JP4269683B2 - 入力装置付電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は入力装置を前面側に備えた入力装置付電気光学装置に係り、特に、光学的な特殊機能を持たせた装置構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、コンピュータの手書き入力装置として使用されるタブレット装置や、携帯型情報端末(PDA)などに使用されるタッチパネル型入力装置としては、抵抗膜方式、電磁誘導方式、静電容量方式などの各種の構造を有するものが知られている。上記の入力装置は、多くの場合、液晶表示パネルなどの電気光学装置の表示面の前面側に重ねあわされるように配置された状態で使用される。
【0003】
このような電気光学装置においては、通常、電気光学装置を構成するガラス等の基板上にタッチパネル型入力装置を直接接着固定したり、或いは、当該基板上に両面接着シートなどの接着シートを介在させて入力装置を固定したりしていた。また、電気光学装置と入力装置とを透明弾性部材を介在させた状態で固定する装置も提案されている(特許文献1参照)。
【0004】
上記のように入力装置を重ね合わせた電気光学装置の一例として、図8には、従来の入力装置付電気光学装置100の外観を示す。この装置100では、電気光学装置110と、入力装置120とが相互に重ねあわされた状態で固定されている。電気光学装置110は、ガラス等で構成される基板111,112が図示しないシール材により所定のギャップを介して貼り合わされ、当該ギャップ内に図示しない液晶が封入されたものである。基板111,112には図示しない複数の電極が形成され、これらの電極によって液晶に電界を印加できるように構成されている。電極には配線が導電接続され、この配線は、一方の基板111に設けられた基板張出部111T上に引き出され、この基板張出部111T上に実装されたフレキシブル配線基板115に導電接続されている。
【0005】
また、入力装置120には、電気光学装置110の基板112上に固定されたガラス等で構成される基板121と、この基板121上に接着固定された樹脂フィルム122と、さらにその上に所定間隔で対向する樹脂フィルム123とが積層配置されている。樹脂フィルム122,113には、互いに対向する内面上に透明電極が形成されており、一方の透明電極の所定方向両側には一対の金属電極が導電接続され、他方の透明電極の所定方向と直交する方向両側にも一対の金属電極が導電接続されている。これらの金属電極は、基板121と樹脂フィルム122との間に介挿されたフレキシブル配線基板125に導電接続されている。
【0006】
この相互に対向する上記透明電極同士は、通常時においてはスペーサなどによって相互に接触しないように構成されている。そして、入力装置120の表面にペンや指などを接触させると、樹脂フィルム123が変形してその内面上の透明電極が、対向する樹脂フィルム122の内面上の透明電極に接触し、上記フレキシブル配線基板125を通して上記金属電極間に通電を行うことによって、上記の接触点の上記所定方向及びこれに直交する方向の位置に応じた抵抗値を検出できるように構成されている。
【0007】
【特許文献1】
国際公開パンフレットWO98/22867
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の入力装置付電気光学装置100においては、電気光学装置110によって構成される表示画面が入力装置120を通して視認できるように構成されているが、表示画面に画像を表示しない場合、表示画面全体が黒色になり、面白味に欠けるとともに、観察側に透明な入力装置が配置されていることによって、表示画面の外観が悪化するという問題点がある。
【0009】
また、従来の入力装置の検出機構には、例えば抵抗膜としてITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体が形成されることが多いが、透明導電体は通常柔軟性に欠けるため、亀裂や剥離などが生じやすいため、耐久性を高めることが難しいという問題点もある。
【0010】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、入力装置付電気光学装置において、表示画面の非表示状態における外観を向上させ、インパクトのある表示画面を有する装置構成を提供することにある。また、もう一つの課題は、入力装置の耐久性を高めることのできる新規の装置構成を提供することにある。
【0011】
上記課題を解決するために本発明の入力装置付電気光学装置は、表面の被接触位置を検出可能な入力装置と、前記入力装置を通して視認可能な表示を構成する電気光学装置とを有する入力装置付電気光学装置において、前記入力装置は該入力装置の検出構造に含まれる導体層を備え、前記導体層は光透過性を有する反射層を兼ねることを特徴とする。
【0012】
この発明によれば、入力装置を通して視認可能な表示を構成する電気光学装置とを有する入力装置付電気光学装置において、入力装置には入力装置の検出構造に含まれる導体層を備え、導体層が光透過性を有する反射層を兼ねることによって、外光を半透過反射層によって観察側に反射させることができるので、外光に基づいて光透過性を有する反射層により生ずる反射光が相対的に強く、表示光が相対的に弱いか、或いは、表示光が存在しない場合には、上記反射光によって表示画面が鏡面状態となり、ミラーとして用いるこが可能になる。また、上記反射光が相対的に弱く、表示光が相対的に強い場合には、表示光によって所定の表示を視認することができる。したがって、非表示状態においては表示画面が鏡面状になることにより、インパクトのある外観を得ることができる。また、非表示状態において、表示画面がミラー状に構成されるため、電気光学装置の手前側に配置された透明な入力装置の存在が気になりにくくなり、入力装置が手前に存在するという外観上の欠点を目立ちにくくすることができる。また、前記入力装置の検出構造に含まれる導体層を光透過性を有する反射層が兼ねていることにより、入力装置の構造を簡易化するこができるとともに、導体層を透明導電体で形成した場合に較べて、その耐久性を高めることができる。特に、光透過性を有する反射層(導体層)を金属薄膜で構成した場合には、透明導電体よりも変形に対する耐久性を容易に高めることができる。
【0013】
ここで、光透過性を有する反射層としては、たとえば、金属などの反射性材料を光が透過可能な程度に薄く形成したもの、微細な細孔が多数分散形成されたもの、所定方向に振動面を有する偏光成分を反射し、所定方向と直交する方向に振動面を有する偏光成分を透過する反射偏光板などを用いることができる。
【0014】
本参考発明において、前記光透過性を有する反射層は、前記入力装置に設けられていることが好ましい。これによれば、光透過性を有する反射層が入力装置に設けられていることによって、光透過性を有する反射層の観察側に配置される構造の厚さを低減することができるので、観察される鏡面状態をより良好に構成することができ、当該構造に起因する鏡面反射像のぶれを低減することができる。
【0015】
本参考発明において、前記光透過性を有する反射層は、前記入力装置の観察側に配置された表面層よりも前記電気光学装置側に配置されていることが好ましい。光透過性を有する反射層の観察側に少なくとも表面層が配置されていることにより、光透過性を有する反射層が外部に露出していないため、光透過性を有する反射層の劣化や損傷を低減することができる。上記表面層は、入力装置の検出構造の一部を構成するものであってもよく、また、入力装置の検出構造とは別の(すなわち検出機能とは無関係の)表面保護膜などであってもよい。
【0016】
本参考発明において、前記入力装置は硬質の基板上に可撓性の入力層を含む検出構造を有し、前記光透過性を有する反射層は前記基板と前記検出構造との間に配置されていることが好ましい。これによれば、半透過反射層が硬質の基板と検出構造との間に配置されていることにより、光透過性を有する反射層が背後にある基板によって支持されていることになるので、入力装置に及ぼされる接触圧に起因する光透過性を有する反射層の撓み等の変形を低減することができ、これによって光透過性を有する反射層の耐久性を向上させることができる。ここで、上記入力層とは、入力装置の検出機能を実現するための検出構造のうち、入力装置に対する入力操作を実質的に直接受ける部分(表面層)を言う。
【0017】
本発明において、前記光透過性を有する反射層は、前記入力装置の検出構造に含まれる導体層を兼ねていることが好ましい。これによれば、入力装置の検出構造に含まれる導体層を光透過性を有する反射層が兼ねていることにより、入力装置の構造を簡易化することができるとともに、導体層を透明導電体で形成した場合に較べて、その耐久性を高めることができる。特に、光透過性を有する反射層(導体層)を金属薄膜で構成した場合には、透明導電体よりも変形に対する耐久性を容易に高めることができる。
【0018】
本発明において、前記入力装置は、微小幅の絶縁体を挟んで隣接配置された露出表面をそれぞれ備えた第1導体及び第2導体を含む検知体と、当該検知体の観察側に配置され、前記検知体の表面に対向する可撓性の導体層とを具備し、当該導体層が前記絶縁体の両側の前記第1導体と前記第2導体とに接触することにより、前記第1導体と前記第2導体とが相互に導通するように構成され、前記導体層が前記光透過性を有する反射層であることが好ましい。これによれば、観察側に配置された導体層が光透過性を有する反射層であることによって、入力装置の構成要素の数を低減することができ、構造を簡易化することができるとともに、導体層として透明導電体を用いる場合に較べて、その耐久性を高めることができる。特に、光透過性を有する反射層を金属薄膜で構成した場合には、透明導電体よりも変形に対する耐久性を容易に高めることができる。
【0019】
本参考発明において、前記光透過性を有する反射層の可視光に対する平均光透過率は、約10〜40%の範囲内であることが好ましい。これによれば、外光の存在によって十分な鏡面状態を形成することが可能になるとともに、実用上、表示画像を十分に視認可能に構成できる。
【0020】
上記各発明において、前記電気光学装置としては、特に液晶表示装置が好ましいが、有機EL(エレクトロルミネッセンス)装置、PDP(プラズマディスプレイパネル)、FED(フィールドエミッションディスプレイ)なども用いることができる。
【0021】
また、本発明の電子機器は、上記いずれかに記載の入力装置付電気光学装置と、前記入力装置における前記被接触位置を検出する位置検出手段と、前記電気光学装置を制御する表示駆動手段とを有するものである。電子機器としては、特に、半透過反射層により形成される鏡面を手軽に用いることができるという点で、携帯電話、携帯型情報端末、電子腕時計などの携帯型電子機器であることが好ましい。
【0022】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る入力装置付電気光学装置の実施形態について詳細に説明する。
【0023】
[第1実施形態]
図1は、本参考発明に係る参考実施形態の入力装置付電気光学装置及び電子機器を示す概略構成図である。この入力装置付電気光学装置200は、電気光学装置210と、入力装置220とが相互に重ねあわされたものである。電気光学装置210には、ガラスやプラスチック等で構成される透明な基板211と212とが図示しないシール材等によって貼り合わされ、その間に図示しない電気光学物質(図示例の構成では液晶)が封入されている。基板211の端部には、基板212の外形よりも外側に張り出した基板張出部211Tが形成されている。この基板張出部211Tには、電気光学装置210の表示領域A内から複数の配線210aが引き出されている。これらの配線210aの先端には入力端子210bが形成されている。これらの入力端子210bには、フレキシブル配線基板などで構成される配線部材215が導電接続されている。上記入力端子210bと配線部材215とは、好ましくは異方性導電膜(ACF)によって導電接続される。なお、上記基板211,212の外面上には、偏光板213,214(214については図3を参照)が配置されている。
【0024】
入力装置220は、ガラス等で構成された透明な基板221と、この基板221上に配置された透明な検出フィルム222と、その上に配置された絶縁枠223と、さらにその上に配置された検出フィルム224とを有している。また、入力装置220の内部には、図示X方向両側に配置された一対のX電極220X,220Xと、図示Y方向両側に配置された一対のY電極220Y,220Yとが配置されている。また、入力装置の観察側には、透明フィルム或いは透明コーティング層などによって構成された保護膜227が設けられている。この保護膜227の背後には、金属薄膜などによって構成された、光透過性を有する反射層としての半透過反射層224Rが配置されている。
【0025】
入力装置220の基板221と、検出フィルム222との間には、上記X電極220X,220X及びY電極220Y,220Yにそれぞれ導電接続されたフレキシブル配線基板等で構成される配線部材225が実装されている。
【0026】
入力装置220は、固定部材230によって電気光学装置210に重なるように固定されている。この固定部材230としては、たとえば、両面粘着テープや接着層などを用いることができる。
【0027】
上記の配線部材215は、電子機器の内部に設置されたコネクタ251に接続されている。このコネクタ251は、表示駆動回路290に導電接続されている。また、上記の配線部材225は、コネクタ252に接続されている。このコネクタ252は、位置検出回路280に導電接続されている。表示駆動回路290及び位置検出回路280は、CPU270にそれぞれ接続されている。CPU270は、記憶装置であるROM271及びRAM272に接続されている。表示駆動回路290は、CPU270からの指令に基づいて表示信号等を送出し、電気光学装置210の表示駆動を行うように構成されている。この表示駆動回路290の詳細は後述する。また、位置検出回路280は、上記配線部材225を介して上記のX電極220X,220X及びY電極220Y,220Yに電圧を供給するとともに、これらのX電極220X,220X及びY電極220Y,220Yからの検出信号を受け、この検出信号に応じた被接触位置の座標データをCPU270に送出するように構成されている。CPU270は、ROM271から呼び出されたプログラムに応じて動作し、RAM271に一時的にデータを保存させながら、上記表示駆動回路290及び位置検出回路280を適宜に制御する。
【0028】
図2は、上記入力装置220の概略構成を示す分解斜視図である。基板221の表面上には、複数の導電接続部221a,221bが形成されている。これらの導電接続部221a,221bは、たとえば、基板221の表面上に形成された銅箔、導電メッキ層、導電印刷層などの各種導体によって構成できる。導電接続部221a,221bからはそれぞれ配線パターンが引き出され、これらの配線パターンは基板端部に集合し、そこに複数の検出端子221sが配列状態となるように形成されている。これらの検出端子221sは、図1に示す上記配線部材225に導電接続される。
【0029】
検出フィルム222,224は、それ自体が所定の抵抗率を有する電気伝導性の導電素材によって構成されていてもよく、或いは、樹脂フィルムなどの絶縁性基体上に透明導電膜などを形成したものであってもよい。後者の場合には、透明導電膜は、検出フィルム222と224の相互に対向する内面上にそれぞれ形成される。検出フィルム222には、上記導電基材や透明導電膜に導電接続された一対のX電極220Xが、図示X方向の両端部に形成されている。また、検出フィルム224には、上記導電基材や透明導電膜に導電接続された一対のY電極220Yが,図示Y方向の両端部に形成されている。
【0030】
絶縁枠223は、上記検出フィルム222と224との間に介挿される。絶縁枠223は、検出フィルム222と224の外周部において絶縁スペーサとして機能し、検出フィルム222,224の対向する導電基材又は透明導電膜同士の絶縁性及び間隔を確保している。また、対向する導電基材又は透明電極膜の間には、絶縁性のスペーサ226が分散配置されていてもよい。
【0031】
X電極220Xは、検出フィルム222に設けられた導通部222bを介して基板221の導電接続部221bに導電接続される。また、Y電極220Yは、絶縁枠223に設けられた導通部223aと、検出フィルム222の導通部222aを介して基板221の導電接続部221aに導電接続される。これらの各導通部は、いずれも貫通孔とその内部に配置された導電材とによって構成できる。
【0032】
また、検出フィルム224の上面には、上記の半透過反射層224Rが形成されている。この半透過反射膜224Rは、たとえば、アルミニウム、銀、クロムなどの金属、或いは、これらの金属を主成分とする合金などを材料とする金属薄膜で構成される。半透過反射層224Rは、可視光の一部を反射するとともに、他の一部を透過するように構成されたものであり、その光透過率は、たとえば、10〜40%程度に設定されることが好ましい。この光透過率の範囲を下回ると、電気光学装置210の表示が視認されにくくなり、また、当該範囲を上回ると、鏡面状態が得られにくくなる。この光透過率は、金属薄膜の厚さを変えることによって容易に調整できる。通常、金属薄膜の厚さは1〜50μm程度である。金属薄膜は、蒸着法、スパッタリング法などによって形成することができる。半透過反射膜224Rとしては、上記金属薄膜のほかに、光屈折率の異なる複数の透明層を積層させた光学多層膜、光反射性を有する合成樹脂薄膜、反射偏光板などを用いることができる。
【0033】
特に、上記のように半透過反射層を金属薄膜で構成する場合、入力装置220の検出構造の一部(入力装置の検出機能に必要な構成要素)の表面上に形成することが、構成を簡易なものとすることができるとともに、入力装置の厚さの増大を抑制する上で好ましい。
【0034】
半透過反射層224Rとしては、分散配置された細孔を多数備えた光反射層で構成することもできる。この場合、背後にある電気光学装置210の表示を視認可能とするために、電気光学装置210の画素(独立して光学状態を制御可能な最小単位)毎に対応した細孔が形成されていることが好ましい。
【0035】
また、半透過反射層としては反射偏光板を用いることもできる。反射偏光板は、或る所定方向に振動面を有する偏光成分を反射させ、その所定方向と直交する方向に振動面を有する偏光成分を透過させるといった光学特性を備えたものである。この反射偏光板としては、異なる複屈折性を備えた複数の薄膜を積層させた多層膜や、コレステリック液晶層の前後に1/4波長板を配置したものなどが挙げられる。より具体的には、たとえば、スリーエム社製の「D−BEF」という製品などがある。なお、半透過反射層として反射偏光板を用いる場合であって、偏光子及び検光子(共に通常の吸収型の偏光板を用いることが一般的である。)を用いた液晶表示装置を電気光学装置として用いる場合には、検光子の偏光透過軸と、反射偏光板の偏光透過軸とを相互に一致させるか、或いは、一致しない場合でも、両軸の角度が±15度以下であることが必要となる。また、この場合に、検光子を省略して反射偏光板で検光子を兼ねることも可能である。
【0036】
上記のように構成された入力装置220においては、保護膜227の表面をペン先や指先によって軽く押圧すると、入力層である検出フィルム224が局部的に撓み、その内面は、対向する検出フィルム222の内面に接触する。この接触点の位置は、以下のようにして検出できる。まず、図1に示す位置検出回路280により、一対のX電極220X、220Xの間に所定の電圧を印加すると、検出フィルム222には、図示X方向に所定の電位勾配が形成される。したがって、検出フィルム222の内面が上記接触点にて検出フィルム224の内面に接触すると、検出フィルム224の電位は上記接触点の図示X方向の座標に対応した値となるので、この値を検出フィルム224に設けられたY電極220Yを介して検出することにより、接触点のX座標が決定される。一方、位置検出回路280により、一対のY電極220Y,220Yの間に所定の電圧を印加する。これによって、検出フィルム224には、図示Y方向に所定の電位勾配が形成される。したがって、検出フィルム224の内面が上記接触点にて検出フィルム222の内面に接触すると、検出フィルム222の電位は上記接触点の図示Y方向の座標に対応した値となるので、この値を検出フィルム222に設けられたX電極220Xを介して検出することにより、接触点のY座標が決定される。そして、このようなX座標の検出とY座標の検出とを常時繰り返し行うことによって、入力装置220に対する被接触位置(すなわち、ペンや指による接触を受けた位置)の座標をリアルタイムで検出できる。
【0037】
図3は、本参考実施形態の入力装置付電気光学装置の完成状態の構成例を示すものである。この入力装置付電気光学装置200では、電気光学装置210が透過型の液晶表示装置であり、電気光学装置210の背後にバックライト240が配置されている。このバックライト240は、LED(発光ダイオード)等の光源241と、アクリル樹脂などによって構成される導光板242と、導光板242の背後に配置される光反射層243とを備えている。このようなサイドライト型のバックライトを用いることによって、装置全体の厚さの増大をある程度抑制できる。
【0038】
本参考実施形態では、半透過反射層224Rによって、外部から入力装置220内に入射した光の一部が反射され、反射光として外部へ出射される。したがって、外部が明るい、或いは、バックライト240の照度が低い、若しくは、バックライト240が消灯しているなどの理由により、当該反射光が強く、電気光学装置から出射される表示光が弱い場合には、表示画面は主として鏡面状に視認される。また、周囲が暗い、バックライト240が点灯しているなどの理由により、上記反射光が弱く、電気光学装置から出射される表示光が強い場合には、表示画面からは主として電気光学装置による所定の表示画像が視認される。したがって、表示画面によって所定の画像を視認していないときでも、インパクトのある外観を得ることができる。また、図8に示す従来構造では、電気光学装置210が消灯している状態にある(すなわち非表示時である)場合に、その消灯された表示画面の手前側に透明な入力装置220が視認されて外観を悪化させ、違和感を与えることがあるが、本実施形態では、半透過反射層224Rによる反射光によって、このような外観上の欠点を目立ちにくくすることができる。
【0039】
なお、図3に示すように、検出フィルム224の表面上には、さらに保護膜227を配置したほうが好ましい。保護膜227を配置することによって、半透過反射層224Rが直接ペンや指などに触れず、また、半透過反射層224Rが直接外部に露出していないため、半透過反射層224Rが磨耗したり、損傷したり、変質したりすることを低減でき、耐久性を向上させることができるからである。
【0040】
[第1実施形態]
次に、図4を参照して、本発明に係る第1実施形態について説明する。この実施形態の入力装置付電気光学装置300には、基本的に、上記第1実施形態の入力装置と同様の電気光学装置310(基板311,312、配線部材315)及び入力装置320(基板321、検出フィルム322,324、絶縁枠323、スペーサ326)が形成されている。さらに、バックライト340は、光源341、導光板342及び光反射層343を備え、上記第1実施形態のバックライト240と全く同様である。また、固定部材330も上記第(1)実施形態と同様のものである。
【0041】
ただし、本実施形態の入力装置320においては、半透過反射層321Rが、基板321と検出フィルム322との間に配置されている点で、上記第1実施形態とは異なる。
【0042】
この実施形態において、半透過反射層321Rは、基板321の表面上に被着された金属薄膜などによって構成される。この半透過反射層321Rについても、上記第1実施形態と同様の他の素材で構成してもかまわない。
【0043】
本実施形態の半透過反射層321Rは、比較的硬質の基板321に隣接して配置されているため、入力装置320の表面にペンや指などが触れて所定の接触圧が加えられても基板321によって支持されているためほとんど変形せず、その結果、損傷を受けにくくなる。したがって、耐久性を向上させることができる。特に、半透過反射層321Rが基板321上に被着されていることによって、その耐久性をさらに高めることができる。
【0044】
[第2実施形態]
次に、上記各実施形態に適用可能な他の入力装置の構成例について、図5及び図6を参照して説明する。図5は、本実施形態の入力装置620の構成を模式的に示す分解斜視図、図6は、同入力装置620の構造を模式的に示す概略断面図である。
【0045】
この入力装置620は、検出フィルム622、絶縁フィルム623、検出フィルム624、絶縁枠625、検出フィルム626が順次に積層されたものである。検出フィルム622,624,626は、導電性基材によって構成されているか、或いは、検出フィルム622,624では図示の上面上に、検出フィルム626では図示の下面上に、それぞれ透明導電層が形成されたものである。
【0046】
検査フィルム622には、図示X方向両端部に一対のX電極620Xが形成され、また、そのX電極620間には、複数の突起622pが縦横に配列形成されている。絶縁フィルム623には、上記突起622pに対応する位置に、対応する大きさ及び形状の開口部623pが形成されている。これらの開口部623pは、やや上方に突出した枠状の開口縁を備えている。さらに、検出フィルム624には、上記開口部623pの突出した開口縁を収容可能な大きさ及び形状の開口部624pが形成されている。
【0047】
図5に示す構造を相互に積層させると、図6に示すように、検出フィルム622の突起622pが絶縁フィルム623の開口部623pに挿入され、突起622pの上端は、開口部623pの上方へ突出した開口縁623qとほぼ同じ高さになるように嵌合する。そして、開口部623pの上方へ突出した開口縁623qは検出フィルム624の開口部624pの内部に挿入され、嵌合する。これによって、検出フィルム622、絶縁フィルム623及び検出フィルム624によって構成される積層体の表面(上面)には、図示のように、突起622pの上面と、検出フィルム624の表面とが絶縁フィルム623の開口縁623qによって相互に絶縁された状態で露出する。すなわち、本実施形態の検出構造は、検出フィルム622、624及び絶縁フィルム623は、微小幅の絶縁体を挟んで隣接する第1導体(検出フィルム622の突起622p)と、第2導体(検出フィルム624)とを露出させてなる表面を有する検知体を具備している。
【0048】
また、上記の検出フィルム624の上には、絶縁枠625を介して検出フィルム626が対向配置されている。ここで、検出フィルム626は、上記検出フィルム622、絶縁フィルム623及び検出フィルム624の表面に対して絶縁枠625によって僅かに離反した状態となっている。この検出フィルム626の下面には、上記と同様の金属薄膜で構成された半透過反射層626Rが形成されている。すなわち、上記検出構造は、上記検知体の表面に間隔を隔てて対向配置された導体層(半透過反射層626R)をも具備している。
【0049】
この実施形態では、入力層である検出フィルム626の表面にペン先や指が触れると、図6に点線で示すように、検出フィルム626が部分的に撓み、絶縁フィルム623の開口縁623qを跨ぐ様にして、導体層である半透過反射層626Rが検出フィルム622の突起622pの上面と、これに隣接する検出フィルム624の表面とに接触するため、半透過反射層626Rを介して検出フィルム622と624とが導電接触する。この接触点の位置は、通常の抵抗膜方式の場合と同様の方法で検出することができる。すなわち、一対のX電極620X間に所定の電圧を印加すると、これらの電極間の検出フィルム622上にX方向の電位勾配が形成されるので、上記導電接触点のX方向の位置に応じた電位が検出フィルム624を介して一対のY電極620Yに伝達されるため、Y電極620Yの電位を検出することによってX方向の位置を求めることができる。また、同様に、一対のY電極620Y間に所定の電圧を印加すると、これらの電極間の検出フィルム624上にY方向の電位勾配が形成されるので、上記導電接触点のY方向の位置に応じた電位が検出フィルム622を介して一対のX電極620Xに伝達されるため、X電極620Xの電位を検出することによってY方向の位置を求めることができる。この方式では、最も表面側に配置される検出フィルム626(導体層)は導電性を有する必要があるが、その機能は局部的な導電性によって確保されるので、繰り返し応力によって部分的に導電性が失われても機能不良を生ずる可能性が少なくなり、耐久性を向上させることができるという利点がある。
【0050】
また、この実施形態では、上記入力装置620の検出構造の一部を構成する導体層として、半透過反射層を兼用しているので、構成要素の数を低減することができ、構造を簡易なものとすることができる。また、金属薄膜で構成された半透過反射層626Rを導体層とすることによって、検出フィルム626の内面(図示下面)に透明導電膜を形成する場合に較べて、検出フィルム626の撓みによる亀裂の発生などの損傷を受けにくくなるため、耐久性を向上させることができる。
【0051】
なお、図5及び図6には、上記第1実施形態の入力装置に設けられている基板221,321は図示していないが、上記と同様にガラス等で構成された比較的硬質の基板上に本実施形態の構造を配置することができる。
【0052】
[第3実施形態]
次に、図7を参照して、本発明に係る上記各実施形態に用いることのできる別の入力装置の構成について簡単に説明する。上記の入力装置はいずれも電気抵抗を利用した検出方式の入力装置を採用したものであるが、本実施形態の入力装置720は、静電容量方式の入力装置の構成例を示すものである。
【0053】
この入力装置720においては、絶縁基板722上に、帯状のX電極720Xが図示左右方向に伸びる態様で複数ストライプ状に配列形成されている。また、これらのX電極720X上には、絶縁基板723が配置されている。この絶縁基板723上には、帯状のY電極720Yが図の紙面と直交する方向に伸びる態様で複数ストライプ状に配列形成されている。そして、これらのY電極620Yの上には絶縁基板724が配置されている。なお、上記のいずれの絶縁基板も可撓性の樹脂フィルムなどで構成することができる。また、図示の構造の下に第1又は第2実施形態に記載したガラス等の比較的硬質の基板221,321を配置してもよい。
【0054】
この入力装置720においては、X電極720X[i]と、Y電極720Y[j]との間の静電容量Co[i,j](i=1〜n,j=1〜m、nはX電極の数、mはY電極の数)は、ペンや指などが入力層である絶縁基板724の表面に接触すると、当該ペンや指とY電極720Yとの間に静電容量Csが発生することによって変化する。このため、上記静電容量Coの変化したX電極720X[i]と、Y電極720Y[j]との組み合わせ[i,j]を検出することによって、接触点(非接触位置)を知ることができる。
【0055】
なお、上記第1乃至第2実施形態の入力装置には必ずしも半透過反射層を形成する必要はなく、入力装置と電気光学装置との間に半透過反射層を形成してもよく、また、電気光学装置に半透過反射層を形成してもよい。このため、この第4実施形態においては、入力装置720内に半透過反射層を設けていない。ただし、この入力装置720において半透過反射層を形成してもよい。たとえば、図7に点線で示すように、絶縁基板724の表面上に半透過反射層724Rを形成(被着)し、さらに、この半透過反射層724Rの表面を保護膜725によって被覆してもよい。
【0056】
[電子機器]
最後に、図9及び図10を参照して、本発明に係る電子機器の実施形態について説明する。この実施形態では、上記入力装置付電気光学装置200の電気光学装置210(電気光学装置)を表示手段として備えた電子機器について説明する。図9は、本実施形態の電子機器における電気光学装置210に対する制御系(表示制御系)の表示駆動回路290の全体構成を示す概略構成図である。表示駆動回路290は、表示情報出力源291と、表示情報処理回路292と、電源回路293と、タイミングジェネレータ294とを含む表示制御回路290Aと、駆動回路290Bとを含む。この駆動回路290Bは、通常、液晶パネルに直接実装されている半導体ICチップ、パネル表面上に形成された回路パターン、或いは、液晶パネルに導電接続された回路基板に実装された半導体ICチップ若しくは回路パターンなどによって構成することができる。
【0057】
表示情報出力源291は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ294によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路292に供給するように構成されている。
【0058】
表示情報処理回路292は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKと共に駆動回路290Bへ供給する。駆動回路290Bは、走査線駆動回路、信号線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路293は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【0059】
図10は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話を示す。この携帯電話1000は、操作部1001と、表示部1002とを有する。操作部1001の前面には複数の操作ボタンが配列され、送話部の内部にマイクが内蔵されている。また、表示部1002の受話部の内部にはスピーカが配置されている。
【0060】
上記の表示部1002においては、ケース体の内部に回路基板1100が配置され、この回路基板1100に対して上述の入力装置付電気光学装置200が実装されている。ケース体内に設置された電気光学装置200は、上記入力装置220の機能により表示窓200Aに触れることによってその接触位置に応じた入力操作を行うことができるとともに、この表示窓200Aを通して表示画面を視認することができるように構成されている。
【0061】
尚、本発明は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。たとえば、上記実施形態では、電気光学装置として液晶表示装置を用いた場合の具体的構成例について説明したが、本発明は液晶装置に限定されるものではなく、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、フィールドエミッション電気光学装置など、種々の電気光学装置にも適用できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本参考発明の参考実施形態を示す概略構成分解斜視図。
【図2】 参考実施形態の入力装置の構成を示す分解斜視図。
【図3】 参考実施形態の構成例を示す概略縦断面図。
【図4】 第1実施形態の構成例を示す概略縦断面図。
【図5】 第2実施形態の入力装置の構成例を示す分解斜視図。
【図6】 第2実施形態の入力装置の構成例を示す縦断面図。
【図7】 第3実施形態の入力装置の構成例を示す縦断面図。
【図8】 従来の入力装置付電気光学装置の構成例を示す概略斜視図。
【図9】 本発明の電子機器の表示系の構成を示す概略構成図。
【図10】 本発明の電子機器の例を示す斜視図。
Claims (4)
- 表面の被接触位置を検出可能な入力装置と、
前記入力装置を通して視認可能な表示を構成する電気光学装置とを有する入力装置付電気光学装置において、
前記入力装置は該入力装置の検出構造に含まれる導体層を備え、
前記導体層は光透過性を有する反射層を兼ねることを特徴とする入力装置付電気光学装置。 - 前記入力装置は、微小幅の絶縁体を挟んで隣接配置された露出表面をそれぞれ備えた第1導体及び第2導体を含む検知体と、当該検知体の観察側に配置され、前記検知体の表面に対向する可撓性の導体層とを具備し、当該導体層が前記絶縁体の両側の前記第1導体と前記第2導体とに接触することにより、前記第1導体と前記第2導体とが相互に導通するように構成され、前記導体層が前記光透過性を有する反射層であることを特徴とする請求項1に記載の入力装置付電気光学装置。
- 前記電気光学装置は液晶装置であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の入力装置付電気光学装置。
- 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の入力装置付電気光学装置と、
前記入力装置における前記被接触位置を検出する位置検出手段と、前記電気光学装置を制御する表示駆動手段とを有する電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003000430A JP4269683B2 (ja) | 2003-01-06 | 2003-01-06 | 入力装置付電気光学装置及び電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003000430A JP4269683B2 (ja) | 2003-01-06 | 2003-01-06 | 入力装置付電気光学装置及び電子機器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004212717A JP2004212717A (ja) | 2004-07-29 |
JP4269683B2 true JP4269683B2 (ja) | 2009-05-27 |
Family
ID=32818747
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003000430A Expired - Fee Related JP4269683B2 (ja) | 2003-01-06 | 2003-01-06 | 入力装置付電気光学装置及び電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4269683B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100374304C (zh) * | 2005-05-18 | 2008-03-12 | 友达光电股份有限公司 | 透明图案层的制作方法 |
JP4613979B2 (ja) * | 2007-10-16 | 2011-01-19 | ソニー株式会社 | タッチパネル、入力機能付き表示装置、および電子機器 |
US20100117988A1 (en) * | 2008-11-12 | 2010-05-13 | Adrian Marc Simon Jacobs | Optical element and touch sensor |
JP4699551B2 (ja) * | 2009-11-02 | 2011-06-15 | シャープ株式会社 | 光ポインティング装置およびそれを備える電子機器 |
JP6477683B2 (ja) * | 2014-02-28 | 2019-03-06 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンスモジュール及びスマートデバイス |
US10175519B2 (en) | 2014-09-02 | 2019-01-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mirror display having touch panel |
WO2018054768A1 (en) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | Koninklijke Philips N.V. | Capacitive touchscreen mirror device and method of manufacturing |
JP7447520B2 (ja) | 2020-02-06 | 2024-03-12 | ヤマハ株式会社 | 楽器用表示装置および楽器用表示装置の表示切替方法 |
-
2003
- 2003-01-06 JP JP2003000430A patent/JP4269683B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004212717A (ja) | 2004-07-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051216 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130306 Year of fee payment: 4 |
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