっても行うことができる。
【0011】
電子回路3の回路線の形状は、例えば、図3に示された形状のものが挙げられる。図3には、導電性物質の線から成る回路線4が円形状の基材シート1の外周から内側に向けて四重の渦巻き環状に所定間隔を空けて配置されてアンテナとしての電子回路3を形成している。電子回路3は、図3のように四重の渦巻き環状に配置されていてもよいが、一重〜三重の渦巻き環状であってもよいし、五重以上の渦巻き環状であってもよい。
【0012】
基材シート1と接着剤層2との接着力を増すために、基材シート1の表面を表面処理してもよい。表面処理方法としては、例えば、コロナ放電処理、化学処理、樹脂コーティング等が挙げられる。
接着剤層2に使用される接着剤としては、熱溶融型接着剤、熱可塑性接着剤、感圧型接着剤、熱硬化型接着剤など種々の接着剤が挙げられる。接着剤の種類としては、例えば、天然ゴム系接着剤、合成ゴム系接着剤、アクリル樹脂系接着剤、ポリエステル樹脂系接着剤、ポリビニルエーテル樹脂系接着剤、ウレタン樹脂系接着剤、シリコーン樹脂系接着剤などが挙げられる。
【0013】
アクリル樹脂系接着剤の具体例としては、アクリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アクリロニトリルなどの単独重合体もしくは共重合体などが挙げられる。ポリエステル樹脂系接着剤は、多価アルコールと多塩基酸の共重合体であり、多価アルコールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオールなどが挙げられ、多塩基酸としては、テレフタル酸、アジピン酸、マレイン酸などが挙げられる。ポリビニルエーテル樹脂系接着剤の具体例としては、ポリビニルエーテル、ポリビニルイソブチルエーテルなどが挙げられる。シリコーン樹脂系接着剤の具体例としては、ジメチルポリシロキサンなどが挙げられる。これらの接着剤は、1種単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの接着剤のうち、ポリエステル樹脂系接着剤が好ましい。
【0014】
また、上記接着剤層2には、必要に応じて接着付与剤、可塑剤、軟化剤、老化防止剤、填料、染料又は顔料などの着色剤などを配合することができる。
接着剤層2の厚みは、特に制限ないが、通常1〜100μmであればよく、好ましくは3〜50μmである。
基材シート上に接着剤層2を設ける方法としては、特に制限はなく、種々の方法を用いることができ、例えば、エアーナイフコーター、ブレードコーター、バーコーター、グラビアコーター、ロールコーター、カーテンコーター、ダイコーター、ナイフコーター、スクリーンコーター、マイヤバーコーター、キスコーターなどにより塗布、乾燥する方法が挙げられる。
【0015】
回路線4にはICチップ5が連結されている。ICチップ5は、回路線4の内側に設けてもよいし、回路線4の外側に設けてもよいし、回路線4の上部に設けてもよい。
ICチップ5は、電子回路3の回路線4の先端に設けることが好ましい。
【0016】
電子回路3の最外輪及び最内輪の回路線4をICチップ5と連結するためには、電子回路3の最外輪又は最内輪の回路線4は、それらの中間の輪状回路線4と短絡(導通)することなく、ジャンパ配線部6に接続させることにより、回路線4の内側又は外側に引き出し、ICチップ5と連結する。
ICチップの厚みは、用途に応じて適宜選定すればよいが、通常50〜400μmのものが用いられる。
ジャンパ配線部6とは、最内輪の回路線4と最外輪の回路線4とを連結するために、中間の輪状回路線4に短絡しないように飛び越えて設けられる回路であり、その目的を達成するために、ジャンパ配線部6と中間の回路線4との間には、通常は絶縁層9が設けられている。絶縁層9は、絶縁物質から構成されており、硬化型絶縁物質の硬化物で構成されていることが好ましい。硬化型絶縁物質としては、硬化型絶縁樹脂が好ましく、光硬化型絶縁樹脂、熱硬化型絶縁樹脂などが挙げられる。絶縁物質の具体例としては、絶縁インクが好ましく挙げられ、紫外線硬化型絶縁インク等の光硬化型絶縁インクなどが特に好ましく挙げられる。
【0017】
ジャンパ配線部6は、回路線4と同様な導電性物質で構成されているが、導電性樹脂で構成されていることが好ましい。導電性樹脂としては、上記のものと同様なものが挙げられる。
ジャンパ配線部6の好ましい形成方法は、電子回路3の最外輪及び最内輪の回路線4から、それらの中間の輪状回路線4の部分を横断して、絶縁樹脂などから成る絶縁物質をスクリーン印刷等により線状又は平面状に印刷し、乾燥又は硬化させて絶縁層9を形成した後、その絶縁層9の表面に導電性ペーストをスクリーン印刷等により線状に印刷する方法などによりジャンパ配線部6を形成する方法等が挙げられる。導電性ペーストは前記したものが例示される。
なお、ジャンパ配線部6は、接着剤層2の表面に回路線4を形成した後に形成してもよいし、予め接着剤層2の表面にジャンパ配線部6を形成した後に、そのジャンパ配線部6の位置に最外輪及び最内輪の回路線4の末端が配置するように回路線4を形成してもよい。
【0018】
電子回路3の回路線4の末端にICチップ5を連結させる方法としては、回路線4の末端の表面に異方性導電フィルムを介して、フリップチップボンディング法により連結する方法等が挙げられる。フリップチップボンディング法は、ICチップ5の電極部にワイヤバンプを設け、回路線4の末端の表面に被覆された異方性導電フィルムの上に、ICチップ5のワイヤバンプがある面を押し付けて、異方性導電フィルムの中にワイヤバンプが入り込み、回路線4の末端とICチップ5を導通し易くする方法である。
【0019】
本発明において、電子回路付き基材シートは、その両面に、緩衝材7を介して表面層8で覆われ、封じ込まれている。
電子回路付き基材シートを表面層8で覆うことにより封じ込む方法としては、種々の方法があるが、電子回路付き基材シートの両面に、緩衝材7を介して2枚の表面層8で挟み、電子回路付き基材シートを封じ込める方法が好ましい。
その緩衝材7は、23℃における弾性率が1×10Pa以下、かつ23℃における1000秒後の応力緩和率が60%以上の性状を示すものである。23℃における弾性率は、好ましくは8×10Pa以下であり、特に好ましくは7×10Pa以下である。弾性率が1×10Pa以上だと表面層で覆う際に強い応力を受けて電子回路の断線を引き起こす。23℃における弾性率の下限値は、特に制限ないが、好ましくは1×10Pa以上であり、特に好ましくは1×10Pa以上である。23℃における1000秒後の応力緩和率は、好ましくは80%以上であり、特に好ましくは85%以上である。応力緩和率が60%以下だと、内部応力がたまり電子回路の断線を引き起こす。
【0020】
緩衝材7の材質としては、上記性状を有するものを適宜選定すればよい。その好適な具体例としては、ポリウレタン系樹脂が挙げられる。
緩衝材7は、基材シート1の全面を覆うように配置することが好ましい。
緩衝材7は、基材シートと同様な形状及び大きさが好ましい。
緩衝材7の厚みは、1〜500μmが好ましく、10〜150μmが特に好ましい。
【0021】
電子回路付き基材シートが緩衝材7を介して覆われている表面層8としては、樹脂が挙げられ、基材シートを構成する樹脂と同様なものが挙げられる。これらの樹脂うち、ABS樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。
表面層8は、衝撃に対しては硬い方が好ましい。
表面層8の厚みは、通常1〜5mm程度が好ましく、2〜4mm程度が特に好ましい。
表面層8の形状は、基材シートと同様な形状が好ましい。具体的には、三角形、四角形、台形、五角形以上の多角形、楕円、円などの形状が好ましい。
表面層8の大きさは、電子回路付き基材シートよりも大きくすることが好ましく、1〜15mm大きいことがより好ましく、2〜10mm大きいことが特に好ましい。
電子回路付き基材シートを2枚の表面層8で挟み、封じ込める方法としては、電子回路付き基材シートを2枚の表面層8で挟み、加熱圧縮成形をする方法が挙げられる。
【0022】
電子回路付き基材シートよりも大きい2枚の表面層8で平板状の電子回路付き基材シートを緩衝材7を介して挟むと、表面層8の端部と電子回路付き基材シート及び緩衝材7の周辺側面に囲まれた凹状の空隙部10が形成される。
加熱圧縮成形すると、その空隙部10に表面層8の端部が軟化して入り込み、電子回路付き基材シートを封じ込めることができる(図2参照)。加熱圧縮成形の温度は、表面層8を軟化できる温度であることが必要であり、電子回路付き基材シートの基材シートの耐熱温度よりも30℃以上低いことが好ましく、40℃以上低いことが特に好ましい。具体的には、100℃以下が好ましく、90℃以下が特に好ましい。
また、上記空隙部10には、接着剤を充填して、電子回路付き基材シートを封じ込めてもよい。
本発明のICタグは、種々の用途に使用できるが、例えば、商品、貯蔵物、荷物などの物品にICタグを取り付けて、物品を管理するために使用できる。
【0023】
【実施例】
次に、本発明を実施例により具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの例によって、何ら限定されるものではない。
なお、緩衝材の23℃における弾性率、及び23℃における1000秒後の応力緩和率は、以下の方法により測定されたものである。
(1)弾性率
弾性率測定装置(Rheometric社製、RDA II(捻りせん断方式))又は自動動的粘弾性測定器(東洋ボールドウイン社製、レオバイブロンDDV−II−EP V−1166)を使用し、周波数1Hzにおける23℃の弾性率を測定した。
(2)応力緩和率
弾性率測定装置(Rheometric社製、RDA II(捻りせん断方式))又は自動動的粘弾性測定器(東洋ボールドウイン社製、レオバイブロンDDV−II−EP V−1166)を使用し、23℃で捻り量20%の応力を加え、1分後の緩和弾性率に対する1000秒後の弾性率の割合を測定した。
【0024】
(実施例1)
基材シート1としての、ポリエチレンテレフタレートフィルム(横400mm、縦400mm、厚さ50μm)の片側の表面に、ポリエステル系の熱可塑性接着剤(東洋紡績(株)製、商品名「バイロン30SS」)をグラビアコーターで乾燥して厚さ5μmになるように塗布して接着剤層2を積層した。さらに、この接着剤層2の表面に35μm厚の電解銅箔を100℃のヒートシールロールにて加熱圧着した。次に、前記電解銅箔の表面に、図3のように、最外輪の直径が25mmの4重の渦巻き円形状回路線4(アンテナ)状が10個形成されるように、スクリーン印刷法により、エッチングレジストインクを印刷(線幅:0.13mm)した。これを塩化第二鉄溶液にてエッチング処理を行い、円形渦巻き状回路線4以外の部分を除去した。この後、アルカリ水溶液にてエッチングレジストインクを除去し、図3と同じ電子回路3(回路線の線幅:0.13mm)を10個形成した。
【0025】
次に、電子回路(アンテナ)3の最内輪の回路線4と、その電子回路3の最外輪の回路線4の末端を導通させるために、それらの間を紫外線硬化型インクをスクリーン印刷法により四角形平面状に印刷後、紫外線を照射して硬化させ、その紫外線硬化型インクの硬化物から成る絶縁層9を形成し、その絶縁層9の表面に銀ペースト(銀粒子の平均粒径:5μm、銀粒子の含有量:65質量%、バインダー:熱硬化型ポリエステル樹脂)をスクリーン印刷法により幅広線状に印刷し、110℃で乾燥させ、ジャンパ配線部6(長さ3.7mm、幅600μm、厚み23μm)を形成した。
