JP4268231B2

JP4268231B2 - プラズマ処理装置、表面処理方法および光学部品の製造法

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Application number: JP34308597A
Authority: JP
Inventors: 剛洙丁; 信義田中; 昌樹平山; 忠弘大見
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Priority date: 1997-12-12
Filing date: 1997-12-12
Publication date: 2009-05-27
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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、凸レンズ、凹レンズ、凹面鏡等の非平面状の被処理面を有する光学部品の表面処理に適したプラズマ処理装置とそれを用いた光学部品の製造法の技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】
非平面状の被処理面を有する被処理体に、クリーニングや被膜形成といった表面処理を行う技術が求められている。
【０００３】
その代表例に凸レンズへの反射防止膜の形成が挙げられる。
【０００４】
従来は、特開平２−２３２３６７号公報に開示されているようにスパッタリング等のＰＶＤ法を用いて成膜がなされていた。
【０００５】
ＰＶＤ法は凹凸を有する面への被覆性に劣るために、本発明者らはＣＶＤ法による被膜形成を試みた。
【０００６】
熱ＣＶＤは、被処理体の熱変形の点で不向きであり、光ＣＶＤはスループットの点で充分なものではない。
【０００７】
現在ＰＶＤ法で得られている反射防止膜より高透過率（低吸収率）で耐光性，耐環境性に優れた膜を得るには、１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用いたプラズマ励起ＣＶＤ（ＰＥ−ＣＶＤ）でも不充分であり、より高密度のプラズマが得られるＰＥ−ＣＶＤでなければならない。
【０００８】
１０¹⁰ｃｍ^-3以上の高密度プラズマが得られるＰＥ−ＣＶＤとしては、エレクトロン・サイクロトロン共鳴ＣＶＤ（ＥＣＲ−ＰＥＣＶＤ）等マイクロ波を用いた無電極ＰＥＣＶＤがある。
【０００９】
図１６は特開平６−２１６０４７号公報に記載されているプラズマ処理装置である。
【００１０】
この装置は、プラズマ生成室２と、処理室４を備え、プラズマ生成室２には、マイクロ波電力導入手段５，６，８および磁界印加手段１０が設置してあると共に、プラズマ原料ガス導入系２０が接続してあり、処理室４には、化学反応材料ガス導入系２２が接続してあると共に、試料台１４にＲＦ電力導入手段１８が接続してあり、マイクロ波電力の発生源８およびＲＦ電力の発生源１８に対して、それぞれの電力を変調するための制御装置２７が設置してある。ＲＦ電力とマイクロ波電力を互いに同期して変調し、成膜が優先する条件とスパッタエッチングが優先する条件を交互に繰り返して、ＣＶＤ膜を形成するものである。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
図１６の装置で凸レンズへの反射防止膜の形成を行うと平均的に緻密な膜ができるものの面内均一性が劣る膜となってしまう。
【００１２】
また、反応副生成物が被処理面近傍に滞留する確率が高く、膜にピンホールが生じたり、局所的に組成比の異なる膜になってしまう。
【００１３】
本発明の目的は、面内均一性に優れ、ピンホールや局所的に欠陥の少ない被覆性に優れた被覆を形成し得るプラズマ処理装置を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明によるプラズマ処理装置は、内部が減圧可能な容器と、該容器内でプラズマ化されるガスを供給するガス供給手段と、前記容器内に供給された原料ガスを排気すると共に前記容器内を減圧するための排気手段とを有し、前記容器を構成する壁部の一部はマイクロ波を透過できる材料からなる誘電板であり、該誘電板は曲率半径ｒａの凸面または凹面形状の球面形状を有し、該誘電板を挟んで、前記容器の外側にはマイクロ波を放射するアンテナを、前記容器の内側には被処理体を保持する電極を設け、前記被処理体に対してプラズマによる表面処理を施し、前記アンテナに形成されたスロットの大きさ、形状および配列個数のうち少なくとも１つに分布をもたせ、プラズマ密度に分布を持たせることにより、前記誘電板の厚みの違いによるプラズマ密度の変化を打ち消すように補正することを特徴とする。
【００２０】
ここで、誘電板は、ガスを前記被処理体の表面に均一に供給するための複数のガス供給穴が設けられたシャワーヘッド構造を有するとよい。
【００２１】
前記誘電板の曲率半径ｒａおよびその口径半径ｄａを、前記被処理体の曲率半径ｒｓおよびその口径半径ｄｓに準じて変化させることができる。
【００２２】
前記誘電板の内表面と前記被処理体の表面との間の距離を、１０ｍｍないし５０ｍｍに設定することができる。
【００２３】
前記被処理面内のプラズマ密度の相対密度差を略々２０％以内に抑制できることができる。
【００２５】
前記被処理体の支持体に回転機構を設けてもよい。
【００２６】
前記誘電板は同心円状に段差を形成することによって得られた階段状であってもよい。
【００２７】
前記ガス供給手段は階段状シャワーベッド構造を有してもよい。
【００２８】
前記誘電板のマイクロ波放射面が球面または階段状に成形されてもよい。
【００２９】
前記球面または階段状の誘電板が前記容器内に配置されてもよい。
【００３１】
本発明による表面処理方法は、前述した装置を用いて被処理体に表面処理を施すことを特徴とする。
【００３２】
ここで、前記表面処理は薄膜の形成であってもよい。
【００３３】
本発明による光学部品の作製法は、前記被処理体として石英または蛍石を用い、上記表面処理方法を利用して前記表面処理は該被処理体上に反射防止または増反射のための薄膜を形成するコーティングを行う。
【００３４】
本発明によれば、マイクロ波励起された高密度プラズマを狭い放電空間内に閉じ込めることができるので、緻密な膜が得られる。
【００３５】
さらに、プラズマ密度の均一な領域に被処理面が位置するので、大面積の被処理面に均一なプラズマ処理を施すことができる。
【００３６】
放電空間の容積が小さくなるので、排気容量が大きくない真空ポンプであっても放電室内の排気が容易になり、反応副生成物が生じても速やかに放電室間から除去されるため、ピンホール等の発生の原因が生じ難い。透電体にガス供給孔を多数形成すれば、狭い空間でも均一なガス供給が可能となり、化合物の組成比が面内で一定になっている膜を形成できる。
【００３７】
【発明の実施の形態】
図１は本発明のプラズマ処理装置の一実施形態を示す模式的断面図である。
【００３８】
１０１は減圧可能な真空容器であり、排気口１０２に接続される不図示の排気手段により１．３３×１０^-6Ｐａ〜１３３Ｐａ程度に減圧できるように構成されている。
【００３９】
容器１０１にはガス供給口１０３が多数設けられていて、マイクロ波等のＵＨＦ，ＳＨＦ，ＥＨＦ帯の高周波エネルギーによってプラズマとなるガスがここから導入される。
【００４０】
また、容器１０１内には、被処理体Ｗを載置し、保持するためのホルダー１０４が設けられており、その上下位置を適宜選択できるように上下動可能になっており、また自転可能になっている。ホルダー１０４にはバイアス電位が印加できるようになっている。そしてホルダーの駆動機構１０５がホルダー１０４を上下動および自転させる。
【００４１】
１０６はガス供給口１０８が多数設けられた誘電体からなる非平面の誘電板であり、ガス供給用のシャワーヘッドの機能をもつ。
【００４２】
この誘電板は、マイクロ波透過性の誘電体であり、アルミナ，石英，アルミニウムナイトライド（ＡｌＮ），フッ化カルシウム，フッ化マグネシウム等が用いられる。
【００４３】
不図示のガス供給系に選択されたガス導入口１０３から導入されたガスは、誘電板１０６のガス供給通路１０８を経てプラズマプロセス空間Ａ内に供給される。
【００４４】
本例では被処理体として凸の球面を有するレンズ表面の処理を想定しているので、誘電板１０６は凹の球面を有している。
【００４５】
１１５は真空シールのためのＯリングである。
【００４６】
図２は非平面の誘電板１０６の斜視図であり、被処理体に対向する下面を図の上に向けて描いている。誘電板１０６のガス供給通路１０８と被処理体Ｗとの間隔Ｔｇは、全てある許容範囲内でほぼ一定になるように構成されている。
【００４７】
マイクロ波の導入は以下のようになる。
【００４８】
マイクロ波供給手段は、同軸管１１０と多数のスロットを有する導体平板アンテナ１１１とマイクロ波供給窓である誘電体薄膜１１２，１１３とを有する。導体平板アンテナ１１１の中心には同軸管１１０の内導体１１０ａが接続されている。１１４はアンテナアダプタである。
【００４９】
不図示のマイクロ波発振器にて発生したマイクロ波は同軸管１１０を伝わって導体平板アンテナ１１１に伝搬する。アンテナ１１１に設けられた多数のスロットより伝搬してきたマイクロ波が放射される。
【００５０】
図３に導体平板アンテナ１１１の平面図を示す。
【００５１】
導体平板アンテナ１１１には多数のスロット１１１Ｓが同心円状またはうず巻き状に配されている。スロット１１１Ｓは互いに交差する向きをもつ一対の切り欠きで構成され、切り欠きの長さや配置間隔はマイクロ波の波長や必要とするプラズマ強度に応じて適宜定められる。
【００５２】
このようなアンテナをラジアルラインスロットアンテナといい、特開平１−１８４９２３号公報や米国特許第５，０３４，０８６号、あるいは特開平８−１１１２９７号公報、特開平４−４８８０５号公報等に詳しく記されている。
【００５３】
次に本発明の装置を用いた球面レンズへの薄膜の形成動作について述べる。
【００５４】
装置内のホルダー１０４上に、凸レンズを被処理面が上を向くように配置し固定する。
【００５５】
駆動機構１０５によりホルダー１０４を上昇させ、マイクロ波供給手段の被処理体対向面１０６ａと被処理体の被処理面Ｗａとの間隔Ｔｇが１０ｍｍないし５０ｍｍになる位置で上昇を停止させる。
【００５６】
排気口１０２に接続された排気ポンプにより容器１０１内を１．３×１０^-5Ｐａ程度まで減圧した後、処理ガスをガス導入口１０３に接続されたガス供給系より、ガス供給通路１０８を介してプラズマプロセス空間Ａ内に導入する。容器内の圧力を、ガス供給量、排気量を制御して、１３．３Ｐａないし１．３３×１０³ Ｐａから選択される適当な圧力に維持する。同軸管１１０に接続されたマイクロ波発振器から同軸管１１０を通してマイクロ波を導体平板アンテナ１１１に供給する。
【００５７】
こうして、プラズマプロセス空間でグロー放電が生起され、ガスのプラズマが生成される。この時のプラズマ密度は１０¹¹ないし１０¹³ｃｍ^-3の高密度であり、緻密な良質の膜が形成できる。
【００５８】
また、本例によればマイクロ波を用いてもプロセス空間の間隔Ｔｇを１０ｃｍ以下（本例では１０ｃｍより充分小さい５０ｍｍ未満）と狭くできるので、空間Ａ内で生じた反応副生成物を高速で排気除去できる。よって、ピンホールの少ない良質の膜が形成できる。また、間隔が５０ｍｍ未満であるために、排気容量の比較的小さい真空ポンプであっても、反応副生成物を充分速く排気できる。
【００５９】
図４は、誘電板と被処理体の間隔Ｔｇとプラズマ密度の関係を示すグラフである。Ｔｇが１０ｍｍ以下であると間隔が少し異なるだけでプラズマ密度が大きく変化してしまい、Ｔｇが５０ｍｍを越えると急激にプラズマ密度の低下が生じる。変曲点が存在する１０ｍｍ＜Ｔｇ≦５０ｍｍの範囲であればプラズマの相対密度差が２０％以内に収まり、その結果均一な膜ができる。
【００６０】
図５は被処理体Ｗとして最大厚さＴｓが４０ｍｍ以下である凸レンズの表面処理を行う場合の誘電板１０６の非平面形状を示している。図において、Ｔｓは凸レンズ部の最大厚さ、ｒｓは凸レンズ部の曲率半径、ｄｓは凸レンズ部の半径を示す。
【００６１】
一方、ｒａは誘電板１０６の球面状マイクロ波放射面１０６ａの曲率半径、Ｔａは凸レンズ部の中心から球面状マイクロ波放射面１０６ａまでの最短距離、ｄａは凸レンズ部の中心から球面状マイクロ波放射面までの最長距離を示す。
【００６２】
この場合、凸レンズの表面Ｗａとマイクロ波放射面１０６ａとの間の距離が１０ｍｍ〜５０ｍｍであればよいので、マイクロ波放射は球面状でなく平面状であってもよいが、このギャップ内のガスをより一層効率良く排気し、さらにより表面処理の均一性を向上させるために、凸レンズ表面にならった形状にしている。
【００６３】
図６は凸レンズ部の最大厚さが４０ｍｍを越える場合の例を示している。
【００６４】
誘電板１０６のマイクロ波放射面１０６ａは、その曲率半径ｒａが、凸レンズ部の曲率半径ｒｓより大きい球面状に加工されている。
【００６５】
凸レンズＷの表面Ｗａの頂部とマイクロ波放射面１０６ａとの最短距離Ｔｇが１０ｍｍ〜５０ｍｍの範囲になるようにホルダー１０４を上昇させる。この時凸レンズの端部における間隔Ｔｇ′も１０ｍｍ〜５０ｍｍの範囲内になるようにする。
【００６６】
球面誘電板のより具体的設計は以下の通りである。
【００６７】
球面誘電板１０６の曲率半径ｒａおよびその口径半径ｄａを球面基材Ｗの曲率半径ｒｓおよびその口径半径ｄｓに準じて変化させ、球面誘電板表面と球面被処理体表面間の距離Ｔｇを略々４０ｍｍ以内に制御するための球面誘電板１０６と球面被処理体Ｗとの関係は、例えば、球面被処理体の厚みをＴｓとすると、
１）Ｔｓが４０ｍｍ以下の場合、すなわち、０＜Ｔｓ≦４０ｍｍのとき（図５参照）、球面被処理体の厚みＴｓ、曲率半径ｒｓ、および口径半径ｄｓに対して、球面誘電板の厚みＴａ、曲率半径ｒａおよび口径半径ｄａとすると、
【００６８】
【数１】

【００６９】
の関係を満たすＴａおよびｒａまたはｄａを有する球面誘電板を用いれば良い。
【００７０】
２）Ｔｓが４０ｍｍを越える場合、すなわち、Ｔｓ＞４０のとき（図６参照）、Ｔａ＝ｒａ＝ｄａ（球面誘電板は半球面）であれば、被処理体ホルダーの高さｈｓ＞０とすると、球面被処理体の厚みＴｓ、曲率半径ｒｓ、および口径半径ｄｓに対して、
【００７１】
【数２】
１０≦Ｔａ−（Ｔａ＋ｈｓ）≦５０
かつ、被処理体と誘電板の径方向の関係をＷａ−ｓとすると、
【００７２】
【数３】

【００７３】
の関係を満たすようにｈｓを定め、かつＴａ＝ｒａ＝ｄａを有する半球面誘電板を用いれば良い。
【００７４】
３）その他、特殊な形状を有する球面被処理体に関しては、この条件の限りではなく、球面誘電板と球面被処理体間の距離はＴｇが球面被処理体面内において、１０≦Ｔｇ≦５０の条件を満たすような、Ｔａおよびｒａまたはｄａを有する球面誘電板を用いれば良い。
【００７５】
上記に挙げた球面被処理体に準じた、球面誘電板の設計方法は一例であり、この限りでないことは云うまでもない。
【００７６】
図７および図８は図１に示した装置の変形例であり、誘電板１０６のマイクロ波放射面を階段状にしたものである。この階段状放射面は上述の球面誘電板の球面を近似した形状とする。図７は装置の断面図、図８は誘電板を示し、図８（ａ）は断面図、図８（ｂ）は平面図である。
【００７７】
図９は、図１に示した装置の他の変形例であり、被処理体Ｗが凹レンズである場合の表面処理に好適な装置である。すなわち、誘電板１０６は凹レンズの形状にならって、下に凸の形状である。放射面が凸面の誘電板の設計は上述した凸レンズに対する凹面放射面の設計と同様である。
【００７８】
図１０は、円形の導体平板１１１の径方向（アンテナ径方向）にほぼ均一に、そして、同心円状にスロットを配置したラジアルラインスロットアンテナを用い、凸面状、凹面状、平面状の誘電体１０６を介してマイクロ波を放射する場合に好適なスロット分布をもつマイクロ波アンテナのアンテナ径方向の中心からの距離に対するプラズマ密度の変化の様子を示している。
【００７９】
縦軸の絶対値は、測定プローブの位置に依存するので、図１０からは相対的な値を参考にすべきである。
【００８０】
スロット付導体平板アンテナから平面状の誘電体を介して、例えば誘電体薄板１１３のみを介して、マイクロ波を放射する時、マイクロ波プラズマ密度は径方向にほぼ一定となるので、図中白四角のような分布をもつスロット付アンテナを用いるべきである。
【００８１】
しかしながら、被処理体面が凸状で、従って誘電板１０６が凹面の場合は図中黒四角のように中心でのマイクロ波放射量が少なく、外側程放射量が多くなるように、スロットの配置密度に分布をもたせるとよい。この場合、中心側でスロット配置密度を粗に、径方向外側になるにつれて密にするよい。逆に誘電板１０６が凸面の場合、図中黒丸のように中心でマイクロ波の放射量が多く、外側程少なくなるようにスロット配置密度に分布をもたせるとよい。この場合、スロット配置密度を中心で密に、径方向外側になるにつれて粗になるようにするよい。
【００８２】
図１１は非平面の誘電板１０６のマイクロ波放射面が凸面になっている階段状放射面をもつマイクロ波プラズマ処理装置を示している。
【００８３】
図１２は図１１の装置に用いられる誘電板１０６を示し、図１２（ａ）は断面図、図１２（ｂ）は平面図である。
【００８４】
図１３は図１の装置の改良で上下に対称なマイクロ波放射面をもつ両凸レンズ用のプラズマ処理装置である。
【００８５】
上下対称に設けられた部品に対して、例えば非平面の誘電体に１０６Ａ，１０６Ｂ、そのガス供給通路に１０８Ａ，１０８Ｂ、同軸管に１１０Ａ，１１０Ｂ、導体平板アンテナに１１１Ａ，１１１Ｂなど、図１において使用した符号にＡ，Ｂを付けて示してあり、説明を省略する。
【００８６】
ホルダー１０４は装置の中央、すなわち上下の対称の中心に固定され、被処理体Ｗの周囲を支持している。ホルダー１０４にバイアス電位を印加することができる。この装置を用いることによって、被処理体の両面に面内均一性に優れ、欠陥の少ない、緻密な膜を同時に形成できる。設計指針は先に説明した凸レンズに対する場合と同様である。
【００８７】
ガスの排気が上下対称となるように装置の上下方向中心で左右対称な位置に排気口１０２を設けている。その他の構成は図１と同じである。
【００８８】
図１４は図９の装置の改良で両凹レンズ用である。
【００８９】
図１５は図１の装置と図９の装置の改良で凹凸レンズ用である。図１４および図１５において、図１３の装置と同一部位には同一の符号を付してある。その効果は図１３の装置と同じであり、設計指針も先に述べたとおりである。
【００９０】
以上説明したように、本発明の装置は、凸面を有する球面レンズの表面処理だけではなく、凹面を有する球面レンズの表面処理にも用いることができる。その場合は、凹凸の形状を逆にしたアンテナをもつマイクロ波供給手段を用いれば良い。
【００９１】
本発明において処理し得る被処理体Ｗとしては、石英、蛍石等からなる絶縁性の透光性部材、アルミニウム等の導電性の非透光性部材が挙げられ、前者は凸レンズ、凹レンズ、反射ミラー、窓部材として用いられ、後者は反射ミラーとして用いられる。
【００９２】
本発明の装置により施せる表面処理としては、薄膜の形成、プラズマクリーニング、プラズマエッチング等である。特に本発明の装置は薄膜の形成に有利であり、具体的には酸化アルミニウム、酸化シリコン、酸化タンタル、酸化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウム膜の形成である。
【００９３】
薄膜の形成はプラズマＣＶＤであるので、用いる原料ガスとしてはトリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）、トリイソブチルアルミニウム（ＴｉＢＡ）、ジメチルアルミニウムハイドライド（ＤＭＡＨ）等の有機アルミニウム化合物、または、ＳｉＨ₄ 、Ｓｉ₂ Ｈ₆ 、ＳｉＦ₄ 、テトラエチルオルソシリケート（ＴＥＯＳ）等のシリコン化合物、あるいはタンタルやビスエチルシクロペンタジエニルマグネシウム等のマグネシウムの有機化合物である。さらにはこれら原料ガスに加えて、酸素、酸化窒素、フッ素、ＮＦ₃ 等の酸化性ガスを用いることが望ましく、必要に応じて、水素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、クリプトン等のガスを添加してもよい。
【００９４】
マイクロ波発振器としては、２．４５ＧＨｚ、５．０ＧＨｚ、８．３ＧＨｚ等の通常のマイクロ波発振器が用いられる。
【００９５】
【実施例】
表面を球面状に研磨した石英からなる凸レンズを図１の装置のホルダー１０４上に配置固定した。
【００９６】
駆動機構１０５を動作させてホルダー１０４を上昇させ、Ｔｇが２０〜３０ｍｍとなる位置にホルダー１０４を固定した。アルミニウム製の容器１内を１．３×１０⁴ Ｐａまで一旦排気し減圧した後、ホルダー１０４を自転させた。処理ガスとして気化させたＴＭＡとＯ₂ とを導入し、圧力を１３．３Ｐａとしてマイクロ波を供給して、ガスプラズマを生成した。こうして石英の球面状の凸面には、酸化アルミニウムの膜が形成できた。
【００９７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、凹面または凸面の被処理面をもつ光学部品にも高密度マイクロ波プラズマを用いて均一な処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるプラズマ処理装置の第１の実施形態の断面図である。
【図２】非平面の誘電板の斜視図である。
【図３】導体平板アンテナの平面図である。
【図４】誘電板と被処理体の間隔とプラズマ密度の関係を示す線図である。
【図５】最大厚さが４０ｍｍ以下である凸レンズの表面処理を行う場合の誘電板の非平面形状を示す図である。
【図６】最大厚さが４０ｍｍを越える凸レンズの表面処理を行う場合の誘電板の非平面形状を示す図である。
【図７】マイクロ波放射面が階段状の誘電板を用いたプラズマ処理装置の断面図である。
【図８】図７に示した装置の誘電板を示す図で、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。
【図９】本発明の他の実施形態を示し、凹レンズの表面処理に好適なプラズマ処理装置の断面図である。
【図１０】導体平板アンテナの径方向距離とプラズマ密度の関係を示す線図である。
【図１１】階段状凸面のマイクロ波放射面を有する誘電板を用いたプラズマ処理装置の断面図である。
【図１２】図１１に示した装置の誘電板を示す図であり、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。
【図１３】両面凸レンズの被処理体の表面処理に好適なプラズマ処理装置の一例を示す断面図である。
【図１４】両面凹レンズの被処理体の表面処理に好適なプラズマ処理装置の一例を示す断面図である。
【図１５】一面が凹、一面が凸の凹凸レンズの被処理体の表面処理に好適なプラズマ処理装置の一例を示す断面図である。
【図１６】従来のプラズマ処理装置の断面図である。
【符号の説明】
１０１真空容器
１０２排気口
１０３ガス導入口
１０４ホルダー
１０５駆動機構
１０６誘電板
１０８ガス供給通路
１１０同軸管
１１１導体平板アンテナ
１１１Ｓスロット
１１２，１１３誘電体薄膜
１１５Ｏリング
Ａプラズマプロセス空間
Ｗ被処理体

Claims

内部が減圧可能な容器と、
該容器内でプラズマ化されるガスを供給するガス供給手段と、
前記容器内に供給された原料ガスを排気すると共に前記容器内を減圧するための排気手段とを有し、
前記容器を構成する壁部の一部はマイクロ波を透過できる材料からなる誘電板であり、
該誘電板は曲率半径ｒａの凸面または凹面形状の球面形状を有し、
該誘電板を挟んで、前記容器の外側にはマイクロ波を放射するアンテナを、前記容器の内側には被処理体を保持する電極を設け、
前記被処理体に対してプラズマによる表面処理を施し、前記アンテナに形成されたスロットの大きさ、形状および配列個数のうち少なくとも１つに分布をもたせ、プラズマ密度に分布を持たせることにより、前記誘電板の厚みの違いによるプラズマ密度の変化を打ち消すように補正することを特徴とするプラズマ処理装置。
前記誘電板は、ガスを前記被処理体の表面に均一に供給するための複数のガス供給穴が設けられたシャワーヘッド構造を有することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
前記誘電板の曲率半径ｒａおよびその口径半径ｄａを、前記被処理体の曲率半径ｒｓおよびその口径半径ｄｓに準じて変化させることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
前記誘電板の内表面と前記被処理体の表面との間の距離を、１０ｍｍないし５０ｍｍに設定することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
前記被処理面内のプラズマ密度の相対密度差を略々２０％以内に抑制できることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
前記被処理体の支持体に回転機構が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
前記誘電板は同心円状に段差を形成することによって得られた階段状であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
前記ガス供給手段は階段状シャワーヘッド構造を有することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
前記誘電板のマイクロ波放射面が球面または階段状に成形されていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
前記球面または階段状の誘電板が前記容器内に配置されていることを特徴とする請求項９に記載のプラズマ処理装置。
請求項１に記載の装置を用いて被処理体に表面処理を施すことを特徴とする表面処理方法。
前記表面処理は薄膜の形成であることを特徴とする請求項１１に記載の表面処理方法。
前記被処理体は石英または蛍石であり、前記表面処理は該被処理体上に反射防止または増反射のための薄膜を形成するコーティングであることを特徴とする請求項１２に記載の表面処理方法を利用した光学部品の作製法。