JP4255201B2 - 鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法及びそのための装置 - Google Patents
鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法及びそのための装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4255201B2 JP4255201B2 JP2000152432A JP2000152432A JP4255201B2 JP 4255201 B2 JP4255201 B2 JP 4255201B2 JP 2000152432 A JP2000152432 A JP 2000152432A JP 2000152432 A JP2000152432 A JP 2000152432A JP 4255201 B2 JP4255201 B2 JP 4255201B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- gas
- water vapor
- chain hydrocarbon
- hydrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
- C01B3/02—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen
- C01B3/32—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of gaseous or liquid organic compounds with gasifying agents, e.g. water, carbon dioxide, air
- C01B3/34—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of gaseous or liquid organic compounds with gasifying agents, e.g. water, carbon dioxide, air by reaction of hydrocarbons with gasifying agents
- C01B3/342—Production of hydrogen or of gaseous mixtures containing a substantial proportion of hydrogen by reaction of gaseous or liquid organic compounds with gasifying agents, e.g. water, carbon dioxide, air by reaction of hydrocarbons with gasifying agents with the aid of electrical means, electromagnetic or mechanical vibrations, or particle radiations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/2415—Tubular reactors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/02—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties
- B01J2219/025—Apparatus characterised by their chemically-resistant properties characterised by the construction materials of the reactor vessel proper
- B01J2219/0254—Glass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0809—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes employing two or more electrodes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0824—Details relating to the shape of the electrodes
- B01J2219/0826—Details relating to the shape of the electrodes essentially linear
- B01J2219/0828—Wires
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0873—Materials to be treated
- B01J2219/0881—Two or more materials
- B01J2219/0883—Gas-gas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/02—Processes for making hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/0205—Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a reforming step
- C01B2203/0211—Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a reforming step containing a non-catalytic reforming step
- C01B2203/0216—Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a reforming step containing a non-catalytic reforming step containing a non-catalytic steam reforming step
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/02—Processes for making hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/0283—Processes for making hydrogen or synthesis gas containing a CO-shift step, i.e. a water gas shift step
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/08—Methods of heating or cooling
- C01B2203/0805—Methods of heating the process for making hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/0861—Methods of heating the process for making hydrogen or synthesis gas by plasma
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/12—Feeding the process for making hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/1205—Composition of the feed
- C01B2203/1211—Organic compounds or organic mixtures used in the process for making hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/1235—Hydrocarbons
- C01B2203/1247—Higher hydrocarbons
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
スチームリフォーミングは、水蒸気改質とも呼ばれ、炭化水素と水蒸気の反応によって水素と一酸化炭素を製造する方法である。スチームリフォーミングの一般的な化学反応式は次の通りである。
【０００３】
【化１】
CmHn + mH2O → mCO + (m + n/2)H2
【０００４】
スチームリフォーミングにより得られる水素と一酸化炭素の混合ガス（「合成ガス」と呼ばれる）は、いわゆるＣ１ケミストリーと呼ばれるジャンルの基幹をなす重要な工業原料であり、メタノール合成、ジメチルエーテルの合成原料として用いられ、また、ガソリン製造等に利用されるフィッシャー・トロプシュ反応の原料として用いられている。
【０００５】
従来、炭化水素のスチームリフォーミングは、アルミナを担体としてニッケル触媒を用いて、７００〜８３０℃、１５〜４０気圧程度の高温高圧条件下で行われている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のスチームリフォーミング方法では、一酸化炭素への選択率（すなわち、原料の炭化水素を構成する炭素原子のうち、一酸化炭素中の炭素原子となるものの割合）が比較的低く、種々の副反応が生じ、生じた副生成物によって反応管が閉塞したり触媒が劣化したりする問題がある。また、高温高圧で反応を行うため、高温高圧に耐え得る堅牢な反応装置を用いる必要があり、さらに、高温高圧条件を実現するためのエネルギーコストもかかる。
【０００７】
従って、本発明の目的は、一酸化炭素への選択率が高く、雑多な副反応が起きず、従来法よりも低温、低圧で実施することができ、触媒を用いなくても実施することができる、新規なスチームリフォーミング方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本願発明者らは、鋭意研究の結果、鎖式炭化水素と水蒸気との混合ガス中で直流パルス放電を行うことにより、従来法よりもはるかに低温で、常圧で、水素と一酸化炭素が生成し、しかも、一酸化炭素への選択率が高く、雑多な副反応が起きず、かつ、炭化水素の転化率も高いことを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち、本発明は、気体状の鎖式炭化水素と水蒸気とを含む混合ガス中で直流パルス放電を行って鎖式炭化水素と水蒸気を反応させ、水素と一酸化炭素を生成させることを含む鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法を提供する。また、本発明は、反応器と、該反応器内に収容された一対の電極と、該一対の電極に直流電圧を印加する直流電源とを具備する、上記本発明のスチームリフォーミング方法を行うための装置を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明のスチームリフォーミング方法の原料として用いられる鎖式炭化水素は、鎖式炭化水素であれば特に限定されないが、比較的低温で気体となる炭素数１〜１０の炭化水素、特に炭素数１〜１０のアルカンが好ましい。炭化水素は、直鎖状でも分枝状でもよい。鎖式炭化水素は、精製又は部分精製されたもの（例えば市販のプロパンガス（プロピレンを含んでいてもよい）やブタンガス（ブチレンを含んでいてもよい）等）でもよいし、メタンを多く含む天然ガスや、ペンタン及びヘキサンを多く含む石油ナフサのような、鎖式炭化水素を含む天然の原料をそのまま本発明の方法の原料として利用することもできる。
【００１１】
直流パルス放電は、電極間に直流のパルス電流を流すことであり、パルス電源を用いて行ってもよいが、電極間に一定の電圧をかけ、自励的にパルス放電を行わせる自励パルス放電が好ましい。この場合、１秒間当たりのパルス放電の回数（以下、「パルス発生頻度」と言うことがある）は、５回〜５００回程度が好ましく、さらには２０〜２００回程度が好ましい。パルス発生頻度は、一定電圧の下では電流が高くなるほど多くなり、また、電極間距離が長くなるほど少なくなる。従って、好ましい電圧、電流及び電極間距離は、上記のパルス発生頻度が達成されるように電圧、電流及び電極間距離を調節することにより自ずから設定される。例として、下記実施例で用いているような、内径4.0 mm程度の小型の反応容器を用いる場合には、印加電圧は1.5 kV〜6.0 kV程度、電極間距離は0.5 mm〜10 mm程度が好ましい。もちろん、電極間距離や印加電圧はこの範囲に限定されるものではなく、より製造能力の大きな大型の装置が望まれる場合には、電極間距離を長くし、上記パルス発生頻度を達成するためにその分、印加電圧及び電流を大きくすることにより、装置をより大型化することが可能である。なお、本発明の方法で、リフォーミング反応が起きるのは、放電電流、すなわち電子線が照射されることによりラジカルが生じ、このラジカルが反応を引き起こすものと考えられる。従って、放電電流を大きくするほど、また、電極間距離を大きくするほど、電子線と衝突する分子の数が増えるので、反応速度が高くなり、また、単位時間内での転化率が高くなる。
【００１２】
反応温度は、特に限定されないが、できるだけ低温で行う方が、エネルギーコストが安く、また、副反応も起きにくいことから、原料となる鎖式炭化水素及び水の両者の沸点よりも高い温度範囲内でできるだけ低い温度が好ましい。従って、鎖式炭化水素がアルカンの場合、炭素数７のヘプタンまでは、水の方が沸点が高いので、常圧で反応を行う場合、反応温度は、101℃〜130℃程度が好ましい。原料のアルカンの沸点が水よりも高い場合には、その沸点を少し上回る程度の温度が好ましく、例えば、デカンの場合には、170℃〜180℃程度が好ましい。なお、水蒸気は、濃縮される傾向があるため、炭化水素の沸点が水よりも低い場合、水蒸気とを含む混合ガスを予め１３０〜１５０℃程度の、反応温度よりも高い温度で前加熱した後、反応容器に供給することが好ましい。
【００１３】
また、反応物質の全圧は、特に限定されず、例えば0.1気圧〜１０気圧程度で行うことができるが、反応は常圧で十分に進行するので、堅牢な反応装置を必要としない、常圧で行うことが産業上特に有利である。また、不純物を含む天然ガスや石油ナフサ等の天然の原料を用いる場合でも常圧で反応を行うことができる。水蒸気と鎖式炭化水素との混合比率は、化学量論量でよいが、所望により、一方の物質を化学量論量の1/2〜２倍程度に増減させることも可能である。例えば、水蒸気の分圧を化学量論量よりも高くすると、一酸化炭素への選択率が高くなる（ただし、原料の転化率は低下する）。
【００１４】
反応は、回分式でも連続式でも行うことができるが、産業的には連続式で行うことが好ましい。連続式で行う場合、下記実施例に記載のように、内部に放電電極を備えた反応管に連続的に鎖式炭化水素と水蒸気とを供給することが好ましい。連続式の場合、原料の供給速度は、反応管の出口から排出されるガスを分析して、原料の転化率が所望の一定値以上、例えば６０％以上となるように適宜設定することが可能である。下記実施例で行ったような、内径4.0 mmの反応管を用い、電極間距離を0.5 mm〜10 mm程度、印加電圧を1.5〜6.0 kV程度にした場合、炭化水素と水蒸気の混合ガスの供給流量は、10〜60 ml/分程度、さらには15〜30ml/分程度が適当である。
【００１５】
本発明の方法によれば、鎖式炭化水素と水蒸気が反応して、上記化学反応式に従い、水素と一酸化炭素が主として生成される。副反応としては、炭化水素が分解されてアセチレンを主とするＣ２化合物と水素が生じる反応があるが、この副反応以外にはほとんど副反応が起きない。すなわち、純粋な鎖式炭化水素を原料として用いた場合、水素、一酸化炭素及びＣ２化合物以外の化合物はほとんど生成されない。副反応により生じる水素は、合成ガスの成分でもあり、水素リッチな合成ガスは、むしろ産業上の有用性が高いから、副反応により生じる水素はそのまま合成ガスに含めて利用できる。また、アセチレン等のＣ２化合物も工業原料として広く用いられているものであり、これも工業的に利用できる。得られた生成物ガスは別段の精製工程を行わずとも産業上の有用性の高いものである。得られた合成ガスを副生成物であるアセチレンから分離することが望まれる場合には、これは、公知の方法、例えば、分子量が200程度の炭化水素油中に吸収させることにより炭化水素のみを吸収させるといった方法や、圧力スイング吸着をおこなわせるPSA(Pressure Swing Adsorption)といった方法により行うことができる。また、水素、一酸化炭素及びＣ２化合物以外の生成物がほとんど生じないので、副生成物による反応管の閉塞等の問題が起きない。
【００１６】
本発明の方法によれば、炭素原子の一酸化炭素への選択率が約４５％以上、とりわけ６５％以上と高く、また、炭化水素の転化率も８０％以上と高い。従って、本発明の方法は、合成ガスの製造方法として優れている。さらに、上記の反応は、触媒の非存在下において十分に進行するということも本発明の大きな利点の１つである。触媒を用いないので、触媒活性の低下による反応速度の低下の問題は起きない。また、副反応が上記の通り、ほとんど１種類しか起きないという利点も、触媒を用いないことにも起因するものと考えられる。もっとも、本発明の方法において、従来法と同様なアルミナを担体とするニッケル触媒等を併用することも可能であり、その場合にも、反応が従来法よりも遙かに低温、低圧であるので、触媒活性の低下や副反応の発生は、従来法に比べて遙かに少なくなると考えられる。
【００１７】
本発明の方法は、上記の通り、合成ガスの製造方法として優れているが、水蒸気を用いてリフォーミングを行っているため、生成物中の水素ガスの比率が必然的に高くなる。従って、本発明の方法を、水素ガスの製造に有利に適用することができる。水素ガスの製造を目的とする場合には、生成した一酸化炭素をさらに水蒸気と反応させて水素ガスと二酸化炭素を生成させる、いわゆる水性ガスシフト反応をさらに行うことにより、さらに効率を上げることができる。水性ガスシフト反応自体はこの分野において周知であり、本発明の方法に追加する場合でも、周知の方法で行うことができる。水性ガスシフト反応は、低温、常圧で進行するので、例えば、水性ガスシフト反応用の触媒、例えば酸化亜鉛−酸化銅系固体触媒を反応管の出口に充填することにより、生成した一酸化炭素は水蒸気とさらに反応して二酸化炭素と水素になり、水素の製造効率をさらに大幅に高めることができる。とりわけ、炭素数の多い炭化水素を用いると、炭化水素１分子当たりの生成水素ガス量が多くなる。例えば、デカンの場合、デカン１分子から３１倍量の水素ガスが得られる。
【００１８】
本発明の方法によれば、反応開始直後から水素ガスが得られ、すなわち、応答が速く、かつ、低温、常圧で水素ガスを連続的に製造することができるので、本発明により、小型で可搬の水素製造装置を実現することが可能になる。このような水素製造装置は、自動車等に搭載して、燃料電池用水素供給装置として利用することも可能である。
【００１９】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づきより具体的に説明する。もっとも、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００２０】
実施例１ 反応装置の作製
図１に模式的に示す構成の反応装置を作製した。反応装置は、反応管となる石英管１０を具備する。石英管１０は、外径6.0 mm、内径4.0 mm、長さ200mmであった。石英管１０内には１対の電極１２、１４が対向して設けられており、電極１２、１４間は放電領域１６となる。各電極は、石英管外にまで延びており、電極１２には負高電圧電源１８が接続され、負高電圧電源１８と電極１２の間にはデジタルオシロスコープ２０が接続されている。電極１４は、石英管１０の外側でアースされる。石英管１０の入口側には、三方口が接続され、側方に向いている２つの口には電極１２が貫通しており、上方に向いている１つの口（ガス入口）には混合ガス供給部２２が接続されている。混合ガス供給部２２は、石英ウール２４が充填された管２６と、管２６のうち石英ウール２４が充填されている領域を囲包するプレヒーター２８と、石英ウール２４内に一端が開口し、他端が、管２６の上方外側に開口している水蒸気供給管３０と、石英ウール２４内に一端が挿入された熱電対３２と、管２６の上部で側方に枝分かれした管から成る炭化水素供給管３４とを含む。炭化水素供給管３４の入口側は、三方口が接続され、側方に向いている２つの口には熱電対に接続される導線が貫通しており、下側に向いている１つの口から炭化水素が供給される。また、石英管１０の出口側にも、三方口が接続され、側方に向いている２つの口には電極１４が貫通しており、上向きの１つの口（ガス出口）から生成ガスが取り出される。なお、電極１２と１４の間の距離は、任意に調節可能である。
【００２１】
実施例２ メタンのスチームリフォーミング
実施例１で作製した反応装置の電極間距離を4.9 mmにし、水蒸気を水蒸気供給管３０から供給し、メタンガスを炭化水素供給管３４から供給した。水蒸気とメタンガスの供給比率は、１：１（分圧比）であった。混合ガスをプレヒーター２８で１４０℃に加熱し、石英管１０の入口から供給した。混合ガスの供給速度は、20 ml/分であった。この時の石英管１０中の放電領域１６の温度（反応温度）は１２０℃であり、反応圧力は常圧であった。負電圧電源１８から2.0 kVの負電圧を電極１２に印加した。電極１４は、アースされている。2.0 kVの電圧を印加すると、電極間に自励パルス放電が起き、電流量は7 mAであった。デジタルオシロスコープ２０により、自励パルスのパルス発生頻度を測定した。また、生成ガスの組成をガスクロマトグラフィーにより分析した。
【００２２】
その結果、メタンガスの転化率９０％、一酸化炭素選択率約７０％で、水素／CO比4.4の合成ガスが生成された。また、この時のパルス発生頻度は、１８０回／秒であった。
【００２３】
実施例３ プロパンのスチームリフォーミング
供給する炭化水素ガスをプロパンガスとし、電極間距離を3.5 mm、印加電圧を3 kVとすることを除き、実施例２と同じ操作を行った。電流量は7.5 mAであり、パルス発生頻度は１５０回／分であった。
【００２４】
その結果、プロパン転化率８０％、一酸化炭素選択率45％、水素/CO比3.1で合成ガスが生成された。この場合の水素収率（対プロパン比）は370%であった。
【００２５】
【発明の効果】
本発明により、一酸化炭素への選択率が高く、雑多な副反応が起きず、従来法よりも低温、低圧で実施することができ、触媒を用いなくても実施することができる、スチームリフォーミング方法が提供された。本発明の方法によれば、一酸化炭素への選択率が高く、雑多な副反応が起きないので、生成された合成ガスはそのままでも工業的に利用可能であり、副産物であるアセチレンとの分離が所望される場合でも、従来法に比べて容易に精製可能である。さらに、触媒を用いないか、又は触媒を併用する場合でも低温であるので、触媒の劣化の問題も起きない。さらに、低温、常圧で反応を実施することができるので、堅牢な反応装置が不要であり、小型、可搬の反応装置とすることができる。さらに、水性ガスシフト反応を併用すれば、効率良く水素ガスを製造することができ、小型、可搬の水素ガス製造装置を提供することも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例で用いた反応装置の構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１０ 石英管（反応管）
１２ 電極
１４ 電極
１６ 放電領域
１８ 負高電圧電源
２０ デジタルオシロスコープ
２２ 混合ガス供給部
２４ 石英ウール
２６ 管
２８ プレヒーター
３０ 水蒸気供給管
３２ 熱電対
３４ 炭化水素供給管
【発明の属する技術分野】
本発明は、鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
スチームリフォーミングは、水蒸気改質とも呼ばれ、炭化水素と水蒸気の反応によって水素と一酸化炭素を製造する方法である。スチームリフォーミングの一般的な化学反応式は次の通りである。
【０００３】
【化１】
CmHn + mH2O → mCO + (m + n/2)H2
【０００４】
スチームリフォーミングにより得られる水素と一酸化炭素の混合ガス（「合成ガス」と呼ばれる）は、いわゆるＣ１ケミストリーと呼ばれるジャンルの基幹をなす重要な工業原料であり、メタノール合成、ジメチルエーテルの合成原料として用いられ、また、ガソリン製造等に利用されるフィッシャー・トロプシュ反応の原料として用いられている。
【０００５】
従来、炭化水素のスチームリフォーミングは、アルミナを担体としてニッケル触媒を用いて、７００〜８３０℃、１５〜４０気圧程度の高温高圧条件下で行われている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のスチームリフォーミング方法では、一酸化炭素への選択率（すなわち、原料の炭化水素を構成する炭素原子のうち、一酸化炭素中の炭素原子となるものの割合）が比較的低く、種々の副反応が生じ、生じた副生成物によって反応管が閉塞したり触媒が劣化したりする問題がある。また、高温高圧で反応を行うため、高温高圧に耐え得る堅牢な反応装置を用いる必要があり、さらに、高温高圧条件を実現するためのエネルギーコストもかかる。
【０００７】
従って、本発明の目的は、一酸化炭素への選択率が高く、雑多な副反応が起きず、従来法よりも低温、低圧で実施することができ、触媒を用いなくても実施することができる、新規なスチームリフォーミング方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本願発明者らは、鋭意研究の結果、鎖式炭化水素と水蒸気との混合ガス中で直流パルス放電を行うことにより、従来法よりもはるかに低温で、常圧で、水素と一酸化炭素が生成し、しかも、一酸化炭素への選択率が高く、雑多な副反応が起きず、かつ、炭化水素の転化率も高いことを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち、本発明は、気体状の鎖式炭化水素と水蒸気とを含む混合ガス中で直流パルス放電を行って鎖式炭化水素と水蒸気を反応させ、水素と一酸化炭素を生成させることを含む鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法を提供する。また、本発明は、反応器と、該反応器内に収容された一対の電極と、該一対の電極に直流電圧を印加する直流電源とを具備する、上記本発明のスチームリフォーミング方法を行うための装置を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明のスチームリフォーミング方法の原料として用いられる鎖式炭化水素は、鎖式炭化水素であれば特に限定されないが、比較的低温で気体となる炭素数１〜１０の炭化水素、特に炭素数１〜１０のアルカンが好ましい。炭化水素は、直鎖状でも分枝状でもよい。鎖式炭化水素は、精製又は部分精製されたもの（例えば市販のプロパンガス（プロピレンを含んでいてもよい）やブタンガス（ブチレンを含んでいてもよい）等）でもよいし、メタンを多く含む天然ガスや、ペンタン及びヘキサンを多く含む石油ナフサのような、鎖式炭化水素を含む天然の原料をそのまま本発明の方法の原料として利用することもできる。
【００１１】
直流パルス放電は、電極間に直流のパルス電流を流すことであり、パルス電源を用いて行ってもよいが、電極間に一定の電圧をかけ、自励的にパルス放電を行わせる自励パルス放電が好ましい。この場合、１秒間当たりのパルス放電の回数（以下、「パルス発生頻度」と言うことがある）は、５回〜５００回程度が好ましく、さらには２０〜２００回程度が好ましい。パルス発生頻度は、一定電圧の下では電流が高くなるほど多くなり、また、電極間距離が長くなるほど少なくなる。従って、好ましい電圧、電流及び電極間距離は、上記のパルス発生頻度が達成されるように電圧、電流及び電極間距離を調節することにより自ずから設定される。例として、下記実施例で用いているような、内径4.0 mm程度の小型の反応容器を用いる場合には、印加電圧は1.5 kV〜6.0 kV程度、電極間距離は0.5 mm〜10 mm程度が好ましい。もちろん、電極間距離や印加電圧はこの範囲に限定されるものではなく、より製造能力の大きな大型の装置が望まれる場合には、電極間距離を長くし、上記パルス発生頻度を達成するためにその分、印加電圧及び電流を大きくすることにより、装置をより大型化することが可能である。なお、本発明の方法で、リフォーミング反応が起きるのは、放電電流、すなわち電子線が照射されることによりラジカルが生じ、このラジカルが反応を引き起こすものと考えられる。従って、放電電流を大きくするほど、また、電極間距離を大きくするほど、電子線と衝突する分子の数が増えるので、反応速度が高くなり、また、単位時間内での転化率が高くなる。
【００１２】
反応温度は、特に限定されないが、できるだけ低温で行う方が、エネルギーコストが安く、また、副反応も起きにくいことから、原料となる鎖式炭化水素及び水の両者の沸点よりも高い温度範囲内でできるだけ低い温度が好ましい。従って、鎖式炭化水素がアルカンの場合、炭素数７のヘプタンまでは、水の方が沸点が高いので、常圧で反応を行う場合、反応温度は、101℃〜130℃程度が好ましい。原料のアルカンの沸点が水よりも高い場合には、その沸点を少し上回る程度の温度が好ましく、例えば、デカンの場合には、170℃〜180℃程度が好ましい。なお、水蒸気は、濃縮される傾向があるため、炭化水素の沸点が水よりも低い場合、水蒸気とを含む混合ガスを予め１３０〜１５０℃程度の、反応温度よりも高い温度で前加熱した後、反応容器に供給することが好ましい。
【００１３】
また、反応物質の全圧は、特に限定されず、例えば0.1気圧〜１０気圧程度で行うことができるが、反応は常圧で十分に進行するので、堅牢な反応装置を必要としない、常圧で行うことが産業上特に有利である。また、不純物を含む天然ガスや石油ナフサ等の天然の原料を用いる場合でも常圧で反応を行うことができる。水蒸気と鎖式炭化水素との混合比率は、化学量論量でよいが、所望により、一方の物質を化学量論量の1/2〜２倍程度に増減させることも可能である。例えば、水蒸気の分圧を化学量論量よりも高くすると、一酸化炭素への選択率が高くなる（ただし、原料の転化率は低下する）。
【００１４】
反応は、回分式でも連続式でも行うことができるが、産業的には連続式で行うことが好ましい。連続式で行う場合、下記実施例に記載のように、内部に放電電極を備えた反応管に連続的に鎖式炭化水素と水蒸気とを供給することが好ましい。連続式の場合、原料の供給速度は、反応管の出口から排出されるガスを分析して、原料の転化率が所望の一定値以上、例えば６０％以上となるように適宜設定することが可能である。下記実施例で行ったような、内径4.0 mmの反応管を用い、電極間距離を0.5 mm〜10 mm程度、印加電圧を1.5〜6.0 kV程度にした場合、炭化水素と水蒸気の混合ガスの供給流量は、10〜60 ml/分程度、さらには15〜30ml/分程度が適当である。
【００１５】
本発明の方法によれば、鎖式炭化水素と水蒸気が反応して、上記化学反応式に従い、水素と一酸化炭素が主として生成される。副反応としては、炭化水素が分解されてアセチレンを主とするＣ２化合物と水素が生じる反応があるが、この副反応以外にはほとんど副反応が起きない。すなわち、純粋な鎖式炭化水素を原料として用いた場合、水素、一酸化炭素及びＣ２化合物以外の化合物はほとんど生成されない。副反応により生じる水素は、合成ガスの成分でもあり、水素リッチな合成ガスは、むしろ産業上の有用性が高いから、副反応により生じる水素はそのまま合成ガスに含めて利用できる。また、アセチレン等のＣ２化合物も工業原料として広く用いられているものであり、これも工業的に利用できる。得られた生成物ガスは別段の精製工程を行わずとも産業上の有用性の高いものである。得られた合成ガスを副生成物であるアセチレンから分離することが望まれる場合には、これは、公知の方法、例えば、分子量が200程度の炭化水素油中に吸収させることにより炭化水素のみを吸収させるといった方法や、圧力スイング吸着をおこなわせるPSA(Pressure Swing Adsorption)といった方法により行うことができる。また、水素、一酸化炭素及びＣ２化合物以外の生成物がほとんど生じないので、副生成物による反応管の閉塞等の問題が起きない。
【００１６】
本発明の方法によれば、炭素原子の一酸化炭素への選択率が約４５％以上、とりわけ６５％以上と高く、また、炭化水素の転化率も８０％以上と高い。従って、本発明の方法は、合成ガスの製造方法として優れている。さらに、上記の反応は、触媒の非存在下において十分に進行するということも本発明の大きな利点の１つである。触媒を用いないので、触媒活性の低下による反応速度の低下の問題は起きない。また、副反応が上記の通り、ほとんど１種類しか起きないという利点も、触媒を用いないことにも起因するものと考えられる。もっとも、本発明の方法において、従来法と同様なアルミナを担体とするニッケル触媒等を併用することも可能であり、その場合にも、反応が従来法よりも遙かに低温、低圧であるので、触媒活性の低下や副反応の発生は、従来法に比べて遙かに少なくなると考えられる。
【００１７】
本発明の方法は、上記の通り、合成ガスの製造方法として優れているが、水蒸気を用いてリフォーミングを行っているため、生成物中の水素ガスの比率が必然的に高くなる。従って、本発明の方法を、水素ガスの製造に有利に適用することができる。水素ガスの製造を目的とする場合には、生成した一酸化炭素をさらに水蒸気と反応させて水素ガスと二酸化炭素を生成させる、いわゆる水性ガスシフト反応をさらに行うことにより、さらに効率を上げることができる。水性ガスシフト反応自体はこの分野において周知であり、本発明の方法に追加する場合でも、周知の方法で行うことができる。水性ガスシフト反応は、低温、常圧で進行するので、例えば、水性ガスシフト反応用の触媒、例えば酸化亜鉛−酸化銅系固体触媒を反応管の出口に充填することにより、生成した一酸化炭素は水蒸気とさらに反応して二酸化炭素と水素になり、水素の製造効率をさらに大幅に高めることができる。とりわけ、炭素数の多い炭化水素を用いると、炭化水素１分子当たりの生成水素ガス量が多くなる。例えば、デカンの場合、デカン１分子から３１倍量の水素ガスが得られる。
【００１８】
本発明の方法によれば、反応開始直後から水素ガスが得られ、すなわち、応答が速く、かつ、低温、常圧で水素ガスを連続的に製造することができるので、本発明により、小型で可搬の水素製造装置を実現することが可能になる。このような水素製造装置は、自動車等に搭載して、燃料電池用水素供給装置として利用することも可能である。
【００１９】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づきより具体的に説明する。もっとも、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【００２０】
実施例１ 反応装置の作製
図１に模式的に示す構成の反応装置を作製した。反応装置は、反応管となる石英管１０を具備する。石英管１０は、外径6.0 mm、内径4.0 mm、長さ200mmであった。石英管１０内には１対の電極１２、１４が対向して設けられており、電極１２、１４間は放電領域１６となる。各電極は、石英管外にまで延びており、電極１２には負高電圧電源１８が接続され、負高電圧電源１８と電極１２の間にはデジタルオシロスコープ２０が接続されている。電極１４は、石英管１０の外側でアースされる。石英管１０の入口側には、三方口が接続され、側方に向いている２つの口には電極１２が貫通しており、上方に向いている１つの口（ガス入口）には混合ガス供給部２２が接続されている。混合ガス供給部２２は、石英ウール２４が充填された管２６と、管２６のうち石英ウール２４が充填されている領域を囲包するプレヒーター２８と、石英ウール２４内に一端が開口し、他端が、管２６の上方外側に開口している水蒸気供給管３０と、石英ウール２４内に一端が挿入された熱電対３２と、管２６の上部で側方に枝分かれした管から成る炭化水素供給管３４とを含む。炭化水素供給管３４の入口側は、三方口が接続され、側方に向いている２つの口には熱電対に接続される導線が貫通しており、下側に向いている１つの口から炭化水素が供給される。また、石英管１０の出口側にも、三方口が接続され、側方に向いている２つの口には電極１４が貫通しており、上向きの１つの口（ガス出口）から生成ガスが取り出される。なお、電極１２と１４の間の距離は、任意に調節可能である。
【００２１】
実施例２ メタンのスチームリフォーミング
実施例１で作製した反応装置の電極間距離を4.9 mmにし、水蒸気を水蒸気供給管３０から供給し、メタンガスを炭化水素供給管３４から供給した。水蒸気とメタンガスの供給比率は、１：１（分圧比）であった。混合ガスをプレヒーター２８で１４０℃に加熱し、石英管１０の入口から供給した。混合ガスの供給速度は、20 ml/分であった。この時の石英管１０中の放電領域１６の温度（反応温度）は１２０℃であり、反応圧力は常圧であった。負電圧電源１８から2.0 kVの負電圧を電極１２に印加した。電極１４は、アースされている。2.0 kVの電圧を印加すると、電極間に自励パルス放電が起き、電流量は7 mAであった。デジタルオシロスコープ２０により、自励パルスのパルス発生頻度を測定した。また、生成ガスの組成をガスクロマトグラフィーにより分析した。
【００２２】
その結果、メタンガスの転化率９０％、一酸化炭素選択率約７０％で、水素／CO比4.4の合成ガスが生成された。また、この時のパルス発生頻度は、１８０回／秒であった。
【００２３】
実施例３ プロパンのスチームリフォーミング
供給する炭化水素ガスをプロパンガスとし、電極間距離を3.5 mm、印加電圧を3 kVとすることを除き、実施例２と同じ操作を行った。電流量は7.5 mAであり、パルス発生頻度は１５０回／分であった。
【００２４】
その結果、プロパン転化率８０％、一酸化炭素選択率45％、水素/CO比3.1で合成ガスが生成された。この場合の水素収率（対プロパン比）は370%であった。
【００２５】
【発明の効果】
本発明により、一酸化炭素への選択率が高く、雑多な副反応が起きず、従来法よりも低温、低圧で実施することができ、触媒を用いなくても実施することができる、スチームリフォーミング方法が提供された。本発明の方法によれば、一酸化炭素への選択率が高く、雑多な副反応が起きないので、生成された合成ガスはそのままでも工業的に利用可能であり、副産物であるアセチレンとの分離が所望される場合でも、従来法に比べて容易に精製可能である。さらに、触媒を用いないか、又は触媒を併用する場合でも低温であるので、触媒の劣化の問題も起きない。さらに、低温、常圧で反応を実施することができるので、堅牢な反応装置が不要であり、小型、可搬の反応装置とすることができる。さらに、水性ガスシフト反応を併用すれば、効率良く水素ガスを製造することができ、小型、可搬の水素ガス製造装置を提供することも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例で用いた反応装置の構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１０ 石英管（反応管）
１２ 電極
１４ 電極
１６ 放電領域
１８ 負高電圧電源
２０ デジタルオシロスコープ
２２ 混合ガス供給部
２４ 石英ウール
２６ 管
２８ プレヒーター
３０ 水蒸気供給管
３２ 熱電対
３４ 炭化水素供給管
Claims (7)
- 気体状の鎖式炭化水素と水蒸気とを含む混合ガス中で直流パルス放電を行って鎖式炭化水素と水蒸気を反応させ、水素と一酸化炭素を生成させることを含む鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法。
- 前記直流パルス放電は、自励パルス放電である請求項１記載の方法。
- 前記直流パルス放電の１秒間当たりのパルス数が５回〜５００回である請求項１又は２記載の方法。
- 前記混合ガス中の水蒸気と鎖式炭化水素の分圧の比率は、水蒸気１に対して鎖式炭化水素が0.1〜1である請求項１ないし３のいずれか１項に記載の方法。
- 触媒の非存在下で行う請求項１ないし４のいずれか１項記載の方法。
- 前記鎖式炭化水素と水蒸気を連続的に供給する連続法により行う請求項１ないし５のいずれか１項に記載の方法。
- 前記鎖式炭化水素は、炭素数１ないし１０のアルカンである請求項１ないし６のいずれか１項に記載の方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000152432A JP4255201B2 (ja) | 2000-05-24 | 2000-05-24 | 鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法及びそのための装置 |
| PCT/JP2001/002159 WO2001089988A1 (fr) | 2000-05-24 | 2001-03-19 | Procede et appareil destine au reformage a la vapeur d'une chaine d'hydrocarbure |
| CA2447922A CA2447922C (en) | 2000-05-24 | 2001-03-19 | Method and apparatus for steam reforming of chain hydrocarbon |
| US10/296,174 US7285189B2 (en) | 2000-05-24 | 2001-03-19 | Method for steam reforming of chain hydrocarbon |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000152432A JP4255201B2 (ja) | 2000-05-24 | 2000-05-24 | 鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法及びそのための装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001335302A JP2001335302A (ja) | 2001-12-04 |
| JP4255201B2 true JP4255201B2 (ja) | 2009-04-15 |
Family
ID=18657858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000152432A Expired - Fee Related JP4255201B2 (ja) | 2000-05-24 | 2000-05-24 | 鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法及びそのための装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7285189B2 (ja) |
| JP (1) | JP4255201B2 (ja) |
| CA (1) | CA2447922C (ja) |
| WO (1) | WO2001089988A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1391421A1 (en) * | 2001-05-15 | 2004-02-25 | Yasushi Sekine | Method and apparatus for liquid phase reforming of hydrocarbon or oxygen-containing compound |
| JP3476811B1 (ja) * | 2002-03-27 | 2003-12-10 | 株式会社事業創造研究所 | 炭化水素、有機含酸素化合物を原料とする水素の生成装置、及びそれに用いる放電極 |
| JP4213409B2 (ja) * | 2002-06-19 | 2009-01-21 | 株式会社事業創造研究所 | 炭化水素、含酸素化合物を原料とする水素の生成装置 |
| WO2004037716A1 (ja) * | 2002-10-28 | 2004-05-06 | Yasushi Sekine | アルコ−ルを原料とする水素の生成方法、及び装置 |
| JP2004331407A (ja) * | 2003-04-30 | 2004-11-25 | Takeshi Nagasawa | 水素製造装置及び水素製造方法 |
| WO2004099070A1 (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-18 | Jisouken Co. Ltd. | 炭化水素、有機含酸素化合物を原料とする水素の生成装置、及びそれに用いる放電極 |
| DE102009014728A1 (de) * | 2009-03-25 | 2010-09-30 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum Betreiben eines Fossilbrennstoff-Kraftwerks und Fossilbrennstoff-Kraftwerk mit vermindertem Kohlendioxidausstoß |
| CN101934212A (zh) * | 2009-06-30 | 2011-01-05 | 新疆天业（集团）有限公司 | 一种气-固/气-气相等离子体管式反应器工艺及装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4435374A (en) * | 1981-07-09 | 1984-03-06 | Helm Jr John L | Method of producing carbon monoxide and hydrogen by gasification of solid carbonaceous material involving microwave irradiation |
| US5015349A (en) * | 1988-12-23 | 1991-05-14 | University Of Connecticut | Low power density microwave discharge plasma excitation energy induced chemical reactions |
| US5164054A (en) * | 1989-04-26 | 1992-11-17 | Cha Chang Y | Low-cost process for hydrogen production |
| US5198084A (en) * | 1989-04-26 | 1993-03-30 | Western Research Institute | Low-cost process for hydrogen production |
| US5277773A (en) * | 1989-12-27 | 1994-01-11 | Exxon Research & Engineering Co. | Conversion of hydrocarbons using microwave radiation |
| JP2767390B2 (ja) * | 1994-12-14 | 1998-06-18 | 工業技術院長 | 水素の製造方法 |
| FR2757499B1 (fr) | 1996-12-24 | 2001-09-14 | Etievant Claude | Generateur d'hydrogene |
| US20020074221A1 (en) * | 1997-01-23 | 2002-06-20 | Mallinson Richard G. | Apparatus for stream conversion and methods of use |
| AU2295100A (en) * | 1999-07-29 | 2001-02-19 | David Systems Technology S.L. | Plasma transformer for the transformation of fossil fuels into hydrogen-rich gas |
| US6372156B1 (en) * | 1999-08-19 | 2002-04-16 | Bechtel Bwxt Idaho, Llc | Methods of chemically converting first materials to second materials utilizing hybrid-plasma systems |
| US6670058B2 (en) * | 2000-04-05 | 2003-12-30 | University Of Central Florida | Thermocatalytic process for CO2-free production of hydrogen and carbon from hydrocarbons |
-
2000
- 2000-05-24 JP JP2000152432A patent/JP4255201B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-03-19 WO PCT/JP2001/002159 patent/WO2001089988A1/ja active Application Filing
- 2001-03-19 US US10/296,174 patent/US7285189B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-19 CA CA2447922A patent/CA2447922C/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001335302A (ja) | 2001-12-04 |
| US20040003539A1 (en) | 2004-01-08 |
| US7285189B2 (en) | 2007-10-23 |
| WO2001089988A1 (fr) | 2001-11-29 |
| CA2447922A1 (en) | 2001-11-29 |
| CA2447922C (en) | 2010-02-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6375832B1 (en) | Fuel synthesis | |
| JP4068972B2 (ja) | 炭化水素、含酸素化合物の液相リフォーミング方法及び装置 | |
| US20060280678A1 (en) | Apparatus and method for preparing synthesis gas by using barrier discharge reaction | |
| Kado et al. | Direct synthesis of acetylene from methane by direct current pulse discharge | |
| Otsuka et al. | Production of hydrogen from gasoline range alkanes with reduced CO2 emission | |
| Dias et al. | The advantages of air addition on the methane steam reforming over Ni/γ-Al2O3 | |
| JP4255201B2 (ja) | 鎖式炭化水素のスチームリフォーミング方法及びそのための装置 | |
| JP3834614B2 (ja) | 低温プラズマによる合成ガスの製造方法 | |
| Nozaki et al. | Innovative methane conversion technology using atmospheric pressure non-thermal plasma | |
| CN111234864B (zh) | 一种低温等离子体辅助的轻质烷烃催化液化方法 | |
| KR100711349B1 (ko) | 삼중개질반응을 이용한 합성가스의 제조방법 | |
| Wang et al. | Oxidative reforming of n-heptane in gliding arc plasma reformer for hydrogen production | |
| KR101634675B1 (ko) | 유전체 장벽 방전-촉매 복합 장치 및 이를 이용한 메탄과 이산화탄소 제거방법 | |
| Bin et al. | Study on the methane coupling under pulse corona plasma by using CO2 as oxidant | |
| EP1074535A1 (en) | Process for the synthesis of hydrocarbons | |
| Schmidt-Szalowski et al. | Methane conversion into C2 hydrocarbons and carbon black in dielectric-barrier and gliding discharges | |
| Rasko et al. | Catalytic low-temperature oxydehydrogenation of methane to higher hydrocarbons with very high selectivity at 8–12% conversion | |
| Dai et al. | Study on the hydrogenation coupling of methane | |
| Kim et al. | Kinetics of the methane decomposition in a dielectric-barrier discharge | |
| Wang et al. | Conversion of methane to C~ 2 hydrocarbons via cold plasma reaction | |
| Boutot et al. | High-concentration hydrogen production from natural gas using a pulsed dielectric barrier discharge | |
| KR20060055141A (ko) | 합성가스의 조성 제어가 가능한 합성가스 제조 장치 및이를 이용한 합성가스 제조 방법 | |
| Alawi et al. | Microwave plasma dry reforming o f methane at high CO 2/CH4 feed ratio | |
| WO2023243547A1 (ja) | 液体炭化水素製造方法及び液体炭化水素製造装置 | |
| Ekstrom et al. | The reactions of cobalt surface carbides with water and their implications for the mechanism of the Fischer-Tropsch reaction |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041210 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080507 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080707 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080708 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081007 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081205 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090120 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090127 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120206 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130206 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130206 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140206 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |