JP4260635B2 - 改質ブテン−1系重合体の製造方法及びその方法で得られた改質ブテン−1系重合体 - Google Patents
改質ブテン−1系重合体の製造方法及びその方法で得られた改質ブテン−1系重合体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4260635B2 JP4260635B2 JP2003569693A JP2003569693A JP4260635B2 JP 4260635 B2 JP4260635 B2 JP 4260635B2 JP 2003569693 A JP2003569693 A JP 2003569693A JP 2003569693 A JP2003569693 A JP 2003569693A JP 4260635 B2 JP4260635 B2 JP 4260635B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- butene
- group
- homopolymer
- dimethylsilylene
- modified
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J151/00—Adhesives based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J151/003—Adhesives based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Adhesives based on derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F255/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of hydrocarbons as defined in group C08F10/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F255/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of hydrocarbons as defined in group C08F10/00
- C08F255/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of hydrocarbons as defined in group C08F10/00 on to polymers of olefins having four or more carbon atoms
- C08F255/10—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of hydrocarbons as defined in group C08F10/00 on to polymers of olefins having four or more carbon atoms on to butene polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F257/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of aromatic monomers as defined in group C08F12/00
- C08F257/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of aromatic monomers as defined in group C08F12/00 on to polymers of styrene or alkyl-substituted styrenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L51/003—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L51/00—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L51/06—Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to homopolymers or copolymers of aliphatic hydrocarbons containing only one carbon-to-carbon double bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J123/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J123/02—Adhesives based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Adhesives based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C09J123/18—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms
- C09J123/20—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms having four to nine carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J151/00—Adhesives based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J151/06—Adhesives based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Adhesives based on derivatives of such polymers grafted on to homopolymers or copolymers of aliphatic hydrocarbons containing only one carbon-to-carbon double bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L23/02—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L23/18—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms
- C08L23/20—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms having four to nine carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2666/00—Composition of polymers characterized by a further compound in the blend, being organic macromolecular compounds, natural resins, waxes or and bituminous materials, non-macromolecular organic substances, inorganic substances or characterized by their function in the composition
- C08L2666/02—Organic macromolecular compounds, natural resins, waxes or and bituminous materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2666/00—Composition of polymers characterized by a further compound in the blend, being organic macromolecular compounds, natural resins, waxes or and bituminous materials, non-macromolecular organic substances, inorganic substances or characterized by their function in the composition
- C08L2666/02—Organic macromolecular compounds, natural resins, waxes or and bituminous materials
- C08L2666/24—Graft or block copolymers according to groups C08L51/00, C08L53/00 or C08L55/02; Derivatives thereof
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S526/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S526/943—Polymerization with metallocene catalysts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Sealing Material Composition (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Description
本発明は、改質ブテン−1系重合体の製造方法、その方法で得られた改質ブテン−1系重合体及び該改質ブテン−1系重合体よりなる接着剤組成物に関する。
更に詳しくは、本発明は、高接着性を有するシーラントとして、あるいはポリオレフィンの改質剤、例えば、無機フィラーなどとの相溶特性を向上させたポリオレフィンを得るための改質剤などとして有用な改質ブテン−1系重合体を効率よく製造する方法、この方法により得られた改質ブテン−1系重合体及び該改質ブテン−1系重合体よりなる接着剤組成物に関するものである。
背景技術
従来、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンを、不飽和カルボン酸あるいはその酸無水物などによってグラフト変性したオレフィン系重合体は、各種樹脂の改質剤や接着性付与剤などとしての用途に利用されている。
ところで、メタロセン系触媒を用いて得られる低規則性ポリブテン−1は、マグネシウム−チタン系触媒により得られるポリプロピレンにブレンドすることにより、弾性率を制御したり、多層フィルムにおけるヒートシール層などとしての用途が期待されているが、更なる高強度、高接着性が求められている。
本発明は、このような状況下で、ポリオレフィンなどに高接着性、高強度、軟質性などを付与することができ、高接着性を有するシーラントや、無機フィラーなどとの相溶特性を向上させたポリオレフィンを与えるなどの用途に有用な改質剤及び該改質剤よりなる接着剤組成物を提供することを目的とするものである。
発明の開示
本発明者らは、前記の優れた機能を有する改質剤を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の性状を有する低規則性ブテン−1系重合体を、ラジカル開始剤と有機酸とで改質処理することにより、その目的を達成し得ることを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
即ち、本発明は、
(1)(a)示差走査型熱量計(DSC)を用い、試料を窒素雰囲気下−10℃で5分間保持した後、10℃/分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブの最も高温側に観測されるピークのピークトップとして定義される融点(Tm−D)が0〜100℃の結晶性樹脂であって、(b)[mmmm]/([mmrr]+[rmmr])で表される立体規則性指数が20以下であり、かつ(c)重量平均分子量(Mw)が10,000〜1,000,000で、重量平均分子量/数平均分子量比(MW/Mn)が4.0以下であるブテン−1系重合体を、ラジカル開始剤と有機酸により改質処理することを特徴とする改質ブテン−1系重合体の製造方法。
(2)ブテン−1系重合体における[mmmm](%)が、
20≦[mmmm]≦90
及び
[mmmm]≦90−2×[rr]
の関係を満たす上記1に記載の製造方法。
(3)ブテン−1系重合体が、ブテン−1単独重合体、又はブテン−1単位90モル%以上を含有するブテン−1とそれ以外の炭素数2〜20のα−オレフィンとの共重合体である上記1又は2に記載の製造方法。
(4)ブテン−1系重合体が、190℃にて5分間融解させ、氷水で急冷固化し、室温にて1時間放置した後にX線回折により分析して得られたII型結晶分率(CII)が50%以下のものである上記1に記載の製造方法。
(5)改質処理を有機溶剤中で行う上記1に記載の製造方法。
(6)改質処理を溶融状態で行う上記1に記載の製造方法。
(7)ラジカル開始剤として有機過酸化物を、有機酸として無水マレイン酸、アクリル酸及びアクリル酸エステルから選ばれる化合物を用いる上記1に記載の製造方法。
(8)スチレン系化合物の共存下に改質処理する上記1に記載の製造方法。
(9)上記1に記載の製造方法で得られたことを特徴とする改質ブテン−1系重合体。
(10)重量平均分子量(Mw)が10,000〜600,000である上記9に記載の改質ブテン−1系重合体。
(11)上記9に記載の改質ブテン−1系重合体を含有する接着剤組成物。
(12)ブテン−1系重合体100質量部に対して、0.1〜50質量部の無水マレイン酸、アクリル酸及びアクリル酸エステルから選ばれる有機酸により改質処理されたものである上記11に記載の接着剤組成物。
を提供するものである。
発明を実施するための最良の形態
以下に、本発明について詳細に説明する。
本発明の改質ブテン−1系重合体の製造方法においては、改質処理する原料の重合体として、ブテン−1系重合体が用いられる。
この原料のブテン−1系重合体としては、ブテン−1単独重合体、又はブテン−1単位90モル%以上を含有するブテン−1とそれ以外の炭素数2〜20のα−オレフィンとの共重合体を好ましく挙げることができる。
該共重合体としては、ランダム共重合体が好ましい。
前記ブテン−1以外の炭素数2〜20のα−オレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、ペンテン−1、4−メチルペンテン−1、ヘキセン−1、オクテン−1、デセン−1、ドデセン−1、テトラデセン−1、ヘキサデセン−1、オクタデセン−1、エイコセン−1などが挙げられ、これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
又、前記共重合体におけるブテン−1単位の含有量は、より好ましくは95モル%以上である。
尚、該ブテン−1単位の含有量の測定方法については、後で説明する。
又、本発明でいうブテン−1系重合体とは、ことわりのないかぎり、ブテン−1単独重合体及び前記共重合体を指す。
本発明で用いられるブテン−1系重合体は、以下に示す性状を有するものである。
先ず、融点(Tm−D)が、軟質性の点から示差走査型熱量計(DSC)による測定で0〜100℃、好ましくは0〜80℃の結晶性樹脂である。
尚、このTm−Dは、DSC測定により求める。
即ち、示差走査型熱量計を用い、試料10mgを窒素雰囲気下−10℃で5分間保持した後、10℃/分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブの最も高温側に観測されるピークのピークトップが融点:Tm−Dである。
次に、[mmmm]/([mmrr]+[rmmr])で表される立体規則性指数が20以下の低規則性を有するものである。
上記メソペンタッド分率[mmmm]及び[mmrr]、[rmmr]は、「Polymer Journal」、第16巻、第717ページ(1984年)、「Macromol.Chem.Phys.」、C29、第201ページ(1989年)、「Macromol.Chem.Phys.」、第198巻、第1257ページ(1997年)で提案されている方法に準拠して求めた値である。
即ち、同位体炭素核磁気共鳴(13C−NMR)スペクトルを用い、下記の装置及び条件にてメチレン基、メチン基のシグナルを測定し、ブテン−1系重合体分子中の[mmmm]、[mmrr]及び[rmmr]を測定し、前記立体規則性指数を算出した。
又、ラセミトリアッド分率[rr]も上記方法により測定した。
<13C−NMRスペクトル測定における装置及び条件>
装置:日本電子(株)製JNM−EX400型13C−NMR装置
方法:プロトン完全デカップリング法
濃度:230mg/ミリリットル
溶媒:1,2,4−トリクロロベンゼンと重ベンゼンの90:10(容量比)混合溶媒
温度:130℃
パルス幅:45°
パルス繰り返し時間:4秒
積算:10000回
尚、ブテン−1系重合体が、ブテン−1単位90モル%以上含有するブテン−1とそれ以外の炭素数2〜20のα−オレフィンとの共重合体である場合、ブテン−1連鎖部における[mmmm]、[mmrr]、[rmmr]、[rr]を測定すればよい。
前記立体規則性指数が20を超えるものでは、所望の性能を有する改質ブテン−1系重合体が得られない。
好ましい立体規則性指数は18以下であり、特に15以下が好ましい。
又、メソペンタッド分率[mmmm]は、得られる改質ブテン−1系重合体の性能の点から、好ましくは20〜90%、より好ましくは30〜85%、更に好ましくは30〜80%であり、かつ「90−2×[rr]」%以下が好ましく、特に「87−2×[rr]」%以下が好ましい。
更に、重量平均分子量(Mw)は、10,000〜1,000,000の範囲である。
この重量平均分子量が上記範囲を逸脱するものでは、所望の性能を有する改質ブテン−1系重合体が得られない。
好ましい重量平均分子量は100,000〜1,000,000の範囲であり、特に100,000〜600,000の範囲が好ましい。
又、分子量分布の指標である重量平均分子量/数平均分子量比(Mw/Mn)は4.0以下である。
このMw/Mnが4.0を超えると所望の性能を有する改質ブテン−1系重合体が得られない。
好ましいMw/Mnは3.5以下であり、特に3.0以下が好ましい。
尚、上記重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により、下記の装置及び条件にて測定したポリスチレン換算の値である。
<GPC測定における装置及び条件>
GPC測定装置
カラム :TOSO GMHHR−H(S)HT
検出器 :液体クロマトグラム用RI検出器 WATERS
150C
測定条件
溶媒 :1,2,4−トリクロロベンゼン
測定温度 :145℃
流速 :1.0ミリリットル/分
試料濃度 :2.2mg/ミリリットル
注入量 :150マイクロリットル
検量線 :Universal Calibration
解析プログラム :HT−GPC(Ver.1.0)
又、本発明で用いるブテン−1系重合体は190℃にて5分間融解させ、氷水で急冷固化し、室温にて1時間放置した後にX線回折により分析して得られたII型結晶分率(CII)が50%以下が好ましく、より好ましくは20%以下、特に好ましくは0%である。
尚、該II型結晶分率は「Polymer」、第7巻、第23ページ(1966年)で提案されている方法に準拠して求めた。
即ち、X線回折分析によりI型結晶状態のピーク及びII型結晶状態のピークを測定し、ブテン−1系重合体の結晶中のII型結晶分率(CII)を求めた。
X線回折分析(WAXD)は、理学電気(株)製の対陰極型ロータフレックスRU−200を用い、下記の条件にて行った。
試料状態:190℃にて5分間融解させ、氷水にて急冷固化した後、室温にて1時間放置
出力 :30kV、200mA
検出器 :PSPC(位置敏感比例計数管)
積算時間:200秒
次に、本発明で用いられるブテン−1系重合体がエチレン−ブテン−1共重体である場合、ブテン−1単位含有量及び前記立体規則性指標は以下のようにして測定される。
ブテン−1単位含有量は、日本電子社製のJNM−EX400型NMR装置を用い、以下の条件で13C−NMRスペクトルを測定し、以下の方法により算出する。
試料濃度 :220mg/NMR溶液 3ミリリットル
NMR溶液:1,2,4−トリクロロベンゼン/ベンゼン−d6(90/10vol%)
測定温度 :130℃
パルス幅 :45°
パルス繰り返し時間:10秒
積算回数 :4000回
上記条件で、EE、EB、BB連鎖は、「Macromolecules」、第15巻、第353〜360ページ(1982年)で提案された方法に準拠し、13C−NMRスペクトルのSαα炭素シグナルを測定し、共重合体分子鎖中のEB、BBダイアッド連鎖分率を求める。
得られた各ダイアッド連鎖分率(モル%)より、以下の式よりブテン−1単位含有量を算出する。
ブテン−1単位含有量(モル%)=[BB]+[EB]/2
([BB]はブテン−1連鎖分率、[EB]はエチレン−ブテン−1連鎖分率を表す。)
又、立体規則性指標は前述した方法により測定するが、特に、エチレン−ブテン−1共重合体は、rmmr+mmrrのピークにBEE連鎖由来の側鎖メチレン炭素が重なり合うため、rmmr+mmrrのピーク強度は、37.5〜37.2のTαδの炭素ピークの成分値をrmmr+mmrrのピークとBEE連鎖由来の側鎖メチレン炭素の重なり合いの強度から差し引くことにより補正する。
ブテン−1系重合体がプロピレン−ブテン−1共重合体である場合、ブテン−1単位含有量は以下のようにして測定される。
ブテン−1単位含有量は、日本電子社製のJNM−EX400型NMR装置を用い、以下の条件で13C−NMRスペクトルを測定し、以下の方法により算出する。
試料濃度:220mg/NMR溶液 3ミリリットル
NMR溶液:1,2,4−トリクロロベンゼン/ベンゼン−d6(90/10vol%)
測定温度:130℃
パルス幅:45°
パルス繰り返し時間:10秒
積算回数:4000回
上記条件で、PB、BB連鎖は、「Macromolecules」、第11巻、第592ページ(1978年)で提案された方法に準拠し、13C−NMRスペクトルのSαα炭素のシグナルを測定し、共重合体分子鎖中のPB、BBダイアッド連鎖分率を求める。
得られた各ダイアット連鎖分率(モル%)より、以下の式よりブテン−1単位含有量を求める。
ブテン−1単位含有量(モル%)=[BB]+[PB]/2
([BB]はブテン−1連鎖分率、[PB]はプロピレン−ブテン−1連鎖分率を表す。)
ブテン−1系重合体がオクテン−1−ブテン−1共重合体である場合、ブテン−1単位含有量は、以下のようにして測定される。
ブテン−1単位含有量は、日本電子社製のJNM−EX400型NMR装置を用い、以下の条件で13C−NMRスペクトルを測定し、以下の方法により算出する。
試料濃度:220mg/NMR溶液 3ミリリットル
NMR溶液:1,2,4−トリクロロベンゼン/ベンゼン−d6(90/10vol%)
測定濃度:130℃
パルス幅:45°
パルス繰り返し時間:10秒
積算回数:4000回
上記条件で、13C−NMRスペクトルのSαα炭素のシグナルを測定し、40.8〜40.0ppmに観測されるBB連鎖、41.3〜40.8ppmに観測されるOB連鎖由来のピーク強度から共重合体分子鎖中のOB、BBダイアッド連鎖分率を求めた。
得られた各ダイアッド連鎖分率(モル%)より、以下の式よりブテン−1単位含有量を求める。
ブテン−1単位含有量(モル%)=[BB]+[OB]/2
([BB]はブテン−1連鎖分率、[OB]はオクテン−1−ブテン−1連鎖分率を表す)
このような性状を有するブテン−1系重合体の製造方法については、後で詳述する。
本発明の改質ブテン−1系重合体の製造方法においては、前記ブテン−1系重合体を、ラジカル開始剤と有機酸を用いて改質処理する。
この改質処理に用いられる有機酸としては、不飽和カルボン酸やその誘導体を用いることができる。
不飽和カルボン酸の例としては、アクリル酸,メタクリル酸,マレイン酸,フマル酸,イタコン酸,クロトン酸,シトラコン酸,ソルビン酸,メサコン酸,アンゲリカ酸などが挙げられる。
又、その誘導体としては、酸物水物,エステル,アミド,イミド,金属塩などがあり、例えば、無水マレイン酸,無水イタコン酸,無水シトラコン酸,アクリル酸メチル,メタクリル酸メチル,アクリル酸エチル,アクリル酸ブチル,アクリル酸2−エチルヘキシル,マレイン酸モノエチルエステル,アクリルアミド,マレイン酸モノアミド,マレイミド,N−ブチルマレイミド,アクリル酸ナトリウム,メタクリル酸ナトリウムなどを挙げることができる。
これらの中で、特に、無水マレイン酸、アクリル酸が好ましい。
又、これらは単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
一方、ラジカル開始剤としては特に制限はなく、従来公知のラジカル開始剤、例えば、各種有機過酸化物や、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリルなどのアゾ系化合物等の中から、適宜選択して用いることができるが、これらの中で、有機過酸化物が好適である。
この有機過酸化物としては、例えば、ジベンゾイルパーオキシド,ジ−3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキシド,ジラウロイルパーオキシド,ジデカノイルパーオキシド,ジ(2,4−ジクロロベンゾイル)パーオキシドなどのジアシルパーオキシド類、t−ブチルヒドロパーオキシド,キュメンヒドロパーオキシド,ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキシド,2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキシドなどのヒドロパーオキシド類、ジ−t−ブチルパーオキシド,ジクミルパーオキシド,2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン,2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3,α,α’ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼンなどのジアルキルパーオキシド類、1,1−ビス−t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン,2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタンなどのパーオキシケタール類、t−ブチルパーオキシオクトエート,t−ブチルパーオキシピバレート,t−ブチルパーオキシネオデカノエート,t−ブチルパーオキシベンゾエートなどのアルキルパーエステル類、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート,ジイソプロピルパーオキシジカーボネート,ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート,t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネートなどのパーオキシカーボネート類などが挙げられる。
これらの中ではジアルキルパーオキシド類が好ましい。
又、これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
前記の有機酸及びラジカル開始剤の使用量としては、特に制限はなく、目的とする改質ブテン−1系重合体の所望物性に応じて適宜選定されるが、使用するブテン−1系重合体100重量部に対し、有機酸は通常0.1〜50重量部、好ましくは0.1〜30重量部の範囲で用いられ、一方ラジカル開始剤は通常0.01〜10重量部、好ましくは0.01〜5重量部の範囲で用いられる。
改質処理方法としては特に制限はないが、例えば、ブテン−1系重合体と、前記の有機酸及びラジカル開始剤とを、ロールミル、バンバリーミキサー、押出機などを用いて、150〜300℃程度の温度で溶融混練して反応させる方法、あるいはブタン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエンなどの炭化水素系溶剤、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶剤や、液化α−オレフィンなどの適当な有機溶剤中において、−50〜300℃程度の温度で反応させる方法を用いることができる。
