JP4274183B2 - 記録再生装置、レーザ駆動パルス調整方法 - Google Patents
記録再生装置、レーザ駆動パルス調整方法 Download PDFInfo
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Description
本発明は、例えば記録型光ディスク等の光記録媒体に対する記録再生装置、及びレーザ駆動パルス調整方法に関し、特にはレーザ駆動パルス調整（ライトストラテジ）を装置や記録媒体に応じて適切に実行する技術に関する。
光ディスクの記録技術において、いわゆるライトストラテジとして知られているように記録のためのレーザ駆動パルスの調整を行うことが知られている。
まず、このライトストラテジに関して、従来の技術と本発明にかかる技術で用いる用語として、「記録エッジ位置」「マークエッジ位置」「マークエッジ位置誤差」について説明しておく。
図１５（ａ）（ｂ）（ｃ）にデータビット列、記録波形、再生波形の例を示している。図１５（ａ）のデータビット列は、３Ｔマーク、２Ｔスペース、２Ｔマークが連続する区間としている。Ｔはチャネルクロック長である。図１５（ｂ）の記録波形とは、光学ヘッド（光ピックアップ）におけるレーザダイオードの駆動パルスであり、記録しようとするマーク長に応じたパルスとして生成される。図１５（ｃ）の再生波形は、図１５（ｂ）のレーザ駆動パルスで光ディスクに記録した情報を再生したときに得られる再生ＲＦ信号波形である。破線はＰＬＬで生成する再生クロックのタイミングを示しており、再生波形からは、再生クロックタイミングにあたる○で示すタイミングのデータがサンプリングされる。例えばスライスレベルを基準に二値化され、復号処理に供される。
まず、このライトストラテジに関して、従来の技術と本発明にかかる技術で用いる用語として、「記録エッジ位置」「マークエッジ位置」「マークエッジ位置誤差」について説明しておく。
図１５（ａ）（ｂ）（ｃ）にデータビット列、記録波形、再生波形の例を示している。図１５（ａ）のデータビット列は、３Ｔマーク、２Ｔスペース、２Ｔマークが連続する区間としている。Ｔはチャネルクロック長である。図１５（ｂ）の記録波形とは、光学ヘッド（光ピックアップ）におけるレーザダイオードの駆動パルスであり、記録しようとするマーク長に応じたパルスとして生成される。図１５（ｃ）の再生波形は、図１５（ｂ）のレーザ駆動パルスで光ディスクに記録した情報を再生したときに得られる再生ＲＦ信号波形である。破線はＰＬＬで生成する再生クロックのタイミングを示しており、再生波形からは、再生クロックタイミングにあたる○で示すタイミングのデータがサンプリングされる。例えばスライスレベルを基準に二値化され、復号処理に供される。
本明細書で言う記録エッジ位置とは、記録波形においてライトストラテジで調整に用いるエッジ位置のことであり、例えば図１５（ｂ）に矢印ＲＥの部分のエッジ位置などである。
マークエッジ位置とは、再生波形とスライスレベルのクロス点の位置と再生クロックタイミングの中間位置との誤差である。例えば図１５（ｃ）において、再生波形とスライスレベルのクロス点である矢印ＭＥＰの位置である。図１５の場合、矢印ＭＥＰの位置が、３Ｔマークから２Ｔスペースへ移行するときのマークエッジ位置となっている。図１５（ｄ）に図１５（ｃ）のマークエッジ位置ＭＥＰ近辺を拡大して示している。本来、再生波形が二値化のためのスライスレベルとクロスするのは、再生クロックタイミングの中間タイミングが望ましい。図１５（ｄ）では、その中間タイミングを一点鎖線で示しているが、この中間タイミングと、再生波形とスライスレベルのクロス点のズレ分である矢印ＭＥＰがマークエッジ位置である。
また、マークエッジ位置誤差とは、調整時に０にしたい評価値であり、例えばマークエッジ位置をそのものでよいし、あるマーク長のマークエッジ位置を基準とし、その基準となるマークエッジ位置からの差分と考えることもできる。
マークエッジ位置とは、再生波形とスライスレベルのクロス点の位置と再生クロックタイミングの中間位置との誤差である。例えば図１５（ｃ）において、再生波形とスライスレベルのクロス点である矢印ＭＥＰの位置である。図１５の場合、矢印ＭＥＰの位置が、３Ｔマークから２Ｔスペースへ移行するときのマークエッジ位置となっている。図１５（ｄ）に図１５（ｃ）のマークエッジ位置ＭＥＰ近辺を拡大して示している。本来、再生波形が二値化のためのスライスレベルとクロスするのは、再生クロックタイミングの中間タイミングが望ましい。図１５（ｄ）では、その中間タイミングを一点鎖線で示しているが、この中間タイミングと、再生波形とスライスレベルのクロス点のズレ分である矢印ＭＥＰがマークエッジ位置である。
また、マークエッジ位置誤差とは、調整時に０にしたい評価値であり、例えばマークエッジ位置をそのものでよいし、あるマーク長のマークエッジ位置を基準とし、その基準となるマークエッジ位置からの差分と考えることもできる。
マークエッジ位置は、レーザ駆動パルスのストラテジ調整のための評価値として用いることができる。マークエッジ位置誤差は再生波形とスライスレベルとのクロス点と再生クロックタイミングとの時間誤差を示す値であり、このマークエッジ位置誤差を全てのマーク長について揃えるようにストラテジを調整する。
従来のレーザ駆動パルスのストラテジ調整として、マークエッジ位置を用いて調整を行う際には、マークエッジ位置誤差を検出し、その誤差量だけ記録波形を移動させて調整していた（例えば上記特許文献３）。
例えば図１５のように３Ｔマークの終端側のマークエッジ位置が他のマークエッジ位置よりもプラス方向（図面上右側）に１［ｎｓ］ずれている場合を考える。この場合、３Ｔマークの記録波形の後ろのエッジ位置ＲＥを矢印ｗｘ、矢印ｗｙのように左側に１［ｎｓ］補正することで、３Ｔマークの終端のマークエッジ位置を揃える。
このように検出したマークエッジ位置誤差に対応した記録エッジ位置を誤差分だけ移動させ調整していた。
従来のレーザ駆動パルスのストラテジ調整として、マークエッジ位置を用いて調整を行う際には、マークエッジ位置誤差を検出し、その誤差量だけ記録波形を移動させて調整していた（例えば上記特許文献３）。
例えば図１５のように３Ｔマークの終端側のマークエッジ位置が他のマークエッジ位置よりもプラス方向（図面上右側）に１［ｎｓ］ずれている場合を考える。この場合、３Ｔマークの記録波形の後ろのエッジ位置ＲＥを矢印ｗｘ、矢印ｗｙのように左側に１［ｎｓ］補正することで、３Ｔマークの終端のマークエッジ位置を揃える。
このように検出したマークエッジ位置誤差に対応した記録エッジ位置を誤差分だけ移動させ調整していた。
しかしながら、マークエッジ位置誤差と記録エッジのシフト量の関係には以下の特性がある。
（特性１）評価値となるマークエッジ位置誤差は記録エッジシフト量に対して一定ではないことがある。この理由として、ディスクの記録膜特性によって、マーク形成プロセスや熱干渉の影響に違いがあることが考えられる。
（特性２）マークエッジ位置は記録波形のファーストパルス、マルチパルス、ラストパルスのエッジ位置の移動量に依存することがあり、さらに記録波形のファーストパルス、マルチパルス、ラストパルスの記録エッジ位置の移動量は、始端側のマークエッジ位置、終端側のマークエッジ位置の両方に影響を与えることがある。
なおファーストパルス、マルチパルス、ラストパルスについては図２に示している。例えば２Ｔマークの記録波形はファーストパルスのみとなる。３Ｔマークの記録波形はファーストパルスとラストパルスの２つのパルスで形成される。４Ｔマークの記録波形は、ファーストパルス、マルチパルス、ラストパルスの３つのパルスで形成される。５Ｔマーク以上では、ファーストパルスとラストパルスの間に配されるマルチパルスの数がマーク長に応じて増えることとなる。
（特性３）他のマーク長の記録エッジシフト量がマークエッジ位置に対して影響を与えることがある。
（特性１）評価値となるマークエッジ位置誤差は記録エッジシフト量に対して一定ではないことがある。この理由として、ディスクの記録膜特性によって、マーク形成プロセスや熱干渉の影響に違いがあることが考えられる。
（特性２）マークエッジ位置は記録波形のファーストパルス、マルチパルス、ラストパルスのエッジ位置の移動量に依存することがあり、さらに記録波形のファーストパルス、マルチパルス、ラストパルスの記録エッジ位置の移動量は、始端側のマークエッジ位置、終端側のマークエッジ位置の両方に影響を与えることがある。
なおファーストパルス、マルチパルス、ラストパルスについては図２に示している。例えば２Ｔマークの記録波形はファーストパルスのみとなる。３Ｔマークの記録波形はファーストパルスとラストパルスの２つのパルスで形成される。４Ｔマークの記録波形は、ファーストパルス、マルチパルス、ラストパルスの３つのパルスで形成される。５Ｔマーク以上では、ファーストパルスとラストパルスの間に配されるマルチパルスの数がマーク長に応じて増えることとなる。
（特性３）他のマーク長の記録エッジシフト量がマークエッジ位置に対して影響を与えることがある。
以上のことから、従来の方法のように、ひとつの記録エッジ位置に対して少しずつ調整していくことで、調整に時間がかかるものとなる。特に、ひとつのマークエッジ位置を確認しながら記録エッジ位置をひとつずつ調整していく場合、その記録エッジシフト量は、他のマークエッジ位置に影響を与えるため、一旦最適に調整したマークエッジ位置が、他のマークエッジ位置による記録エッジ位置調整によるとずれてしまうことがある。従って時間がかかるだけでなく、調整精度も悪化する。
このため相互干渉のあることを考慮に入れたライトストラテジ調整を行うことが求められている。そこで本発明では相互干渉を考慮したうえで、迅速かつ正確なレーザ駆動パルスのストラテジ調整を実現することを目的とする。
本発明の記録再生装置は、光記録媒体に対してレーザ光を照射して、光記録媒体上でマーク及びスペースで表現される情報の書込及び読出を行う光学ヘッド手段と、記録する情報に応じたレーザ駆動パルスを生成して上記光学ヘッド手段に供給し、上記光学ヘッド手段に、記録のためのレーザ光照射を実行させるレーザ駆動パルス生成手段と、上記光学ヘッド手段により上記光記録媒体から読み出した信号から、上記マークのエッジ位置の誤差を検出するマークエッジ誤差検出手段と、上記レーザ駆動パルス生成手段で生成するレーザ駆動パルスの調整設定を行う調整制御手段とを備え、上記調整制御手段は、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別がｑ種類の場合（ｑは２以上の整数）に、少なくともｑ＋１とおりの記録エッジ位置シフト量の設定により光記録媒体への調整のため少なくともｑ＋１回の記録動作を実行させるとともに、各記録エッジシフト量の設定により記録した情報を上記マークエッジ誤差検出手段により読み出し、上記ｑ＋１種類以上の記録エッジ位置シフト量と上記ｑ＋１種類以上のマークエッジ位置誤差との関係が線形であると仮定して、ｑ種類のマークエッジ位置誤差の２乗和が最小となるｑ種類の記録エッジ位置シフト量を演算し、当該演算結果を基にレーザ駆動パルスの調整設定を決定して、上記レーザ駆動パルス生成手段に設定する。
例えば上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別は、レーザ駆動パルスの始端エッジと終端エッジの２種類であり、上記調整制御手段は、少なくとも３とおりの記録エッジ位置シフト量の設定状態で、上記調整のための記録動作を実行させる。
又は、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの始端エッジについての直前のスペース長と直後のマーク長で分類される種別を含める。
さらに、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの終端エッジについての直前のマーク長と直後のスペース長で分類される種別を含める。
さらに、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの始端エッジについての直前のマーク長と直後のマーク長で分類される種別を含める。
さらに、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの終端エッジについての直前のマーク長と直後のマーク長で分類される種別を含める。
例えば上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別は、レーザ駆動パルスの始端エッジと終端エッジの２種類であり、上記調整制御手段は、少なくとも３とおりの記録エッジ位置シフト量の設定状態で、上記調整のための記録動作を実行させる。
又は、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの始端エッジについての直前のスペース長と直後のマーク長で分類される種別を含める。
さらに、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの終端エッジについての直前のマーク長と直後のスペース長で分類される種別を含める。
さらに、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの始端エッジについての直前のマーク長と直後のマーク長で分類される種別を含める。
さらに、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの終端エッジについての直前のマーク長と直後のマーク長で分類される種別を含める。
本発明のレーザ駆動パルス調整方法は、光記録媒体に対してレーザ光を照射して、光記録媒体上でマーク及びスペースで表現される情報の記録を行う記録装置のレーザ駆動パルス調整方法として、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別がｑ種類の場合（ｑは２以上の整数）に、少なくともｑ＋１とおりの記録エッジ位置シフト量の設定により光記録媒体への調整のため少なくともｑ＋１回の記録動作を実行させる調整用記録ステップと、上記調整用記録ステップで各記録エッジシフト量の設定により記録した情報を上記マークエッジ誤差検出手段により読み出して、上記ｑ＋１種類以上の記録エッジ位置と上記ｑ＋１種類以上のマークエッジ位置誤差との関係が線形であると仮定して、ｑ種類のマークエッジ位置誤差の２乗和が最小となるｑ種類の記録エッジシフト量位置を演算するステップと、上記演算結果を基にレーザ駆動パルスの調整設定を決定する演算ステップと、上記演算ステップで決定された調整設定で上記レーザ駆動パルスが生成されるように設定する設定ステップと、を実行する。
これらの本発明は、調整すべき記録エッジ位置がｑ種類のとき少なくともｑ＋１通りの記録エッジ位置設定状態（ライトストラテジ設定）で調整のための試し記録を行う。そして試し記録した情報の再生信号からｑ種類以上のマークエッジ位置誤差を評価する。このとき、上記ｑ種類の記録エッジ位置と上記ｑ種類以上のマークエッジ位置誤差との関係が線形であると仮定し、最適な記録ストラテジを決定するようにすることで、複数の記録エッジ位置の最適な調整状態を、相互干渉を加味して算出できる。つまり、レーザ駆動パルスについてのライトストラテジ調整において、評価値（マークエッジ位置誤差）と調整すべき記録エッジ位置の種類が複数ある場合であって、評価値が様々な記録エッジ位置から影響する場合においても、各記録エッジ位置を１つづつ調整していく必要をなくしたうえで、各記録エッジ位置の最適な調整状態を算出できる。
本発明によれば、レーザ駆動パルス調整において評価値であるマークエッジ位置誤差と記録エッジ位置が複数ある場合について、評価値が様々な記録エッジ位置から影響する場合においても、評価値と記録エッジシフト量の関係を線形と仮定することで、短時間で精度よく調整することができるという効果があり、記録再生装置の調整の効率化と記録性能の向上を実現できる。
また、調整時間の短縮を求める場合は、調整すべき記録エッジ位置の種類を、レーザ駆動パルスの始端エッジと終端エッジの２種類などというように少なくすればよく、一方、調整精度の向上を求める場合は、調整すべき記録エッジ位置の種類を、前後のマーク長、スペース長で分類するなどすればよい。つまり目的に応じて柔軟なレーザ駆動パルス調整を実現できる。
また、調整時間の短縮を求める場合は、調整すべき記録エッジ位置の種類を、レーザ駆動パルスの始端エッジと終端エッジの２種類などというように少なくすればよく、一方、調整精度の向上を求める場合は、調整すべき記録エッジ位置の種類を、前後のマーク長、スペース長で分類するなどすればよい。つまり目的に応じて柔軟なレーザ駆動パルス調整を実現できる。
以下、本発明の実施の形態を次の順序で説明する。
［１．記録再生装置の構成］
［２．ストラテジ調整の基本となる考え方］
［３．第１の調整例］
［４．第２の調整例］
［１．記録再生装置の構成］
［２．ストラテジ調整の基本となる考え方］
［３．第１の調整例］
［４．第２の調整例］
［１．記録再生装置の構成］
図１は実施の形態の記録再生装置の要部のブロック図を示している。
情報を記録する記録媒体としての光ディスク１は、記録／再生時にはスピンドルモータ２によって回転される。
光学ヘッド３（光ピックアップ）は、レーザダイオードから出力したレーザ光を、所定の光学系により対物レンズから光ディスク１に照射する。また光ディスク１からの反射光を、所定の光学系を介してフォトディテクタに導き、反射光量に応じた電気信号を得る。また複数のフォトディテクタで検出された各光量信号に対して演算処理をおこない、記録された情報の再生信号（再生ＲＦ信号）や、トラッキング、フォーカスなどの各種サーボエラー信号を生成する。
図１は実施の形態の記録再生装置の要部のブロック図を示している。
情報を記録する記録媒体としての光ディスク１は、記録／再生時にはスピンドルモータ２によって回転される。
光学ヘッド３（光ピックアップ）は、レーザダイオードから出力したレーザ光を、所定の光学系により対物レンズから光ディスク１に照射する。また光ディスク１からの反射光を、所定の光学系を介してフォトディテクタに導き、反射光量に応じた電気信号を得る。また複数のフォトディテクタで検出された各光量信号に対して演算処理をおこない、記録された情報の再生信号（再生ＲＦ信号）や、トラッキング、フォーカスなどの各種サーボエラー信号を生成する。
記録時には、レーザドライバ１０からレーザ駆動パルスが光学ヘッド３に供給され、光学ヘッド３内のレーザダイオードはレーザ駆動パルスに応じて発光駆動される。
記録時には、光ディスク１に記録しようとする記録データが、記録データエンコーダ１３で、例えばＲＬＬ（１，７）変調等のエンコード処理が施され、そのエンコード信号がライトストラテジ回路１２に供給される。ライトストラテジ回路１２では、エンコード信号に応じたレーザ駆動パルスを生成する。ライトストラテジ回路１２で生成されるレーザ駆動パルスのパルスレベルや記録エッジ位置は、システムコントローラ１１からの設定値により調整される。
このライトストラテジ回路１２で生成され、ストラテジ調整されたレーザ駆動パルスが、レーザドライバ１０を介して光学ヘッド内のレーザダイオードの駆動信号となる。
記録時には、光ディスク１に記録しようとする記録データが、記録データエンコーダ１３で、例えばＲＬＬ（１，７）変調等のエンコード処理が施され、そのエンコード信号がライトストラテジ回路１２に供給される。ライトストラテジ回路１２では、エンコード信号に応じたレーザ駆動パルスを生成する。ライトストラテジ回路１２で生成されるレーザ駆動パルスのパルスレベルや記録エッジ位置は、システムコントローラ１１からの設定値により調整される。
このライトストラテジ回路１２で生成され、ストラテジ調整されたレーザ駆動パルスが、レーザドライバ１０を介して光学ヘッド内のレーザダイオードの駆動信号となる。
再生時には、光学ヘッド３で読み出された再生信号はイコライザ４で処理された後、ＡＤ変換器でサンプリングされてデジタル値としての再生データとされる。
ＰＬＬ回路６は、再生データに同期した再生クロックＣＫを生成する。再生クロックＣＫはＡ／Ｄ変換器５のサンプリングクロックとして用いられると共に、後段のＰＲ等化回路７，最尤復号回路８、マークエッジ位置誤差検出回路９に処理クロックとして供給される。
Ａ／Ｄ変換器５からの再生データは、ＰＲ等化回路７で所定のパーシャルレスポンス方式に応じたＰＲ等化が施された後、最尤復号回路８に供給され、ビタビ復号が行われる。最尤復号回路８でビタビ復号された復号データは、図示しない再生処理系に供給される。
ＰＬＬ回路６は、再生データに同期した再生クロックＣＫを生成する。再生クロックＣＫはＡ／Ｄ変換器５のサンプリングクロックとして用いられると共に、後段のＰＲ等化回路７，最尤復号回路８、マークエッジ位置誤差検出回路９に処理クロックとして供給される。
Ａ／Ｄ変換器５からの再生データは、ＰＲ等化回路７で所定のパーシャルレスポンス方式に応じたＰＲ等化が施された後、最尤復号回路８に供給され、ビタビ復号が行われる。最尤復号回路８でビタビ復号された復号データは、図示しない再生処理系に供給される。
ＰＲ等化回路７で処理されたデータＤＤは、マークエッジ位置誤差検出回路９にも供給される。マークエッジ位置誤差検出回路９は、データＤＤのデータ系列から図１５（ｄ）で説明したマークエッジ位置及びマークエッジ位置誤差ｍを検出する。例えばデータＤＤとして値の異なる２つのサンプル点（「１」と「０」）の間の直線とスライスレベルのクロス点をマークエッジ位置とし、そのマークエッジ位置と再生クロックＣＫのタイミングからマークエッジ位置誤差ｍを検出する。このマークエッジ位置誤差検出回路９では例えばマークの始端側となる始端マークエッジ位置誤差、マークの終端側となる終端マークエッジ位置誤差などが検出される。
また最尤復号回路８からは、ビタビ復号で検出されたマーク長／スペース長の情報が、マーク／スペース識別結果情報ＭＳとしてマークエッジ位置誤差検出回路９に供給される。これにより、マークエッジ位置誤差検出回路９はマーク長毎のマークエッジ位置誤差や、エッジ前後のマーク長／スペース長の組み合わせ毎のマークエッジ位置誤差を検出できる。
なお、この構成例では、マークエッジ位置誤差検出回路９は、ＰＲ等化回路７からのデータＤＤについてマークエッジ位置誤差の検出を行うようにしているが、ＰＲ等化前のデータ列、つまりＡ／Ｄ変換器５からの出力段階の再生データ列をマークエッジ位置誤差検出回路９に供給して、マークエッジ位置誤差を検出するようにしてもよい。
また最尤復号回路８からは、ビタビ復号で検出されたマーク長／スペース長の情報が、マーク／スペース識別結果情報ＭＳとしてマークエッジ位置誤差検出回路９に供給される。これにより、マークエッジ位置誤差検出回路９はマーク長毎のマークエッジ位置誤差や、エッジ前後のマーク長／スペース長の組み合わせ毎のマークエッジ位置誤差を検出できる。
なお、この構成例では、マークエッジ位置誤差検出回路９は、ＰＲ等化回路７からのデータＤＤについてマークエッジ位置誤差の検出を行うようにしているが、ＰＲ等化前のデータ列、つまりＡ／Ｄ変換器５からの出力段階の再生データ列をマークエッジ位置誤差検出回路９に供給して、マークエッジ位置誤差を検出するようにしてもよい。
マークエッジ位置誤差検出回路９で検出されるマークエッジ位置誤差の情報はシステムコントローラ１１に供給される。
システムコントローラ１１は後述するようにして、マークエッジ位置誤差の情報を用いて最適なストラテジ設定を算出し、ライトストラテジ回路１２に設定する。
なお、光学ヘッドにおけるフォーカスサーボ、トラッキングサーボ動作や光学ヘッドの移送（スレッド移動）動作などは、図示しないサーボ回路やサーボ駆動機構（光学ヘッド内の二軸機構やスレッド機構など）によって行われる。またスピンドルモータ２の回転制御もサーボ回路によって行われる。システムコントローラ１１は、サーボ回路を指示して、記録動作、再生動作のためのスピンドルモータ２の駆動や光学ヘッド３の挙動を制御し、光ディスク１に対する記録動作や再生動作を実行させる。
システムコントローラ１１は後述するようにして、マークエッジ位置誤差の情報を用いて最適なストラテジ設定を算出し、ライトストラテジ回路１２に設定する。
なお、光学ヘッドにおけるフォーカスサーボ、トラッキングサーボ動作や光学ヘッドの移送（スレッド移動）動作などは、図示しないサーボ回路やサーボ駆動機構（光学ヘッド内の二軸機構やスレッド機構など）によって行われる。またスピンドルモータ２の回転制御もサーボ回路によって行われる。システムコントローラ１１は、サーボ回路を指示して、記録動作、再生動作のためのスピンドルモータ２の駆動や光学ヘッド３の挙動を制御し、光ディスク１に対する記録動作や再生動作を実行させる。
［２．ストラテジ調整の基本となる考え方］
図１の記録再生装置で実行できる具体的な調整動作に先立って、本例のストラテジ調整の基本となる考え方について述べておく。
本例の調整方式は、初期ストラテジを基準としてストラテジを調整する。初期ストラテジとは、例えば光ディスク１に予め記録されている管理情報に含まれているストラテジ推奨情報であったり、或いは記録再生装置に記憶されているストラテジ設定情報である。記録再生装置においては、例えば光ディスク１の製造メーカーやディスク種別などに応じて、それぞれ対応する初期ストラテジを記憶している場合もある。
図１の記録再生装置で実行できる具体的な調整動作に先立って、本例のストラテジ調整の基本となる考え方について述べておく。
本例の調整方式は、初期ストラテジを基準としてストラテジを調整する。初期ストラテジとは、例えば光ディスク１に予め記録されている管理情報に含まれているストラテジ推奨情報であったり、或いは記録再生装置に記憶されているストラテジ設定情報である。記録再生装置においては、例えば光ディスク１の製造メーカーやディスク種別などに応じて、それぞれ対応する初期ストラテジを記憶している場合もある。
ストラテジ調整処理では、初期ストラテジを基準にして、複数の異なるストラテジ設定の状態でそれぞれ調整用の記録を行う。
例えばシステムコントローラ１１は、初期ストラテジを基準にして選定したストラテジ設定をライトストラテジ回路１２に設定した状態で、記録データエンコーダ１３にランダムデータを供給する。そのランダムデータは、記録データエンコーダ１３で例えばＲＬＬ（１，７）方式等の変調処理が施され、ライトストラテジ回路１２に供給される。ライトストラテジ回路１２は、そのときのストラテジ設定に基づいて、ランダムデータの変調データに応じたレーザ駆動パルスを生成する。このレーザ駆動パルスがレーザドライバ１０に供給され、光学ヘッド３のレーザダイオードを駆動することで、光ディスク１に調整のための試し記録が行われる。
また、システムコントローラ１１は、記録したランダムデータを再生させ、そのときにマークエッジ位置誤差検出回路９で検出されるマークエッジ位置誤差の情報を取得する。
このような処理を、複数のストラテジ設定状態で実行し、それぞれのストラテジ設定状態で記録したデータを再生したときに、マークエッジ位置誤差の情報を取得していく。そして各ストラテジ設定状態でのマークエッジ位置誤差の挙動を学習して、マークエッジ位置誤差が０になるようにする最適なストラテジ設定を算出し、当該最適なストラテジ設定をライトストラテジ回路１２に設定するものである。
例えばシステムコントローラ１１は、初期ストラテジを基準にして選定したストラテジ設定をライトストラテジ回路１２に設定した状態で、記録データエンコーダ１３にランダムデータを供給する。そのランダムデータは、記録データエンコーダ１３で例えばＲＬＬ（１，７）方式等の変調処理が施され、ライトストラテジ回路１２に供給される。ライトストラテジ回路１２は、そのときのストラテジ設定に基づいて、ランダムデータの変調データに応じたレーザ駆動パルスを生成する。このレーザ駆動パルスがレーザドライバ１０に供給され、光学ヘッド３のレーザダイオードを駆動することで、光ディスク１に調整のための試し記録が行われる。
また、システムコントローラ１１は、記録したランダムデータを再生させ、そのときにマークエッジ位置誤差検出回路９で検出されるマークエッジ位置誤差の情報を取得する。
このような処理を、複数のストラテジ設定状態で実行し、それぞれのストラテジ設定状態で記録したデータを再生したときに、マークエッジ位置誤差の情報を取得していく。そして各ストラテジ設定状態でのマークエッジ位置誤差の挙動を学習して、マークエッジ位置誤差が０になるようにする最適なストラテジ設定を算出し、当該最適なストラテジ設定をライトストラテジ回路１２に設定するものである。
検出されるマークエッジ位置誤差からの最適ストラテジの算出は以下の考え方で行う。
まずマークエッジ位置誤差と記録エッジ位置のシフト量の関係を線形であると仮定する。調整する記録エッジ位置はｑ種類あり、ベクトルｗで表す。
例えば図２には、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークのそれぞれの場合のレーザ駆動パルスを示している。図では主にファーストパルスの記録エッジ位置である始端記録エッジ位置のシフトをｗF、主にラストパルスの記録エッジ位置である終端記録エッジ位置のシフトをｗRで表し、特にこの図ではこれを２Ｔ、３Ｔ、４Ｔの別に応じて、ｗ2F、ｗ2R、ｗ3F、ｗ3R、ｗ4F、ｗ4Rというように示している。
後述する第１の調整例では、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマーク等のマーク長について個別に、ファーストパルスとラストパルスのエッジを調整すべき記録エッジ位置とするが、その場合、調整する記録エッジ位置はｗFとｗRの２種類となる。つまり上記ｑ＝２である。例えば２Ｔマークのレーザ駆動パルスについて調整のために算出する記録エッジ位置はｗFとｗRであり、同様に３Ｔマーク、４Ｔマークについても、それぞれ調整のために算出する記録エッジ位置はｗFとｗRである。
また、後述する第２の調整例では、始端記録エッジ位置（主にファーストパルスのエッジ位置）と終端記録エッジ位置（主にラストパルスのエッジ位置）を、それぞれ前後のマーク長／スペース長の組み合わせを考慮して最適な記録エッジ位置を算出し、調整する方式を述べるが、その例ではエッジ前後の２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマーク、５Ｔ以上マークと、２Ｔスペース、３Ｔスペース、４Ｔスペース、５Ｔ以上スペースの組み合わせにより区別している。その場合、調整するために算出する始端記録エッジ位置として１５とおりがあり、また調整するために算出する終端マークエッジ位置として１５とおりがあるため、算出する記録エッジ位置は３０種類となる。つまり上記ｑ＝３０である。
これらについては後述するが、調整すべき記録エッジ位置の例としては多様に考えられる。
まずマークエッジ位置誤差と記録エッジ位置のシフト量の関係を線形であると仮定する。調整する記録エッジ位置はｑ種類あり、ベクトルｗで表す。
例えば図２には、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークのそれぞれの場合のレーザ駆動パルスを示している。図では主にファーストパルスの記録エッジ位置である始端記録エッジ位置のシフトをｗF、主にラストパルスの記録エッジ位置である終端記録エッジ位置のシフトをｗRで表し、特にこの図ではこれを２Ｔ、３Ｔ、４Ｔの別に応じて、ｗ2F、ｗ2R、ｗ3F、ｗ3R、ｗ4F、ｗ4Rというように示している。
後述する第１の調整例では、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマーク等のマーク長について個別に、ファーストパルスとラストパルスのエッジを調整すべき記録エッジ位置とするが、その場合、調整する記録エッジ位置はｗFとｗRの２種類となる。つまり上記ｑ＝２である。例えば２Ｔマークのレーザ駆動パルスについて調整のために算出する記録エッジ位置はｗFとｗRであり、同様に３Ｔマーク、４Ｔマークについても、それぞれ調整のために算出する記録エッジ位置はｗFとｗRである。
また、後述する第２の調整例では、始端記録エッジ位置（主にファーストパルスのエッジ位置）と終端記録エッジ位置（主にラストパルスのエッジ位置）を、それぞれ前後のマーク長／スペース長の組み合わせを考慮して最適な記録エッジ位置を算出し、調整する方式を述べるが、その例ではエッジ前後の２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマーク、５Ｔ以上マークと、２Ｔスペース、３Ｔスペース、４Ｔスペース、５Ｔ以上スペースの組み合わせにより区別している。その場合、調整するために算出する始端記録エッジ位置として１５とおりがあり、また調整するために算出する終端マークエッジ位置として１５とおりがあるため、算出する記録エッジ位置は３０種類となる。つまり上記ｑ＝３０である。
これらについては後述するが、調整すべき記録エッジ位置の例としては多様に考えられる。
調整すべき記録エッジ位置は具体的な手法に応じて適切に決定すればよいが、まず考え方として、上記のように調整のために算出すべき記録エッジ位置をｑ種類とし、ベクトルｗで表す。
一方、マークエッジ位置誤差はｐ種類あるとし、ベクトルｍで表す。また、初期ストラテジでのマークエッジ位置誤差をｍinitで表す。
このとき、次の（数１）に示すｐ×ｑの行列Ｃは、記録エッジ位置のシフト量に対するマークエッジ位置誤差ｍを示す行列である。
一方、マークエッジ位置誤差はｐ種類あるとし、ベクトルｍで表す。また、初期ストラテジでのマークエッジ位置誤差をｍinitで表す。
このとき、次の（数１）に示すｐ×ｑの行列Ｃは、記録エッジ位置のシフト量に対するマークエッジ位置誤差ｍを示す行列である。
ここでｐ≧ｑと選び、ｑ＋１通りのストラテジ設定状態で調整のための試し記録を行い、マークエッジ位置誤差を取得することで、行列Ｃとベクトルｍinitを求めることができる。例えば、計算方法として求めた行列とベクトルから、次の（数２）の計算をすることで最適な記録エッジシフト量ｗoを求める方法などがある。
この場合、Ｃ#はｐ＞ｑの場合は擬似逆行列となり、ｐ＝ｑの場合は逆行列となる。
この場合、Ｃ#はｐ＞ｑの場合は擬似逆行列となり、ｐ＝ｑの場合は逆行列となる。
なお、ｑ＋１とおりでの試し記録が必要な理由は、上記（数１）の行列Ｃとベクトルｍinitを求めるために必要最小限の試し記録数がｑ＋１通りであるためである。
また、ｑ＋１通りの試し記録におけるエッジ位置のシフト量ｗtestは、適当に選んだひとつの記録エッジシフト量ｗ0に対して、ｗ0を基準としたｑ種類のベクトルが１次独立なベクトルとなるように選べばよい。つまり、適当な記録エッジシフト量ｗ0を選び、ｗ1＋ｗ0、ｗ2−ｗ0、・・・ ｗq+1−ｗ0のベクトルが１次独立になるように選ぶ。
例えば、ｐ＝２，ｑ＝２の場合はｗ0を[0 0]Tと選び、1次独立なベクトル[1 0]T、 [0 1]Tを選べばよい。
また、ｑ＋１通りの試し記録におけるエッジ位置のシフト量ｗtestは、適当に選んだひとつの記録エッジシフト量ｗ0に対して、ｗ0を基準としたｑ種類のベクトルが１次独立なベクトルとなるように選べばよい。つまり、適当な記録エッジシフト量ｗ0を選び、ｗ1＋ｗ0、ｗ2−ｗ0、・・・ ｗq+1−ｗ0のベクトルが１次独立になるように選ぶ。
例えば、ｐ＝２，ｑ＝２の場合はｗ0を[0 0]Tと選び、1次独立なベクトル[1 0]T、 [0 1]Tを選べばよい。
ここで、後述する調整例に用いるマークエッジ位置誤差と記録エッジ位置について説明する。
まず、直前のスペース長と直後のマーク長の組み合わせからなるマークエッジ位置を始端マークエッジ位置と呼ぶ。また直前のマーク長と直後のスペース長の組み合わせからなるマークエッジ位置を終端マークエッジ位置と呼ぶ。
後述する調整例では、マーク長とスペース長を２Ｔ，３Ｔ，４Ｔ，５Ｔ以上という分類をした。Ｔはチャネルクロック周期である。
なお、第２の調整例においては、特にエッジ前後のマーク長／スペース長の組み合わせにより区別するが、その説明において、例えば２Ｔスペースから３Ｔマークへの始端マークエッジ位置の場合はMep2s3mというように表す。また終端マークエッジ位置において、例えば３Ｔマークから４Ｔスペースへのエッジ位置の場合はMep3m4sと表す。例えば、図１５に示した３Ｔマークから２Ｔスペースのマークエッジ位置ＭＥＰは、Mep3m2sと表す。
まず、直前のスペース長と直後のマーク長の組み合わせからなるマークエッジ位置を始端マークエッジ位置と呼ぶ。また直前のマーク長と直後のスペース長の組み合わせからなるマークエッジ位置を終端マークエッジ位置と呼ぶ。
後述する調整例では、マーク長とスペース長を２Ｔ，３Ｔ，４Ｔ，５Ｔ以上という分類をした。Ｔはチャネルクロック周期である。
なお、第２の調整例においては、特にエッジ前後のマーク長／スペース長の組み合わせにより区別するが、その説明において、例えば２Ｔスペースから３Ｔマークへの始端マークエッジ位置の場合はMep2s3mというように表す。また終端マークエッジ位置において、例えば３Ｔマークから４Ｔスペースへのエッジ位置の場合はMep3m4sと表す。例えば、図１５に示した３Ｔマークから２Ｔスペースのマークエッジ位置ＭＥＰは、Mep3m2sと表す。
次にマークエッジ位置誤差を定義する。第１の調整例では、マークエッジ位置誤差を始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRとして述べる。また第２の調整例では、エッジ前後のマーク長／スペース長の組み合わせにより区別するため、例えば２Ｔスペースから３Ｔマークへの始端マークエッジ位置誤差の場合はMepe2s3mというように表す。
本例のストラテジ調整では、このマークエッジ位置誤差が０になるように記録エッジ位置を調整するものである。
例えばマークエッジ位置誤差を次の＜１＞＜２＞又は＜３＞のように定義することができる。
＜１＞マークエッジ位置そのもの。
＜２＞基準となるマーク長に調整する。
ある基準となるマークエッジ位置を決定し、基準のマークエッジ位置との差分をマークエッジ位置誤差とする。例えば始端マークエッジ位置（スペースからマーク）については５Ｔ以上スペース、５Ｔ以上マークのマークエッジ位置を基準とした場合を考え、終端マークエッジ位置（マークからスペース）については５Ｔ以上マーク、５Ｔ以上スペースのマークエッジ位置を基準とした場合を考え、２Ｔスペース、２Ｔマークの始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mと、終端マークエッジ位置誤差Mepe2m2sは、次の（数３）のように定義する。
本例のストラテジ調整では、このマークエッジ位置誤差が０になるように記録エッジ位置を調整するものである。
例えばマークエッジ位置誤差を次の＜１＞＜２＞又は＜３＞のように定義することができる。
＜１＞マークエッジ位置そのもの。
＜２＞基準となるマーク長に調整する。
ある基準となるマークエッジ位置を決定し、基準のマークエッジ位置との差分をマークエッジ位置誤差とする。例えば始端マークエッジ位置（スペースからマーク）については５Ｔ以上スペース、５Ｔ以上マークのマークエッジ位置を基準とした場合を考え、終端マークエッジ位置（マークからスペース）については５Ｔ以上マーク、５Ｔ以上スペースのマークエッジ位置を基準とした場合を考え、２Ｔスペース、２Ｔマークの始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mと、終端マークエッジ位置誤差Mepe2m2sは、次の（数３）のように定義する。
＜３＞すべてのマーク長における平均を基準にする。
始端マークエッジ位置（スペースからマーク）については始端マークエッジ位置の平均値MepXsXmを基準とし、終端マークエッジ位置（マークからスペース）については終端マークエッジ位置の平均値MepXsXmを基準とし、２Ｔスペース、２Ｔマークの始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mと、終端マークエッジ位置誤差Mepe2m2sは、次の（数４）のように定義する
始端マークエッジ位置（スペースからマーク）については始端マークエッジ位置の平均値MepXsXmを基準とし、終端マークエッジ位置（マークからスペース）については終端マークエッジ位置の平均値MepXsXmを基準とし、２Ｔスペース、２Ｔマークの始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mと、終端マークエッジ位置誤差Mepe2m2sは、次の（数４）のように定義する
ストラテジ調整では、マークエッジ位置を移動させるために記録波形のエッジ位置を動かす。この場合、レーザ駆動パルスを構成するパルスのどのエッジ位置をどの組み合わせで動かして調整してもよい。
例えば、始端マークエッジ位置を調整する部分を始端記録エッジ位置と呼び、始端マークエッジ位置を調整する部分を終端記録エッジ位置とすると、調整すべき記録エッジ位置は、上記図２のようなエッジ位置シフト（ｗ2F、ｗ2R、ｗ3F、ｗ3R、ｗ4F、ｗ4R）が行われればよい。
また、例えば図３にＭＶ１〜ＭＶ７としてファーストパルス、マルチパルス、ラストパルスのエッジを示しているが、それぞれのパルスについてのエッジの動かし方は次のような例が考えられる。
ファーストパルスについては、エッジＭＶ１のみを動かす例、エッジＭＶ２のみを動かす例、或いはエッジＭＶ１、ＭＶ２を連動させる例がある。
マルチパルスについては、エッジＭＶ３のみを動かす例、エッジＭＶ４のみを動かす例、或いはエッジＭＶ３、ＭＶ４を連動させる例がある。
ラストパルスについては、エッジＭＶ５のみを動かす例、エッジＭＶ６のみを動かす例、エッジＭＶ７のみを動かす例、エッジＭＶ５、ＭＶ６を連動させる例、エッジＭＶ５、ＭＶ７を連動させる例、エッジＭＶ６、ＭＶ７を連動させる例、エッジＭＶ５、ＭＶ６、ＭＶ７を連動させる例がある。
例えば、始端マークエッジ位置を調整する部分を始端記録エッジ位置と呼び、始端マークエッジ位置を調整する部分を終端記録エッジ位置とすると、調整すべき記録エッジ位置は、上記図２のようなエッジ位置シフト（ｗ2F、ｗ2R、ｗ3F、ｗ3R、ｗ4F、ｗ4R）が行われればよい。
また、例えば図３にＭＶ１〜ＭＶ７としてファーストパルス、マルチパルス、ラストパルスのエッジを示しているが、それぞれのパルスについてのエッジの動かし方は次のような例が考えられる。
ファーストパルスについては、エッジＭＶ１のみを動かす例、エッジＭＶ２のみを動かす例、或いはエッジＭＶ１、ＭＶ２を連動させる例がある。
マルチパルスについては、エッジＭＶ３のみを動かす例、エッジＭＶ４のみを動かす例、或いはエッジＭＶ３、ＭＶ４を連動させる例がある。
ラストパルスについては、エッジＭＶ５のみを動かす例、エッジＭＶ６のみを動かす例、エッジＭＶ７のみを動かす例、エッジＭＶ５、ＭＶ６を連動させる例、エッジＭＶ５、ＭＶ７を連動させる例、エッジＭＶ６、ＭＶ７を連動させる例、エッジＭＶ５、ＭＶ６、ＭＶ７を連動させる例がある。
［３．第１の調整例］
具体的なストラテジ調整例として第１の調整例を説明する。
この第１の調整例は、エッジ前後のマーク長／スペース長を考慮せず、他のＴのマーク／スペースの干渉が少ないと考えた場合の調整例であり、調整時間の短時間化が要求される場合に適したものである。特には、マークエッジ位置誤差と記録エッジのシフト量の関係としての上述した特性１、特性２を考慮した調整方式といえる。
具体的なストラテジ調整例として第１の調整例を説明する。
この第１の調整例は、エッジ前後のマーク長／スペース長を考慮せず、他のＴのマーク／スペースの干渉が少ないと考えた場合の調整例であり、調整時間の短時間化が要求される場合に適したものである。特には、マークエッジ位置誤差と記録エッジのシフト量の関係としての上述した特性１、特性２を考慮した調整方式といえる。
ここでは上記のように、マーク長については２Ｔ，３Ｔ，４Ｔ，５Ｔ以上という分類をするものとする。そしてマークエッジ位置誤差については、上記＜２＞のように、５Ｔ以上のマークエッジ位置を基準として定義するものとし、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークのそれぞれについて始端記録エッジ位置、終端記録エッジ位置を求める例とする。
この場合、すべてのスペースから２Ｔマークのマークエッジ位置MepeXs2m、すべてのスペースから５Ｔ以上マークのマークエッジ位置MepeXs≧5m、すべてのマークから２Ｔスペースのマークエッジ位置MepeXm2s、すべてのマークから５Ｔ以上マークのマークエッジ位置MepeXm≧5sから、２Ｔマークの始端マークエッジ位置誤差ｍ2Fと、終端マークエッジ位置誤差ｍ2Rは、（数５）のようになる。
この場合、すべてのスペースから２Ｔマークのマークエッジ位置MepeXs2m、すべてのスペースから５Ｔ以上マークのマークエッジ位置MepeXs≧5m、すべてのマークから２Ｔスペースのマークエッジ位置MepeXm2s、すべてのマークから５Ｔ以上マークのマークエッジ位置MepeXm≧5sから、２Ｔマークの始端マークエッジ位置誤差ｍ2Fと、終端マークエッジ位置誤差ｍ2Rは、（数５）のようになる。
記録エッジ位置のシフト量は、始端と終端に区別しそれぞれｗF, ｗRと示す。
記録波形を移動したときのマークエッジ位置誤差の始端部をｍF、終端部をｍRと示し、初期ストラテジで記録したときのマークエッジ位置誤差の始端部をｍF_init、終端部をｍR_initで示す。このときの記録エッジのシフト量ｗF, ｗRに対するマークエッジ位置誤差ｍF、ｍRは、上記（数１）の考え方から、次の（数６）のように表される。
記録波形を移動したときのマークエッジ位置誤差の始端部をｍF、終端部をｍRと示し、初期ストラテジで記録したときのマークエッジ位置誤差の始端部をｍF_init、終端部をｍR_initで示す。このときの記録エッジのシフト量ｗF, ｗRに対するマークエッジ位置誤差ｍF、ｍRは、上記（数１）の考え方から、次の（数６）のように表される。
つまりこの場合、始端記録エッジ位置のシフト量ｗF、終端記録エッジ位置のシフト量ｗRとして、ｑ＝２種類の記録エッジ位置を求めるために、ｑ＋１＝３とおりのストラテジ設定で調整のための試し記録を行う。そしてそれを再生したときに得られる始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRを０にできるような始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRを算出すればよい。
２種類の記録エッジ位置（シフト量ｗF, ｗR）と２種類以上のマークエッジ位置誤差ｍF、ｍRとの関係が線形であると仮定し、３とおりのストラテジ設定で試し記録を行う。このときに行列Ｃ（Ｃ11、Ｃ12，Ｃ21，Ｃ22）とベクトルｍinit（ｍF_init、ｍR_init）を求めることで、上記（数２）から最適ストラテジを求めることができる。
２種類の記録エッジ位置（シフト量ｗF, ｗR）と２種類以上のマークエッジ位置誤差ｍF、ｍRとの関係が線形であると仮定し、３とおりのストラテジ設定で試し記録を行う。このときに行列Ｃ（Ｃ11、Ｃ12，Ｃ21，Ｃ22）とベクトルｍinit（ｍF_init、ｍR_init）を求めることで、上記（数２）から最適ストラテジを求めることができる。
調整のための試し記録は次のように行う。
マーク長における分類を ２Ｔ、３Ｔ、４Ｔ、５Ｔ以上とし、評価値となるマークエッジ位置誤差については、例えば上記（数３）で説明したように５Ｔ以上の場合のマークエッジ位置誤差を基準とする。このため、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークについて、それぞれ始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRを検出し、これを０にできるような始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRを算出する。始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRとして移動させる記録エッジ位置は、例えば２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークのそれぞれについて図２に示したようなエッジシフトとする。
マーク長における分類を ２Ｔ、３Ｔ、４Ｔ、５Ｔ以上とし、評価値となるマークエッジ位置誤差については、例えば上記（数３）で説明したように５Ｔ以上の場合のマークエッジ位置誤差を基準とする。このため、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークについて、それぞれ始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRを検出し、これを０にできるような始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRを算出する。始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRとして移動させる記録エッジ位置は、例えば２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークのそれぞれについて図２に示したようなエッジシフトとする。
また３とおりのストラテジ設定ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３を、図４に示すように初期ストラテジを原点とし、波形記録移動量を（始端記録波形移動量，終端記録波形移動量)のように表すと、（１[ns]，１[ns]）、（−１[ns]，１[ns]）、（−１[ns]，−１[ns]）の３点とする。
図４のように３つのストラテジ設定ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３で例えばランダムデータを記録したときのマークエッジ位置誤差を測定することにより、（数６）の行列Ｃとベクトルｍinitが求まる。そこから（数２）の計算より調整すべきレーザ駆動パルスの記録エッジ位置移動量が計算される。
図４のように３つのストラテジ設定ＳＴ１，ＳＴ２，ＳＴ３で例えばランダムデータを記録したときのマークエッジ位置誤差を測定することにより、（数６）の行列Ｃとベクトルｍinitが求まる。そこから（数２）の計算より調整すべきレーザ駆動パルスの記録エッジ位置移動量が計算される。
調整処理のフローチャートを図５に示す。これはシステムコントローラ１１による制御処理となる。
システムコントローラ１１は、まずステップＦ１０１で変数ｉを１にセットする。そしてステップＦ１０２で、ライトストラテジ回路１２を第ｉのストラテジ設定（ＳＴｉ）に制御する。例えば上記ストラテジ設定ＳＴ１の状態、つまり始端記録波形移動量を１[ns]、終端記録波形移動量を１[ns]に設定する。
システムコントローラ１１は、この状態でステップＦ１０３の記録を実行させる。この場合システムコントローラ１１は、調整のための試し記録用のデータとしてランダムデータを発生させ、記録データエンコーダ１３に与える。このランダムデータが記録データエンコーダ１３で変調され、変調されたデータに応じてライトストラテジ回路１２においてレーザ駆動パルスとしての波形が成形される。このときストラテジ設定ＳＴ１に従って、始端記録エッジ位置シフト量ｗF＝１[ns]、終端記録エッジ位置シフト量ｗR＝１[ns]としてレーザ駆動パルスが生成される。そしてこのレーザ駆動パルスがレーザドライバ１０に供給され、光学ヘッド３内のレーザダイオードが発光駆動されて記録が行われる。
システムコントローラ１１は、まずステップＦ１０１で変数ｉを１にセットする。そしてステップＦ１０２で、ライトストラテジ回路１２を第ｉのストラテジ設定（ＳＴｉ）に制御する。例えば上記ストラテジ設定ＳＴ１の状態、つまり始端記録波形移動量を１[ns]、終端記録波形移動量を１[ns]に設定する。
システムコントローラ１１は、この状態でステップＦ１０３の記録を実行させる。この場合システムコントローラ１１は、調整のための試し記録用のデータとしてランダムデータを発生させ、記録データエンコーダ１３に与える。このランダムデータが記録データエンコーダ１３で変調され、変調されたデータに応じてライトストラテジ回路１２においてレーザ駆動パルスとしての波形が成形される。このときストラテジ設定ＳＴ１に従って、始端記録エッジ位置シフト量ｗF＝１[ns]、終端記録エッジ位置シフト量ｗR＝１[ns]としてレーザ駆動パルスが生成される。そしてこのレーザ駆動パルスがレーザドライバ１０に供給され、光学ヘッド３内のレーザダイオードが発光駆動されて記録が行われる。
続いてステップＦ１０４では、ステップＦ１０３で記録したデータの読出が行われる。システムコントローラ１１は、光学ヘッド３及び再生系各部を制御して再生動作を実行させ、このときマークエッジ位置誤差検出回路９で、マークエッジ位置誤差Mepeを検出させる。具体的には、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークのそれぞれについて、始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRを検出させる。
ステップＦ１０５では、変数ｉを確認し、ｉ≧３でなければ、ステップＦ１０６で変数ｉをインクリメントしてステップＦ１０２、Ｆ１０３，Ｆ１０４の処理を同様に実行する。
即ち、次に、始端記録エッジ位置シフト量ｗF＝−１[ns]、終端記録エッジ位置シフト量ｗR＝１[ns]とする第２のストラテジ設定ＳＴ２でレーザ駆動パルスが生成させ、ランダムデータの記録を実行させる。そしてそれを再生させて、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークのそれぞれについて、始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRを検出させる。
さらに、ステップＦ１０５からＦ１０６に進み、変数ｉをインクリメントしてステップＦ１０２、Ｆ１０３，Ｆ１０４の処理を同様に実行する。
即ち、次に、始端記録エッジ位置シフト量ｗF＝−１[ns]、終端記録エッジ位置シフト量ｗR＝−１[ns]とする第３のストラテジ設定ＳＴ３でレーザ駆動パルスが生成させ、ランダムデータの記録を実行させる。そしてそれを再生させて、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークのそれぞれについて、始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRを検出させる。
即ち、次に、始端記録エッジ位置シフト量ｗF＝−１[ns]、終端記録エッジ位置シフト量ｗR＝１[ns]とする第２のストラテジ設定ＳＴ２でレーザ駆動パルスが生成させ、ランダムデータの記録を実行させる。そしてそれを再生させて、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークのそれぞれについて、始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRを検出させる。
さらに、ステップＦ１０５からＦ１０６に進み、変数ｉをインクリメントしてステップＦ１０２、Ｆ１０３，Ｆ１０４の処理を同様に実行する。
即ち、次に、始端記録エッジ位置シフト量ｗF＝−１[ns]、終端記録エッジ位置シフト量ｗR＝−１[ns]とする第３のストラテジ設定ＳＴ３でレーザ駆動パルスが生成させ、ランダムデータの記録を実行させる。そしてそれを再生させて、２Ｔマーク、３Ｔマーク、４Ｔマークのそれぞれについて、始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRを検出させる。
以上の処理で、図４に示したストラテジ設定ＳＴ１、ＳＴ２，ＳＴ３のそれぞれで試し記録及び再生を行ったら、ステップＦ１０５からＦ１０７に進む。
ステップＦ１０７では、システムコントローラ１１は、それぞれのストラテジ設定における始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRと、検出された始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRを用いて、感度計算を行う。
これは、上記（数６）における行列Ｃ（Ｃ11、Ｃ12，Ｃ21，Ｃ22）とベクトルｍinit（ｍF_init、ｍR_init）を求める処理となる。
行列Ｃ（Ｃ11、Ｃ12，Ｃ21，Ｃ22）とベクトルｍinit（ｍF_init、ｍR_init）を求めたら、ステップＦ１０７では、上記（数２）の計算で最適ストラテジを算出する。
つまり、始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRがそれぞれ０となるような始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRを求める。
ここで算出された始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRは初期ストラテジに対する補正量となる。
従って、初期ストラテジについて始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRの補正を行ったストラテジ設定を最適ストラテジとする。
そしてシステムコントローラ１１はステップＦ１０９で、算出した最適ストラテジをライトストラテジ回路１２に設定する。
以上でライトストラテジの調整処理が完了する。
ステップＦ１０７では、システムコントローラ１１は、それぞれのストラテジ設定における始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRと、検出された始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRを用いて、感度計算を行う。
これは、上記（数６）における行列Ｃ（Ｃ11、Ｃ12，Ｃ21，Ｃ22）とベクトルｍinit（ｍF_init、ｍR_init）を求める処理となる。
行列Ｃ（Ｃ11、Ｃ12，Ｃ21，Ｃ22）とベクトルｍinit（ｍF_init、ｍR_init）を求めたら、ステップＦ１０７では、上記（数２）の計算で最適ストラテジを算出する。
つまり、始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRがそれぞれ０となるような始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRを求める。
ここで算出された始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRは初期ストラテジに対する補正量となる。
従って、初期ストラテジについて始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRの補正を行ったストラテジ設定を最適ストラテジとする。
そしてシステムコントローラ１１はステップＦ１０９で、算出した最適ストラテジをライトストラテジ回路１２に設定する。
以上でライトストラテジの調整処理が完了する。
ステップＦ１０７，Ｆ１０８の計算処理の考え方を、図６、図７，図８で説明する。
図６は２Ｔマーク、図７は３Ｔマーク、図８は４Ｔマークについてそれぞれ示している。
各図においては、始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRについて設定される上記の３つのストラテジ設定ＳＴ１、ＤＴ２，ＤＴ３を、それぞれ◇で示している。また実線でマークエッジ位置誤差について値の等高線を示している。等高線の値はそれぞれ下段に示すようになる。
例えば図６（ａ）の始端マークエッジ位置誤差ｍFについては、下段に示すように、始端マークエッジ位置誤差ｍFの値が０となるポイントから右斜め下方向に向かって＋、左斜め上に向かって−となっていくような等高線が描かれる。
図６は２Ｔマーク、図７は３Ｔマーク、図８は４Ｔマークについてそれぞれ示している。
各図においては、始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRについて設定される上記の３つのストラテジ設定ＳＴ１、ＤＴ２，ＤＴ３を、それぞれ◇で示している。また実線でマークエッジ位置誤差について値の等高線を示している。等高線の値はそれぞれ下段に示すようになる。
例えば図６（ａ）の始端マークエッジ位置誤差ｍFについては、下段に示すように、始端マークエッジ位置誤差ｍFの値が０となるポイントから右斜め下方向に向かって＋、左斜め上に向かって−となっていくような等高線が描かれる。
ステップＦ１０７での感度計算で行列Ｃを求めるときには、２種類の記録エッジ位置（始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗR）と上記２種類のマークエッジ位置誤差（始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍR）との関係が線形であると仮定することを前提としており、つまり等高線がリニアになると考えることで、図６（ａ）（ｂ）のように、始端マークエッジ位置誤差ｍF、終端マークエッジ位置誤差ｍRについて、等高線を描くことができる。
ここでステップＦ１０８での最適ストラテジの計算は、始端と終端のマークエッジ位置誤差ｍF、ｍRの２乗和が最小になる位置にストラテジを調整することになる。図６（ｃ）には、２乗和の等高線を示しているが、この２乗和が最小（例えば０）になるポイントを◆で示している。なお初期ストラテジを●で示している。
つまり初期ストラテジ●と最小ポイント◆の差分が、始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRとしての初期ストラテジに対する補正量となる。
この図６は２Ｔマークについて示しているが、３Ｔマーク、４Ｔマークについても、図７，図８に示すように、最終的に最適ストラテジのポイント（初期ストラテジからの補正量）が◆で示すポイントとして算出される。
このように各図に◆で示すポイントが、始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRとしての最適設定であり、システムコントローラ１１は初期ストラテジを補正して、◆で示される最適ストラテジをライトストラテジ回路１２に設定することになる。
ここでステップＦ１０８での最適ストラテジの計算は、始端と終端のマークエッジ位置誤差ｍF、ｍRの２乗和が最小になる位置にストラテジを調整することになる。図６（ｃ）には、２乗和の等高線を示しているが、この２乗和が最小（例えば０）になるポイントを◆で示している。なお初期ストラテジを●で示している。
つまり初期ストラテジ●と最小ポイント◆の差分が、始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRとしての初期ストラテジに対する補正量となる。
この図６は２Ｔマークについて示しているが、３Ｔマーク、４Ｔマークについても、図７，図８に示すように、最終的に最適ストラテジのポイント（初期ストラテジからの補正量）が◆で示すポイントとして算出される。
このように各図に◆で示すポイントが、始端記録エッジ位置シフト量ｗF、終端記録エッジ位置シフト量ｗRとしての最適設定であり、システムコントローラ１１は初期ストラテジを補正して、◆で示される最適ストラテジをライトストラテジ回路１２に設定することになる。
以上のようなレーザ駆動パルス調整により、短時間で精度よい調整が可能になり、記録再生装置の調整の効率化と記録性能の向上を実現できる。特にこの調整例の利点は、マーク長の分類をすべて同時に学習することにより他のマーク長のパルス移動の影響を小さくしていることである。
また調整すべき記録エッジ位置の種類を、レーザ駆動パルスの始端エッジと終端エッジの２種類というように少なくすることで、調整時間の短縮効果が大きい。
また調整すべき記録エッジ位置の種類を、レーザ駆動パルスの始端エッジと終端エッジの２種類というように少なくすることで、調整時間の短縮効果が大きい。
なお上記例にかかわらず、実際の調整においては、各マーク長の分類の数・組み合わせ、調整するパルス移動部の位置と組み合わせ、Ｃ行列を学習する際のパルスの動かし方（ストラテジ設定ＳＴ１、ＳＴ２，ＳＴ３）は自由に選択することができる。
試し記録を行う際のストラテジ設定については、例えば初期ストラテジの設定をその１つにしてもよい。
試し記録を行う際のストラテジ設定については、例えば初期ストラテジの設定をその１つにしてもよい。
［４．第２の調整例］
第２の調整例は、上記第１の調整例よりは時間がかかるが、より精度の高い調整を求める場合に好適な例である。特には、マークエッジ位置誤差と記録エッジのシフト量の関係としての上述した特性１、特性２、特性３を考慮した調整方式といえる。
第２の調整例は、上記第１の調整例よりは時間がかかるが、より精度の高い調整を求める場合に好適な例である。特には、マークエッジ位置誤差と記録エッジのシフト量の関係としての上述した特性１、特性２、特性３を考慮した調整方式といえる。
調整のために検出するマークエッジ位置は、上記＜２＞のように、５Ｔ以上のマークエッジ位置を基準として定義するものとし、熱干渉なども考慮して図９のように決定する。即ち、調整マークエッジ位置誤差として３０個の要素があるとする。
図９においては、マーク長／スペース長として、２Ｔ、３Ｔ、４Ｔ、５Ｔ以上に分類し、始端マークエッジ位置誤差としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により、１５通りに分類する。
即ち２Ｔスペース、２Ｔマークのときの始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mから、４Ｔスペース、５Ｔ以上マークのときの始端マークエッジ位置誤差Mepe4s≧5mまでの１５種類である。
また、終端マークエッジ位置誤差としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により、１５通りに分類する。
即ち２Ｔマーク、２Ｔスペースのときの終端マークエッジ位置誤差Mepe2m2sから、５Ｔ以上マーク、４Ｔスペースのときの終端マークエッジ位置誤差Mepe≧5m4sまでの１５種類である。
このように、マークエッジ位置誤差として、始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mから終端マークエッジ位置誤差Mepe≧5m4sまでの３０種類とする。
図９においては、マーク長／スペース長として、２Ｔ、３Ｔ、４Ｔ、５Ｔ以上に分類し、始端マークエッジ位置誤差としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により、１５通りに分類する。
即ち２Ｔスペース、２Ｔマークのときの始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mから、４Ｔスペース、５Ｔ以上マークのときの始端マークエッジ位置誤差Mepe4s≧5mまでの１５種類である。
また、終端マークエッジ位置誤差としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により、１５通りに分類する。
即ち２Ｔマーク、２Ｔスペースのときの終端マークエッジ位置誤差Mepe2m2sから、５Ｔ以上マーク、４Ｔスペースのときの終端マークエッジ位置誤差Mepe≧5m4sまでの１５種類である。
このように、マークエッジ位置誤差として、始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mから終端マークエッジ位置誤差Mepe≧5m4sまでの３０種類とする。
これに対して、調整する記録エッジ位置ｗは図１０のように３０要素とする。
始端記録エッジ位置誤差（シフト量）としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により、１５通りに分類する。即ち２Ｔスペース、２Ｔマークのときの始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから、４Ｔスペース、５Ｔ以上マークのときの始端記録エッジ位置誤差ｗ4s≧5mまでの１５種類である。
また、終端記録エッジ位置誤差（シフト量）としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により、１５通りに分類する。即ち２Ｔマーク、２Ｔスペースのときの終端記録エッジ位置誤差ｗ2m2sから、５Ｔ以上マーク、４Ｔスペースのときの終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4sまでの１５種類である。
このように、調整のための記録エッジ位置誤差ｗとして、始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4sまでの３０種類を決める。
始端記録エッジ位置誤差（シフト量）としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により、１５通りに分類する。即ち２Ｔスペース、２Ｔマークのときの始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから、４Ｔスペース、５Ｔ以上マークのときの始端記録エッジ位置誤差ｗ4s≧5mまでの１５種類である。
また、終端記録エッジ位置誤差（シフト量）としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により、１５通りに分類する。即ち２Ｔマーク、２Ｔスペースのときの終端記録エッジ位置誤差ｗ2m2sから、５Ｔ以上マーク、４Ｔスペースのときの終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4sまでの１５種類である。
このように、調整のための記録エッジ位置誤差ｗとして、始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4sまでの３０種類を決める。
つまりこの例は、上述した調整する記録エッジ位置の種類の数ｑ＝３０の例である。
ここで、マークエッジ位置誤差と記録エッジシフト量の関係を線形であるとし、上記（数１）のように動くとして考えると、この場合（数７）のかたちとなる。
即ち行列Ｃは３０×３０の行列となる。
この場合、３１通りのストラテジ設定で試し記録し、行列ＣとベクトルMepe_init（この場合ベクトルMepe_initは、Mepe2s2m_init・・・Mepe≧5m4s_initの３０とおり）を求める。
そして求めた行列ＣとベクトルMepe_initから上記（数２）の計算を行うことによって、最適ストラテジを求めることができる。つまり始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4sまでの３０種類が算出でき、初期ストラテジを基準として、マーク／スペース長で分類された各場合における最適な始端記録エッジ位置、終端記録エッジ位置を算出できる。
ここで、マークエッジ位置誤差と記録エッジシフト量の関係を線形であるとし、上記（数１）のように動くとして考えると、この場合（数７）のかたちとなる。
この場合、３１通りのストラテジ設定で試し記録し、行列ＣとベクトルMepe_init（この場合ベクトルMepe_initは、Mepe2s2m_init・・・Mepe≧5m4s_initの３０とおり）を求める。
そして求めた行列ＣとベクトルMepe_initから上記（数２）の計算を行うことによって、最適ストラテジを求めることができる。つまり始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4sまでの３０種類が算出でき、初期ストラテジを基準として、マーク／スペース長で分類された各場合における最適な始端記録エッジ位置、終端記録エッジ位置を算出できる。
調整処理は基本的には上記図５と同様である。但し、３１とおりのストラテジ設定ＳＴ１〜ＳＴ３１で試し記録を行うことになるため、ステップＦ１０５では、変数ｉ≧３１の確認処理を行って、試し記録と再生を３１回完了したか否かを判断する。
３１とおりのストラテジ設定ＳＴ１〜ＳＴ３１とは、例えば始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4sまでの各値としては、一例として次のように設定する。
ＳＴ１：ｗ2s2mからｗ≧5m4sをすべて０[ns]とする。
ＳＴ２：ｗ2s2mを１[ns]、他（ｗ3s2mからｗ≧5m4s）を０[ns]とする。
ＳＴ３：ｗ3s2mを１[ns]、他（ｗ2s2mとｗ4s2mからｗ≧5m4s）を０[ns]とする。
ＳＴ４：ｗ4s2mを１[ns]、他（ｗ2s2m、ｗ3s2mとｗ≧5s2mからｗ≧5m4s）を０[ns]とする。
ＳＴ５：ｗ≧5s2mを１[ns]、他（ｗ2s2mからｗ4s2mとｗ2s3mからｗ≧5m4s）を０[ns]とする。
・・・
ＳＴ３１：ｗ≧5m4sを１[ns]、他（ｗ2s2mからｗ≧5m3s）を０[ns]とする。
もちろん、３１とおりのストラテジ設定ＳＴ１〜ＳＴ３１は、これ以外にも考えられる。
３１とおりのストラテジ設定ＳＴ１〜ＳＴ３１とは、例えば始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4sまでの各値としては、一例として次のように設定する。
ＳＴ１：ｗ2s2mからｗ≧5m4sをすべて０[ns]とする。
ＳＴ２：ｗ2s2mを１[ns]、他（ｗ3s2mからｗ≧5m4s）を０[ns]とする。
ＳＴ３：ｗ3s2mを１[ns]、他（ｗ2s2mとｗ4s2mからｗ≧5m4s）を０[ns]とする。
ＳＴ４：ｗ4s2mを１[ns]、他（ｗ2s2m、ｗ3s2mとｗ≧5s2mからｗ≧5m4s）を０[ns]とする。
ＳＴ５：ｗ≧5s2mを１[ns]、他（ｗ2s2mからｗ4s2mとｗ2s3mからｗ≧5m4s）を０[ns]とする。
・・・
ＳＴ３１：ｗ≧5m4sを１[ns]、他（ｗ2s2mからｗ≧5m3s）を０[ns]とする。
もちろん、３１とおりのストラテジ設定ＳＴ１〜ＳＴ３１は、これ以外にも考えられる。
そして３１とおりのストラテジ設定ＳＴ１〜ＳＴ３１で記録再生を行い、それぞれについての３０種類のマークエッジ位置誤差（Mepe2s2m〜Mepe≧5m4s）を検出したら、ステップＦ１０７で３０×３０の行列ＣとベクトルMepe_init（Mepe2s2m_init・・・Mepe≧5m4s_init）を求める。そしてステップＦ１０８で、マークエッジ位置誤差（Mepe2s2m〜Mepe≧5m4s）が０になるような補正量としての記録エッジ位置誤差（ｗ2s2m〜ｗ≧5m4s）を求め、３０種類の記録エッジ位置としての最適な設定を算出し、ステップＦ１０９でライトストラテジ回路１２に設定する。
この第２の調整例では、より精度のよいライトストラテジ調整が可能になり、記録再生装置の記録性能の向上を実現できる。特にこの調整例の場合、マーク／スペース長で分類した組み合わせ毎に最適な始端記録エッジ位置、終端記録エッジ位置として最適ストラテジを設定することで、マークエッジ位置誤差と記録エッジのシフト量の関係の特性を考慮した精度の高い調整を実現するものとなる。
以上の第２の調整例を同様に適用できるマークエッジ位置誤差と記録エッジ位置誤差の種別の別の例を図１１，図１２に示す。この例は上述したｑ＝３２とする例である。
この例では、図１１に示すように、マークエッジ位置誤差として３２個の要素があるとする。この図１１においては、上記図９と同様に、マーク長／スペース長として、２Ｔ、３Ｔ、４Ｔ、５Ｔ以上に分類する。そして始端マークエッジ位置誤差としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により、１６通りに分類する。
即ち２Ｔスペース、２Ｔマークのときの始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mから、５Ｔ以上スペース、５Ｔ以上マークのときの始端マークエッジ位置誤差Mepe≧5s≧5mまでの１６種類である。
また、終端マークエッジ位置誤差としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により、１６通りに分類する。
即ち２Ｔマーク、２Ｔスペースのときの終端マークエッジ位置誤差Mepe2m2sから、５Ｔ以上マーク、５Ｔ以上スペースのときの終端マークエッジ位置誤差Mepe≧5m≧5sまでの１６種類である。
このように、調整のために検出するマークエッジ位置誤差として、始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mから終端マークエッジ位置誤差Mepe≧5m≧5sまでの３２種類とする。
この例では、図１１に示すように、マークエッジ位置誤差として３２個の要素があるとする。この図１１においては、上記図９と同様に、マーク長／スペース長として、２Ｔ、３Ｔ、４Ｔ、５Ｔ以上に分類する。そして始端マークエッジ位置誤差としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により、１６通りに分類する。
即ち２Ｔスペース、２Ｔマークのときの始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mから、５Ｔ以上スペース、５Ｔ以上マークのときの始端マークエッジ位置誤差Mepe≧5s≧5mまでの１６種類である。
また、終端マークエッジ位置誤差としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により、１６通りに分類する。
即ち２Ｔマーク、２Ｔスペースのときの終端マークエッジ位置誤差Mepe2m2sから、５Ｔ以上マーク、５Ｔ以上スペースのときの終端マークエッジ位置誤差Mepe≧5m≧5sまでの１６種類である。
このように、調整のために検出するマークエッジ位置誤差として、始端マークエッジ位置誤差Mepe2s2mから終端マークエッジ位置誤差Mepe≧5m≧5sまでの３２種類とする。
これに対して、調整する記録エッジ位置ｗは図１２のように３２要素とする。
始端記録エッジ位置誤差（シフト量）としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により、１６通りに分類する。即ち２Ｔスペース、２Ｔマークのときの始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから、５Ｔ以上スペース、５Ｔ以上マークのときの始端記録エッジ位置誤差ｗ≧5s≧5mまでの１６種類である。
また、終端記録エッジ位置誤差（シフト量）としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により、１６通りに分類する。即ち２Ｔマーク、２Ｔスペースのときの終端記録エッジ位置誤差ｗ2m2sから、５Ｔ以上マーク、５Ｔ以上スペースのときの終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m≧5sまでの１６種類である。
このように、調整のための記録エッジ位置誤差ｗとして、始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m≧5sまでの３２種類を決める（ｑ＝３２）。
始端記録エッジ位置誤差（シフト量）としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により、１６通りに分類する。即ち２Ｔスペース、２Ｔマークのときの始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから、５Ｔ以上スペース、５Ｔ以上マークのときの始端記録エッジ位置誤差ｗ≧5s≧5mまでの１６種類である。
また、終端記録エッジ位置誤差（シフト量）としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により、１６通りに分類する。即ち２Ｔマーク、２Ｔスペースのときの終端記録エッジ位置誤差ｗ2m2sから、５Ｔ以上マーク、５Ｔ以上スペースのときの終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m≧5sまでの１６種類である。
このように、調整のための記録エッジ位置誤差ｗとして、始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m≧5sまでの３２種類を決める（ｑ＝３２）。
ここで、マークエッジ位置誤差と記録エッジシフト量の関係を線形であるとし、上記（数１）のように動くとして考えると、この場合（数８）のかたちとなる。
即ち行列Ｃは３２×３２の行列となる。
この場合、３３通りのストラテジ設定で試し記録し、行列ＣとベクトルMepe_init（この場合ベクトルMepe_initは、Mepe2s2m_init・・・Mepe≧5m≧5s_initの３２とおり）を求める。
そして求めた行列ＣとベクトルMepe_initから上記（数２）の計算を行うことによって、最適ストラテジを求めることができる。つまり始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m≧5sまでの３２種類が算出でき、初期ストラテジを基準として、マーク／スペース長で分類された各場合における最適な始端記録エッジ位置、終端記録エッジ位置を算出できる。
即ち行列Ｃは３２×３２の行列となる。
この場合、３３通りのストラテジ設定で試し記録し、行列ＣとベクトルMepe_init（この場合ベクトルMepe_initは、Mepe2s2m_init・・・Mepe≧5m≧5s_initの３２とおり）を求める。
そして求めた行列ＣとベクトルMepe_initから上記（数２）の計算を行うことによって、最適ストラテジを求めることができる。つまり始端記録エッジ位置誤差ｗ2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m≧5sまでの３２種類が算出でき、初期ストラテジを基準として、マーク／スペース長で分類された各場合における最適な始端記録エッジ位置、終端記録エッジ位置を算出できる。
次に図１３，図１４で、マークエッジ位置誤差と記録エッジ位置誤差としての更に他の例を示す。この例は、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類としてｑ＝９４とする例であって、始端記録エッジについての直前のマーク長と直前のスペース長と直後のマーク長で分類される種別を含め、また終端記録エッジについての直前のマーク長と直後のスペース長と直後のマーク長で分類される種別を含める例である。
この例では、図１３に示すように、マークエッジ位置誤差として９４個の要素があるとする。
まず上記図９と同様に、マーク長／スペース長として、２Ｔ、３Ｔ、４Ｔ、５Ｔ以上に分類する。そして始端マークエッジ位置誤差としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により分類するが、さらに、その直前のスペースの前のマーク長（直前マーク長）として、そのマークが２Ｔの場合、３Ｔの場合、４Ｔ以上に場合に分類する。
また終端マークエッジ位置誤差としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により分類するが、さらに、その直後のスペースの後のマーク長（直後マーク長）として、そのマークが２Ｔの場合、３Ｔの場合、４Ｔ以上に場合に分類する。
つまり始端マークエッジ位置誤差としては、直前マーク、直前スペース、直後マークの組み合わせで分類し、終端マークエッジ位置誤差としては、直前マーク、直後スペース、直後マークの組み合わせで分類する。
まず上記図９と同様に、マーク長／スペース長として、２Ｔ、３Ｔ、４Ｔ、５Ｔ以上に分類する。そして始端マークエッジ位置誤差としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により分類するが、さらに、その直前のスペースの前のマーク長（直前マーク長）として、そのマークが２Ｔの場合、３Ｔの場合、４Ｔ以上に場合に分類する。
また終端マークエッジ位置誤差としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により分類するが、さらに、その直後のスペースの後のマーク長（直後マーク長）として、そのマークが２Ｔの場合、３Ｔの場合、４Ｔ以上に場合に分類する。
つまり始端マークエッジ位置誤差としては、直前マーク、直前スペース、直後マークの組み合わせで分類し、終端マークエッジ位置誤差としては、直前マーク、直後スペース、直後マークの組み合わせで分類する。
まず始端マークエッジ位置誤差としては、直前マークが２Ｔの場合として、直前スペースと直後マークの組み合わせのに応じてMepe(2m)2s2mから、Mepe(2m)≧5s≧5mまでの１６種類に分類する。なお（２ｍ）は直前マークが２Ｔの場合という意味で付している。
さらに直前マークが３Ｔの場合として、直前スペースと直後マークの組み合わせのに応じてMepe(3m)2s2mから、Mepe(3m)≧5s≧5mまでの１６種類に分類する。
さらに直前マークが４Ｔ以上の場合として、直前スペースと直後マークの組み合わせのに応じてMepe(≧4m)2s2mから、Mepe(≧4m)4s≧5mまでの１５種類に分類する。
このように始端マークエッジ位置誤差として４７通りに分類する。
さらに直前マークが３Ｔの場合として、直前スペースと直後マークの組み合わせのに応じてMepe(3m)2s2mから、Mepe(3m)≧5s≧5mまでの１６種類に分類する。
さらに直前マークが４Ｔ以上の場合として、直前スペースと直後マークの組み合わせのに応じてMepe(≧4m)2s2mから、Mepe(≧4m)4s≧5mまでの１５種類に分類する。
このように始端マークエッジ位置誤差として４７通りに分類する。
また終端マークエッジ位置誤差としては、直後マークが２Ｔの場合として、直前マークと直後スペースの組み合わせのに応じてMepe2m2s(2m)から、Mepe≧5m≧5s(2m)までの１６種類に分類する。なお（２ｍ）は直後マークが２Ｔの場合という意味で付している。
さらに、直後マークが３Ｔの場合として、直前マークと直後スペースの組み合わせのに応じてMepe2m2s(3m)から、Mepe≧5m≧5s(3m)までの１６種類に分類する。
さらに、直後マークが４Ｔ以上の場合として、直前マークと直後スペースの組み合わせのに応じてMepe2m2s(3m)から、Mepe≧5m4s(≧4m)までの１５種類に分類する。
このように終端マークエッジ位置誤差として４７通りに分類する。
さらに、直後マークが３Ｔの場合として、直前マークと直後スペースの組み合わせのに応じてMepe2m2s(3m)から、Mepe≧5m≧5s(3m)までの１６種類に分類する。
さらに、直後マークが４Ｔ以上の場合として、直前マークと直後スペースの組み合わせのに応じてMepe2m2s(3m)から、Mepe≧5m4s(≧4m)までの１５種類に分類する。
このように終端マークエッジ位置誤差として４７通りに分類する。
結局、調整に用いるマークエッジ位置誤差としては、始端マークエッジ位置誤差Mepe(2m)2s2mから終端マークエッジ位置誤差Mepe≧5m4s(≧4m)までの９４種類とする。
これに対して、調整する記録エッジ位置ｗは図１４のように９４要素とする。
始端記録エッジ位置誤差（シフト量）としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により分類するが、さらに、その直前のスペースの前のマーク長（直前マーク長）として、そのマークが２Ｔの場合、３Ｔの場合、４Ｔ以上に場合に分類する。
また終端記録エッジ位置誤差としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により分類するが、さらに、その直後のスペースの後のマーク長（直後マーク長）として、そのマークが２Ｔの場合、３Ｔの場合、４Ｔ以上に場合に分類する。
つまり始端記録エッジ位置誤差としては、直前マーク、直前スペース、直後マークの組み合わせで分類し、終端記録エッジ位置誤差としては、直前マーク、直後スペース、直後マークの組み合わせで分類する。
始端記録エッジ位置誤差（シフト量）としては、その直前のスペース長と直後のマーク長により分類するが、さらに、その直前のスペースの前のマーク長（直前マーク長）として、そのマークが２Ｔの場合、３Ｔの場合、４Ｔ以上に場合に分類する。
また終端記録エッジ位置誤差としては、その直前のマーク長と直後のスペース長により分類するが、さらに、その直後のスペースの後のマーク長（直後マーク長）として、そのマークが２Ｔの場合、３Ｔの場合、４Ｔ以上に場合に分類する。
つまり始端記録エッジ位置誤差としては、直前マーク、直前スペース、直後マークの組み合わせで分類し、終端記録エッジ位置誤差としては、直前マーク、直後スペース、直後マークの組み合わせで分類する。
始端記録エッジ位置誤差としては、直前マークが２Ｔの場合として、直前スペースと直後マークの組み合わせのに応じてｗ(2m)2s2mから、ｗ(2m)≧5s≧5mまでの１６種類に分類する。
さらに直前マークが３Ｔの場合として、直前スペースと直後マークの組み合わせのに応じてｗ(3m)2s2mから、ｗ(3m)≧5s≧5mまでの１６種類に分類する。
さらに直前マークが４Ｔ以上の場合として、直前スペースと直後マークの組み合わせのに応じてｗ(≧4m)2s2mから、ｗ(≧4m)4s≧5mまでの１５種類に分類する。
このように調整のための始端記録エッジ位置誤差ｗとして４７種類を決める。
さらに直前マークが３Ｔの場合として、直前スペースと直後マークの組み合わせのに応じてｗ(3m)2s2mから、ｗ(3m)≧5s≧5mまでの１６種類に分類する。
さらに直前マークが４Ｔ以上の場合として、直前スペースと直後マークの組み合わせのに応じてｗ(≧4m)2s2mから、ｗ(≧4m)4s≧5mまでの１５種類に分類する。
このように調整のための始端記録エッジ位置誤差ｗとして４７種類を決める。
また終端記録エッジ位置誤差としては、直後マークが２Ｔの場合として、直前マークと直後スペースの組み合わせのに応じてｗ2m2s(2m)から、ｗ≧5m≧5s(2m)までの１６種類に分類する。
さらに、直後マークが３Ｔの場合として、直前マークと直後スペースの組み合わせのに応じてｗ2m2s(3m)から、ｗ≧5m≧5s(3m)までの１６種類に分類する。
さらに、直後マークが４Ｔ以上の場合として、直前マークと直後スペースの組み合わせのに応じてｗ2m2s(3m)から、ｗ≧5m4s(≧4m)までの１５種類に分類する。
このように調整のための終端記録エッジ位置誤差ｗとして４７種類を決める。
さらに、直後マークが３Ｔの場合として、直前マークと直後スペースの組み合わせのに応じてｗ2m2s(3m)から、ｗ≧5m≧5s(3m)までの１６種類に分類する。
さらに、直後マークが４Ｔ以上の場合として、直前マークと直後スペースの組み合わせのに応じてｗ2m2s(3m)から、ｗ≧5m4s(≧4m)までの１５種類に分類する。
このように調整のための終端記録エッジ位置誤差ｗとして４７種類を決める。
結局、調整する記録エッジ位置誤差ｗとしては、始端記録エッジ位置誤差ｗ(2m)2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4s(≧4m)までの９４種類となる（ｑ＝９４）。
ここで、マークエッジ位置誤差と記録エッジシフト量の関係を線形であるとし、上記（数１）のように動くとして考えると、この場合（数９）のかたちとなる。
即ち行列Ｃは９４×９４の行列となる。
この場合、９５通りのストラテジ設定で試し記録し、行列ＣとベクトルMepe_init（この場合ベクトルMepe_initは、Mepe(2m)2s2m_init・・・Mepe≧5m≧5s(≧4m)_initの９４とおり）を求める。
そして求めた行列ＣとベクトルMepe_initから上記（数２）の計算を行うことによって、最適ストラテジを求めることができる。つまり始端記録エッジ位置誤差ｗ(2m)2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4s(≧4m)までの９４種類が算出でき、初期ストラテジを基準として、マーク／スペース長で分類された各場合における最適な始端記録エッジ位置、終端記録エッジ位置を算出できる。
即ち行列Ｃは９４×９４の行列となる。
この場合、９５通りのストラテジ設定で試し記録し、行列ＣとベクトルMepe_init（この場合ベクトルMepe_initは、Mepe(2m)2s2m_init・・・Mepe≧5m≧5s(≧4m)_initの９４とおり）を求める。
そして求めた行列ＣとベクトルMepe_initから上記（数２）の計算を行うことによって、最適ストラテジを求めることができる。つまり始端記録エッジ位置誤差ｗ(2m)2s2mから終端記録エッジ位置誤差ｗ≧5m4s(≧4m)までの９４種類が算出でき、初期ストラテジを基準として、マーク／スペース長で分類された各場合における最適な始端記録エッジ位置、終端記録エッジ位置を算出できる。
以上、実施の形態について説明してきたが、本発明は上記例に限定されず、装置構成や調整処理手順、調整する記録エッジ位置の設定、検出するマークエッジ位置誤差の設定などにおいて多様な変形例が考えられる。
また評価値とするマークエッジ位置は、再生波形とスライスレベルとのクロス点と再生クロックとの時間誤差とする以外に、例えば次のような評価値とすることも可能である。即ち、ビタビ復号に於いて、復号ビット列のゼロクロス部前後のマーク・スペースの組み合わせ毎に、最尤パスとその１ビットシフト（エッジシフト）に相当する対抗パスとのメトリック差の分布を統計処理し、エッジ及び振幅ずれの評価指標としたものでもよい。
また第１又は第２の調整例のような本発明に係る調整処理を複数回繰り返すことでより精度よくストラテジを調整することができる。
また評価値とするマークエッジ位置は、再生波形とスライスレベルとのクロス点と再生クロックとの時間誤差とする以外に、例えば次のような評価値とすることも可能である。即ち、ビタビ復号に於いて、復号ビット列のゼロクロス部前後のマーク・スペースの組み合わせ毎に、最尤パスとその１ビットシフト（エッジシフト）に相当する対抗パスとのメトリック差の分布を統計処理し、エッジ及び振幅ずれの評価指標としたものでもよい。
また第１又は第２の調整例のような本発明に係る調整処理を複数回繰り返すことでより精度よくストラテジを調整することができる。
１ 光ディスク、３ 光学ヘッド、５ Ａ／Ｄ変換器、６ ＰＬＬ回路、７ ＰＲ等化回路、８ 最尤復号回路、９ マークエッジ位置誤差検出回路、１０ レーザドライバ、１１ システムコントローラ、１２ ライトストラテジ回路
Claims (7)
- 光記録媒体に対してレーザ光を照射して、光記録媒体上でマーク及びスペースで表現される情報の書込及び読出を行う光学ヘッド手段と、
記録する情報に応じたレーザ駆動パルスを生成して上記光学ヘッド手段に供給し、上記光学ヘッド手段に、記録のためのレーザ光照射を実行させるレーザ駆動パルス生成手段と、
上記光学ヘッド手段により上記光記録媒体から読み出した信号から、上記マークのエッジ位置の誤差を検出するマークエッジ誤差検出手段と、
上記レーザ駆動パルス生成手段で生成するレーザ駆動パルスの調整設定を行う調整制御手段とを備え、
上記調整制御手段は、上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別がｑ種類の場合（ｑは２以上の整数）に、少なくともｑ＋１とおりの記録エッジ位置シフト量の設定により光記録媒体への調整のため少なくともｑ＋１回の記録動作を実行させるとともに、各記録エッジシフト量の設定により記録した情報を上記マークエッジ誤差検出手段により読み出し、上記ｑ＋１種類以上の記録エッジ位置シフト量と上記ｑ＋１種類以上のマークエッジ位置誤差との関係が線形であると仮定して、ｑ種類のマークエッジ位置誤差の２乗和が最小となるｑ種類の記録エッジ位置シフト量を演算し、当該演算結果を基にレーザ駆動パルスの調整設定を決定して、上記レーザ駆動パルス生成手段に設定する
記録再生装置。 - 上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別は、レーザ駆動パルスの始端エッジと終端エッジの２種類であり、
上記調整制御手段は、少なくとも３とおりの記録エッジ位置シフト量の設定状態で、上記調整のための記録動作を実行させることを特徴とする請求項１に記載の記録再生装置。 - 上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの始端エッジについての直前のスペース長と直後のマーク長で分類される種別を含めることを特徴とする請求項１に記載の記録再生装置。
- 上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの終端エッジについての直前のマーク長と直後のスペース長で分類される種別を含めることを特徴とする請求項１又は請求項３に記載の記録再生装置。
- 上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの始端エッジについての直前のマーク長と直後のマーク長で分類される種別を含めることを特徴とする請求項１、請求項３、又は請求項４に記載の記録再生装置。
- 上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別としてのｑ種類にレーザ駆動パルスの終端エッジについての直前のマーク長と直後のマーク長で分類される種別を含めることを特徴とする請求項１、請求項３、請求項４、又は請求項５に記載の記録再生装置。
- 光記録媒体に対してレーザ光を照射して、光記録媒体上でマーク及びスペースで表現される情報の記録を行う記録装置のレーザ駆動パルス調整方法として、
上記レーザ駆動パルスにおいて調整すべき記録エッジ位置の種別がｑ種類の場合（ｑは２以上の整数）に、少なくともｑ＋１とおりの記録エッジ位置シフト量の設定により光記録媒体への調整のため少なくともｑ＋１回の記録動作を実行させる調整用記録ステップと、
上記調整用記録ステップで各記録エッジシフト量の設定により記録した情報を上記マークエッジ誤差検出手段により読み出して、上記ｑ＋１種類以上の記録エッジ位置と上記ｑ＋１種類以上のマークエッジ位置誤差との関係が線形であると仮定して、ｑ種類のマークエッジ位置誤差の２乗和が最小となるｑ種類の記録エッジシフト量位置を演算するステップと、
上記演算結果を基にレーザ駆動パルスの調整設定を決定する演算ステップと、
上記演算ステップで決定された調整設定で上記レーザ駆動パルスが生成されるように設定する設定ステップと、
を実行するレーザ駆動パルス調整方法。
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