【0026】
次いで、ICチップ(フィリップス社製、商品名「I/CODE」)6の電極部に金線を用いてワイヤバンプを設け、このICチップ5を異方性導電フィルム(ソニーケミカル社製、商品名「FP2322D」)を介して、電子回路3の最内輪の回路線4の末端に、フリップチップボンディング法を用いて、連結して、電子回路付き基材シートを10個用意した。
【0027】
次に、電子回路付き基材シートの両面に、23℃における弾性率が0.5×10Pa、かつ23℃における1000秒後の応力緩和率が90%のウレタン系樹脂(重量平均分子量5000の反応性基を有しないウレタンオリゴマー(荒川化学社製)50質量部と、密着改良剤としてポリエステルオリゴマー10質量部と、フェニルヒドロキシプロピルアクリレート40質量部とを配合したもの)からなる緩衝材7(直径30mmの円板、厚み60μm)を積層し、さらにその緩衝材7の表面と接着剤層の表面にそれぞれ2枚の表面層8としてABS樹脂製の樹脂シート(直径35mmの円板、厚み3mm)を積層した。この積層物は、表面層8の端部の内壁と電子回路付き基材シート及び緩衝材7の端部側面に囲まれた凹状の空隙部10が形成されていた。
次で、この積層物を、80℃で加熱圧縮成形したところ、前記空隙部10は軟化した表面層8の端部が入り込み、電子回路付き基材シートが封じ込まれ、ICタグを10個作成した。
得られたICタグ10個を−30〜60℃の温度変化を500サイクル繰り返す環境下に置いた後、非接触送受信試験を行ったところ、10個とも正常に送受信を行うことができた。
【0028】
(実施例2)
緩衝材7として、23℃における弾性率が9.8×10Pa、かつ23℃における1000秒後の応力緩和率が64%のアクリル系接着剤(ブチルアクリレート/メチルメタクリレート/2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体100部にジイソシアナート系硬化剤4部を混合したもの)を用いた以外は、実施例1と同様にして、ICタグ10個を作成した。
得られたICタグ10個を−30〜60℃の温度変化を500サイクル繰り返す環境下に置いた後、非接触送受信試験を行ったところ、10個とも正常に送受信を行うことができた。
【0029】
(比較例1)
緩衝材7を設けなかった以外は、実施例1と同様にしてICタグを作成した。
得られたICタグ10個を−30〜60℃の温度変化を500サイクル繰り返す環境下に置いた後、非接触送受信試験を行ったところ、ICタグ10個のうち、4個は、正常に送受信を行うことができなかった。
【0030】
(比較例2)
緩衝材7として、23℃における弾性率が5.8×10Pa、かつ23℃における1000秒後の応力緩和率が59%の接着剤(2−エチルヘキシルアクリレート/2−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体100部にジイソシアナート系硬化剤1部を混合したもの)を用いた以外は、実施例1と同様にしてICタグを作成した。
得られたICタグ10個を−30〜60℃の温度変化を500サイクル繰り返す環境下に置いた後、非接触送受信試験を行ったところ、ICタグ10個のうち5個は、正常に送受信を行うことができなかった。
【0031】
(比較例3)
緩衝材7として、23℃における弾性率が1.32×10Pa、かつ23℃における1000秒後の応力緩和率が97%の接着剤(ブチルアクリレート/アクリル酸共重合体100部にジイソシアナート系硬化剤2部を混合したもの(リンテック社製、商品名「PK」))を用いた以外は、実施例1と同様にしてICタグを作成した。
得られたICタグ10個を−30〜60℃の温度変化を500サイクル繰り返す環境下に置いた後、非接触送受信試験を行ったところ、ICタグ10個のうち5個は、正常に送受信を行うことができなかった。
【0032】
(比較例4)
緩衝材7として、23℃の弾性率が1×10Paで、23℃における1000秒後の応力緩和率が20%であるゴム系シート(日本NSC社製、商品名「ゴム系シートMQ−70」、直径30mmの円板、厚み60μm)を使用した以外は、実施例1と同様にしてICタグを作成した。
得られたICタグ10個を−30〜60℃の温度変化を500サイクル繰り返す環境下に置いた後、非接触送受信試験を行ったところ、ICタグ10個のうち、6個は、正常に送受信を行うことができなかった。開封したところ、回路線が切断していた。
【0033】
【発明の効果】
本発明のICタグは、封じ込められた電子回路が破断し難い特性を有し、正常に送受信を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のICタグの一例の製造過程における概略断面図である。
【図2】 本発明のICタグの一例の概略断面図である。
【図3】 本発明のICタグの一例の電子回路を示す透視平面図である。
【符号の説明】
1 基材シート
2 接着剤層
3 電子回路
4 回路線
5 ICチップ
6 ジャンパ配線部
7 緩衝材
8 表面層
9 絶縁層
10 空隙部
[0001]
[Technical field to which the invention belongs]
The present invention relates to an IC tag in which an enclosed electronic circuit is difficult to break.
[0002]
[Prior art]
In recent years, an IC tag is attached to an article such as a product, a stored item, or a luggage to manage the article. For example, an IC tag on which information such as manufacturing conditions, purchase status, price information, and usage status is recorded is attached to the product, and the recorded information is checked and managed by an interrogator (interrogator) as necessary. To be done.
As a conventional IC tag, an electronic circuit composed of circuit lines and an IC chip connected to the electronic circuit are provided on one surface of a base sheet having a high elastic modulus such as polyethylene terephthalate. A substrate adhesive sheet with an electronic circuit having a structure in which an adhesive layer to be covered is laminated is sandwiched between two sealing resin sheets, heat compression molded, and the substrate adhesive sheet with an electronic circuit is sealed with a resin A rare IC tag is known (see, for example, Patent Document 1).
However, this IC tag has a problem in that stress remains in the base sheet during heat compression molding, the stress is concentrated without being relaxed, and the electronic circuit in the stress concentration portion is broken.
Also, when an IC tag is attached to an article, there is a problem that stress is applied, the stress is concentrated without being relaxed, and the electronic circuit at the stress concentration portion is broken.
[0003]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Laid-Open No. 2003-68775
[Problems to be solved by the invention]
As a method for solving the above problems, it is required to accurately manage articles using an IC tag in which an enclosed electronic circuit is difficult to break.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that even if the elastic modulus is low, if the stress relaxation rate is low beyond a certain region, internal stress accumulates, causing disconnection of the electronic circuit. End up. Moreover, even if the stress relaxation rate is high, it has been found that if the elastic modulus increases beyond a certain region, the electronic circuit is disconnected because it receives a strong stress when covered with the surface layer. As a result, the elastic modulus at 23 ° C. is 1 × 10 5 on both surfaces of the base sheet with an electronic circuit in which an electronic circuit composed of a circuit line and an IC chip connected to the circuit line is provided on one surface of the base sheet. 5 Pa or less, and the stress relaxation ratio after 1000 seconds at 23 ° C. via more than 60% of the buffer material, by covering the surface layer, found the above problems can be solved, and have completed the present invention.
[0006]
That is, according to the present invention, a base sheet with an electronic circuit in which an electronic circuit comprising a circuit line and an IC chip connected to the circuit line is provided on one surface of the base sheet has an elastic modulus at 23 ° C. on both sides. The present invention provides an IC tag characterized in that it is sequentially covered with a cushioning material and a surface layer having a stress relaxation rate after 1000 seconds at 23 ° C. of 60% or more at 1 × 10 5 Pa or less.
Moreover, this invention provides the IC tag whose elastic modulus in 23 degreeC is 1 * 10 < 2 > Pa or more and 1 * 10 < 5 > Pa or less in the said IC tag.
The present invention also provides an IC tag having an elastic modulus at 23 ° C. of 1 × 10 3 Pa or more and 1 × 10 5 Pa or less.
The present invention also provides an IC tag in which the buffer material is made of urethane resin.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The IC tag of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a state in which each layer is laminated in the manufacturing process of one aspect of the IC tag of the present invention, and FIG. 2 is a schematic plan view of the electronic circuit of the same IC tag of the present invention. It is shown.
In the present invention, the base sheet with an electronic circuit is provided with an electronic circuit comprising a circuit line and an IC chip connected to the circuit line on one surface of the base sheet.
[0008]
The base sheet 1 is preferably a sheet made of a thermoplastic resin. Examples of the thermoplastic resin sheet include polyethylene resins such as high density polyethylene, medium density polyethylene, and low density polyethylene, polypropylene resins such as polypropylene, polymethyl-1-pentene / ethylene / cycloolefin copolymer, ethylene- Polyolefin resins such as vinyl acetate copolymer, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polyvinyl chloride resin, polyvinyl alcohol resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, fluorine resin, or Sheets made of various synthetic resins such as copolymers, polymer blends, and polymer alloys containing any of these can be used. In particular, sheets made of polyester resins are preferably used. It is. The base sheet 1 may be uniaxially stretched or biaxially stretched. The base sheet 1 may be a single layer or a multilayer of two or more layers of the same type or different types.
Although the thickness of the base material sheet 1 does not have a restriction | limiting in particular, Usually, what is necessary is just 30-300 micrometers, Preferably it is 50-200 micrometers.
[0009]
In the IC tag of the present invention, the electronic circuit 3 is provided on the surface of the base sheet 1.
The electronic circuit 3 is composed of circuit lines 4 made of a conductive material. As the conductive substance, for example, a metal simple substance such as a metal foil, a vapor deposition film, a thin film by sputtering, and the like are preferable. As the metal simple substance, gold, silver, nickel, copper, aluminum or the like, or a conductive paste in which particles of these metals are dispersed in a binder can be used.
1-15 micrometers is preferable and, as for the average particle diameter of a metal particle, 2-10 micrometers is especially preferable. Examples of the binder include an ultraviolet curable resin and a thermosetting resin, and examples thereof include an ultraviolet curable resin such as a polyester resin, a polyurethane resin, an epoxy resin, and a phenol resin, and a thermosetting resin.
The content of the metal particles is preferably 20 to 99% by mass, more preferably 50 to 99% by mass, and particularly preferably 70 to 99% by mass.
[0010]
The thickness of the circuit line 4 constituting the electronic circuit 3 is not particularly limited, but is 5 to 50 μm in the case of a metal foil, 0.01 to 1 μm in the case of a metal film by vapor deposition or sputtering, and 5 in the case of a conductive paste. It is preferable that it is 30 micrometers.
Although there is no restriction | limiting in particular in the width | variety of the circuit wire 4, 0.01-10 mm is preferable and 0.1-3 mm is especially preferable.
In order to form the circuit line 4 of the electronic circuit 3 on the surface of the base sheet 1, for example, a metal foil is bonded to the base sheet 1 with the adhesive layer 2, and the metal foil is etched to remove portions other than the circuit. For example, a method of forming the circuit line 4 of the electronic circuit 3 by removing it may be used. The etching process can be performed by a process similar to a normal etching process. In addition, the circuit lines 4 of the electronic circuit 3 are formed on the surface of the base sheet or on the surface of the adhesive layer 2 provided on the surface of the base sheet, and the electronic circuit 3 is formed by a means such as printing or applying a conductive paste. This can also be done by attaching the shape of the circuit line 4 to the shape of the circuit line 4.
[0011]
Examples of the shape of the circuit line of the electronic circuit 3 include the shape shown in FIG. In FIG. 3, an electronic circuit 3 serving as an antenna is formed by arranging circuit lines 4 made of a conductive material line in a quadruple spiral ring from the outer periphery to the inside of the circular base sheet 1 at a predetermined interval. Is forming. The electronic circuit 3 may be arranged in a quadruple spiral ring as shown in FIG. 3, but may be a single to triple spiral ring, or may be a five or more spiral ring.
[0012]
In order to increase the adhesive force between the base sheet 1 and the adhesive layer 2, the surface of the base sheet 1 may be surface-treated. Examples of the surface treatment method include corona discharge treatment, chemical treatment, and resin coating.
Examples of the adhesive used for the adhesive layer 2 include various adhesives such as a hot-melt adhesive, a thermoplastic adhesive, a pressure-sensitive adhesive, and a thermosetting adhesive. Examples of adhesive types include natural rubber adhesives, synthetic rubber adhesives, acrylic resin adhesives, polyester resin adhesives, polyvinyl ether resin adhesives, urethane resin adhesives, and silicone resin adhesives. Agents and the like.
[0013]
Specific examples of acrylic resin adhesives include homopolymers or copolymers of acrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, acrylonitrile, etc. Etc. The polyester resin adhesive is a copolymer of a polyhydric alcohol and a polybasic acid. Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, and butanediol. Polybasic acids include terephthalic acid and adipic acid. And maleic acid. Specific examples of the polyvinyl ether resin adhesive include polyvinyl ether and polyvinyl isobutyl ether. Specific examples of the silicone resin adhesive include dimethylpolysiloxane. These adhesives can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
Of these adhesives, polyester resin adhesives are preferred.
[0014]
The adhesive layer 2 may contain a colorant such as an adhesion-imparting agent, a plasticizer, a softening agent, an anti-aging agent, a filler, a dye or a pigment, if necessary.
The thickness of the adhesive layer 2 is not particularly limited, but is usually 1 to 100 μm, and preferably 3 to 50 μm.
The method for providing the adhesive layer 2 on the base sheet is not particularly limited, and various methods can be used. For example, an air knife coater, a blade coater, a bar coater, a gravure coater, a roll coater, a curtain coater, Examples of the method include coating and drying using a die coater, knife coater, screen coater, Mayer bar coater, kiss coater, and the like.
[0015]
An IC chip 5 is connected to the circuit line 4. The IC chip 5 may be provided inside the circuit line 4, may be provided outside the circuit line 4, or may be provided above the circuit line 4.
The IC chip 5 is preferably provided at the tip of the circuit line 4 of the electronic circuit 3.
[0016]
In order to connect the outermost and innermost circuit lines 4 of the electronic circuit 3 to the IC chip 5, the outermost or innermost circuit line 4 of the electronic circuit 3 is short-circuited with the intermediate ring-shaped circuit line 4 ( By connecting to the jumper wiring part 6 without conducting), the circuit line 4 is drawn out to the inside or outside and connected to the IC chip 5.
The thickness of the IC chip may be appropriately selected according to the use, but a thickness of 50 to 400 μm is usually used.
The jumper wiring portion 6 is a circuit provided so as to jump over the intermediate ring circuit line 4 so as not to be short-circuited so as to connect the innermost ring circuit line 4 and the outermost ring circuit line 4. For this purpose, an insulating layer 9 is usually provided between the jumper wiring portion 6 and the intermediate circuit line 4. The insulating layer 9 is made of an insulating material, and is preferably made of a cured product of a curable insulating material. The curable insulating material is preferably a curable insulating resin, and examples thereof include a photocurable insulating resin and a thermosetting insulating resin. A specific example of the insulating material is preferably an insulating ink, and a photocurable insulating ink such as an ultraviolet curable insulating ink is particularly preferable.
[0017]
The jumper wiring portion 6 is made of a conductive material similar to the circuit line 4, but is preferably made of a conductive resin. Examples of the conductive resin include the same ones as described above.
A preferred method for forming the jumper wiring portion 6 is screen printing of an insulating material made of an insulating resin from the outermost ring and the innermost ring circuit line 4 of the electronic circuit 3 across the ring circuit line 4 between them. After forming the insulating layer 9 by printing in a linear or planar manner by using a method such as drying or curing, a jumper wiring portion is formed by a method of printing a conductive paste on the surface of the insulating layer 9 in a linear manner by screen printing or the like. 6 or the like. The conductive paste is exemplified above.
The jumper wiring portion 6 may be formed after the circuit line 4 is formed on the surface of the adhesive layer 2, or after the jumper wiring portion 6 is formed on the surface of the adhesive layer 2 in advance, the jumper wiring portion The circuit line 4 may be formed so that the end of the circuit line 4 of the outermost ring and the innermost ring is arranged at the position 6.
[0018]
Examples of the method of connecting the IC chip 5 to the end of the circuit line 4 of the electronic circuit 3 include a method of connecting to the end surface of the circuit line 4 via an anisotropic conductive film by a flip chip bonding method. In the flip chip bonding method, wire bumps are provided on the electrode portions of the IC chip 5, and the surface on which the wire bumps of the IC chip 5 are pressed is pressed on the anisotropic conductive film coated on the end surface of the circuit line 4. In this method, wire bumps enter the isotropic conductive film, and the end of the circuit line 4 and the IC chip 5 are easily conducted.
[0019]
In this invention, the base material sheet with an electronic circuit is covered and sealed with the surface layer 8 via the buffer material 7 on both surfaces.
There are various methods for sealing the substrate sheet with electronic circuit by covering it with the surface layer 8, and the two surface layers 8 are interposed on both surfaces of the substrate sheet with electronic circuit via the buffer material 7. A method of sandwiching and enclosing the base sheet with electronic circuit is preferable.
The buffer material 7 has a property that the elastic modulus at 23 ° C. is 1 × 10 5 Pa or less and the stress relaxation rate after 1000 seconds at 23 ° C. is 60% or more. The elastic modulus at 23 ° C. is preferably 8 × 10 4 Pa or less, particularly preferably 7 × 10 4 Pa or less. When the modulus of elasticity is 1 × 10 5 Pa or more, a strong stress is applied when the surface layer is covered, causing disconnection of the electronic circuit. The lower limit of the elastic modulus at 23 ° C. is not particularly limited, but is preferably 1 × 10 2 Pa or more, and particularly preferably 1 × 10 3 Pa or more. The stress relaxation rate after 1000 seconds at 23 ° C. is preferably 80% or more, and particularly preferably 85% or more. If the stress relaxation rate is 60% or less, the internal stress accumulates, causing disconnection of the electronic circuit.
[0020]
As a material of the buffer material 7, a material having the above properties may be selected as appropriate. A preferred specific example thereof is a polyurethane resin.
The buffer material 7 is preferably arranged so as to cover the entire surface of the base sheet 1.
The buffer material 7 preferably has the same shape and size as the base material sheet.
The thickness of the buffer material 7 is preferably 1 to 500 μm, particularly preferably 10 to 150 μm.
[0021]
Resin is mentioned as the surface layer 8 with which the base material sheet with an electronic circuit is covered via the buffer material 7, The thing similar to resin which comprises a base material sheet is mentioned. Of these resins, ABS resin and polyurethane resin are preferable.
The surface layer 8 is preferably hard against impact.
The thickness of the surface layer 8 is usually preferably about 1 to 5 mm, particularly preferably about 2 to 4 mm.
The shape of the surface layer 8 is preferably the same shape as the base sheet. Specifically, shapes such as a triangle, a quadrangle, a trapezoid, a pentagon or more polygon, an ellipse, and a circle are preferable.
The size of the surface layer 8 is preferably larger than the base sheet with electronic circuit, more preferably 1 to 15 mm, and particularly preferably 2 to 10 mm.
Examples of a method for sandwiching and enclosing the base sheet with electronic circuit between the two surface layers 8 include a method of sandwiching the base sheet with electronic circuit between the two surface layers 8 and performing heat compression molding.
[0022]
When a flat substrate sheet with an electronic circuit is sandwiched between two surface layers 8 larger than the substrate sheet with an electronic circuit via the buffer material 7, the edge of the surface layer 8, the substrate sheet with an electronic circuit, and the buffer A concave air gap 10 surrounded by the peripheral side surface of the material 7 is formed.
When the heat compression molding is performed, the end portion of the surface layer 8 is softened and enters the void portion 10, and the base sheet with electronic circuit can be contained (see FIG. 2). The temperature of the heat compression molding needs to be a temperature at which the surface layer 8 can be softened, and is preferably 30 ° C. or more lower than the heat resistance temperature of the substrate sheet of the substrate sheet with an electronic circuit, and 40 ° C. or more lower. Is particularly preferred. Specifically, 100 ° C. or lower is preferable, and 90 ° C. or lower is particularly preferable.
Further, the gap portion 10 may be filled with an adhesive to contain a base sheet with an electronic circuit.
The IC tag of the present invention can be used for various applications. For example, the IC tag can be used for managing an article by attaching the IC tag to an article such as a commodity, a stored item, or a luggage.
[0023]
【Example】
Next, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited by these examples.
The elastic modulus at 23 ° C. and the stress relaxation rate after 1000 seconds at 23 ° C. were measured by the following methods.
(1) Using an elastic modulus measuring device (Rheometric, RDA II (twisting shear method)) or an automatic dynamic viscoelasticity measuring device (Toyo Baldwin, Leo Vibron DDV-II-EP V-1166) The elastic modulus at 23 ° C. at a frequency of 1 Hz was measured.
(2) Using a stress relaxation modulus elastic modulus measuring device (Rheometric, RDA II (twisting shear method)) or an automatic dynamic viscoelasticity measuring device (Toyo Baldwin, Leo Vibron DDV-II-EP V-1166) Then, a stress with a twist amount of 20% was applied at 23 ° C., and the ratio of the elastic modulus after 1000 seconds to the relaxation elastic modulus after 1 minute was measured.
[0024]
(Example 1)
A polyester-based thermoplastic adhesive (trade name “Byron 30SS”, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is applied to the surface of one side of a polyethylene terephthalate film (width 400 mm, height 400 mm, thickness 50 μm) as the base sheet 1. It dried with the gravure coater and apply | coated so that it might become thickness 5 micrometers, and the adhesive bond layer 2 was laminated | stacked. Further, an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm was thermocompression bonded to the surface of the adhesive layer 2 with a 100 ° C. heat seal roll. Next, as shown in FIG. 3, the surface of the electrolytic copper foil is screen-printed so that ten quadruple spiral circular circuit wires 4 (antennas) having an outer ring diameter of 25 mm are formed. Etching resist ink was printed (line width: 0.13 mm). This was etched with a ferric chloride solution to remove portions other than the circular spiral circuit wire 4. Thereafter, the etching resist ink was removed with an alkaline aqueous solution, and ten electronic circuits 3 (circuit line width: 0.13 mm) identical to those in FIG. 3 were formed.
[0025]
Next, in order to connect the terminal of the innermost ring circuit line 4 of the electronic circuit (antenna) 3 and the outermost ring circuit line 4 of the electronic circuit 3, ultraviolet curable ink is screen-printed between them. After printing in a rectangular planar shape, it is cured by irradiating with ultraviolet rays to form an insulating layer 9 made of a cured product of the ultraviolet curable ink, and a silver paste (average particle diameter of silver particles: 5 μm) is formed on the surface of the insulating layer 9. Silver particle content: 65% by mass, binder: thermosetting polyester resin) is printed in a wide line shape by screen printing, dried at 110 ° C., and jumper wiring portion 6 (length 3.7 mm, width 600 μm) , A thickness of 23 μm).
[0026]
Next, wire bumps are provided on the electrode part of the IC chip (manufactured by Philips, trade name “I / CODE”) 6 using a gold wire, and the IC chip 5 is made of an anisotropic conductive film (trade name “Sony Chemical Co., trade name“ 10 pieces of base sheets with electronic circuits were prepared by connecting to the end of the innermost circuit line 4 of the electronic circuit 3 using the flip chip bonding method through FP2322D ").
[0027]
Next, on both surfaces of the substrate sheet with an electronic circuit, a urethane resin (weight average molecular weight 5000) having an elastic modulus at 23 ° C. of 0.5 × 10 5 Pa and a stress relaxation rate after 90 seconds at 23 ° C. of 90%. Buffer material 7 (comprising 50 parts by mass of a urethane oligomer having no reactive group (made by Arakawa Chemical Co., Ltd.), 10 parts by mass of a polyester oligomer as an adhesion improving agent, and 40 parts by mass of phenylhydroxypropyl acrylate) A disk having a diameter of 30 mm and a thickness of 60 μm are laminated, and further, a resin sheet made of ABS resin (a disk having a diameter of 35 mm, a thickness of 3 mm) as two surface layers 8 on the surface of the buffer material 7 and the surface of the adhesive layer, respectively. ) Was laminated. In this laminate, a concave gap 10 surrounded by the inner wall of the end portion of the surface layer 8, the base sheet with electronic circuit, and the end portion side surface of the buffer material 7 was formed.
Next, when this laminate was subjected to heat compression molding at 80 ° C., the end of the softened surface layer 8 entered the gap 10, the substrate sheet with electronic circuit was sealed, and 10 IC tags were created. did.
Ten IC tags obtained were placed in an environment in which a temperature change of −30 to 60 ° C. was repeated for 500 cycles, and then a non-contact transmission / reception test was performed.
[0028]
(Example 2)
As the buffer material 7, an acrylic adhesive (butyl acrylate / methyl methacrylate / 2-hydroxyethyl acrylate) having an elastic modulus at 23 ° C. of 9.8 × 10 4 Pa and a stress relaxation rate of 64% after 1000 seconds at 23 ° C. Ten IC tags were prepared in the same manner as in Example 1 except that 100 parts of a copolymer and 4 parts of a diisocyanate-based curing agent were used.
Ten IC tags obtained were placed in an environment in which a temperature change of −30 to 60 ° C. was repeated for 500 cycles, and then a non-contact transmission / reception test was performed.
[0029]
(Comparative Example 1)
An IC tag was prepared in the same manner as in Example 1 except that the buffer material 7 was not provided.
After placing 10 obtained IC tags in an environment in which a temperature change of −30 to 60 ° C. was repeated for 500 cycles, a non-contact transmission / reception test was performed, and 4 out of 10 IC tags were normally transmitted / received. Could not do.
[0030]
(Comparative Example 2)
As buffer material 7, an adhesive (2-ethylhexyl acrylate / 2-hydroxyethyl acrylate copolymer having an elastic modulus at 23 ° C. of 5.8 × 10 5 Pa and a stress relaxation rate of 59% after 1000 seconds at 23 ° C. An IC tag was prepared in the same manner as in Example 1 except that 100 parts of 1 part of a diisocyanate curing agent was used.
After placing 10 obtained IC tags in an environment in which a temperature change of −30 to 60 ° C. was repeated 500 cycles, a non-contact transmission / reception test was performed. As a result, 5 out of 10 IC tags successfully transmitted / received. Could not do.
[0031]
(Comparative Example 3)
As the buffer material 7, an adhesive having an elastic modulus at 23 ° C. of 1.32 × 10 5 Pa and a stress relaxation rate of 97% after 1000 seconds at 23 ° C. (100 parts of butyl acrylate / acrylic acid copolymer with diisocyanate) An IC tag was prepared in the same manner as in Example 1 except that a mixture of 2 parts of a narto curing agent (trade name “PK” manufactured by Lintec Corporation) was used.
After placing 10 obtained IC tags in an environment in which a temperature change of −30 to 60 ° C. was repeated 500 cycles, a non-contact transmission / reception test was performed. As a result, 5 out of 10 IC tags successfully transmitted / received. Could not do.
[0032]
(Comparative Example 4)
As the cushioning material 7, a rubber sheet having a modulus of elasticity at 23 ° C. of 1 × 10 3 Pa and a stress relaxation rate of 20% after 1000 seconds at 23 ° C. (trade name “Rubber Sheet MQ−, manufactured by NSC Japan”) 70 ”, a 30 mm diameter disc, 60 μm thick), and an IC tag was prepared in the same manner as in Example 1.
After placing 10 obtained IC tags in an environment in which a temperature change of -30 to 60 ° C. was repeated for 500 cycles, a non-contact transmission / reception test was conducted. Of the 10 IC tags, 6 were successfully transmitted / received. Could not do. When opened, the circuit line was cut.
[0033]
【The invention's effect】
The IC tag of the present invention has a characteristic that the encapsulated electronic circuit is not easily broken, and can transmit and receive normally.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view in the manufacturing process of an example of an IC tag of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an example of an IC tag of the present invention.
FIG. 3 is a perspective plan view showing an electronic circuit of an example of an IC tag of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base material sheet 2 Adhesive layer 3 Electronic circuit 4 Circuit line 5 IC chip 6 Jumper wiring part 7 Buffer material 8 Surface layer 9 Insulating layer 10 Air gap part

Claims (4)

基材シートの一方の表面に、回路線及び該回路線に接続するICチップからなる電子回路が設けられた電子回路付き基材シートが、その両面に23℃における弾性率が1×10Pa以下、かつ23℃における1000秒後の応力緩和率が60%以上の緩衝材及び表面層で順次覆われていることを特徴とするICタグ。A base sheet with an electronic circuit in which an electronic circuit comprising a circuit line and an IC chip connected to the circuit line is provided on one surface of the base sheet has an elastic modulus at 23 ° C. on both surfaces of 1 × 10 5 Pa. An IC tag characterized by being covered with a buffer material and a surface layer having a stress relaxation rate of 60% or more after 1000 seconds at 23 ° C. 23℃における弾性率が1×10  Elastic modulus at 23 ° C. is 1 × 10 2 Pa以上で1×101 × 10 at Pa or higher 5 Pa以下である請求項1に記載のICタグ。The IC tag according to claim 1, which is Pa or less. 23℃における弾性率が1×10  Elastic modulus at 23 ° C. is 1 × 10 3 Pa以上で1×101 × 10 at Pa or higher 5 Pa以下である請求項1に記載のICタグ。The IC tag according to claim 1, which is Pa or less. 緩衝材がウレタン系樹脂からなる請求項1に記載のICタグ。  The IC tag according to claim 1, wherein the buffer material is made of urethane resin.
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