又、本発明においては、この改質処理を、スチレン系化合物の存在下で行うことができる。
このスチレン系化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレンを始め、p−メチルスチレン,p−エチルスチレン,p−プロピルスチレン,p−イソプロピルスチレン,p−ブチルスチレン,p−tert−ブチルスチレン,p−フェニルスチレン,o−メチルスチレン,o−エチルスチレン,o−プロピルスチレン,o−イソプロピルスチレン,m−メチルスチレン,m−エチルスチレン,m−イソプロピルスチレン,m−ブチルスチレン,メシチルスチレン,2.4−ジメチルスチレン、2.5−ジメチルスチレン、3.5−ジメチルスチレンなどのアルキルスチレン類、p−メトキシスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレンなどのアルコキシスチレン類、p−クロロスチレン、m−クロロスチレン、o−ブロモスチレン、p−フルオロスチレン、m−フルオロスチレン、o−フルオロスチレン、o−メチル−p−フルオロスチレンなどのハロゲン化スチレン類、更にはトリメチルシリルスチレン、ビニル安息香酸エステル、ジビニルベンゼンなどが挙げられる。
これらのスチレン系化合物は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
又、その使用量は、ブテン−1系重合体100重量部に対し、通常0.1〜10重量部、好ましくは0.1〜5重量部の範囲である。
スチレン系化合物を使用することにより、より効率的に改質処理することができる。
本発明は、このようにして改質処理されてなる改質ブテン−1系重合体を提供する。
該改質ブテン−1系重合体は、ポリオレフィンなどに高接着性、高強度、軟質性などを付与することができ、高接着性を有するシーラントとして、あるいは無機フィラーなどとの相溶特性を向上させたポリオレフィンを与える改質剤などとして有用である。
酸変性量は、0.01〜50重量%、好ましくは、0.1〜40重量%、更に好ましくは0.2〜30重量%である。
ここで、酸変性量が50重量%を超えると、ブテン−1系重合体の性質が大幅に損なわれる可能性があり、0.01重量%未満の場合には、改質ブテン−1系重合体に求められる接着強度やフィラー等の添加物の分散性、そして塗装性が不十分となる可能性がある。
又、本発明は、改質ブテン−1系重合体を含有する接着剤組成物も提供する。
即ち、本発明の改質ポリブテン−1系重合体は、適当な配合物を付与してホットメルト系接着剤組成物として用いることができる。
この配合物としては、粘着性付与樹脂があり、生松ヤニを原料としたロジン樹脂、松の精油から得られるα−ピネン、β−ピネンを原料としたテルペン樹脂、石油ナフサなどの熱分解により副産物として生成する不飽和炭化水素を含む留分を重合して樹脂化して得られる石油樹脂、および、それらの水素添加物などが挙げられる。
粘着性付与樹脂としては、出光石油化学製アイマーブP−125、同アイマーブP−100、同アイマーブP−90、三洋化成工業製ユーメックス1001、三井化学製ハイレッツT1115、ヤスハラケミカル製クリアロンK100、トーネックス製ECR227、同エスコレッツ2101、荒川化学製アルコンP100、ハーキュレス(Hercules)製Regalrez1078などを挙げることができる。
本発明では、ベースポリマーとの相溶性を考慮し、水素添加物を用いることが好ましい。
中でも、熱安定性に優れる石油樹脂の水素化物がより好ましい。
又、本発明において、必要に応じて、可塑剤、無機フィラー、酸化防止剤などの各種添加剤などを配合することができる。
可塑剤としては、パラフィン系プロセスオイル、ポリオレフィン系ワックス、フタル酸エステル類、アジピン酸エステル類、脂肪酸エステル類、グリコール類、エポキシ系高分子可塑剤、ナフテン系オイルなど、無機フィラーとしては、クレー、タルク、炭酸カルシウム、炭酸バリウムなど、酸化防止剤としては、トリスノニフェニルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、アデカスタブ1178(旭電化(製))、スタミライザーTNP(住友化学(製))、イルガフォス168(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(製))、SandstabP−EPQ(サンド(製))等のリン系酸化防止剤、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、n−オクタデシル−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、スミライザーBHT(住友化学(製))、イルガノックス1010(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(製))等のフェノール系酸化防止剤、ジラウリル−3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、スミライザーTPL(住友化学(製))、ヨシノックスDLTP(吉富製薬(製))アンチオックスL(日本油脂(製))等のイオウ系酸化防止剤などを例示できる。
本発明のホットメルト系接着剤組成物は、前記改質ブテン−1重合体20〜99質量%と粘着性付与樹脂80〜1質量%からなる。
好ましくは、改質ブテン−1重合体25〜95質量%と粘着性付与樹脂75〜5質量%からなる。
更に好ましくは、改質ブテン−1重合体30〜85質量%と粘着性付与樹脂70〜15質量%からなる。特に好ましくは、改質ブテン−1重合体35〜75質量%と粘着性付与樹脂65〜25質量%からなる。
本発明のホットメルト接着剤組成物は、前記改質ブテン−1重合体20〜99質量%と粘着性付与樹脂80〜1質量%、及び所望に応じて用いられる各種添加剤とをヘンシェルミキサー等を用いてドライブレンドし、単軸又は2軸押出機、プラストミルやバンバリーミキサー等により、溶融混練して製造することができる。
所望に応じて用いられる各種添加剤としては、前記の可塑剤、無機フィラー、酸化防止剤などが挙げられる。
本発明の方法において、改質処理される原料のブテン−1系重合体は、メタロセン系触媒を用い、ブテン−1を単独重合させることにより、あるいはブテン−1とそれ以外の炭素数2〜20のα−オレフィンとを共重合させることにより、製造することができる。
本発明においては、メタロセン系触媒のなかでも、配位子が架橋基を介して架橋構造を形成している遷移金属化合物を用いたものが好ましく、なかでも、2個の架橋基を介して架橋構造を形成している遷移金属化合物と助触媒を組み合わせて得られるメタロセン系触媒を用いてブテン−1を単独重合させる方法又はブテン−1とそれ以外の炭素数2〜20のα−オレフィンを共重合させる方法が更に好ましい。
具体的に例示すれば、
(A)一般式(I)
〔式中、Mは周期律表第3〜10族又はランタノイド系列の金属元素を示し、E1及びE2はそれぞれ置換シクロペンタジエニル基,インデニル基,置換インデニル基,ヘテロシクロペンタジエニル基,置換ヘテロシクロペンタジエニル基,アミド基,ホスフィド基,炭化水素基及び珪素含有基の中から選ばれた配位子であって、A1及びA2を介して架橋構造を形成しており、又、それらは互いに同一でも異なっていてもよく、Xはσ結合性の配位子を示し、Xが複数ある場合、複数のXは同じでも異なっていてもよく、他のX,E1,E2又はYと架橋していてもよい。Yはルイス塩基を示し、Yが複数ある場合、複数のYは同じでも異なっていてもよく、他のY,E1,E2又はXと架橋していてもよく、A1及びA2は二つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−O−、−CO−、−S−、−SO2−、−Se−、−NR1−、−PR1−、−P(O)R1−、−BR1−又は−AlR1−を示し、R1は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜20の炭化水素基又は炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。qは1〜5の整数で〔(Mの原子価)−2〕を示し、rは0〜3の整数を示す。〕
で表される遷移金属化合物、及び(B)(B−1)該(A)成分の遷移金属化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物及び(B−2)アルミノキサンから選ばれる成分を含有する重合用触媒の存在下、ブテン−1を単独重合させる方法、又はブテン−1とそれ以外の炭素数2〜20のα−オレフィンを共重合させる方法が挙げられる。
上記一般式(I)において、Mは周期律表第3〜10族又はランタノイド系列の金属元素を示し、具体例としてはチタン,ジルコニウム,ハフニウム,イットリウム,バナジウム,クロム,マンガン,ニッケル,コバルト,パラジウム及びランタノイド系金属などが挙げられるが、これらの中ではオレフィン重合活性などの点からチタン,ジルコニウム及びハフニウムが好適である。
E1及びE2は、それぞれ、置換シクロペンタジエニル基,インデニル基,置換インデニル基,ヘテロシクロペンタジエニル基,置換ヘテロシクロペンタジエニル基,アミド基(−N<),ホスフィン基(−P<),炭化水素基〔>CR−,>C<〕及び珪素含有基〔>SiR−,>Si<〕(但し、Rは水素又は炭素数1〜20の炭化水素基あるいはヘテロ原子含有基である)の中から選ばれた配位子を示し、A1及びA2を介して架橋構造を形成している。
又、E1及びE2は互いに同一でも異なっていてもよい。
このE1及びE2としては、置換シクロペンタジエニル基,インデニル基及び置換インデニル基が好ましい。
又、Xはσ結合性の配位子を示し、Xが複数ある場合、複数のXは同じでも異なっていてもよく、他のX,E1,E2又はYと架橋していてもよい。
該Xの具体例としては、ハロゲン原子,炭素数1〜20の炭化水素基,炭素数1〜20のアルコキシ基,炭素数6〜20のアリールオキシ基,炭素数1〜20のアミド基,炭素数1〜20の珪素含有基,炭素数1〜20のホスフィド基,炭素数1〜20のスルフィド基,炭素数1〜20のアシル基などが挙げられる。
一方、Yはルイス塩基を示し、Yが複数ある場合、複数のYは同じでも異なっていてもよく、他のYやE1,E2又はXと架橋していてもよい。
該Yのルイス塩基の具体例としては、アミン類,エーテル類,ホスフィン類,チオエーテル類などを挙げることができる。
次に、A1及びA2は二つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−O−、−CO−、−S−、−SO2−、−Se−、−NR1−、−PR1−、−P(O)R1−、−BR1−又は−AlR1−を示し、R1は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。
このような架橋基としては、例えば、一般式
(Dは炭素、ケイ素又はスズ、R2及びR3はそれぞれ水素原子又は炭素数1〜20の炭化水素基で、それらは互いに同一でも異なっていてもよく、又、互いに結合して環構造を形成していてもよい。eは1〜4の整数を示す。)
で表されるものが挙げられ、その具体例としては、メチレン基,エチレン基,エチリデン基,プロピリデン基,イソプロピリデン基,シクロヘキシリデン基,1,2−シクロヘキシレン基,ビニリデン基(CH2=C=),ジメチルシリレン基,ジフェニルシリレン基,メチルフェニルシリレン基,ジメチルゲルミレン基,ジメチルスタニレン基,テトラメチルジシリレン基,ジフェニルジシリレン基などを挙げることができる。
これらの中で、エチレン基,イソプロピリデン基及びジメチルシリレン基が好適である。
qは1〜5の整数で〔(Mの原子価)−2〕を示し、rは0〜3の整数を示す。
このような一般式(I)で表される遷移金属化合物の中では、一般式(II)
で表される二重架橋型ビスシクロペンタジエニル誘導体を配位子とする遷移金属化合物が好ましい。
上記一般式(II)において、M,A1,A2,q及びrは上記と同じである。
X1はσ結合性の配位子を示し、X1が複数ある場合、複数のX1は同じでも異なっていてもよく、他のX1又はY1と架橋していてもよい。
このX1の具体例としては、一般式(I)のXの説明で例示したものと同じものを挙げることができる。
Y1はルイス塩基を示し、Y1が複数ある場合、複数のY1は同じでも異なっていてもよく、他のY1又はX1と架橋していてもよい。
このY1の具体例としては、一般式(I)のYの説明で例示したものと同じものを挙げることができる。
R4〜R9はそれぞれ水素原子,ハロゲン原子,炭素数1〜20の炭化水素基,炭素数1〜20のハロゲン含有炭化水素基,珪素含有基又はヘテロ原子含有基を示すが、その少なくとも一つは水素原子でないことが必要である。
又、R4〜R9は互いに同一でも異なっていてもよく、隣接する基同士が互いに結合して環を形成していてもよい。
なかでも、R6とR7は環を形成していること及びR8とR9は環を形成していることが好ましい。
R4及びR5としては、酸素、ハロゲン、珪素等のヘテロ原子を含有する基が重合活性が高くなり好ましい。
この二重架橋型ビスシクロペンタジエニル誘導体を配位子とする遷移金属化合物は、配位子間の架橋基にケイ素を含むものが好ましい。
一般式(I)で表される遷移金属化合物の具体例としては、(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−メチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−イソプロピリデン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(3−メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(4−イソプロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(5,6−ジメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(4,7−ジイソプロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(4−フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(3−メチル−4−イソプロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(5,6−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−エチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(3−メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(3−n−ブチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(3−i−プロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(3−フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(4,5−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(4−イソプロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(5,6−ジメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(4,7−ジ−i−プロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(4−フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(3−メチル−4−i−プロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)ビス(5,6−ベンゾインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3−メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3−i−プロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3−n−ブチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3−トリメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)−ビス(3−フェニルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−i−プロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−n−ブチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−トリメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジフェニルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジフェニルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−メチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジフェニルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−i−プロピルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジフェニルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−n−ブチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジフェニルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジフェニルシリレン)(2,1’−メチレン)−ビス(3−トリメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)(3−メチルシクロペンタジエニル)(3’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3−メチルシクロペンタジエニル)(3’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−エチレン)(3−メチルシクロペンタジエニル)(3’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−メチレン)(3−メチルシクロペンタジエニル)(3’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3−メチルシクロペンタジエニル)(3’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−メチレン)(3−メチルシクロペンタジエニル)(3’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3−メチルシクロペンタジエニル)(3’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−イソプロピリデン)(2,1’−イソプロピリデン)(3−メチルシクロペンタジエニル)(3’−メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(3’,4’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(3’,4’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−エチレン)(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(3’,4’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−メチレン)(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(3’,4’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(3’,4’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−メチレン)(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(3’,4’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(3’,4’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−イソプロピリデン)(2,1’−イソプロピリデン)(3,4−ジメチルシクロペンタジエニル)(3’,4’−ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)(3−メチル−5−エチルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)(3−メチル−5−エチルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)(3−メチル−5−イソプロピルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−イソプロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)(3−メチル−5−n−ブチルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)(3−メチル−5−フェニルシクロペンジエニル)(3’−メチル−5’−フェニルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3−メチル−5−エチルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3−メチル−5−i−プロピルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−i−プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3−メチル−5−n−ブチルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3−メチル−5−フェニルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−フェニルシクロペンジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−エチレン)(3−メチル−5−エチルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−エチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−エチレン)(3−メチル−5−i−プロピルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−i−プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−エチレン)(3−メチル−5−n−ブチルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−エチレン)(3−メチル−5−フェニルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−フェニルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−メチレン)(3−メチル−5−エチルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−エチルシクロペンジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−メチレン)(3−メチル−5−i−プロピルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−i−プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−メチレン)(3−メチル−5−n−ブチルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−n−ブチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−メチレン)(3−メチル−5−フェニルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−フェニルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−メチレン)(3−メチル−5−i−プロピルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−i−プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−エチレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3−メチル−5−i−プロピルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−i−プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−メチレン)(3−メチル−5−i−プロピルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−i−プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド,(1,2’−メチレン)(2,1’−イソプロピリデン)(3−メチル−5−i−プロピルシクロペンタジエニル)(3’−メチル−5’−i−プロピルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジメチルシリレン)(2,2’−ジメチルシリレン)ビスインデニルジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジフェニルシリレン)(2,2’−ジメチルシリレン)ビスインデニルジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジメチルシリレン)(2,2’−ジメチルシリレン)ビスインデニルジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジイソプロピルシリレン)(2,2’−ジメチルシリレン)ビスインデニルジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジメチルシリレン)(2,2’−ジイソプロピルシリレン)ビスインデニルジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジメチルシリレンインデニル)(2,2’−ジメチルシリレン−3−トリメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジフェニルシリレンインデニル)(2,2’−ジフェニルシリレン−3−トリメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジフェニルシリレンインデニル)(2,2’−ジメチルシリレン−3−トリメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジメチルシリレンインデニル)(2,2’−ジフェニルシリレン−3−トリメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジイソプロピルシリレンインデニル)(2,2’−ジメチルシリレン−3−トリメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジメチルシリレンインデニル)(2,2’−ジイソプロピルシリレン−3−トリメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジイソプロピルシリレンインデニル)(2,2’−ジイソプロピルシリレン−3−トリメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジメチルシリレンインデニル)(2,2’−ジメチルシリレン−3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジフェニルシリレンインデニル)(2,2’−ジフェニルシリレン−3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジフェニルシリレンインデニル)(2,2’−ジメチルシリレン−3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジメチルシリレンインデニル)(2,2’−ジフェニルシリレン−3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジイソプロピルシリレンインデニル)(2,2’−ジメチルシリレン−3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジメチルシリレンインデニル)(2,2’−ジイソプロピルシリレン−3−トリメチルメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリド、(1,1’−ジイソプロピルシリレンインデニル)(2,2’−ジイソプロピルシリレン−3−トリメチルメチルシリルインデニル)ジルコニウムジクロリドなど及びこれらの化合物におけるジルコニウムをチタン又はハフニウムに置換したものを挙げることができる。もちろん、これらに限定されるものではない。
又、他の族又はランタノイド系列の金属元素の類似化合物であってもよい。
又、上記化合物において、(1,1’−)(2,2’−)が(1,2’−)(2,1’−)であってもよく、(1,2’−)(2,1’−)が(1,1’−)(2,2’−)であってもよい。
次に、(B)成分のうちの(B−1)成分としては、上記(A)成分の遷移金属化合物と反応して、イオン性の錯体を形成しうる化合物であれば、いずれのものでも使用できるが、次の一般式(III),(IV)
(ただし、L2はM2、R11R12M3、R13 3C又はR14M3である。)〔(III),(IV)式中、L1はルイス塩基、〔Z〕−は、非配位性アニオン〔Z1〕−及び〔Z2〕−、ここで、〔Z1〕−は複数の基が元素に結合したアニオン、即ち、〔M1G1G2・・・Gf〕−(ここで、M1は周期律表第5〜15族元素、好ましくは周期律表第13〜15族元素を示す。G1〜Gfはそれぞれ水素原子,ハロゲン原子,炭素数1〜20のアルキル基,炭素数2〜40のジアルキルアミノ基,炭素数1〜20のアルコキシ基,炭素数6〜20のアリール基,炭素数6〜20のアリールオキシ基,炭素数7〜40のアルキルアリール基,炭素数7〜40のアリールアルキル基,炭素数1〜20のハロゲン置換炭化水素基,炭素数1〜20のアシルオキシ基,有機メタロイド基、又は炭素数2〜20のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。G1〜Gfのうち2つ以上が環を形成していてもよい。fは、〔(中心金属M1の原子価)+1〕の整数を示す。)、〔Z2〕−は、酸解離定数の逆数の対数(pKa)が−10以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基、あるいは一般的に超強酸と定義される酸の共役塩基を示す。又、ルイス塩基が配位していてもよい。又、R10は水素原子,炭素数1〜20のアルキル基,炭素数6〜20のアリール基,アルキルアリール基又はアリールアルキル基を示し、R11及びR12はそれぞれシクロペンタジエニル基,置換シクロペンタジエニル基,インデニル基又はフルオレニル基、R13は炭素数1〜20のアルキル基,アリール基,アルキルアリール基又はアリールアルキル基を示す。R14はテトラフェニルポルフィリン,フタロシアニン等の大環状配位子を示す。kは〔L1−R10〕,〔L2〕のイオン価数で1〜3の整数、aは1以上の整数、b=(k×a)である。M2は、周期律表第1〜3、11〜13、17族元素を含むものであり、M3は、周期律表第7〜12族元素を示す。〕
で表されるものを好適に使用することができる。
ここで、L1の具体例としては、アンモニア,メチルアミン,アニリン,ジメチルアミン,ジエチルアミン,N−メチルアニリン,ジフェニルアミン,N,N−ジメチルアニリン,トリメチルアミン,トリエチルアミン,トリ−n−ブチルアミン,メチルジフェニルアミン,ピリジン,p−ブロモ−N,N−ジメチルアニリン,p−ニトロ−N,N−ジメチルアニリンなどのアミン類、トリエチルホスフィン,トリフェニルホスフィン,ジフェニルホスフィンなどのホスフィン類、テトラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、安息香酸エチルなどのエステル類、アセトニトリル,ベンゾニトリルなどのニトリル類などを挙げることができる。
R10の具体例としては水素,メチル基,エチル基,ベンジル基,トリチル基などを挙げることができ、R11,R12の具体例としては、シクロペンタジエニル基,メチルシクロペンタジエニル基,エチルシクロペンタジエニル基,ペンタメチルシクロペンタジエニル基などを挙げることができる。
R13の具体例としては、フェニル基,p−トリル基,p−メトキシフェニル基などを挙げることができ、R14の具体例としてはテトラフェニルポルフィン,フタロシアニン,アリル,メタリルなどを挙げることができる。
又、M2の具体例としては、Li,Na,K,Ag,Cu,Br,I,I3などを挙げることができ、M3の具体例としては、Mn,Fe,Co,Ni,Znなどを挙げることができる。
又、〔Z1〕−、即ち、〔M1G1G2・・・Gf〕において、M1の具体例としてはB,Al,Si,P,As,Sbなど、好ましくはB及びAlが挙げられる。
又、G1,G2〜Gfの具体例としては、ジアルキルアミノ基としてジメチルアミノ基,ジエチルアミノ基など、アルコキシ基若しくはアリールオキシ基としてメトキシ基,エトキシ基,n−ブトキシ基,フェノキシ基など、炭化水素基としてメチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル基,イソブチル基,n−オクチル基,n−エイコシル基,フェニル基,p−トリル基,ベンジル基,4−t−ブチルフェニル基,3,5−ジメチルフェニル基など、ハロゲン原子としてフッ素,塩素,臭素,ヨウ素,ヘテロ原子含有炭化水素基としてp−フルオロフェニル基,3,5−ジフルオロフェニル基,ペンタクロロフェニル基,3,4,5−トリフルオロフェニル基,ペンタフルオロフェニル基,3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基,ビス(トリメチルシリル)メチル基など、有機メタロイド基としてペンタメチルアンチモン基、トリメチルシリル基,トリメチルゲルミル基,ジフェニルアルシン基,ジシクロヘキシルアンチモン基,ジフェニル硼素などが挙げられる。
又、非配位性のアニオン、即ち、pKaが−10以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基〔Z2〕−の具体例としてはトリフルオロメタンスルホン酸アニオン(CF3SO3)−,ビス(トリフルオロメタンスルホニル)メチルアニオン,ビス(トリフルオロメタンスルホニル)ベンジルアニオン,ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミド,過塩素酸アニオン(ClO4)−,トリフルオロ酢酸アニオン(CF3CO2)−,ヘキサフルオロアンチモンアニオン(SbF6)−,フルオロスルホン酸アニオン(FSO3)−,クロロスルホン酸アニオン(ClSO3)−,フルオロスルホン酸アニオン/5−フッ化アンチモン(FSO3/SbF5)−,フルオロスルホン酸アニオン/5−フッ化砒素(FSO3/AsF5)−,トリフルオロメタンスルホン酸/5−フッ化アンチモン(CF3SO3/SbF5)−などを挙げることができる。
このような上記(A)成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、即ち、(B−1)成分化合物の具体例としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニウム,テトラフェニル硼酸トリ−n−ブチルアンモニウム,テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム,テトラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム,テトラフェニル硼酸メチル(トリ−n−ブチル)アンモニウム,テトラフェニル硼酸ベンジル(トリ−n−ブチル)アンモニウム,テトラフェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム,テトラフェニル硼酸トリフェニル(メチル)アンモニウム,テトラフェニル硼酸トリメチルアニリニウム,テトラフェニル硼酸メチルピリジニウム,テトラフェニル硼酸ベンジルピリジニウム,テトラフェニル硼酸メチル(2−シアノピリジニウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリエチルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリ−n−ブチルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリフェニルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸テトラ−n−ブチルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸テトラエチルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ベンジル(トリ−n−ブチル)アンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチルジフェニルアンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリフェニル(メチル)アンモニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチルアニリニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ジメチルアニリニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリメチルアニリニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチルピリジニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ベンジルピリジニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチル(2−シアノピリジニウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ベンジル(2−シアノピリジニウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸メチル(4−シアノピリジニウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリフェニルホスホニウム,テトラキス〔ビス(3,5−ジトリフルオロメチル)フェニル〕硼酸ジメチルアニリニウム,テトラフェニル硼酸フェロセニウム,テトラフェニル硼酸銀,テトラフェニル硼酸トリチル,テトラフェニル硼酸テトラフェニルポルフィリンマンガン,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸フェロセニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸(1,1’−ジメチルフェロセニウム),テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸デカメチルフェロセニウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸銀、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸トリチル,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸リチウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸ナトリウム,テトラキス(ペンタフルオロフェニル)硼酸テオラフェニルポルフィリンマンガン,テトラフルオロ硼酸銀,ヘキサフルオロ燐酸銀,ヘキサフルオロ砒素酸銀,過塩素酸銀,トリフルオロ酢酸銀,トリフルオロメタンスルホン酸銀などを挙げることができる。
(B−1)は一種用いてもよく、又二種以上を組み合わせて用いてもよい。
一方、(B−2)成分のアルミノキサンとしては、一般式(V)
(式中、R15は炭素数1〜20、好ましくは1〜12のアルキル基,アルケニル基,アリール基,アリールアルキル基などの炭化水素基あるいはハロゲン原子を示し、wは平均重合度を示し、通常2〜50、好ましくは2〜40の整数である。尚、各R15は同じでも異なっていてもよい。)で示される鎖状アルミノキサン、及び一般式(VI)
(式中、R15及びwは上記一般式(V)におけるものと同じである。)で示される環状アルミノキサンを挙げることができる。
上記アルミノキサンの製造法としては、アルキルアルミニウムと水などの縮合剤とを接触させる方法が挙げられるが、その手段については、特に限定はなく、公知の方法に準じて反応させればよい。
例えば、▲1▼有機アルミニウム化合物を有機溶剤に溶解しておき、これを水と接触させる方法、▲2▼重合時に当初有機アルミニウム化合物を加えておき、後に水を添加する方法、▲3▼金属塩などに含有されている結晶水、無機物や有機物への吸着水を有機アルミニウム化合物と反応させる方法、▲4▼テトラアルキルジアルミノキサンにトリアルキルアルミニウムを反応させ、更に水を反応させる方法などがある。
尚、アルミノキサンとしては、トルエン不溶性のものであってもよい。
これらのアルミノキサンは一種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
(A)触媒成分と(B)触媒成分との使用割合は、(B)触媒成分として(B−1)化合物を用いた場合には、モル比で好ましくは10:1〜1:100、より好ましくは2:1〜1:10の範囲が望ましく、上記範囲を逸脱する場合は、単位重量ポリマーあたりの触媒コストが高くなり、実用的でない。
又、(B−2)化合物を用いた場合には、モル比で好ましくは1:1〜1:1000000、より好ましくは1:10〜1:10000の範囲が望ましい。この範囲を逸脱する場合は単位重量ポリマーあたりの触媒コストが高くなり、実用的でない。
又、触媒成分(B)としては(B−1),(B−2)を単独又は二種以上組み合わせて用いることもできる。
本発明で用いるブテン−1系重合体の製造方法における重合用触媒は、上記(A)成分及び(B)成分に加えて(C)成分として有機アルミニウム化合物を用いることができる。
ここで、(C)成分の有機アルミニウム化合物としては、一般式(VII)
〔式中、R16は炭素数1〜10のアルキル基、Jは水素原子、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数6〜20のアリール基又はハロゲン原子を示し、vは1〜3の整数である〕
で示される化合物が用いられる。
上記一般式(VII)で示される化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム,トリエチルアルミニウム,トリイソプロピルアルミニウム,トリイソブチルアルミニウム,ジメチルアルミニウムクロリド,ジエチルアルミニウムクロリド,メチルアルミニウムジクロリド,エチルアルミニウムジクロリド,ジメチルアルミニウムフルオリド,ジイソブチルアルミニウムヒドリド,ジエチルアルミニウムヒドリド,エチルアルミニウムセスキクロリド等が挙げられる。
これらの有機アルミニウム化合物は一種用いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。
本発明で用いるブテン−1系重合体の製造方法においては、上述した(A)成分、(B)成分及び(C)成分を用いて予備接触を行なうこともできる。
予備接触は、(A)成分に、例えば、(B)成分を接触させることにより行なうことができるが、その方法に特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。
これら予備接触により触媒活性の向上や、助触媒である(B)成分の使用割合の低減など、触媒コストの低減に効果的である。
又、更に、(A)成分と(B−2)成分を接触させることにより、上記効果と共に、分子量向上効果も見られる。
又、予備接触温度は、通常−20℃〜200℃、好ましくは−10℃〜150℃、より好ましくは、0℃〜80℃である。
予備接触においては、溶媒の不活性炭化水素として、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素などを用いることができる。
これらの中で特に好ましいものは、脂肪族炭化水素である。
上記(A)触媒成分と(C)触媒成分との使用割合は、モル比で好ましくは1:1〜1:10000、より好ましくは1:5〜1:2000、更に好ましくは1:10ないし1:1000の範囲が望ましい。
該(C)触媒成分を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性を向上させることができるが、あまり多いと有機アルミニウム化合物が無駄になるとともに、重合体中に多量に残存し、好ましくない。
本発明においては、触媒成分の少なくとも一種を適当な担体に担持して用いることができる。
該担体の種類については特に制限はなく、無機酸化物担体、それ以外の無機担体及び有機担体のいずれも用いることができるが、特に無機酸化物担体あるいはそれ以外の無機担体が好ましい。
無機酸化物担体としては、具体的には、SiO2,Al2O3,MgO,ZrO2,TiO2,Fe2O3,B2O3,CaO,ZnO,BaO,ThO2やこれらの混合物、例えば、シリカアルミナ,ゼオライト,フェライト,グラスファイバーなどが挙げられる。
これらの中では、特にSiO2,Al2O3が好ましい。
尚、上記無機酸化物担体は、少量の炭酸塩,硝酸塩,硫酸塩などを含有してもよい。
一方、上記以外の担体として、MgCl2,Mg(OC2H5)2などで代表される一般式MgR17 xX2 yで表されるマグネシウム化合物やその錯塩などを挙げることができる。
ここで、R17は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のアルコキシ基又は炭素数6〜20のアリール基、X2はハロゲン原子又は炭素数1〜20のアルキル基を示し、xは0〜2、yは0〜2でり、かつx+y=2である。各R17及び各X2はそれぞれ同一でもよく、又異なってもいてもよい。
又、有機担体としては、ポリスチレン,スチレン−ジビニルベンゼン共重合体,ポリエチレン,ポリ1−ブテン,置換ポリスチレン,ポリアリレートなどの重合体やスターチ,カーボンなどを挙げることができる。
本発明において用いられる担体としては、MgCl2,MgCl(OC2H5),Mg(OC2H5)2,SiO2,Al2O3などが好ましい。
又、担体の性状は、その種類及び製法により異なるが、平均粒径は通常1〜300μm、好ましくは10〜200μm、より好ましくは20〜100μmである。
粒径が小さいと重合体中の微粉が増大し、粒径が大きいと重合体中の粗大粒子が増大し嵩密度の低下やホッパーの詰まりの原因になる。
又、担体の比表面積は、通常1〜1000m2/g、好ましくは50〜500m2/g、細孔容積は通常0.1〜5cm3/g、好ましくは0.3〜3cm3/gである。
比表面積又は細孔容積のいずれかが上記範囲を逸脱すると、触媒活性が低下することがある。
尚、比表面積及び細孔容積は、例えば、BET法に従って吸着された窒素ガスの体積から求めることができる。
更に、上記担体が無機酸化物担体である場合には、通常150〜1000℃、好ましくは200〜800℃で焼成して用いることが望ましい。
触媒成分の少なくとも一種を上記担体に担持させる場合、(A)触媒成分及び(B)触媒成分の少なくとも一方を、好ましくは(A)触媒成分及び(B)触媒成分の両方を担持させるのが望ましい。
該担体に、(A)成分及び(B)成分の少なくとも一方を担持させる方法については、特に制限されないが、例えば、▲1▼(A)成分及び(B)成分の少なくとも一方と担体とを混合する方法、▲2▼担体を有機アルミニウム化合物又はハロゲン含有ケイ素化合物で処理した後、不活性溶媒中で(A)成分及び(B)成分の少なくとも一方と混合する方法、▲3▼担体と(A)成分及び/又は(B)成分と有機アルミニウム化合物又はハロゲン含有ケイ素化合物とを反応させる方法、▲4▼(A)成分又は(B)成分を担体に担持させた後、(B)成分又は(A)成分と混合する方法、▲5▼(A)成分と(B)成分との接触反応物を担体と混合する方法、▲6▼(A)成分と(B)成分との接触反応に際して、担体を共存させる方法などを用いることができる。
尚、上記▲4▼、▲5▼及び▲6▼の反応において、(C)成分の有機アルミニウム化合物を添加することもできる。
本発明においては、上記(A),(B),(C)を接触させる際に、弾性波を照射させて触媒を調製してもよい。
弾性波としては、通常音波、特に好ましくは超音波が挙げられる。
具体的には、周波数が1〜1000kHzの超音波、好ましくは10〜500kHzの超音波が挙げられる。
このようにして得られた触媒は、いったん溶媒留去を行って固体として取り出してから重合に用いてもよいし、そのまま重合に用いてもよい。
又、本発明においては、(A)成分及び(B)成分の少なくとも一方の担体への担持操作を重合系内で行うことにより触媒を生成させることができる。
例えば、(A)成分及び(B)成分の少なくとも一方と担体と更に必要により上記(C)成分の有機アルミニウム化合物を加え、エチレンなどのオレフィンを常圧〜2MPa(gauge)加えて、−20〜200℃で1分〜2時間程度予備重合を行い触媒粒子を生成させる方法を用いることができる。
本発明においては、(B−1)成分と担体との使用割合は、重量比で好ましくは1:5〜1:10000、より好ましくは1:10〜1:500とするのが望ましく、(B−2)成分と担体との使用割合は、重量比で好ましくは1:0.5〜1:1000、より好ましくは1:1〜1:50とするのが望ましい。
(B)成分として二種以上を混合して用いる場合は、各(B)成分と担体との使用割合が重量比で上記範囲内にあることが望ましい。
又、(A)成分と担体との使用割合は、重量比で、好ましくは1:5〜1:10000、より好ましくは1:10〜1:500とするのが望ましい。
(B)成分〔(B−1)成分又は(B−2)成分〕と担体との使用割合、又は(A)成分と担体との使用割合が上記範囲を逸脱すると、活性が低下することがある。
このようにして調製された重合用触媒の平均粒径は、通常2〜200μm、好ましくは10〜150μm、特に好ましくは20〜100μmであり、比表面積は、通常20〜1000m2/g、好ましくは50〜500m2/gである。
平均粒径が2μm未満であると重合体中の微粉が増大することがあり、200μmを超えると重合体中の粗大粒子が増大することがある。
比表面積が20m2/g未満であると活性が低下することがあり、1000m2/gを超えると重合体の嵩密度が低下することがある。
又、本発明で用いる触媒において、担体100g中の遷移金属量は、通常0.05〜10g、特に0.1〜2gであることが好ましい。
遷移金属量が上記範囲外であると、活性が低くなることがある。
このように担体に担持することによって工業的に有利な高い嵩密度と優れた粒径分布を有する重合体を得ることができる。
本発明で用いるブテン−1系重合体は、上述した重合用触媒を用いて、ブテン−1を単独重合、又はブテン−1とそれ以外の炭素数2〜20のα−オレフィンとを共重合させることにより製造される。
この場合、重合方法は特に制限されず、スラリー重合法,気相重合法,塊状重合法,溶液重合法,懸濁重合法などのいずれの方法を用いてもよいが、溶液重合法が特に好ましい。
重合条件については、重合温度は通常−100〜250℃、好ましくは−50〜200℃、より好ましくは0〜130℃である。
又、反応原料に対する触媒の使用割合は、原料モノマー/上記(A)成分(モル比)が好ましくは1〜108、特に100〜105となることが好ましい。
更に、重合時間は通常5分〜10時間、反応圧力は好ましくは常圧〜20MPa(gauge)、更に好ましくは常圧〜10MPa(gauge)である。
重合体の分子量の調節方法としては、各触媒成分の種類,使用量,重合温度の選択、更には水素存在下での重合などがある。
重合溶媒を用いる場合、例えば、ベンゼン,トルエン,キシレン,エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素、シクロペンタン,シクロヘキサン,メチルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、ペンタン,ヘキサン,ヘプタン,オクタンなどの脂肪族炭化水素、クロロホルム,ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素などを用いることができる。
これらの溶媒は一種を単独で用いてもよく、二種以上のものを組み合わせてもよい。
又、α−オレフィンなどのモノマーを溶媒として用いてもよい。
尚、重合方法によっては無溶媒で行うことができる。
重合に際しては、上記重合用触媒を用いて予備重合を行うことができる。
予備重合は、固体触媒成分に、例えば、少量のオレフィンを接触させることにより行うことができるが、その方法に特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。
予備重合に用いるオレフィンについては特に制限はなく、上記に例示したものと同様のもの、例えば、炭素数2〜20のα−オレフィン、あるいはこれらの混合物などを挙げることができるが、該重合において用いるオレフィンと同じオレフィンを用いることが有利である。
又、予備重合温度は、通常−20〜200℃、好ましくは−10〜130℃、より好ましくは0〜80℃である。
予備重合においては、溶媒として、脂肪族炭化水素,芳香族炭化水素,モノマーなどを用いることができる。
これらの中で特に好ましいのは脂肪族炭化水素である。
又、予備重合は無溶媒で行ってもよい。
予備重合においては、予備重合生成物の極限粘度[η](135℃デカリン中で測定)が0.2デシリットル/g以上、特に0.5デシリットル/g以上、触媒中の遷移金属成分1ミリモル当たりに対する予備重合生成物の量が1〜10000g、特に10〜1000gとなるように条件を調整することが望ましい。
実施例
以下に、実施例に基づいて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものではない。
製造例1(ブテン−1単独重合体の製造)
(1)錯体の合成
(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)−ビス(3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロライドの合成
シュレンク瓶に(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)−ビス(インデン)のリチウム塩の3.0g(6.97mmモル)をテトラヒドロフラン(THF)50ミリリットルに溶解し−78℃に冷却した。
ヨードメチルトリメチルシラン2.1ミリリットル(14.2ミリモル)をゆっくりと滴下し室温で12時間攪拌した。
溶媒を留去しエーテル50ミリリットルを加えて、飽和塩化アンモニウム溶液で洗浄した。
分液後、有機相を乾燥し、溶媒を除去して(、1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)−ビス(3−トリメチルシリルメチルインデン)を3.04g(5.88ミリモル)を得た(収率84%)。
次に、窒素気流下においてシュレンク瓶に上記で得られた(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)−ビス(3−トリメチルシリルメチルインデン)3.04g(5.88ミリモル)とエーテル50ミリリットルを入れた。
−78℃に冷却しn−BuLiヘキサン溶液(1.54モル/リットル)を7.6ミリリットル(11.7ミリモル)加えた後、室温で12時間攪拌した。
溶媒を留去し、得られた固体をヘキサン40ミリリットルで洗浄することによりリチウム塩をエーテル付加体として3.06g(5.07ミリモル)を得た(収率73%)。
1H−NMR(90MHz,THF−d8)による測定の結果は、:δ0.04(s,18H,トリメチルシリル),0.48(s,12H,ジメチルシリレン),1.10(t,6H,メチル),2.59(s,4H,メチレン),3.38(q,4H,メチレン),6.2−7.7(m,8H,Ar−H)であった。
窒素気流下で上記で得られたリチウム塩をトルエン50ミリリットルに溶解した。
−78℃に冷却し、ここへ予め−78℃に冷却した四塩化ジルコニウム1.2g(5.1ミリモル)のトルエン(20ミリリットル)懸濁液を滴下した。
滴下後、室温で6時間攪拌した。
その反応溶液の溶媒を留去した。得られた残渣をジクロロメタンより再結晶化することにより(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)−ビス(3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロライドを0.9g(1.33ミリモル)を得た(収率26%)。
1H−NMR(90MHz,CDCl3)による測定の結果は、:δ0.0(s,18H,トリメチルシリル),1.02,1.12(s,12H,ジメチルシリレン),2.51(dd,4H,メチレン),7.1−7.6(m,8H,Ar−H)であった。
(2)ブテン−1単独重合体の製造
加熱乾燥した10リットルオートクレーブにヘプタン4リットル、ブテン−12.5kg、トリイソブチルアルミニウム10ミリモル、メチルアルミノキサン10ミリモルを加え,更に水素を0.05MPa導入した。
攪拌しながら温度を60℃にした後,上記(1)で調製した触媒の(1,2’−ジメチルシリレン)(2,1’−ジメチルシリレン)−ビス(3−トリメチルシリルメチルインデニル)ジルコニウムジクロライドを10マイクロモル加え,60分間重合した。
重合反応終了後、反応物を減圧下で乾燥することにより、ブテン−1単独重合体990gを得た。
得られたブテン−1単独重合体の樹脂特性の評価結果は次の通りであった。
メソペンタッド分率〔mmmm〕 :モル% 71.6
ラセミトリアッド分率〔rr〕 :モル% 4.6
90−2×〔rr〕 80.8
立体規則性指数 〔mmmm〕/(〔mmrr〕+〔rmmr〕)8
重量平均分子量(Mw) 51×104
分子量分布(Mw/Mn) 2.0
融点(Tm−D:DSC測定):℃ 73
CII:% 0
尚、上記樹脂特性は以下のようにして測定した。
▲1▼メソペンタッド分率、ラセミトリアッド分率、及び立体規則性指数の測定
明細書本文中に記載した方法により測定した。
▲2▼重量平均分子量(Mw)及び分子量分布(Mw/Mn)の測定
明細書本文中に記載した方法により測定した。
▲3▼DSC測定(融点:Tm−Dの測定)
示差走査型熱量計(パーキン・エルマー社製,DSC−7)を用い、明細書本文中に記載した方法により測定した。
▲4▼II型結晶分率(CII)の測定
明細書本文中に記載した方法により測定した。
製造例2(低分子量ブテン−1単独重合体の製造)
製造例1(2)のブテン−1単独重合体の製造において、水素量を0.4MPaにした以外は、同じ条件にて実施した。
得られたブテン−1単独重合体の樹脂特性の評価結果は次の通りであった。
メソペンタッド分率〔mmmm〕:モル% 72.0
重量平均分子量(MW) 65、000
分子量分布(Mw/Mn) 1.9
実施例1
1リットルのジムロート管付きのナスフラスコに、製造例1で得られたブテン−1単独重合体5.0g及びp−キシレン200ミリリットルを投入し、80℃で30分間攪拌した。
その後、有機過酸化物α,α’ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン(日本油脂社製「パーブチルP」)0.01g及び無水マレイン酸0.1gを投入し、140℃で60分間加熱攪拌した。
加熱終了後、室温になるまで放置した後、メタノール2リットルに投入し、沈殿物をろ別、乾燥することにより、改質ブテン−1単独重合体を得た。
次に、上記改質ブテン−1単独重合体を用いて、下記の方法でぬれ張力試験(表面張力の測定)、接着試験評価と酸変性量の測定を実施した。
その結果を第1表に示す。
<ぬれ張力試験>
プラスチックフィルム表面の、インク、コーティング又は接着剤などを保持する能力の尺度となるぬれ張力を評価した。
プラスチックフィルム表面のぬれ張力が増加すると、インク、コーティング又は接着剤などの保持能力が向上することが経験的に知られている。
評価は、JIS K6768に規定されている「プラスチック−フィルム及びシート−ぬれ張力試験方法」に従い実施した。
前記で得た改質ブテン−1重合体をテフロンシートで挟み、0.3mmのスペーサーを用いて230℃でプレスして、評価用フィルムを作成した。
フィルムは室温で8時間以上放置した。
試験用混合液として、和光純薬工業(株)製のぬれ張力試験用混合液を用い、綿棒に混合液を含ませてフィルムに塗布し、2秒経過した時点で液膜が破れを生じないで、元の状態を維持しているときを「ぬれている」と判定した。
表面張力が小さい試験用混合液から順次試験を行ない、「ぬれている」と判定された最大の混合液の表面張力をフィルムのぬれ張力とした。
<接着性試験評価>
接着性試験評価は、はく離接着強さ試験方法(JIS K6854)に準拠して実施した。
前記で得た改質ブテン−1重合体をガラス製サンプル管に入れ、200℃のオイルバスで加熱して溶解させた。
この重合体を幅30mm、長さ150mm、厚さ0.5mmの短冊型アルミ板の下端から100mmにガラス棒で均一に塗布した。
同型のアルミ板を上から重ねて、直ちに200℃の熱プレス機を用いて,5MPaの圧力で3分間圧着した。
この試験片を室温で8時間以上放置した後、T形剥離試験を行なった。
測定には、島津製作所製オートグラフDCS−2000を用いて、引張速度100mm/分での最大点荷重を接着強度とした。
又、以下の基準で、試験後の引き剥がし面の状態観察を行なった。
◎:引き剥がし不能
○:接着面の80%以上が材料破壊により剥離した。
△:接着面の80%未満が材料破壊した。
×:界面により剥離した(材料破壊がなく、塗布サンプルは塗布面の全てに残存した)
<酸変性量の測定>
酸変性量の求め方は、変性する前のブテン−1系重合体と有機酸とのブレンド物を0.1mmのスペーサーを用いてプレスしIRを測定し、特徴的なカルボニル(1600〜1900cm−1)の吸収量と有機酸の仕込量とから検量線を作成し、酸変性体のプレス板のIR測定を行い、変性率を決定した。
IR測定機器:日本分光株式会社製 FT/IR−5300
実施例2
製造例1で得られたブテン−1単独重合体を5mm以内にはさみでカットしたもの500gと、無水マレイン酸1.5g及び有機過酸化物2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3(日本油脂社製「パーヘキシン25B」)0.1gをよく混合し、東洋精機製作所製のラボプラストミル二軸押出機「2D25W型」を用いて、樹脂温度180℃にて押出して、改質ブテン−1単独重合体のペレットを得た。
次に、このペレットを用いて、実施例1と同様にしてぬれ性試験、接着性試験と酸変性量の測定を実施した。
その結果を第1表に示す。
実施例3
実施例2において、無水マレイン酸の使用量を5gに、「パーヘキシン25B」の使用量を0.2gに変更し、かつ、スチレン5gを加えた以外は、実施例2と同様に実施し、改質ブテン−1単独重合体のペレットを得ると共に、ぬれ性試験、接着性試験と酸変性量の測定を実施した。
その結果を第1表に示す。
実施例4
製造例2で得られたブテン−1単独重合体150gを1リットル攪拌翼付セパラブル三つ口フラスコに入れ、160℃に昇温した後、過酸化ジ−t−ブチル0.94ml、無水マレイン酸2.0gを添加した。
約30分攪拌後、ステンレスバットに投入し、放冷後、改質ブテン−1単独重合体を得た。
次に、上記改質ブテン−1単独重合体を用いてプレス成形し、得られた成形体について、下記の方法でぬれ性試験(表面張力の測定)、接着性試験と酸変性量の測定を実施した。
その結果を第1表に示す。
実施例5
無水マレイン酸2.0gをアクリル酸15.0gに変更した他は、実施例4と同様にして改質ブテン−1単独重合体を得た。
次に、上記改質ブテン−1単独重合体を用いてプレス成形し、得られた成形体について、下記の方法でぬれ性試験(表面張力の測定)、接着性試験と酸変性量の測定を実施した。
その結果を第1表に示す。
実施例6
過酸化ジ−t−ブチルを1.88mlとし、アクリル酸45gを45分間かけて添加した他は、実施例4と同様にして改質ブテン−1単独重合体を得た。
次に、上記改質ブテン−1単独重合体を用いてプレス成形し、得られた成形体について、下記の方法でぬれ性試験(表面張力の測定)、接着性試験と酸変性量の測定を実施した。
その結果を第1表に示す。
比較例1
製造例1で得られたブテン−1単独重合体を、そのままプレス成形し、実施例1と同様にしてぬれ性試験と接着性試験を実施した。
その結果を第1表に示す。
比較例1程度の表面張力では、塗装性が発現せず、成形体表面のプライマー処理やコロナ処理が必要である。
一方、実施例程度の表面張力が得られると、上記のような後処理なしでも、塗装や印刷がし易くなる。
マレイン酸変性量に関して、比較例1は酸変性されていないので、印刷性や塗装性を発現させるには、上記のような後処理が必要である。
又、フィラー等の添加物の分散性も不十分である。
一方、実施例では、好適範囲の酸変性量が得られているため、改質に用いたブテン−1単独重合体の性質を維持したまま、塗装性や印刷性そして添加物の分散性が改良される。
又、接着性試験評価の結果から、ブテン−1単独重合体を改質することにより接着強度が向上していることが分かる。
産業上の利用可能性
本発明によれば、特定の性状を有するブテン−1単独重合体又はブテン−1とそれ以外の炭素数2〜20のα−オレフィンとの共重合体からなるブテン−1系重合体を改質処理することにより、ポリオレフィンなどに高接着性、高強度、軟質性などを付与することができ、高接着性を有するシーラントや、無機フィラーなどとの相溶特性を向上させたポリオレフィンを与える改質剤などとして有用な改質ブテン−1系重合体及び該改質ブテン−1系重合体を含有する接着剤組成物を提供することができる。
特に、本発明の接着剤組成物は、金属、紙等への接着剤として有効に利用することができる。
Claims (11)
- (A)一般式(I)
で表される遷移金属化合物、及び(B)(B−1)該(A)成分の遷移金属化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物及び(B−2)アルミノキサンから選ばれる成分を含有する重合用触媒の存在下、ブテン−1を単独重合させることによって得られるブテン−1単独重合体であって、かつ、
(a)示差走査型熱量計(DSC)を用い、試料を窒素雰囲気下−10℃で5分間保持した後、10℃/分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブの最も高温側に観測されるピークのピークトップとして定義される融点(Tm−D)が0〜100℃の結晶性樹脂であって、(b)[mmmm]/([mmrr]+[rmmr])で表される立体規則性指数が20以下であり、かつ(c)重量平均分子量(Mw)が10,000〜1,000,000で、重量平均分子量/数平均分子量比(MW/Mn)が4.0以下であるブテン−1単独重合体を、ラジカル開始剤と有機酸により改質処理することを特徴とする改質ブテン−1単独重合体の製造方法。 - 一般式( II )
で表される二重架橋型ビスシクロペンタジエニル誘導体を配位子とする遷移金属化合物、及び(B)(B−1)該(A)成分の遷移金属化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物及び(B−2)アルミノキサンから選ばれる成分を含有する重合用触媒の存在下、ブテン−1を単独重合させることによって得られるブテン−1単独重合体であって、かつ、
(a)示差走査型熱量計(DSC)を用い、試料を窒素雰囲気下−10℃で5分間保持した後、10℃/分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブの最も高温側に観測されるピークのピークトップとして定義される融点(Tm−D)が0〜100℃の結晶性樹脂であって、(b)[mmmm]/([mmrr]+[rmmr])で表される立体規則性指数が20以下であり、かつ(c)重量平均分子量(Mw)が10,000〜1,000,000で、重量平均分子量/数平均分子量比(MW/Mn)が4.0以下であるブテン−1単独重合体を、ラジカル開始剤と有機酸により改質処理することを特徴とする改質ブテン−1単独重合体の製造方法。 - ブテン−1単独重合体における[mmmm](%)が、
20≦[mmmm]≦90及び[mmmm]≦90−2×[rr]
の関係を満たす請求項1又は2に記載の製造方法。 - ブテン−1単独重合体が、190℃にて5分間融解させ、氷水で急冷固化し、室温にて1時間放置した後にX線回折により分析して得られたII型結晶分率(CII)が50%以下のものである請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
- 改質処理を有機溶剤中で行う請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
- 改質処理を溶融状態で行う請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
- ラジカル開始剤として有機過酸化物を、有機酸として無水マレイン酸、アクリル酸及びアクリル酸エステルから選ばれる化合物を用いる請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
- スチレン系化合物の共存下に改質処理する請求項1〜7のいずれかに記載の製造方法。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法で得られた重量平均分子量(Mw)が10,000〜600,000であることを特徴とする改質ブテン−1単独重合体。
- 請求項9に記載の改質ブテン−1単独重合体を含有する接着剤組成物。
- ブテン−1単独重合体100質量部に対して、0.1〜50質量部の無水マレイン酸、アクリル酸及びアクリル酸エステルから選ばれる有機酸により改質処理されたものである請求項10に記載の接着剤組成物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002043543 | 2002-02-20 | ||
JP2002043543 | 2002-02-20 | ||
PCT/JP2003/001792 WO2003070786A1 (fr) | 2002-02-20 | 2003-02-19 | Procede pour produire un polymere de butene-1 modifie et polymere de butene-1 modifie obtenu grace au procede |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2003070786A1 JPWO2003070786A1 (ja) | 2005-06-09 |
JP4260635B2 true JP4260635B2 (ja) | 2009-04-30 |
Family
ID=27750530
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003569693A Expired - Fee Related JP4260635B2 (ja) | 2002-02-20 | 2003-02-19 | 改質ブテン−1系重合体の製造方法及びその方法で得られた改質ブテン−1系重合体 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7420023B2 (ja) |
EP (1) | EP1477498B1 (ja) |
JP (1) | JP4260635B2 (ja) |
AT (1) | ATE509040T1 (ja) |
WO (1) | WO2003070786A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4260635B2 (ja) | 2002-02-20 | 2009-04-30 | 出光興産株式会社 | 改質ブテン−1系重合体の製造方法及びその方法で得られた改質ブテン−1系重合体 |
WO2003070788A1 (en) * | 2002-02-21 | 2003-08-28 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Highly flowable 1-butene polymer and process for producing the same |
JP4902099B2 (ja) | 2003-10-09 | 2012-03-21 | 出光興産株式会社 | 極性基含有高級オレフィン重合体及びその製造方法 |
DE102008041277A1 (de) | 2008-08-15 | 2010-02-18 | Evonik Degussa Gmbh | Silanmodifizierte Polyolefine |
DE102008041281A1 (de) | 2008-08-15 | 2010-02-18 | Evonik Degussa Gmbh | Silanmodifizierte Polyolefine mit hohem Erweichungspunkt |
DE102008041279A1 (de) | 2008-08-15 | 2010-02-18 | Evonik Degussa Gmbh | Silanmodifizierte Polyolefine mit hohem Funktionalisierungsgrad |
DE102009027445A1 (de) | 2009-07-03 | 2011-01-05 | Evonik Degussa Gmbh | Modifizierte Polyolefine mit besonderem Eigenschaftsprofil, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE102009027446A1 (de) | 2009-07-03 | 2011-01-05 | Evonik Degussa Gmbh | Modifizierte Polyolefine mit besonderem Eigenschaftsprofil, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE102009027447A1 (de) | 2009-07-03 | 2011-01-05 | Evonik Degussa Gmbh | Modifizierte Polyolefine mit besonderem Eigenschaftsprofil, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
CN103154176B (zh) * | 2010-10-21 | 2016-08-10 | 巴塞尔聚烯烃意大利有限责任公司 | 含丁烯-1共聚物的压敏粘合剂 |
JP6270558B2 (ja) * | 2014-03-13 | 2018-01-31 | 三井化学株式会社 | コーティング剤 |
WO2017130895A1 (ja) * | 2016-01-28 | 2017-08-03 | 三井化学株式会社 | ブテン系重合体、樹脂組成物および成形体 |
JP2017197651A (ja) * | 2016-04-27 | 2017-11-02 | 出光興産株式会社 | 変性オレフィン系重合体及びその製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2917531A1 (de) * | 1978-05-03 | 1979-11-08 | Ato Chimie | Polymere klebstoffe auf der grundlage von modifizierten mischpolymerisaten von aethylen und vinylestern oder acrylestern und/oder modifizierten ataktischen polyolefinen sowie klebmassen, die derartige substanzen enthalten |
JPS59206415A (ja) * | 1983-05-11 | 1984-11-22 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 1−ブテンの重合方法 |
JPS619477A (ja) * | 1984-06-22 | 1986-01-17 | Du Pont Mitsui Polychem Co Ltd | 接着性組成物 |
JPH06104699B2 (ja) * | 1985-11-20 | 1994-12-21 | 三井石油化学工業株式会社 | 1―ブテン系ランダム共重合体およびそれからなる熱可塑性樹脂用ヒートシール性改善剤 |
JP3540431B2 (ja) * | 1994-12-20 | 2004-07-07 | 三井化学株式会社 | ポリ1−ブテンの製造方法 |
US6221967B1 (en) | 1999-12-16 | 2001-04-24 | Shell Oil Company | Preformed multi-acid adducts useful for grafting polyolefin polymers |
TWI263645B (en) | 2000-08-22 | 2006-10-11 | Idemitsu Kosan Co | 1-butene based polymer and product formed therefrom |
US6930160B2 (en) | 2000-08-22 | 2005-08-16 | Idemitsu Petrochemical Co. Ltd. | 1-Butene polymer and molded product consisting of the polymer |
WO2002079321A1 (fr) | 2001-03-29 | 2002-10-10 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Composition de resine de polyolefine, film, et structure multicouche |
JP4260635B2 (ja) | 2002-02-20 | 2009-04-30 | 出光興産株式会社 | 改質ブテン−1系重合体の製造方法及びその方法で得られた改質ブテン−1系重合体 |
-
2003
- 2003-02-19 JP JP2003569693A patent/JP4260635B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-19 WO PCT/JP2003/001792 patent/WO2003070786A1/ja active Application Filing
- 2003-02-19 AT AT03705328T patent/ATE509040T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-02-19 US US10/504,141 patent/US7420023B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-19 EP EP03705328A patent/EP1477498B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050245710A1 (en) | 2005-11-03 |
US7420023B2 (en) | 2008-09-02 |
EP1477498A1 (en) | 2004-11-17 |
ATE509040T1 (de) | 2011-05-15 |
JPWO2003070786A1 (ja) | 2005-06-09 |
WO2003070786A1 (fr) | 2003-08-28 |
EP1477498B1 (en) | 2011-05-11 |
EP1477498A4 (en) | 2006-12-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5048694B2 (ja) | 改質プロピレン系重合体の製造方法及びその方法で得られた改質プロピレン系重合体 | |
JP3979997B2 (ja) | 高流動1−ブテン系重合体及びその製造方法 | |
JP5555410B2 (ja) | ポリオレフィン系グラフト共重合体および接着剤組成物 | |
JP6357464B2 (ja) | プロピレン系重合体及びホットメルト接着剤 | |
JPWO2003091289A1 (ja) | 高流動プロピレン系重合体の製造方法及び高流動プロピレン系重合体 | |
JP5000896B2 (ja) | 改質プロピレン系重合体の製造方法 | |
JP4260635B2 (ja) | 改質ブテン−1系重合体の製造方法及びその方法で得られた改質ブテン−1系重合体 | |
JP4847638B2 (ja) | プロピレン系樹脂組成物、その製造方法及び成形体 | |
JP4902050B2 (ja) | ポリオレフィン系樹脂組成物とその成形体及びフィルム | |
WO2016084715A1 (ja) | 木工用ホットメルト接着剤 | |
JP2015013920A (ja) | 酸変性α−オレフィン重合体、これを用いた粘接着剤組成物及び粘着テープ | |
JP2007197736A (ja) | ポリオレフィン系樹脂用改質剤 | |
JP4902099B2 (ja) | 極性基含有高級オレフィン重合体及びその製造方法 | |
JP4441222B2 (ja) | 塩素化プロピレン系重合体及びその製造方法、並びにその用途 | |
JP4971554B2 (ja) | 1−ブテン系樹脂組成物および成形体 | |
JPWO2007004636A1 (ja) | 水分散性樹脂組成物及び水分散性ポリオレフィン系樹脂組成物 | |
KR20050016341A (ko) | 개질 프로필렌계 중합체의 제조방법 및 이 방법으로수득된 개질 프로필렌계 중합체 | |
WO2022024687A1 (ja) | 樹脂用可塑剤 | |
JP2009013424A (ja) | プロピレン系重合体及びこれを含む組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050928 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080916 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081016 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090120 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090204 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4260635 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140220 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |